KR102145787B1 - 투명 도전막용 점착제층이 구비된 편광 필름, 적층체 및 화상 표시 장치 - Google Patents

투명 도전막용 점착제층이 구비된 편광 필름, 적층체 및 화상 표시 장치 Download PDF

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Abstract

본 발명은, 투명 도전막 상에 적층된 경우에도 상기 투명 도전막의 열화가 억제되는, 투명 도전막용 점착제층이 구비된 편광 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한, 본 발명은, 상기 투명 도전막용 점착제층이 구비된 편광 필름과, 투명 도전막을 갖는 기재를 접합한 적층체, 상기 적층체를 사용한 화상 표시 장치를 제공하는 것도 목적으로 한다.
요오드계 편광 필름의 적어도 편면에 점착제층이 적층되어 있는 점착제층이 구비된 편광 필름이며, 상기 요오드계 편광 필름이, 요오드 및/또는 요오드 이온을 1 내지 14중량％ 함유하고, 두께가 2 내지 40㎛인 요오드계 편광자의 적어도 편면에, 60℃, 90％ R.H.에서의 투습도가 1000g/(m2·24h) 이하인 투명 보호 필름을 갖는 요오드계 편광 필름이며, 상기 점착제층의 60℃, 90％ R.H.에서의 포화수분율이 3.5중량％ 이하인 것을 특징으로 하는, 투명 도전막용 점착제층이 구비된 편광 필름이다.

Description

투명 도전막용 점착제층이 구비된 편광 필름, 적층체 및 화상 표시 장치{POLARIZING FILM WITH PRESSURE-SENSITIVE ADHESIVE LAYER FOR TRANSPARENT CONDUCTIVE MEMBRANE, LAMINATE AND IMAGE DISPLAY DEVICE}
본 발명은 투명 도전막용 점착제층이 구비된 편광 필름에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 상기 투명 도전막용 점착제층이 구비된 편광 필름과 투명 도전막을 갖는 부재를 접합한 적층체, 상기 적층체를 사용한 화상 표시 장치에 관한 것이다.
최근 들어, 산화인듐 주석(ITO) 박막 등의 투명 도전막이 각종 용도에서 널리 사용되고 있다. 예를 들어, 상기 투명 도전막은, 인플레인 스위칭(IPS) 방식 등의 액정 셀을 사용한 액정 표시 장치의 액정 셀을 구성하는 투명 기판의 액정층과 접하는 측과는 반대측에 형성되고, 대전 방지층으로 하는 것이 알려져 있다. 또한, 상기 투명 도전막이 투명 수지 필름 상에 형성된 투명 도전성 필름은, 터치 패널의 전극 기판에 사용되고, 예를 들어 휴대 전화기나 휴대용 음악 플레이어 등에 사용하는 액정 표시 장치나 화상 표시 장치와 당해 터치 패널을 조합하여 사용하는 입력 장치가 널리 보급되어 오고 있다.
이 투명 도전막을 사용한 액정 표시 장치나 화상 표시 장치에 있어서는, 최근 들어, 경량화, 박형화의 요구가 강하고, 당해 액정 표시 장치 등에서 사용되는 편광 필름에 대해서도 박형화, 경량화하는 것이 요망되고 있어, 박형 편광 필름의 제조 방법이 여러가지로 검토되고 있다.
박형 편광 필름의 제법으로서는, 예를 들어 어느 정도의 두께를 갖는 수지 기재에 형성된 얇은 폴리비닐알코올(PVA)계 중합체층을 수지 기재와 일체화된 상태에서 1축 연신함으로써, 박형 편광 필름을 수지 기재 상에 제막하는 방법(예를 들어, 특허문헌1 참조)이나, 기재 필름의 한쪽 면에, PVA 수지로 이루어지는 수지층을 형성한 적층 필름을 특정한 연신 배율로 자유단부 세로 1축 연신하여 연신 필름을 얻고, 당해 연신 필름을 2색성 색소로 염색하여 박형 편광자를 형성하는 방법 등이 알려져 있다 (예를 들어, 특허문헌2 참조).
특허 제4691205호 명세서 특허 제5048120호 명세서
투명 도전막을 대전 방지층 용도로서 사용할 경우, 당해 대전 방지층을 갖는 액정 셀 상에 점착제층이 구비된 편광 필름이 적층되고, 투명 도전막으로 이루어지는 대전 방지층과 편광 필름이 점착제층을 통하여 접합된다. 또한, 투명 도전막을 터치 패널의 전극 용도로서 사용할 경우, 상기 전극용 투명 도전막과 점착제층이 구비된 편광 필름이 접합되는 경우가 있다.
특허문헌 1, 2에서 얻어진 박형화 편광 필름은, 모두, 편광자의 편면을 투명 보호 필름으로 보호한 편면 보호의 편광 필름이며, 당해 편광 필름을 투명 도전막이 구비된 액정 셀 등에 접합한 경우, 편광자와 투명 도전막이 점착제를 통하여 접합되게 된다. 편면 보호의 요오드계 편광자의 편광자면에, 점착제층을 통하여 투명 도전막이 접합되면, 요오드계 편광자로부터의 미량의 요오드가 점착제층 내에 스며나오고, 그것이 투명 도전막에 도달하여 투명 도전막을 열화(부식)시키는 것을 알 수 있었다. 투명 도전막이 열화되면, 예를 들어 투명 도전막을 대전 방지층 용도로서 사용하는 경우에 있어서는, 액정 패널에서 정전기 불균일을 발생하여 대전 방지 성능이 저하되는 것이었다. 또한, 투명 도전막을 터치 패널의 전극 용도로서 사용하는 경우에 있어서는, 전극의 열화에 의해, 전기 저항값이 증대하여 감지 불량 등의 오작동이 발생하거나, 터치 패널의 감도 저하 등의 다양한 문제를 발생하는 것이었다.
편광 필름의 박형화 방법으로서는, 특허문헌 1, 2에 기재되고 있는 바와 같은, 편광자 자체를 박형화하는 방법이나 편광자의 편면에만 투명 보호 필름을 적층하는 방법 외에, 투명 보호 필름의 두께를 얇게 하는 방법도 있었다. 편광자의 양면에 투명 보호 필름을 갖는 양면 보호 편광 필름이어도, 투명 보호 필름으로서 상기 박막화된 투명 보호 필름을 사용하는 경우에는, 요오드계 편광자로부터 요오드가 점착제 내에 스며나와서 투명 도전막을 열화시키는 현상이 일어나는 경우가 있었다. 특히, 높은 투습도를 갖는 박막화 투명 보호 필름에 있어서, 상기 현상이 일어나기 쉬운 것을 알 수 있었다.
따라서, 본 발명은 투명 도전막 상에 적층된 경우에도, 상기 투명 도전막의 열화가 억제되는, 투명 도전막용 점착제층이 구비된 편광 필름을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또한, 본 발명은, 상기 투명 도전막용 점착제층이 구비된 편광 필름과, 투명 도전막을 갖는 부재를 접합한 적층체, 상기 적층체를 사용한 화상 표시 장치를 제공하는 것도 목적으로 한다.
본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위해서 예의 검토한 결과, 점착제층의 수분율, 투명 보호 필름의 투습도를 제어함으로써, 상기 목적을 달성할 수 있는 것을 알아내어 본 발명을 완성시키기에 이르렀다.
즉, 본 발명은, 요오드계 편광 필름의 적어도 편면에 점착제층이 적층되어 있는 점착제층이 구비된 편광 필름이며,
상기 요오드계 편광 필름이, 요오드 및/또는 요오드 이온을 1 내지 14중량％ 함유하고, 두께가 2 내지 40㎛인 요오드계 편광자의 적어도 편면에, 60℃, 90％ R.H.에서의 투습도가 1000g/(m2·24h) 이하인 투명 보호 필름을 갖는 요오드계 편광 필름이며,
상기 점착제층의 60℃, 90％ R.H.에서의 포화수분율이 3.5중량％ 이하인 것을 특징으로 하는, 투명 도전막용 점착제층이 구비된 편광 필름에 관한 것이다. 여기서, 「요오드 및/또는 요오드 이온을 함유하는 요오드계 편광자 」란, 요오드를 함유하는 요오드계 편광자, 요오드 이온을 함유하는 요오드계 편광자, 요오드 및 요오드 이온의 양쪽을 함유하는 요오드계 편광자이며, 본 발명에서는 모두 적절하게 사용할 수 있다.
상기 요오드계 편광자의 편광자 두께(㎛)와 요오드 함유량(중량％)을 곱한 값이 10 내지 80중량％·㎛인 것이 바람직하다.
상기 요오드계 편광 필름이, 상기 요오드계 편광자의 편측에만 투명 보호 필름을 갖는 편면 보호 편광 필름이며, 또한, 상기 편면 보호 편광 필름의 투명 보호 필름을 갖고 있지 않은 면과 상기 점착제층이 접촉하고 있어도 된다.
상기 투명 도전막이 산화인듐 주석으로 형성되는 것이 바람직하고, 상기 산화인듐 주석이 비결정성의 산화인듐 주석인 것이 바람직하다.
또한, 본 발명은 상기 투명 도전막용 점착제층이 구비된 편광 필름과, 투명 도전막을 갖는 투명 도전성 부재를, 상기 투명 도전막용 점착제층이 구비된 편광 필름의 점착제층과 상기 부재의 투명 도전막이 접촉하도록 접합한 것을 특징으로 하는 적층체에 관한 것이다.
또한, 본 발명은, 상기 적층체를 사용하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치에 관한 것이다. 상기 화상 표시 장치에 있어서, 상기 투명 도전막을 갖는 투명 도전성 부재가 투명 도전막 및 액정 셀을 포함하는 부재이어도 되고, 또는, 상기 투명 도전막을 갖는 투명 도전성 부재가 투명 도전막을 갖는 투명 도전성 필름이며, 상기 적층체를 터치 패널로서 사용해도 된다.
요오드에 의한 투명 도전막의 열화는, 당해 투명 도전막에 접하는 점착제 내의 수분율이 많을수록 진행되기 쉬운 것을 알 수 있었다. 그래서 본 발명은 점착제층 수분율에 관련된 인자인, 점착제층 자체의 수분율(조성 기인)이나 보호 필름의 투습도를 제어함으로써, 투명 도전막용 점착제층이 구비된 편광 필름의 점착제층에 투명 도전막을 적층한 경우에도 투명 도전막의 열화를 억제할 수 있는 것이다.
1. 투명 도전막용 점착제층이 구비된 편광 필름
본 발명의 투명 도전막용 점착제층이 구비된 편광 필름은, 요오드계 편광 필름의 적어도 편면에 점착제층이 적층하고 있는 것이며,
상기 요오드계 편광 필름이, 요오드 및/또는 요오드 이온을 1 내지 14중량％ 함유하고, 두께가 2 내지 40㎛인 요오드계 편광자의 적어도 편면에, 60℃, 90％ R.H.에서의 투습도가 1000g/(m2·24h) 이하인 투명 보호 필름을 갖는 요오드계 편광 필름이며,
상기 점착제층의 60℃, 90％ R.H.에서의 포화수분율이 3.5중량％ 이하인 것을 특징으로 한다.
(1)요오드계 편광 필름
본 발명에서 사용하는 요오드계 편광 필름은, 요오드 및/또는 요오드 이온을 1 내지 14중량％ 함유하고, 두께가 2 내지 40㎛인 요오드계 편광자의 적어도 편면에, 60℃, 90％ R.H.에서의 투습도가 600g/(m2·24h) 이하인 투명 보호 필름을 갖는 것이다. 본 발명에 있어서는, 요오드계 편광자의 편면에 투명 보호 필름을 갖는 편면 보호 편광 필름이어도, 요오드계 편광자의 양면에 투명 보호 필름을 갖는 양면 보호 편광 필름이어도 되지만, 편면 보호 편광 필름을 사용할 경우에 본 발명의 효과가 현저하다. 또한, 양면 보호 편광 필름이어도, 점착제층과 접하는 측의 투명 보호 필름의 두께가 얇은(예를 들어, 25㎛ 이하) 경우에도, 본 발명의 효과가 현저하다. 또한, 편광 필름이 편면 보호 편광 필름인 경우에는, 점착제층은 상기 투명 보호 필름을 갖지 않은 측의 편광자 표면에 직접 설치할 수 있다.
또한, 본 발명에서 사용하는 요오드계 편광자의 요오드 및/또는 요오드 이온의 함유량(이하, 요오드 함유량이라고 하는 경우도 있음)은, 편광자 중 1 내지 14중량％이며, 2 내지 12중량％이어도 되고, 4 내지 11중량％이어도 된다. 요오드 함유량이 1중량％ 미만인 경우, 요오드계 편광자로부터 투명 도전막으로 이행하는 요오드량이 적으므로, 투명 도전막의 열화가 발생하지 않기는 하지만, 편광자로서의 편광 특성이 충분하지 않다. 또한, 요오드 함유량이 14중량％를 초과하는 경우에서는, 투명 도전막의 열화가 커서 정전기 불균일이 발생하거나, 실드 성능이 악화된다. 또한, 요오드계 편광자가 후술하는 박형 편광자인 경우, 요오드 함유량은 4 내지 12중량％인 것이 바람직하고, 4 내지 11중량％인 것이 보다 바람직하다.
본 발명의 투명 도전막용 점착제층이 구비된 편광 필름은, 요오드계 편광자의 요오드 함유량이 높은 경우에도, 당해 투명 도전막용 점착제층이 구비된 편광 필름의 점착제층 상에 투명 도전막을 적층했을 때의 투명 도전막의 요오드에 의한 열화를 억제할 수 있다. 그 결과, 당해 편광 필름을 액정 패널에 내장했을 때, 정전기 불균일을 발생시키지 않아 실드 성능을 효과적으로 발휘할 수 있는 것이다. 투명 도전막의 열화는, 요오드계 편광자 내의 요오드가 점착제 내를 통과하여 투명 도전막에 도달함으로써 발생하지만, 당해 요오드에 의한 열화는, 점착제층 내의 수분율이 많을수록 진행하기 쉬운 것을 알 수 있었다. 본 발명에 있어서는, 후술하는 대로, 점착제층의 수분율에 관련된 인자인 점착제 자체의 수분율(조성 기인)이나 보호 필름의 투습도를 억제함으로써, 투명 도전막의 요오드에 의한 열화를 억제할 수 있는 것이다.
요오드계 편광자의 두께는 2 내지 40㎛이며, 2 내지 25㎛인 것이 바람직하고, 3 내지 10㎛인 것이 보다 바람직하다. 요오드계 편광자의 두께가 40㎛보다 두꺼우면, 그만큼 요오드계 편광자에 포함되는 요오드의 양이 많아져서 투명 도전막의 열화가 커진다. 또한, 두께가 10㎛ 이하인 박형 요오드계 편광자는, 두께 불균일이 적어서 시인성이 우수하고, 또한 치수 변화가 적으므로 내구성이 우수하고, 나아가 편광 필름으로서의 두께도 박형화를 도모할 수 있는 점에서 바람직하다.
요오드계 편광자로서는, 요오드 및/또는 요오드 이온을 1 내지 14중량％ 함유하는 편광자이며, 2 내지 40㎛의 두께를 갖는 것이라면 어떤 것이라도 사용할 수 있지만, 예를 들어 폴리비닐알코올(PVA)계 필름, 부분 포르말화 PVA계 필름, 에틸렌·아세트산 비닐 공중합체계 부분 비누화 필름 등의 친수성 고분자 필름에, 요오드를 흡착시켜서 1축 연신한 것 등을 들 수 있다. 이들 중에서도 PVA계 필름과 요오드로 이루어지는 편광자가 적합하다.
PVA계 필름을 요오드로 염색하여 1축 연신한 편광자는, 예를 들어 PVA를 요오드의 수용액에 침지함으로써 염색하고, 원래 길이의 3 내지 7배로 연신함으로써 제작할 수 있다. 필요에 따라 붕산이나 황산아연, 염화아연 등을 포함하고 있어도 되는 요오드화 칼륨 등의 수용액에 침지할 수도 있다. 또한, 필요에 따라 염색 전에 PVA계 필름을 물에 침지하여 수세해도 된다. PVA계 필름을 수세함으로써 PVA계 필름 표면의 오염이나 블로킹 방지제를 세정할 수 있는 것 외에, PVA계 필름을 팽윤시킴으로써 염색의 얼룩 등의 불균일을 방지하는 효과도 있다. 연신은 요오드로 염색한 후에 행해도 되고, 염색하면서 연신해도 되고, 또한 연신하고 나서 요오드로 염색해도 된다. 붕산이나 요오드화 칼륨 등의 수용액이나 수욕중에서도 연신할 수 있다.
또한, 두께가 10㎛ 이하인 박형 요오드계 편광자로서는, 대표적으로는, 일본 특허 공개 소51-069644호 공보나 일본 특허 공개 제2000-338329호 공보나, 국제 공개 제2010/10917호 팸플릿, 국제 공개 제2010/100917호 팸플릿 또는 특허 4751481호 명세서나 일본 특허 공개 제2012-073563호 공보에 기재되어 있는 박형 편광막을 예로 들 수 있다. 이들 박형 편광막은, PVA계 수지층과 연신용 수지 기재를 적층체의 상태로 연신하는 공정과 염색하는 공정을 포함하는 제법에 의해 얻을 수 있다. 이 제법이라면, PVA계 수지층이 얇아도, 연신용 수지 기재에 지지되어 있음으로써 연신에 의한 파단 등의 문제 없이 연신하는 것이 가능해진다.
상기 박형 편광막으로서는, 적층체의 상태에서 연신하는 공정과 염색하는 공정을 포함하는 제법 중에서도, 고배율로 연신할 수 있어서 편광 성능을 향상시킬 수 있는 점에서, 국제 공개 제2010/100917호 팸플릿, 국제 공개 제2010/100917호 팸플릿 또는 특허 4751481호 명세서나 일본 특허 공개 제2012-073563호 공보에 기재된 바와 같은 붕산 수용액 내에서 연신하는 공정을 포함하는 제법으로 얻어지는 것이 바람직하고, 특히 특허 4751481호 명세서나 일본 특허 공개 제2012-073563호 공보에 기재된 붕산 수용액 내에서 연신하기 전에 보조적으로 공중 연신하는 공정을 포함하는 제법에 의해 얻어지는 것이 바람직하다.
또한, 상기 요오드계 편광자의 요오드 농도와 두께를 곱한 값이, 10 내지 80중량％·㎛인 것이 바람직하고, 15 내지 70중량％·㎛인 것이 보다 바람직하고, 18 내지 50중량％·㎛인 것이 더욱 바람직하다. 이 수치가 10중량％·㎛ 이하이면, 요오드계 편광자로부터 투명 도전막에 이행하는 요오드량이 적으므로, 투명 도전막의 열화가 발생하지 않지만, 편광자로서의 편광 특성이 충분하지 않은 경우가 있고, 이 수치가 80중량％·㎛를 초과하면, 투명 도전막의 열화가 커지는 경향이 있다.
상기 요오드계 편광자의 편면, 또는, 양면에 설치되는 투명 보호 필름은, 60℃, 90％ R·H·에서의 투습도가 1000g/(m2·24h) 이하이고, 700g/(m2·24h) 이하인 것이 바람직하고, 500g/(m2·24h) 이하인 것이 보다 바람직하고, 300g/(m2·24h) 이하인 것이 더욱 바람직하고, 150g/(m2·24h) 이하인 것이 가장 바람직하다. 투명 보호 필름의 투습도가 상기 범위보다 크면, 투명 보호 필름을 통과하여 침입하는 수분량이 많아져서 점착제 내의 수분율이 상승되어 버리므로, 당해 점착제층을 갖는 점착형 광학 필름을 투명 도전 필름에 접합한 경우에, 투명 도전막의 요오드에 의한 열화가 발생하기 쉽다. 또한, 당해 편광 필름을, 투명 도전막을 갖는 액정 패널에 내장한 경우, 정전기 불균일이 발생하거나, 실드 성능이 악화되므로, 바람직하지 않다. 또한, 투명 보호 필름의 투습도는, 낮으면 낮은 쪽이 효과적이고, 하한값은 특별히 한정되지 않는다. 투명 보호 필름의 투습도 측정 방법은, 실시예에 기재된 방법에 의해 행할 수 있다.
상기 요오드계 편광자의 편면, 또는, 양면에 설치되는 투명 보호 필름을 형성하는 재료로서는, 투명성, 기계적 강도, 열 안정성, 수분 차단성, 등방성 등이 우수한 것이 바람직하다. 예를 들어, 폴리에틸렌테레프탈레이트나 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 중합체, 디아세틸셀룰로오스나 트리아세틸셀룰로오스 등의 셀룰로오스계 중합체, 폴리메틸메타크릴레이트 등의 아크릴계 중합체, 폴리스티렌이나 아크릴로니트릴·스티렌 공중합체(AS 수지) 등의 스티렌계 중합체, 폴리카르보네이트계 중합체 등을 들 수 있다. 또한, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 시클로계 내지는 노르보르넨 구조를 갖는 폴리올레핀, 에틸렌·프로필렌 공중합체 등의 폴리올레핀계 중합체, 염화비닐계 중합체, 나일론이나 방향족 폴리아미드 등의 아미드계 중합체, 이미드계 중합체, 술폰계 중합체, 폴리에테르술폰계 중합체, 폴리에테르에테르케톤계 중합체, 폴리페닐렌술피드계 중합체, 비닐알코올계 중합체, 염화 비닐리덴계 중합체, 비닐 부티랄계 중합체, 아릴레이트계 중합체, 폴리옥시메틸렌계 중합체, 에폭시계 중합체, 또는, 상기 중합체의 블렌드물 등도 상기 투명 보호 필름을 형성하는 중합체의 예로서 들 수 있다. 투명 보호 필름은, 아크릴계, 우레탄계, 아크릴 우레탄계, 에폭시계, 실리콘계 등의 열경화형, 자외선 경화형의 수지 경화층으로서 형성할 수도 있다.
투명 보호 필름의 두께는 적절하게 결정할 수 있지만, 일반적으로는 강도나 취급성 등의 작업성, 박막성 등의 점에서 1 내지 500㎛ 정도인 것이 바람직하고, 1 내지 300㎛ 정도인 것이 보다 바람직하고, 5 내지 200㎛ 정도인 것이 더욱 바람직하고, 5 내지 200㎛ 정도인 것이 더욱 바람직하고, 10 내지 80㎛ 정도인 것이 특히 바람직하다.
투명 보호 필름의 투습도는, 투명 보호 필름의 재질뿐만 아니라, 두께도 크게 영향을 미치므로, 재질과 두께의 밸런스로 결정된다. 투명 보호 필름의 두께가 얇을수록 투습도가 높아지고, 두꺼울수록 투습도는 낮아진다. 또한, 투명 보호 필름 표면에 투습도가 낮은 재료를 코팅하여 투습도를 조정할 수도 있다. 예를 들어, 투습도가 낮은 아크릴계의 코팅 재료를 도포 시공함으로써 소정의 투습도를 갖는 투명 보호 필름을 얻을 수 있다. 또한, 투습도가 낮은 재료를 코팅하는 경우에는, 그 두께는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 5 내지 30㎛ 정도를 들 수 있다.
상기 요오드계 편광자와 투명 보호 필름은, 통상, 수계 접착제 등을 통하여 밀착되어 있다. 수계 접착제로서는, 이소시아네이트계 접착제, 폴리비닐알코올계 접착제, 젤라틴계 접착제, 비닐계 라텍스계, 수계 폴리우레탄, 수계 폴리에스테르 등을 예시할 수 있다. 상기 외에, 편광자와 투명 보호 필름의 접착제로서는, 자외선 경화형 접착제, 전자선 경화형 접착제 등을 들 수 있다. 전자선 경화형 편광 필름용 접착제는, 상기 각종 투명 보호 필름에 대하여 적합한 접착성을 나타낸다. 또한, 본 발명에서 사용하는 접착제에는, 금속 화합물 필러를 함유시킬 수 있다.
상기 투명 보호 필름의 요오드계 편광자를 접착시키지 않는 면에는, 하드 코팅층이나 반사 방지 처리, 스티킹 방지나, 확산 내지 안티글레어를 목적으로 한 처리를 실시한 것이어도 된다.
(2)점착제층
본 발명에서 사용하는 점착제층은, 60℃, 90％ R.H.에서의 포화수분율이 3.5중량％ 이하이면 되고, 그 조성은 특별히 한정되지 않는다. 점착제층의 포화수분율은 0 내지 2중량％인 것이 바람직하고, 0 내지 1.5중량％인 것이 보다 바람직하고, 0 내지 1.0중량％인 것이 더욱 바람직하고, 0 내지 0.5중량％ 이하인 것이 특히 바람직하다. 점착제층의 포화수분율이 3.5중량％를 초과하면, 당해 점착제층에 포함되는 수분량이 많아, 당해 점착제층을 갖는 편광 필름을 투명 도전막에 접합한 경우에, 투명 도전막의 요오드에 의한 열화가 발생하기 쉽다.
본 발명에서의 점착제층은, 베이스 중합체 및 가교제를 포함하는 점착제 조성물로 형성되는 것이 바람직하다. 당해 점착제 조성물은, 아크릴계, 합성 고무계, 고무계, 실리콘계 등의 점착제 등으로 할 수 있지만, 투명성, 내열성 등의 관점에서 (메트)아크릴계 중합체를 베이스 중합체로 하는 아크릴계 점착제가 바람직하다.
아크릴계 점착제의 베이스 중합체가 되는 (메트)아크릴계 중합체는, 탄소수 2 내지 14의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산 에스테르를 포함하는 단량체 성분을 중합하여 얻어지는 것이 바람직하고, 탄소수 2 내지 14의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산 에스테르를 주 단량체로서 포함하는 단량체 성분을 중합하여 얻어지는 것이 보다 바람직하다. 여기서, 주 단량체란, (메트)아크릴계 중합체를 구성하는 전체 단량체 성분에 대하여 60중량％ 이상인 것이 바람직하고, 70중량％ 이상인 것이 보다 바람직하다. 또한, (메트)아크릴산 에스테르는, 아크릴산 에스테르 및/또는 메타크릴산 에스테르를 말하며, 본 발명의 (메트)와는 동일한 의미이다.
상기 탄소수 2 내지 14의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산 에스테르로서는, 예를 들어 에틸(메트)아크릴레이트, n-부틸(메트)아크릴레이트, t-부틸(메트)아크릴레이트, 이소부틸(메트)아크릴레이트, 헥실(메트)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메트)아크릴레이트, n-옥틸(메트)아크릴레이트, 이소옥틸(메트)아크릴레이트, n-노닐(메트)아크릴레이트, 이소노닐(메트)아크릴레이트, n-데실(메트)아크릴레이트, 이소데실(메트)아크릴레이트, n-도데실(메트)아크릴레이트, n-트리데실(메트)아크릴레이트, n-테트라데실(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있고, 이들을 1종 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 이들 중에서도, 탄소수 4 내지 14의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산 에스테르가 소수성의 성질이 보다 강하므로 보다 바람직하다.
상기 단량체 성분에는, 탄소수가 2 내지 14의 알킬기를 갖는 (메트)아크릴계 산 에스테르 이외의 그 밖의 중합성 단량체를 포함할 수 있다. 상기 그 밖의 중합성 단량체로서는, (메트)아크릴로일기 또는 비닐기 등의 불포화 이중 결합에 관한 중합성의 관능기를 갖는 것이라면 특별히 제한되지 않지만, 예를 들어 히드록실기 함유 단량체, 카르복실기 함유 단량체 등을 들 수 있다.
히드록실기 함유 단량체로서는, (메트)아크릴로일기 또는 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 갖는 중합성의 관능기를 갖고, 또한 히드록실기를 갖는 것을 특별히 제한없이 사용할 수 있다. 히드록실기 함유 단량체로서는, 예를 들어 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 3-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 6-히드록시헥실(메트)아크릴레이트, 8-히드록시옥틸(메트)아크릴레이트, 10-히드록시데실(메트)아크릴레이트, 12-히드록시라우릴(메트)아크릴레이트, (4-히드록시메틸시클로헥실)메틸(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있고, 이들을 1종 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다. 히드록실기 함유 단량체는, 투명 도전막(특히, ITO)과의 밀착성을 상승시키는 효과가 있으므로 바람직하다. 이들 중에서도 측쇄의 탄소수가 4 이상인 히드록실기 함유 아크릴계 단량체는, 투명 도전막과의 밀착력을 상승시키는 효과가 높고, 소수성의 성질이 보다 강하므로 바람직하다.
히드록실기 함유 단량체의 함유량은, 단량체 성분 중 10중량％ 이하인 것이 바람직하고, 0 내지 5중량％인 것이 보다 바람직하고, 0.1 내지 2중량％인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 본 발명에 있어서는, 특히, 측쇄의 탄소수가 4 이상인 수산기 함유 아크릴계 단량체의 함유량을 상기 범위에서 사용함으로써 점착제 조성물의 친수성을 조정할 수 있고, 그 결과, 당해 점착제 조성물로 형성되는 점착제층의 포화 수분율을 조정할 수 있으므로 바람직하다.
카르복실기 함유 단량체로서는, (메트)아크릴로일기 또는 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 갖는 중합성의 관능기를 갖고, 또한 카르복실기를 갖는 것을 특별히 제한없이 사용할 수 있다. 카르복실기 함유 단량체로서는, 예를 들어 아크릴산, 메타크릴산, 카르복시에틸(메트)아크릴레이트, 카르복시펜틸(메트)아크릴레이트, 이타콘산, 말레산, 푸마르산, 크로톤산 등을 들 수 있고, 이들은 단독 또는 조합하여 사용할 수 있다.
카르복실기 함유 단량체의 함유량은, 단량체 성분 중 5중량％ 이하인 것이 바람직하다. 카르복실기 함유 단량체가 단량체 성분 중 5중량％를 초과할 경우, 점착제 조성물의 친수성이 상승하여, 당해 점착제 조성물로 형성되는 점착제층의 수분율이 상승하는 경향이 있으므로, 바람직하지 않다.
그 밖의 공중합 단량체로서는, (메트)아크릴로일기 또는 비닐기 등의 불포화 이중 결합에 관한 중합성의 관능기를 갖는 것이라면 특별히 제한되지 않고, 예를 들어 (메트)아크릴산 시클로헥실, (메트)아크릴산 보르닐, (메트)아크릴산 이소보르닐 등의 (메트)아크릴산 지환식 탄화수소 에스테르; 예를 들어, (메트)아크릴산 페닐 등의 (메트)아크릴산 아릴에스테르; 예를 들어, 아세트산 비닐, 프로피온산 비닐 등의 비닐에스테르류; 예를 들어, 스티렌 등의 스티렌계 단량체; 예를 들어, (메트)아크릴산 글리시딜, (메트)아크릴산 메틸글리시딜 등의 에폭시기 함유 단량체; 예를 들어, 아크릴아미드, 디에틸아크릴아미드, 아크릴로일모르폴린(ACMO), N-비닐피롤리돈(NVP) 등의 아미드기 함유 단량체; 예를 들어, N,N-디메틸아미노에틸(메트)아크릴레이트, N,N-디메틸아미노프로필(메트)아크릴레이트 등의 아미노기 함유 단량체; 예를 들어, N-비닐피롤리돈, N-비닐-ε-카프로락탐, 메틸비닐피롤리돈 등의 환상 질소 함유 단량체; 예를 들어, (메트)아크릴산 메톡시에틸, (메트)아크릴산 에톡시에틸 등의 알콕시기 함유 단량체; 예를 들어, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등의 시아노기 함유 단량체; 예를 들어, 2-메타크릴로일옥시에틸이소시아네이트 등의 관능성 단량체; 예를 들어, 에틸렌, 프로필렌, 이소프렌, 부타디엔, 이소부틸렌 등의 올레핀계 단량체; 예를 들어, 비닐에테르 등의 비닐에테르계 단량체; 예를 들어, 염화비닐 등의 할로겐 원자 함유 단량체; N-비닐카르복실산 아미드류 등을 들 수 있다.
또한, 공중합성 단량체로서, 예를 들어 N-시클로헥실말레이미드, N-이소프로필말레이미드, N-라우릴말레이미드, N-페닐말레이미드 등의 말레이미드계 단량체; 예를 들어, N-메틸이타콘이미드, N-에틸이타콘이미드, N-부틸이타콘이미드, N-옥틸이타콘이미드, N-2-에틸헥실이타콘이미드, N-시클로헥실이타콘이미드, N-라우릴이타콘이미드 등의 이타콘이미드계 단량체; 예를 들어, N-(메트)아크릴로일옥시메틸렌숙신이미드, N-(메트)아크릴로일―6-옥시헥사메틸렌숙신이미드, N-(메트)아크릴로일―8-옥시옥타메틸렌숙신이미드 등의 숙신이미드계 단량체; 예를 들어, 스티렌술폰산, 알릴술폰산, 2-(메트)아크릴아미드-2-메틸프로판술폰산, (메트)아크릴아미도프로판술폰산, 술포프로필(메트)아크릴레이트, (메트)아크릴로일옥시나프탈렌술폰산 등의 술폰산기 함유 단량체를 들 수 있다.
또한, 공중합성 단량체로서, 예를 들어 (메트)아크릴산 폴리에틸렌글리콜, (메트)아크릴산 폴리프로필렌글리콜, (메트)아크릴산 메톡시에틸렌글리콜, (메트) 아크릴산 메톡시폴리프로필렌글리콜 등의 글리콜계 아크릴에스테르 단량체; 그 밖에, 예를 들어 (메트)아크릴산 테트라히드로푸르푸릴이나, 불소(메트)아크릴레이트 등의 복소환이나, 할로겐 원자를 함유하는 아크릴산 에스테르계 단량체 등을 들 수 있다.
또한, 공중합성 단량체로서 다관능성 단량체를 사용할 수 있다. 다관능성 단량체로서는, (메트)아크릴로일기, 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 2개 이상 갖는 화합물 등을 들 수 있다. 예를 들어, 에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트 등의 (모노 또는 폴리)에틸렌글리콜디(메트)아크릴레이트나, 프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트 등의 (모노 또는 폴리)프로필렌글리콜디(메트)아크릴레이트 등의 (모노 또는 폴리)알킬렌글리콜디(메트)아크릴레이트 외에, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트 등의 (메트)아크릴산과 다가 알코올의 에스테르화물; 디비닐벤젠 등의 다관능 비닐 화합물; (메트)아크릴산 알릴, (메트)아크릴산 비닐 등의 반응성의 불포화 이중 결합을 갖는 화합물 등을 들 수 있다. 또한, 다관능성 단량체로서는, 폴리에스테르, 에폭시, 우레탄 등의 골격에 단량체 성분과 동일한 관능기로서 (메트)아크릴로일기, 비닐기 등의 불포화 이중 결합을 2개 이상 부가한 폴리에스테르(메트)아크릴레이트, 에폭시(메트)아크릴레이트, 우레탄(메트)아크릴레이트 등을 사용할 수도 있다.
히드록실기 함유 단량체, 카르복실기 함유 단량체 이외의 공중합 단량체의 비율은, 단량체 성분 중 40중량％ 이하가 바람직하고, 0 내지 30중량％가 보다 바람직하고, 0 내지 10중량％가 더욱 바람직하다. 단, 아미드기 함유 단량체, 아미노기 함유 단량체는, 점착제 조성물의 친수성을 향상시키는 경우가 있으므로, 각각, 단량체 성분 중 10중량％ 이하인 것이 바람직하고, 8중량％ 이하인 것이 보다 바람직하다.
본 발명에서 사용하는 (메트)아크릴계 중합체의 중량 평균 분자량은, 120만 내지 300만의 범위인 것이 바람직하고, 120만 내지 270만이 보다 바람직하고, 120만 내지 250만이 더욱 바람직하다. 중량 평균 분자량이 120만보다도 작으면, 내열성의 점에서 바람직하지 않은 경우가 있었다. 또한, 중량 평균 분자량이 120만보다 작으면, 점착제 조성물 내에 저분자량 성분이 많아지고, 당해 저분자량 성분이 점착제층으로부터 블리드 아웃되어 투명성을 손상시키는 경우가 있었다. 또한, 중량 평균 분자량이 120만보다 작은 (메트)아크릴계 중합체를 사용하여 얻어진 점착제층은, 내용제성이나 역학 특성이 뒤떨어지는 경우가 있었다. 또한, 중량 평균 분자량이 300만보다도 커지면, 도포 시공하기 위한 점도로 조정하기 위하여 다량의 희석 용제가 필요해져서 비용의 관점에서 바람직하지 않다. 또한, 중량 평균 분자량이 상기 범위 내에 있음으로써, 내부식성, 내구성의 관점에서도 바람직하다. 상기 중량 평균 분자량은, GPC(겔·투과·크로마토그래피)에 의해 측정하고, 폴리스티렌 환산에 의해 산출된 값을 말한다.
이러한 (메트)아크릴계 중합체의 제조는, 용액 중합, 괴상 중합, 유화 중합, 각종 라디칼 중합 등의 공지된 제조 방법을 적절히 선택할 수 있고, 특별히 한정되지 않지만, 본 발명에 있어서는, 점착제층의 수분율의 관점에서 용액 중합인 것이 바람직하다. 또한, 얻어지는 (메트)아크릴계 중합체는, 랜덤 공중합체, 블록 공중합체, 그래프트 공중합체 등 어느 것이든 좋다.
용액 중합에 있어서는, 중합 용매로서, 예를 들어 아세트산 에틸, 톨루엔 등이 사용된다. 구체적인 용액 중합예로서는, 반응은 질소 등의 불활성 가스 기류 하에서 중합 개시제를 첨가하고, 통상, 50 내지 70℃ 정도에서, 5 내지 30시간 정도의 반응 조건으로 행하여진다.
라디칼 중합에 사용되는 중합 개시제, 연쇄 이동제, 유화제 등은 특별히 한정되지 않고 적절히 선택하여 사용할 수 있다. 또한, (메트)아크릴계 중합체의 중량 평균 분자량은, 중합 개시제, 연쇄 이동제의 사용량, 반응 조건에 따라 제어 가능하고, 이들의 종류에 따라 적절하게 그 사용량이 조정된다.
중합 개시제로서는, 예를 들어 2,2'-아조비스이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스(2-아미디노프로판)디히드로클로라이드, 2,2'-아조비스[2-(5-메틸-2-이미다졸린-2-일)프로판]디히드로클로라이드, 2,2'-아조비스(2-메틸프로피온아미딘) 이황산염, 2,2'-아조비스(N,N'-디메틸렌이소부틸아미딘), 2,2'-아조비스[N-(2-카르복시에틸)-2-메틸프로피온아미딘]하이드레이트(상품명: VA-057, 와코쥰야쿠공업(주)제) 등의 아조계 개시제, 과황산칼륨, 과황산암모늄 등의 과황산염, 디(2-에틸헥실)퍼옥시디카르보네이트, 디(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카르보네이트, 디-sec-부틸퍼옥시디카르보네이트, t-부틸퍼옥시네오데카노에이트, t-헥실퍼옥시피발레이트, t-부틸퍼옥시피발레이트, 디라우로일퍼옥시드, 디-n-옥타노일퍼옥시드, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시-2-에틸헥사노에이트, 디(4-메틸벤조일)퍼옥시드, 디벤조일퍼옥시드, t-부틸퍼옥시이소부티레이트, 1,1-디(t-헥실퍼옥시)시클로헥산, t-부틸하이드로퍼옥시드, 과산화수소 등의 과산화물계 개시제, 과황산염과 아황산 수소 나트륨의 조합, 과산화물과 아스코르브산 나트륨의 조합 등의 과산화물과 환원제를 조합한 산화 환원계 개시제 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되지 않는다.
상기 중합 개시제는 단독으로 사용해도 되고, 또한 2종 이상을 혼합하여 사용해도 되지만, 전체적인 함유량은, 상기 (메트)아크릴계 중합체를 형성하는 단량체 성분 100중량부에 대하여 0.005 내지 1중량부 정도인 것이 바람직하다.
연쇄 이동제로서는, 예를 들어 라우릴머캅탄, 글리시딜머캅탄, 머캅토 아세트산, 2-머캅탄에탄올, 티오글리콜산, 티오글리콜산 2-에틸헥실, 2,3-디머캅토-1-프로판올 등을 들 수 있다. 연쇄 이동제는 단독으로 사용해도 되고, 또한 2종 이상을 혼합하여 사용해도 되지만, 전체적인 함유량은 단량체 성분의 전량 100중량부에 대하여 0.1중량부 정도 이하이다.
본 발명에서 사용하는 점착제 조성물에는, 고온 다습 조건 하에서의 밀착성을 향상시키기 위해서, 각종 실란 커플링제를 첨가할 수 있다. 실란 커플링제로서는, 임의의 적절한 관능기를 갖는 것을 사용할 수 있다. 관능기로서는, 예를 들어 비닐기, 에폭시기, 아미노기, 머캅토기, (메트)아크릴옥시기, 아세토아세틸기, 이소시아네이트기, 스티릴기, 폴리술피드기 등을 들 수 있다. 구체적으로는, 예를 들어 비닐트리에톡시실란, 비닐트리프로폭시실란, 비닐트리이소프로폭시실란, 비닐트리부톡시실란 등의 비닐기 함유 실란 커플링제; γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디에톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란 등의 에폭시기 함유 실란 커플링제; γ-아미노프로필트리메톡시실란, N-β-(아미노에틸)-γ-아미노프로필메틸디메톡시실란, N-(2-아미노에틸)3-아미노프로필메틸디메톡시실란, γ-트리에톡시실릴-N-(1,3-디메틸부틸리덴)프로필아민, N-페닐-γ-아미노프로필트리메톡시실란 등의 아미노기 함유 실란 커플링제; γ-머캅토프로필메틸디메톡시실란 등의 머캅토기 함유 실란 커플링제; p-스티릴트리메톡시실란 등의 스티릴기 함유 실란 커플링제; γ-아크릴옥시프로필트리메톡시실란, γ-메타크릴옥시프로필트리에톡시실란 등의 (메트)아크릴기 함유 실란 커플링제; 3-이소시아네이트프로필트리에톡시실란 등의 이소시아네이트기 함유 실란 커플링제; 비스(트리에톡시실릴프로필)테트라술피드 등의 폴리술피드기 함유 실란 커플링제 등을 들 수 있다.
상기 실란 커플링제는 단독으로 사용해도 되고, 또한 2종 이상을 혼합하여 사용해도 되지만, 전체적인 함유량은 상기 베이스 중합체(고형분) 100중량부에 대하여 1중량부 이하인 것이 바람직하고, 0.01 내지 1중량부인 것이 보다 바람직하고, 0.02 내지 0.8중량부인 것이 더욱 바람직하다. 실란 커플링제의 배합량이 1중량부를 초과하면, 미반응 커플링제 성분이 발생하여 내구성의 점에서 바람직하지 않다.
또한, 상기 실란 커플링제가, 상기 단량체 성분과 라디칼 중합에 의해 공중합할 수 있는 경우에는, 당해 실란 커플링제를 상기 단량체 성분으로서 사용할 수 있다. 그 비율은, 상기 베이스 중합체(고형분) 100중량부에 대하여 0.005 내지 0.7중량부인 것이 바람직하다.
나아가, 본 발명에서 사용하는 점착제 조성물에는, 가교제를 첨가함으로써, 점착제의 내구성에 관계된 응집력을 부여할 수 있으므로 바람직하다.
가교제로서는, 다관능성의 화합물이 사용되고, 유기계 가교제나 다관능성 금속 킬레이트를 들 수 있다. 유기계 가교제로서는, 에폭시계 가교제, 이소시아네이트계 가교제, 카르보디이미드계 가교제, 이민계 가교제, 옥사졸린계 가교제, 아지리딘계 가교제, 과산화물계 가교제 등을 들 수 있다. 다관능성 금속 킬레이트는, 다가 금속 원자가 유기 화합물과 공유 결합 또는 배위 결합하고 있는 것이다. 다가 금속 원자로서는, A1, Cr, Zr, Co, Cu, Fe, Ni, V, Zn, In, Ca, Mg, Mn, Y, Ce, Sr, Ba, Mo, La, Sn, Ti 등을 들 수 있다. 공유 결합 또는 배위 결합하는 유기 화합물 중의 원자로서는 산소 원자 등을 들 수 있고, 유기 화합물로서는 알킬에스테르, 알코올 화합물, 카르복실산 화합물, 에테르 화합물, 케톤 화합물 등을 들 수 있다. 이 가교제는 1종 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이들 중에서도 과산화물계 가교제, 이소시아네이트계 가교제가 바람직하고, 이들을 조합하여 사용하는 것이 보다 바람직하다.
이소시아네이트계 가교제는, 이소시아네이트기(이소시아네이트기를 블록제 또는 수량체화 등에 의해 일시적으로 보호한 이소시아네이트 재생형 관능기를 포함함)를 1분자 중에 2개 이상 갖는 화합물을 말한다.
이소시아네이트계 가교제로서는, 톨릴렌디이소시아네이트, 크실렌디이소시아네이트 등의 방향족 이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트 등의 지환족 이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트 등의 지방족 이소시아네이트 등을 들 수 있다.
보다 구체적으로는, 예를 들어 부틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트 등의 저급 지방족 폴리이소시아네이트류, 시클로펜틸렌디이소시아네이트, 시클로헥실렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트 등의 지환족 이소시아네이트류, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 크실렌디이소시아네이트, 폴리메틸렌폴리페닐이소시아네이트 등의 방향족 디이소시아네이트류, 트리메틸올프로판/톨릴렌디이소시아네이트 삼량체 부가물(상품명: 코로네이트L, 니뽄폴리우레탄공업(주)제), 트리메틸올프로판/헥사메틸렌디이소시아네이트 삼량체 부가물(상품명: 코로네이트HL, 니뽄폴리우레탄공업(주)제), 헥사메틸렌디이소시아네이트의 이소시아누레이트체(상품명: 코로네이트HX, 니뽄폴리우레탄공업(주)제) 등의 이소시아네이트 부가물, 크실렌디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 부가물(상품명: D110N, 미츠이화학(주)제), 헥사메틸렌디이소시아네이트의 트리메틸올프로판 부가물(상품명: D160N, 미츠이화학(주)제); 폴리에테르폴리이소시아네이트, 폴리에스테르폴리이소시아네이트, 및 이것들과 각종 폴리올의 부가물, 이소시아누레이트 결합, 뷰렛 결합, 알로파네이트 결합 등으로 다관능화한 폴리이소시아네이트 등을 들 수 있다. 이들 중 지방족 이소시아네이트를 사용하는 것이 반응속도가 빠르므로, 바람직하다.
과산화물계 가교제로서는, 각종 과산화물이 사용된다. 과산화물로서는, 디(2-에틸헥실)퍼옥시디카르보네이트, 디(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카르보네이트, 디-sec-부틸퍼옥시디카르보네이트, t-부틸퍼옥시네오데카노에이트, t-헥실퍼옥시피발레이트, t-부틸퍼옥시피발레이트, 디라우로일퍼옥시드, 디-n-옥타노일퍼옥시드, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시이소부티레이트, 1,1,3,3-테트라메틸부틸퍼옥시2-에틸헥사노에이트, 디(4-메틸벤조일)퍼옥시드, 디벤조일퍼옥시드, t-부틸퍼옥시이소부티레이트 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 특히 가교 반응 효율이 우수한, 디(4-t-부틸시클로헥실)퍼옥시디카르보네이트, 디라우로일퍼옥시드, 디벤조일퍼옥시드가 바람직하게 사용된다.
점착제 조성물에서의 가교제의 배합 비율은 특별히 한정되지 않지만, 통상, 상기 베이스 중합체(고형분) 100중량부에 대하여 가교제(고형분) 10중량부 정도 이하의 비율로 배합된다. 상기 가교제의 배합 비율은, 0.01 내지 10중량부가 바람직하고, 0.01 내지 5중량부 정도가 보다 바람직하다. 또한, 특히, 과산화물계 가교제를 사용할 경우에는, 베이스 중합체(고형분) 100중량부에 대하여 0.05 내지 1중량부 정도가 바람직하고, 0.06 내지 0.5중량부가 보다 바람직하다.
나아가, 본 발명에서 사용하는 점착제 조성물에는, 필요에 따라, 점도 조정제, 박리 조정제, 점착 부여제, 가소제, 연화제, 유리 섬유, 글래스 비즈, 금속분, 그 밖의 무기 분말 등으로 이루어지는 충전제, 안료, 착색제(안료, 염료 등), pH 조정제(산 또는 염기), 산화 방지제, 자외선 흡수제 등을, 또한 본 발명의 목적을 일탈하지 않는 범위에서 각종 첨가제를 적절하게 사용할 수도 있다.
(3)투명 도전막용 점착제층이 구비된 편광 필름
본 발명의 투명 도전막용 점착제층이 구비된 편광 필름은, 상기 요오드계 편광 필름 중 적어도 한쪽의 면에 점착제층을 형성함으로써 얻어진다.
상기 점착제층의 형성 방법은 특별히 한정되지 않지만, 각종 기재 상에 상기 점착제 조성물을 도포하고, 열 오븐 등의 건조기에 의해 건조하여 용제 등을 휘산시켜서 점착제층을 형성하고, 상기 요오드계 편광 필름 상에, 당해 점착제층을 전사하는 방법이어도 되고, 상기 요오드계 편광 필름 상에 직접 상기 점착제 조성물을 도포하여 점착제층을 형성해도 된다.
상기 기재로서는 특별히 한정되지 않고, 예를 들어 이형 필름, 투명 수지 필름 기재 등의 각종 기재를 들 수 있다.
상기 기재나 편광 필름에의 도포 방법으로서는 각종 방법이 이용된다. 구체적으로는, 예를 들어 파운틴 코터, 롤 코팅, 키스 롤 코팅, 그라비아 코팅, 리버스 코팅, 롤 브러시, 스프레이 코팅, 딥 롤 코팅, 바 코팅, 나이프 코팅, 에어나이프 코팅, 커튼 코팅, 립 코팅, 다이 코터 등에 의한 압출 코팅법 등의 방법을 들 수 있다.
건조 조건(온도, 시간)은 특별히 한정되지 않고, 점착제 조성물의 조성, 농도 등에 따라 적절히 설정할 수 있지만, 예를 들어 80 내지 170℃ 정도, 바람직하게는 90 내지 200℃에서, 1 내지 60분간, 바람직하게는 2 내지 30분간이다.
점착제층의 두께(건조 후)는, 예를 들어 5 내지 100㎛인 것이 바람직하고, 7 내지 70㎛인 것이 보다 바람직하고, 10 내지 50㎛인 것이 더욱 바람직하다. 점착제층의 두께가 7㎛ 미만에서는, 피착체에 대한 밀착성이 부족해져서 고온, 고온 다습 하에서의 내구성이 충분하지 않은 경향이 있다. 한편, 점착제층의 두께가 70㎛를 초과하는 경우에는, 점착제층을 형성할 때의 점착제 조성물의 도포, 건조 시에 충분히 전부 건조되지 못하고 기포가 잔존하거나, 점착제층의 면에 두께 불균일이 발생하거나 하여 외관상의 문제가 현재화되기 쉬워지는 경향이 있다.
상기 이형 필름의 구성 재료로서는, 예를 들어 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에스테르 필름 등의 수지 필름, 종이, 천, 부직포 등의 다공질 재료, 네트, 발포 시트, 금속박 및 이들의 라미네이트체 등의 적당한 박엽체 등을 들 수 있지만, 표면 평활성이 우수한 점에서 수지 필름이 적절하게 사용된다.
그 수지 필름으로서는, 예를 들어 폴리에틸렌 필름, 폴리프로필렌 필름, 폴리부텐 필름, 폴리부타디엔 필름, 폴리메틸펜텐 필름, 폴리염화비닐 필름, 염화비닐 공중합체 필름, 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리부틸렌테레프탈레이트 필름, 폴리우레탄 필름, 에틸렌-아세트산 비닐 공중합체 필름 등을 들 수 있다.
상기 이형 필름의 두께는, 통상 5 내지 200㎛이며, 바람직하게는 5 내지 100㎛ 정도이다. 상기 이형 필름에는, 필요에 따라, 실리콘계, 불소계, 장쇄 알킬계 또는 지방산 아미드계의 이형제, 실리카분 등에 의한 이형 및 방오 처리나, 도포형, 첨가형, 증착형 등의 대전 방지 처리를 할 수도 있다. 특히, 상기 이형 필름의 표면에 실리콘 처리, 장쇄 알킬 처리, 불소 처리 등의 박리 처리를 적절히 행함으로써, 상기 점착제층으로부터의 박리성을 보다 높일 수 있다.
상기 투명 수지 필름 기재로서는 특별히 제한되지 않지만, 투명성을 갖는 각종 수지 필름이 사용된다. 당해 수지 필름은 1층의 필름에 의해 형성되어 있다. 예를 들어, 그 재료로서, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지, 아세테이트계 수지, 폴리에테르술폰계 수지, 폴리카르보네이트계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리올레핀계 수지, (메트)아크릴계 수지, 폴리염화비닐계 수지, 폴리염화비닐리덴계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 폴리아릴레이트계 수지, 폴리페닐렌술피드계 수지 등을 들 수 있다. 이들 중에서 특히 바람직한 것은, 폴리에스테르계 수지, 폴리이미드계 수지 및 폴리에테르술폰계 수지이다.
상기 필름 기재의 두께는 15 내지 200㎛인 것이 바람직하다.
또한, 요오드계 편광 필름과 점착제층의 사이에는 앵커층을 가져도 된다. 앵커층을 형성하는 재료는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 각종 중합체류, 금속 산화물의 졸, 실리카 졸 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 특히 중합체류가 바람직하게 사용된다. 상기 중합체류의 사용 형태는 용제 가용형, 수분산형, 수용해형의 어느 것이든 좋다.
상기 중합체류로서는, 예를 들어 폴리우레탄계 수지, 폴리에스테르계 수지, 아크릴계 수지, 폴리에테르계 수지, 셀룰로오스계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 폴리비닐피롤리돈, 폴리스티렌계 수지 등을 들 수 있다. 이들 중에서도, 특히 폴리우레탄계 수지, 폴리에스테르계 수지, 아크릴계 수지가 바람직하다. 이들 수지에는 적절하게 가교제를 배합할 수 있다. 이들의 다른 바인더 성분은 1종, 또는, 2종 이상을 적절히 그 용도에 맞춰서 사용할 수 있다. 앵커층의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 5 내지 300nm인 것이 바람직하다.
상기 앵커층의 형성 방법으로서는, 특별히 한정되지 않고, 통상 공지된 방법에 의해 행할 수 있다. 또한, 앵커층의 형성 시에 상기 요오드계 편광 필름에 활성화 처리를 실시할 수 있다. 활성화 처리는 각종 방법을 채용할 수 있고, 예를 들어 코로나 처리, 저압 UV 처리, 플라즈마 처리 등을 채용할 수 있다.
요오드계 편광 필름 상의 앵커층 상으로의 점착제층의 형성 방법은, 상술한 바와 같다.
또한, 본 발명의 투명 도전막용 점착제층이 구비된 편광 필름의 점착제층이 노출될 경우에는, 실용에 제공될 때까지 이형 필름(세퍼레이터)으로 점착제층을 보호해도 된다. 이형 필름으로서는, 상술한 것을 들 수 있다. 상기의 점착제층의 제작 시에 기재로서 이형 필름을 사용한 경우에는, 이형 필름 상의 점착제층과 요오드계 편광 필름을 접합함으로써, 당해 이형 필름은, 투명 도전막용 점착제층이 구비된 편광 필름의 점착제층 이형 필름으로서 사용할 수 있고, 공정면에서의 간략화가 가능하다.
2. 적층체
본 발명의 적층체는, 상기 투명 도전막용 점착제층이 구비된 편광 필름과, 투명 도전막을 갖는 부재를, 상기 투명 도전막용 점착제층이 구비된 편광 필름의 점착제층과 상기 투명 도전막을 갖는 부재의 투명 도전막이 접촉하도록 접합한 것을 특징으로 한다.
상기 투명 도전막용 점착제층이 구비된 편광 필름은, 상술한 것을 사용할 수 있다.
투명 도전막을 갖는 부재로서는 특별히 한정되지 않고, 공지된 것을 사용할 수 있지만, 투명 필름 등의 투명 기재 상에 투명 도전막을 갖는 것이나, 투명 도전막과 액정 셀을 갖는 부재를 예로 들 수 있다.
투명 기재로서는, 투명성을 갖는 것이면 되고, 예를 들어 수지 필름이나, 유리 등으로 이루어지는 기재(예를 들어, 시트 형상이나 필름 형상, 판상의 기재 등) 등을 들 수 있고, 수지 필름이 특히 바람직하다. 투명 기재의 두께는 특별히 한정되지 않지만, 10 내지 200㎛ 정도가 바람직하고, 15 내지 150㎛ 정도가 보다 바람직하다.
상기 수지 필름의 재료로서는 특별히 제한되지 않지만, 투명성을 갖는 각종 플라스틱 재료를 들 수 있다. 예를 들어, 그 재료로서, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트 등의 폴리에스테르계 수지, 아세테이트계 수지, 폴리에테르술폰계 수지, 폴리카르보네이트계 수지, 폴리아미드계 수지, 폴리이미드계 수지, 폴리올레핀계 수지, (메트)아크릴계 수지, 폴리염화비닐계 수지, 폴리염화비닐리덴계 수지, 폴리스티렌계 수지, 폴리비닐알코올계 수지, 폴리아릴레이트계 수지, 폴리페닐렌술피드계 수지 등을 들 수 있다. 이들 중에서 특히 바람직한 것은, 폴리에스테르계 수지, 폴리이미드계 수지 및 폴리에테르술폰계 수지이다.
또한, 상기 투명 기재에는, 표면에 미리 스퍼터링, 코로나 방전, 화염, 자외선 조사, 전자선 조사, 화성, 산화 등의 에칭 처리나 밑칠 처리를 실시하여, 이 위에 설치되는 투명 도전막의 상기 투명 기재에 대한 밀착성을 향상시키도록 해도 된다. 또한, 투명 도전막을 설치하기 전에, 필요에 따라 용제 세정이나 초음파 세정 등에 의해 제진, 청정화해도 된다.
상기 투명 도전막의 구성 재료로서는 특별히 한정되지 않고, 인듐, 주석, 아연, 갈륨, 안티몬, 티타늄, 규소, 지르코늄, 마그네슘, 알루미늄, 금, 은, 구리, 팔라듐, 텅스텐으로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 금속의 금속 산화물이 사용된다. 당해 금속 산화물에는, 필요에 따라, 또한 상기 군에 나타난 금속 원자를 포함하고 있어도 된다. 예를 들어, 산화주석을 함유하는 산화인듐(ITO), 안티몬을 함유하는 산화주석 등이 바람직하게 사용되고, ITO가 특히 바람직하게 사용된다. ITO로서는, 산화인듐 80 내지 99중량％ 및 산화주석 1 내지 20중량％를 함유하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 ITO로서는, 결정성의 ITO, 비결정성(아몰퍼스)의 ITO를 예로 들 수 있다. 결정성 ITO는, 스퍼터시 에 고온을 가하거나, 비결정성 ITO를 더욱 가열함으로써 얻을 수 있다. 상기 요오드에 의한 열화는, 비결정성 ITO에서 현저하게 발생하므로, 본 발명의 투명 도전막용 점착제층이 구비된 편광 필름은, 비결정성의 ITO에서 특히 유효하다.
상기 투명 도전막의 두께는 특별히 제한되지 않지만, 7nm 이상으로 하는 것이 바람직하고, 12 내지 60nm인 것이 보다 바람직하고, 18 내지 45nm인 것이 더욱 바람직하다. 투명 도전막의 두께가 7nm 미만에서는 요오드에 의한 투명 도전막의 열화가 일어나기 쉽고, 투명 도전막의 전기 저항값의 변화가 커지는 경향이 있다. 한편, 60nm를 초과하는 경우에는, 투명 도전막의 생산성이 저하되고, 비용도 상승하고, 또한, 광학 특성도 저하되는 경향이 있다.
상기 투명 도전막의 형성 방법으로서는 특별히 한정되지 않고, 종래 공지된 방법을 채용할 수 있다. 구체적으로는, 예를 들어 진공 증착법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법을 예시할 수 있다. 또한, 필요로 하는 막 두께에 따라 적당한 방법을 채용할 수도 있다.
상기 투명 도전막을 갖는 기재의 두께로서는 15 내지 200㎛를 예로 들 수 있다. 또한, 박막화의 관점에서는 15 내지 150㎛인 것이 바람직하고, 15 내지 50㎛인 것이 보다 바람직하다. 상기 투명 도전막을 갖는 기재가 저항막 방식으로 사용될 경우, 예를 들어 100 내지 200㎛의 두께를 들 수 있다. 또한, 정전 용량 방식으로 사용될 경우, 예를 들어 15 내지 100㎛의 두께가 적합하고, 특히, 최근 한층 더 박막화 요구에 수반하여 15 내지 50㎛의 두께가 보다 바람직하고, 20 내지 50㎛의 두께가 더욱 바람직하다.
또한, 투명 도전막과 투명 기재의 사이에, 필요에 따라, 언더코팅층, 올리고머 방지층 등을 설치할 수 있다.
또한, 투명 도전막과 액정 셀을 갖는 부재로서는, 각종 액정 표시 장치 등의 화상 표시 장치에 사용되는, 기판(예를 들어, 유리 기판 등)/액정층/기판의 구성을 포함하는 액정 셀의 당해 기판의 액정층과 접하지 않는 측에 투명 도전막을 갖는 것을 예로 들 수 있다. 또한, 액정 셀 상에 컬러 필터 기판을 설치할 경우에는, 당해 컬러 필터 상에 투명 도전막을 가져도 된다. 액정 셀의 기판 상에 투명 도전막을 형성하는 방법은, 상기와 마찬가지이다.
본 발명의 투명 도전막용 점착제층이 구비된 편광 필름을 투명 도전막에 접합했을 때의 투명 도전막의 저항값 변화율은, 400％ 미만인 것이 바람직하고, 200％ 이하인 것이 바람직하고, 150％ 이하인 것이 보다 바람직하고, 120％ 이하인 것이 더욱 바람직하다. 저항값 변화율은, 정전기 불균일 대책이나 실드 기능의 관점에서 400％ 미만인 것이 바람직하고, 센서 용도의 경우에는 10 내지 20％인 것이 바람직하다. 투명 도전막의 저항값 변화율에 대해서는, 실시예에 기재된 방법에 의해 측정할 수 있다.
3. 화상 표시 장치
본 발명의 적층체는, 입력 장치(터치 패널 등)를 구비한 화상 표시 장치(액정 표시 장치, 유기 EL(일렉트로 루미네센스) 표시 장치, PDP(플라즈마 디스플레이 패널), 전자 페이퍼 등), 입력 장치(터치 패널 등) 등의 기기를 구성하는 기재(부재) 또는 이 기기에 사용되는 기재(부재)의 제조에서 적절하게 사용할 수 있지만, 특히, 터치 패널용의 광학 기재의 제조에서 적절하게 사용할 수 있다.
본 발명의 적층체에, 재단, 레지스트 인쇄, 에칭, 은 잉크 인쇄 등의 처리가 실시되어 얻어진 투명 도전성 필름은, 광학 디바이스용 기재(광학 부재)로서 사용할 수 있다. 광학 디바이스용 기재로서는, 광학적 특성을 갖는 기재라면 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어 화상 표시 장치(액정 표시 장치, 유기 EL(일렉트로 루미네센스) 표시 장치, PDP(플라즈마 디스플레이 패널), 전자 페이퍼 등), 입력 장치(터치 패널 등) 등의 기기를 구성하는 기재(부재) 또는 이 기기에 사용되는 기재(부재)를 들 수 있다.
또한, 본 발명의 투명 도전막용 점착제층이 구비된 편광 필름은, 상술한 바와 같이, 당해 투명 도전막용 점착제층이 구비된 편광 필름의 점착제층에 투명 도전막을 적층한 경우에도, 투명 도전막의 열화를 억제할 수 있고, 투명 도전막의 표면 저항 상승을 억제할 수 있는 것이다. 따라서, 투명 도전막용 점착제층이 구비된 편광 필름의 점착제층이 투명 도전막과 접하는 구성을 갖는 화상 표시 장치라면, 본 발명의 투명 도전막용 점착제층이 구비된 편광 필름을 적절하게 사용할 수 있다. 예를 들어, 본 발명의 투명 도전막용 점착제층이 구비된 편광 필름과 투명 도전막을 갖는 액정 패널을, 상기 투명 도전막용 점착제층이 구비된 편광 필름의 점착제층과 상기 액정 패널의 투명 도전막이 접촉하도록 접합하여 화상 표시 장치로 할 수 있다.
또한, 터치 패널에 대해서는, 저항막 방식이나 정전 용량 방식과 같은 터치 패널 등의 방식이나, 투명 도전막으로 이루어지는 전극을 액정 셀 위에 유리 기판 상에 형성하는 온 셀형 터치 패널이나, 투명 도전막으로 이루어지는 전극을 액정 셀 내부가 도입된 형태의 인 셀형 터치 패널 등의 구성 등에 관계없이 사용할 수 있다.
(실시예)
이하, 본 발명에 관하여 실시예를 사용하여 상세하게 설명하지만, 본 발명은 그 요지를 초과하지 않는 한, 이하의 실시예에 한정되지 않는다. 또한, 각 예 중, 부, ％는 모두 중량 기준이며, 이하에 특히 규정이 없는 실온 방치 조건은 모두 23℃, 65％ R.H.이다.
<편광자 내의 요오드 함유량>
편광자 내의 요오드 함유량(요오드 및/또는 요오드 이온의 함유량)은 이하의 수순에 따라 측정하였다.
1) 복수의, 소정량의 요오드화 칼륨을 포함하는 편광자에 대하여 형광 X선 강도를 측정하고, 요오드 함유량과 형광 X선 강도의 관계식을 도출하였다.
2) 요오드 함유량이 미지인 요오드계 편광자의 형광 X선을 측정하고, 그 수치로부터 상기 관계식을 사용하여 요오드량을 계산하였다.
<투명 보호 필름의 투습도 측정>
JISZO208의 투습도 시험(컵법)에 준하여 측정하였다. 직경 60mm로 절단한 투명 보호 필름을, 약 15g의 염화칼슘을 넣은 투습 컵에 세트하고, 60℃, 90％ R.H.의 항온기에 넣어 24시간 방치한 후의, 염화칼슘의 중량 증가를 측정함으로써 투습도(g/(m2·24h))를 구하였다.
<아크릴계 중합체의 중량 평균 분자량(Mw)의 측정>
제작한 아크릴계 중합체의 중량 평균 분자량은, GPC(겔·투과·크로마토그래피)에 의해 측정하였다.
장치: 도소사제, HLC-8220GPC
칼럼:
샘플 칼럼; 도소사제, TSKguardcolumn Super HZ-H(1개)+TSKgel Super HZM-H(2개)
레퍼런스 칼럼; 도소사제, TSKgel Super H-RC(1개)
유량: 0.6mL/min
주입량: 10μL
칼럼 온도: 40℃
용리액: THF
주입 시료 농도: 0.2중량％
검출기: 시차 굴절계
또한, 중량 평균 분자량은 폴리스티렌 환산에 의해 산출하였다.
제조예 1(편광 필름(1)의 제작)
두께 80㎛의 폴리비닐알코올 필름을, 속도비가 상이한 롤간에 있어서, 30℃, 0.3％ 농도의 요오드 용액 내에서 1분간 염색하면서 3배까지 연신하였다. 그 후, 60℃, 4％ 농도의 붕산, 10％ 농도의 요오드화 칼륨을 포함하는 수용액 내에 0.5분간 침지하면서 종합 연신 배율이 6배까지 연신하였다. 계속해서, 30℃, 1.5％ 농도의 요오드화 칼륨을 포함하는 수용액 내에 10초간 침지함으로써 세정한 후, 50℃에서 4분간 건조하고, 두께 25㎛, 요오드 함유량 2.3중량％의 편광자(A-1)을 얻었다. 당해 편광자(A-1)의 편면에, PVA계 수지 수용액을 도포하고, 두께 40㎛의 아크릴계 필름(투습도: 250g/(m2·24h))을 접합하여 편광 필름(1)을 제작하였다. 얻어진 편광 필름(1)의 투과율은, 43％이었다.
제조예 2(편광 필름(2)의 제작)
제조예 1의 다양한 용액의 농도, 침지 시간 등을, 편광 필름의 투과율이 40％가 되도록 조정한 것 이외는 제조예 1과 마찬가지로 하여, 두께 25㎛, 요오드 함유량 3.1중량％의 편광자(A-2)를 얻었다. 당해 편광자(A-2)의 편면에, PVA계 수지 수용액을 도포하고, 두께 40㎛의 아크릴계 필름(투습도: 250g/(m2·24h))을 접합하여 편광 필름(2)를 제작하였다. 얻어진 편광 필름(2)의 투과율은, 40％이었다.
제조예 3(편광 필름(3)의 제작)
열가소성 수지 기재(긴 형상의 비정질 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름, 두께: 100㎛, 흡수율: 0.60중량％, Tg: 80℃)의 편면에, 코로나 처리를 실시하고, 이 코로나 처리면에, 중합도 4200, 비누화도 99.2몰％의 폴리비닐알코올의 수용액을 60℃에서 도포 및 건조하여 두께 10㎛의 PVA계 수지층을 형성하고, 적층체를 제작하였다.
얻어진 적층체를, 120℃의 오븐 내에서 주위 속도가 상이한 롤간에서 세로 방향(길이 방향)으로 2.0배로 자유단부 1축 연신하고(공중 보조 연신), 계속해서, 적층체를, 액온 30℃의 불용화 욕(물 100중량부에 대하여 붕산을 4중량부 배합하여 얻어진 붕산 수용액)에 30초간 침지시켰다 (불용화 처리).
불용화 처리 후의 적층체를, 액온 30℃의 염색 욕(물 100중량부에 대하여 요오드를 0.2중량부 배합하고, 요오드화 칼륨을 1.0중량부 배합하여 얻어진 요오드 수용액)에 60초간 침지시키고(염색 처리), 계속해서, 액온 30℃의 가교욕(물 100중량부에 대하여 요오드화 칼륨을 3중량부 배합하고, 붕산을 3중량부 배합하여 얻어진 붕산 수용액)에 30초간 침지시켰다(가교 처리).
그 후, 적층체를, 액온 70℃의 붕산 수용액(물 100중량부에 대하여 붕산을 4중량부 배합하고, 요오드화 칼륨을 5중량부 배합하여 얻어진 수용액)에 침지시키면서, 주위 속도가 상이한 롤간에서 세로 방향(길이 방향)으로 총 연신 배율이 5.5배가 되도록 1축 연신을 행하고(수중 연신), 계속해서, 적층체를 액온 30℃의 세정 욕(물 100중량부에 대하여 요오드화 칼륨을 4중량부 배합하여 얻어진 수용액)에 침지시켰다(세정 처리).
상기 일련의 처리에 의해, 수지 기재 상에, 두께 5㎛, 요오드 함유량 8중량％의 편광자(B-1)을 포함하는 광학 필름 적층체가 얻어졌다.
계속해서, 얻어진 광학 필름 적층체의 편광자(B-1)의 편면에, PVA계 수지 수용액을 도포하고, 두께 40㎛의 아크릴계 필름(투습도: 250g/(m2·24h))을 적층하고, 60℃로 유지한 오븐에서 5분간 가열하고, 열가소성 수지 기재를 박리하여 편광 필름(3)을 제작하였다. 얻어진 편광 필름(3)의 투과율은 43％이었다.
제조예 4(편광 필름(4)의 제작)
제조예 3의 다양한 용액의 농도, 침지 시간 등을, 편광 필름의 투과율이 40％가 되도록 조정한 것 이외는 제조예 3과 마찬가지로 하여, 두께 5㎛, 요오드 함유량 11중량％의 편광자(B-2)를 얻었다. 당해 편광자(B-2)의 편면에, PVA계 수지 수용액을 도포하고, 두께 40㎛의 아크릴계 필름(투습도: 250g/(m2·24h))을 적층하고, 60℃로 유지한 오븐에서 5분간 가열하고, 열가소성 수지 기재를 박리하여 편광 필름(4)를 제작하였다. 얻어진 편광 필름(4)의 투과율은, 40％이었다.
제조예 5(편광 필름(5)의 제작)
제조예 3의 다양한 용액의 농도, 침지 시간 등을, 편광 필름의 투과율이 45％가 되도록 조정한 것 이외는 제조예 3과 마찬가지로 하여, 두께 5㎛, 요오드 함유량 5중량％의 편광자(B-3)을 얻었다. 당해 편광자(B-3)의 편면에, PVA계 수지 수용액을 도포하고, 두께 40㎛의 아크릴계 필름(투습도: 250g/(m2·24h))을 적층하고, 60℃로 유지한 오븐에서 5분간 가열하고, 열가소성 수지 기재를 박리하여 편광 필름(5)를 제작하였다. 얻어진 편광 필름(5)의 투과율은, 45％이었다.
제조예 6(편광 필름(6)의 제작)
제조예 3의 투명 보호 필름을, 두께 40㎛의 아크릴계 필름(투습도: 250g/(m2·24h))에서, 두께 40㎛의 시클로올레핀 중합체(COP)계 필름(투습도: 10g/(m2·24h)으로 변경한 것 이외는 제조예 3과 마찬가지로 하여, 편광 필름(6)을 얻었다. 얻어진 편광 필름(6)의 투과율은, 43％이었다.
제조예 7(편광 필름(7)의 제작)
제조예 3의 투명 보호 필름을, 두께 40㎛의 아크릴계 필름(투습도: 250g/(m2·24h))에서, 두께 40㎛의 비누화 처리한 트리아세틸셀룰로오스 필름에 아크릴계 중합체를 박층 도포 시공한 필름(TAC-HC, 아크릴계 도포 시공 막의 두께: 10㎛, 투습도: 700g/(m2·24h))으로 변경한 것 이외는 제조예 3과 마찬가지로 하여, 편광 필름(7)을 얻었다. 얻어진 편광 필름(7)의 투과율은, 43％이었다.
제조예 8(편광 필름(8)의 제작)
제조예 3의 투명 보호 필름을, 두께 40㎛의 아크릴계 필름(투습도: 250g/(m2·24h))에서, 두께 20㎛의 아크릴계 필름(투습도: 470g/(m2·24h))으로 변경한 것 이외는 제조예 3과 마찬가지로 하여, 편광 필름(8)을 얻었다. 얻어진 편광 필름(8)의 투과율은, 43％이었다.
제조예 9(편광 필름(9)의 제작)
제조예 4의 투명 보호 필름을, 두께 40㎛의 아크릴계 필름(투습도 250g/(m2·24h))에서, 두께 40㎛의 비누화 처리한 트리아세틸셀룰로오스 필름(투습도: 1200g/(m2·24h))으로 변경한 것 이외는 제조예 4와 마찬가지로 하여, 편광 필름(9)를 얻었다. 얻어진 편광 필름(9)의 투과율은, 40％이었다.
제조예 10(편광 필름(10)의 제작)
제조예 3의 다양한 용액의 농도, 침지 시간 등을, 편광 필름의 투과율이 38％가 되도록 조정한 것 이외는 제조예 3과 마찬가지로 하여, 두께 5㎛, 요오드 함유량 15중량％의 편광자(B-4)를 얻었다. 당해 편광자(B-4)의 편면에, 두께 40㎛의 아크릴계 필름(투습도: 250g/(m2·24h))을 접합하여 편광 필름(10)을 제작하였다. 얻어진 편광 필름(10)의 투과율은, 38％이었다.
제조예 1 내지 10에서 얻어진 편광 필름(1) 내지 (10)은 이하와 같다.
Figure 112014056779014-pat00001
(실시예 1)
(아크릴계 점착제 조성물의 제조)
냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반 장치를 구비한 반응 용기에, 아크릴산 부틸 84.95중량부, 아크릴산 0.05중량부, 아크릴산 4-히드록시부틸 5중량부, N-비닐-2-피롤리돈 10중량부 및 개시제로서, AIBN을 단량체(고형분) 100부에 대하여 0.1부를 아세트산 에틸과 함께 첨가하여 질소 가스 기류 하에 55℃에서 7시간 반응시킨 후, 그 반응액에 아세트산 에틸을 첨가하여 중량 평균 분자량 160만의 아크릴계 중합체를 함유하는 용액을 얻었다(고형분 농도 30중량％). 가교제로서, 상기 아크릴계 중합체 용액의 고형분 100부당, 과산화물로서 디벤조일퍼옥시드(상품명: 나이퍼BMT, 니뽄유시(주)제) 0.2중량부, 이소시아네이트계 가교제로서 트리메틸올프로판크실렌디이소시아네이트(상품명: 타케네이트D110N, 미츠이화학(주)제)를 0.1부와, 실란 커플링제(상품명: KBM403, 신에츠화학공업(주)제) 0.08부를 배합하여 아크릴계 점착제 조성물(1)을 얻었다.
(점착제층이 구비된 편광 필름의 제작)
상기 아크릴계 점착제 조성물(1)을, 실리콘계 박리제로 처리된 폴리에틸렌테레프탈레이트 필름(기재)의 표면에, 파운틴 코터로 균일하게 도포 시공하고, 155℃의 공기 순환식 항온 오븐에서 2분간 건조하고, 기재의 표면에 두께 20㎛의 점착제층을 형성하였다. 계속해서, 제조예 1에서 얻어진 편광 필름(1)의 투명 보호 필름을 갖지 않은 면(편광자면)에, 점착제층을 형성한 세퍼레이터를 이착시켜서 점착제층이 구비된 편광 필름을 제작하였다. 얻어진 점착제층의 수분율은, 1.3중량％이었다.
(실시예 2)
(아크릴계 점착제 조성물의 제조)
냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반 장치를 구비한 반응 용기에, 아크릴산 부틸 99부·아크릴산 4-히드록시부틸 1부, 및 개시제로서 AIBN을 단량체(고형분) 100부에 대하여 0.1부를 아세트산 에틸과 함께 첨가하여 질소 가스 기류 하에 60℃에서 7시간 반응시킨 후, 그 반응액에 아세트산 에틸을 첨가하여 중량 평균 분자량 160만의 아크릴계 중합체를 함유하는 용액을 얻었다(고형분 농도 30중량％). 가교제로서, 상기 아크릴계 중합체 용액의 고형분 100부당, 트리메틸올프로판크실렌디이소시아네이트(상품명: 타케네이트D110N, 미츠이화학(주)제)를 0.1부와, 디벤조일퍼옥시드를 0.3부, 실란 커플링제로서 γ-글리시독시프로필트리메톡시실란(상품명: KBM-403, 신에츠화학공업(주)제)을 0.075부와, 페놀계 산화 방지제로서, 펜타에리트리톨테트라키스[3-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피오네이트(IRGANAOX 1010, BASF재팬(주)제) 0.3부를 배합하여 아크릴계 점착제 조성물(2)를 얻었다.
(점착제층이 구비된 편광 필름의 제작)
실시예 1의 (점착제층이 구비된 편광 필름의 제작)에 있어서, 상기 아크릴계 점착제 조성물(1)을 아크릴계 점착제 조성물(2)로 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 점착제층이 구비된 편광 필름을 제작하였다. 얻어진 점착제층의 수분율은, 0.7중량％이었다.
(실시예 3)
(아크릴계 점착제 조성물의 제조)
냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반 장치를 구비한 반응 용기에, 아크릴산 2-에틸헥실 99.9부, 아크릴산 6-히드록시헥실 0.1부, 및 개시제로서 AIBN을 단량체(고형분) 100부에 대하여 0.1부를 아세트산 에틸과 함께 첨가하여 질소 가스 기류 하에 60℃에서 7시간 반응시킨 후, 그 반응액에 아세트산 에틸을 첨가하여 중량 평균 분자량 180만의 아크릴계 중합체를 함유하는 용액을 얻었다(고형분 농도 30중량％). 가교제로서, 상기 아크릴계 중합체 용액의 고형분 100부당, 트리메틸올프로판/톨릴렌디이소시아네이트의 어덕트체(상품명: 코로네이트L, 니뽄폴리우레탄공업(주)제)를 0.1부와, 디옥틸 주석 디라우레이트계 가교 촉진제(상품명: 엔비라이저 OL-1, 도쿄파인케미컬(주)제)를 0.03부, 실란 커플링제로서 γ-글리시독시프로필트리메톡시실란(상품명: KBM-403, 신에츠화학공업(주)제)을 0.01부를 배합하여 아크릴계 점착제 조성물(3)을 얻었다.
(점착제층이 구비된 편광 필름의 제작)
실시예 1의 (점착제층이 구비된 편광 필름의 제작)에 있어서, 상기 아크릴계 점착제 조성물(1)을 아크릴계 점착제 조성물(3)으로 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 점착제층이 구비된 편광 필름을 제작하였다. 얻어진 점착제층의 수분율은, 0.3중량％이었다.
(실시예 4 내지 7)
실시예 1의 (점착제층이 구비된 편광 필름의 제작)에 있어서, 편광 필름(1)을 제조예 2 내지 5에서 얻어진 편광 필름 (2) 내지 (5)로 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 점착제층이 구비된 편광 필름을 제작하였다. 얻어진 점착제층의 수분율은, 모두 1.3중량％이었다.
(실시예 8)
(아크릴계 점착제 조성물의 제조)
냉각관, 질소 도입관, 온도계 및 교반 장치를 구비한 반응 용기에, 아크릴산 부틸 84.95중량부, 아크릴산 0.05중량부, 아크릴산 히드록시에틸 5중량부, N-비닐-2-피롤리돈 10중량부 및 개시제로서 AIBN을 단량체(고형분) 100부에 대하여 0.1부를 아세트산 에틸과 함께 첨가하여 질소 가스 기류 하에 55℃에서 7시간 반응시킨 후, 그 반응액에 아세트산 에틸을 첨가하여 중량 평균 분자량 160만의 아크릴계 중합체를 함유하는 용액을 얻었다(고형분 농도 30중량％). 가교제로서 상기 아크릴계 중합체 용액의 고형분 100부당, 과산화물로서 디벤조일퍼옥시드(상품명: 나이퍼BMT, 니뽄유시(주)제) 0.2중량부, 이소시아네이트계 가교제로서 트리메틸올프로판크실렌디이소시아네이트(상품명: 타케네이트D110N, 미츠이화학(주)제)를 0.1부와, 실란 커플링제(상품명: KBM403, 신에츠화학공업(주)제) 0.08부를 배합하여 아크릴계 점착제 조성물(4)을 얻었다.
(점착제층이 구비된 편광 필름의 제작)
실시예 1의 (점착제층이 구비된 편광 필름의 제작)에 있어서, 상기 아크릴계 점착제 조성물(1)을 아크릴계 점착제 조성물(4)로 변경하고, 편광 필름(1)을 제조예 3에서 얻어진 편광 필름(3)으로 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 점착제층이 구비된 편광 필름을 제작하였다. 얻어진 점착제층의 수분율은, 1.3중량％이었다.
(실시예 9)
실시예 2의 (점착제층이 구비된 편광 필름의 제작)에 있어서, 편광 필름(1)을 제조예 3에서 얻어진 편광 필름(3)으로 변경한 것 이외는, 실시예 2와 마찬가지로 하여, 점착제층이 구비된 편광 필름을 제작하였다. 얻어진 점착제층의 수분율은, 0.7중량％이었다.
(실시예 10)
실시예 3의 (점착제층이 구비된 편광 필름의 제작)에 있어서, 편광 필름(1)을 제조예 3에서 얻어진 편광 필름(3)으로 변경한 것 이외는, 실시예 3과 마찬가지로 하여, 점착제층이 구비된 편광 필름을 제작하였다. 얻어진 점착제층의 수분율은, 0.3중량％이었다.
(실시예 11)
실시예 2의 (점착제층이 구비된 편광 필름의 제작)에 있어서, 편광 필름(1)을 제조예 4에서 얻어진 편광 필름(4)로 변경한 것 이외는, 실시예 2와 마찬가지로 하여, 점착제층이 구비된 편광 필름을 제작하였다. 얻어진 점착제층의 수분율은, 0.7중량％이었다.
(실시예 12 내지 14)
실시예 1의 (점착제층이 구비된 편광 필름의 제작)에 있어서, 편광 필름(1)을 제조예 6 내지 8에서 얻어진 편광 필름 (6) 내지 (8)로 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 점착제층이 구비된 편광 필름을 제작하였다. 얻어진 점착제층의 수분율은, 모두 1.3중량％이었다.
(실시예 15)
(UV 중합에 사용하는 단량체 성분의 제조)
2-에틸헥실아크릴레이트 61중량부, N-비닐-2-피롤리돈 14중량부, 2종의 광중합 개시제(상품명: 이르가큐어184, BASF사제) 0.05중량부 및 광중합 개시제(상품명: 이르가큐어651, BASF사제) 0.05중량부를 4구 플라스크에 투입하여 단량체 혼합물을 제조하였다. 계속해서, 상기 단량체 혼합물을 질소 분위기 하에서 자외선에 폭로하여 부분적으로 광중합시킴으로써 중합률 약 10중량％의 부분 중합물(아크릴계 중합체 시럽)을 얻었다.
얻어진 아크릴계 중합체 시럽 전체량(75.1중량부)에, 2-히드록시에틸아크릴레이트(2HEA) 3중량부, 4-히드록시부틸아크릴레이트(HBA) 22중량부, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트(상품명: KAYARAD DPHA, 니뽄가야쿠(주)제) 0.12중량부를 첨가한 후, 이들을 균일하게 혼합하여 단량체 성분을 제조하였다.
(UV 중합에 의한 점착제층의 제작)
계속해서, 상기에서 조정한 단량체 성분을, 편면을 실리콘으로 박리 처리한 두께 38㎛의 폴리에스테르 필름(상품명: 다이어포일MRF, 미츠비시주시(주)제)의 박리 처리면에, 최종적인 두께가 20㎛가 되도록 도포하여 도포층을 형성하였다. 계속해서, 도포된 단량체 성분의 표면에, 편면을 실리콘으로 박리 처리한 두께 38㎛의 폴리에스테르 필름(상품명: 다이어포일MRE, 미츠비시주시(주)제)을 당해 필름의 박리 처리면이 도포층측이 되도록 하여 피복하였다. 이에 의해, 단량체 성분의 도포층을 산소로부터 차단하였다. 이와 같이 하여 얻어진 도포층을 갖는 시트에 케미컬 라이트 램프((주)도시바제))를 사용하여 조도 5mW/cm2(약 350nm에 최대 감도를 갖는 탑콘UVR-T1로 측정)의 자외선을 360초간 조사하여 도포층을 경화시켜서 점착제층을 형성하고, 점착 시트를 제작하였다. 점착제층의 양면에 피복된 폴리에스테르 필름은, 박리 라이너(세퍼레이터)로서 기능한다.
(점착제층이 구비된 편광 필름의 제작)
상기 점착제층의 세퍼레이트를 편면만 박리하고, 제조예 3에서 얻어진 편광 필름(3)의 투명 보호 필름을 갖지 않은 면(편광자면)에, 점착제층을 형성한 세퍼레이터를 이착시켜서 점착제층이 구비된 편광 필름을 제작하였다. 얻어진 점착제층의 수분율은, 3.1중량％이었다.
(비교예 1)
실시예 1의 (점착제층이 구비된 편광 필름의 제작)에 있어서, 편광 필름(1)을 제조예 9에서 얻어진 편광 필름(9)로 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 점착제층이 구비된 편광 필름을 제작하였다. 얻어진 점착제층의 수분율은, 1.3중량％이었다.
(비교예 2)
(에멀전형 아크릴계 점착제 조성물의 제조)
용기에, 아크릴산 부틸 780부, 메타크릴산 메틸 200부 및 아크릴산 20부를 첨가하여 혼합하고, 단량체 혼합물을 얻었다. 계속해서, 상기 비율로 제조한 단량체 혼합물 1000부에 대하여 반응성 계면 활성제인 아쿠아론HS-10(다이이치공업제약(주)제) 30부, 이온 교환수 635부를 첨가하고, 호모믹서(도쿠슈기카공업(주)제)를 사용하여 5분간, 6000(rpm)으로 교반하고, 단량체 에멀전을 제조하였다.
이어서, 냉각관, 질소 도입관, 온도계, 적하 깔때기 및 교반 블레이드를 구비한 반응 용기에, 상기에서 제조한 단량체 에멀전 중 200부 및 이온 교환수 515.9부를 투입하고, 계속해서, 반응 용기를 충분히 질소 치환한 후, 과황산암모늄 0.6부를 첨가하여 교반하면서 60℃에서 1시간 중합하였다. 계속해서, 나머지 단량체 에멀전을, 반응 용기를 60℃로 유지한 채, 이것에 3시간에 걸쳐 적하하고, 그 후, 3시간 중합하여 고형분 농도 46.2％의 중합체 에멀전을 얻었다. 계속해서, 상기 중합체 에멀전을 실온까지 냉각한 후, 이것에 농도 10％의 암모니아수를 첨가하여 pH를 8로 하고, 또한, 고형분 45.6％로 조정한 에멀전형 아크릴계 점착제를 얻었다.
(점착제층이 구비된 편광 필름의 제작)
상기 에멀전형 아크릴계 점착제를, 건조 후의 두께가 20㎛가 되도록, 이형 필름(상품명: 다이어포일MRF-38, 폴리에틸렌테레프탈레이트 기재, 미츠비시화학폴리에스테르(주)제) 상에 다이 코터에 의해 도포한 후, 120℃에서 5분간 건조하여 점착제층을 형성하였다. 계속해서, 제조예 4에서 얻어진 편광 필름(4)의 투명 보호 필름을 갖지 않은 면(편광자면)에, 점착제층을 형성한 세퍼레이터를 이착시켜서 점착제층이 구비된 편광 필름을 제작하였다. 얻어진 점착제층의 수분율은, 5.0중량％이었다.
(점착제층이 구비된 편광 필름의 제작)
실시예 1의 (점착제층이 구비된 편광 필름의 제작)에 있어서, 상기 아크릴계 점착제 조성물(1)을 아크릴계 점착제 조성물(5)로 변경하고, 편광 필름(1)을 제조예 4에서 얻어진 편광 필름(4)로 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 점착제층이 구비된 편광 필름을 제작하였다. 얻어진 점착제층의 수분율은, 3.2중량％이었다.
(비교예 3)
실시예 1의 (점착제층이 구비된 편광 필름의 제작)에 있어서, 편광 필름(1)을 제조예 10에서 얻어진 편광 필름(10)으로 변경한 것 이외는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 점착제층이 구비된 편광 필름을 제작하였다. 얻어진 점착제층의 수분율은, 1.3중량％이었다.
실시예 및 비교예에서 얻어진 점착제층이 구비된 편광 필름에 대해서, 이하의 ITO 유리 열화 시험을 행하였다. 그 결과를 표 2에 나타내었다.
<점착제층의 포화수분율의 측정 방법>
실시예 및 비교예에서 제작한 점착제층이 구비된 편광 필름의 점착제층으로부터 약 50mg의 샘플을 채취하였다. 당해 샘플을, 수분 흡탈착 측정 장치(IGA-Sorp, Hiden사제)를 사용하여 100℃에서 1시간의 조건에서 완전히 수분을 제거한 상태의 중량(W1)을 측정하고, 계속해서, 23℃ 0％ R.H.에서 2시간, 23℃, 55％ R.H.에서 5시간, 60℃, 90％ R.H.에서 5시간, 23℃, 55％ R.H.에서 5시간 방치하고, 중량 변화를 관찰하였다. 샘플의 중량 변화가 없어진 시점(포화된 상태)에 있어서, 그 중량(W2)을 측정하였다. 이하의 식으로부터 포화수분율을 측정하였다.
Figure 112014056779014-pat00002
<ITO 유리 열화 시험>
(결정성 ITO층 및 비결정성 ITO를 갖는 피착체의 제작)
무알칼리 유리의 한쪽 면에 스퍼터링법에 의해 ITO막을 형성하고, 결정화 ITO 박막을 갖는 피착체 및 비결정화 ITO막을 갖는 피착체를 제작하였다. 각각의 피착체를, 점착제층이 구비된 편광 필름과 접합하기 전에 140℃ 30분간의 가열 처리를 하였다. 결정성 ITO 박막의 Sn 비율은 10중량％이었다. 비결정성 ITO 박막의 Sn 비율은 3중량％이었다. 또한, ITO 박막의 Sn 비율의 산출 방법은 상술한 바와 같다.
(저항값의 변화율 측정)
상기 ITO 박막을 갖는 피착체를 25mm×25mm로 절단하고, 이 ITO 박막상의 중앙부에, 실시예 및 비교예에서 얻어진 점착제층이 구비된 편광 필름을 15mm×15mm로 절단한 것을, 점착제층과 ITO 박막이 접촉하도록 접합한 후, 50℃ 5atm에서 15분간 오토클레이브 처리한 것을 내부식성의 측정 샘플로 하였다. 얻어진 측정용 샘플을 후술하는 측정 장치를 사용하여 측정하고, 이것을 「초기 저항값」으로 하였다. 그 후, 측정용 샘플을 온도 60℃, 90％ R.H.의 환경에 500시간 투입한 후에 측정한 것을 「습열 후의 저항값」으로 하였다. 또한, 상기의 저항값은, Accent Optical Technologies사제 HL5500PC를 사용하여 측정을 행하였다. 상술한 바와 같이 측정한 「초기 저항값」 및 「습열 후의 저항값」으로부터, 다음 식에서 저항값 변화율을 산출하고, 이하의 평가 기준으로 평가하였다.
1: 저항 변화율이 120％ 이하
2: 저항 변화율이 120％를 초과하며 150％ 이하
3: 저항 변화율이 150％를 초과하며 200％ 이하
4: 저항 변화율이 200％를 초과하며 300％ 이하
5: 저항 변화율이 300％를 초과하며 400％ 미만
6: 저항 변화율이 400％ 이상
Figure 112014056779014-pat00003
또한, 측정에 사용한 ITO의 종류는, 표 2에 나타내었다.
<내구성 시험>
실시예, 비교예에서 얻어진 점착제층이 구비된 편광 필름 샘플의 세퍼레이터 필름을 박리하고, 비결정 ITO가 형성된 유리의 ITO면에 접합하고, 50℃, 5atm, 15분간의 오토클레이브 처리를 행한 후, 80℃의 가열 오븐 및 60℃/90％ R.H.의 항온 항습기에 투입하였다. 500시간 후의 편광 필름의 박리 및 발포를 육안으로 관찰하고, 이하의 평가 기준으로 평가하였다.
○: 완전히 박리 또는 발포가 보이지 않았다.
△: 육안으로 확인할 수 없는 작은 박리 또는 발포가 보였다.
×: 명확한 박리 또는 발포가 보였다.
Figure 112014056779014-pat00004
표 2 중의 요오드 함유량은, 편광자 내의 요오드 및/또는 요오드 이온의 함유량(중량％)이다.

Claims (9)

  1. 요오드계 편광 필름의 적어도 편면에 점착제층이 적층되어 있는 점착제층이 구비된 편광 필름이며,
    상기 요오드계 편광 필름은, 요오드계 편광자의 편측에만 투명 보호 필름을 갖는 편면 보호 편광 필름이며, 또한, 상기 편면 보호 편광 필름의 투명 보호 필름을 갖고 있지 않은 면과 상기 점착제층이 접촉하고 있고,
    상기 요오드계 편광 필름이, 요오드 및/또는 요오드 이온을 1 내지 14중량％ 함유하고, 두께가 2 내지 40㎛인 요오드계 편광자의 편면에, 60℃, 90％ R.H.에서의 투습도가 1000g/(m2·24h) 이하인 투명 보호 필름을 갖는 요오드계 편광 필름이며,
    상기 점착제층은, 베이스 중합체로서, 용액 중합으로 얻은 아크릴계 중합체를 함유하고, 또한, 60℃, 90％ R.H.에서의 포화수분율이 3.5중량％ 이하이고,
    상기 점착제층과 투명 도전막을 갖는 투명 도전성 부재의 투명 도전막이 접촉하도록 사용하는 것을 특징으로 하는, 투명 도전막용 점착제층이 구비된 편광 필름.
  2. 제1항에 있어서, 상기 요오드계 편광자의 편광자 두께(㎛)와, 요오드 함유량(중량％)을 곱한 값이 10 내지 80중량％·㎛인 것을 특징으로 하는 투명 도전막용 점착제층이 구비된 편광 필름.
  3. 삭제
  4. 제1항에 있어서, 상기 투명 도전막이 산화인듐 주석으로 형성되는 것을 특징으로 하는 투명 도전막용 점착제층이 구비된 편광 필름.
  5. 제4항에 있어서, 상기 산화인듐 주석이 비결정성의 산화인듐 주석인 것을 특징으로 하는 투명 도전막용 점착제층이 구비된 편광 필름.
  6. 제1항, 제2항, 제4항 및 제5항 중 어느 한 항에 기재된 투명 도전막용 점착제층이 구비된 편광 필름과, 투명 도전막을 갖는 투명 도전성 부재를, 상기 투명 도전막용 점착제층이 구비된 편광 필름의 점착제층과 상기 부재의 투명 도전막이 접촉하도록 접합한 것을 특징으로 하는 적층체.
  7. 제6항에 기재된 적층체를 사용하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치.
  8. 제7항에 있어서, 상기 투명 도전막을 갖는 투명 도전성 부재가, 투명 도전막 및 액정 셀을 포함하는 부재인 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치.
  9. 제7항에 있어서, 상기 투명 도전막을 갖는 투명 도전성 부재가 투명 도전막을 갖는 투명 도전성 필름이며, 상기 적층체를 터치 패널로서 사용하는 것을 특징으로 하는 화상 표시 장치.
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