KR102094305B1 - 회로 접속 재료 - Google Patents
회로 접속 재료 Download PDFInfo
- Publication number
- KR102094305B1 KR102094305B1 KR1020130092327A KR20130092327A KR102094305B1 KR 102094305 B1 KR102094305 B1 KR 102094305B1 KR 1020130092327 A KR1020130092327 A KR 1020130092327A KR 20130092327 A KR20130092327 A KR 20130092327A KR 102094305 B1 KR102094305 B1 KR 102094305B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- mass
- electronic component
- parts
- acrylic rubber
- conductive film
- Prior art date
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 40
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims abstract description 38
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims abstract description 38
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 claims abstract description 19
- 238000010538 cationic polymerization reaction Methods 0.000 claims abstract description 12
- 239000003505 polymerization initiator Substances 0.000 claims abstract description 10
- 229920000800 acrylic rubber Polymers 0.000 claims description 69
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 claims description 69
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 26
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 12
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 5
- 230000008439 repair process Effects 0.000 abstract description 32
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 abstract description 14
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 abstract description 12
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 abstract description 4
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 abstract description 4
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 27
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 26
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 24
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 24
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 20
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 20
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 19
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 19
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 9
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 9
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 6
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 4
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 238000013329 compounding Methods 0.000 description 4
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 4
- -1 glycidyl ester Chemical class 0.000 description 4
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 description 4
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000007334 copolymerization reaction Methods 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 3
- MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 1,2-Divinylbenzene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1C=C MYRTYDVEIRVNKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical class S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 2
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 2
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 2
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 239000005026 oriented polypropylene Substances 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 2
- OVGRCEFMXPHEBL-UHFFFAOYSA-N 1-ethenoxypropane Chemical compound CCCOC=C OVGRCEFMXPHEBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LMAUULKNZLEMGN-UHFFFAOYSA-N 1-ethyl-3,5-dimethylbenzene Chemical compound CCC1=CC(C)=CC(C)=C1 LMAUULKNZLEMGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C=C CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-pentene Chemical compound CC(C)CC=C WSSSPWUEQFSQQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DXPPIEDUBFUSEZ-UHFFFAOYSA-N 6-methylheptyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)CCCCCOC(=O)C=C DXPPIEDUBFUSEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 239000002313 adhesive film Substances 0.000 description 1
- 125000002723 alicyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N butyl prop-2-enoate;methyl 2-methylprop-2-enoate;prop-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C=C.COC(=O)C(C)=C.CCCCOC(=O)C=C QHIWVLPBUQWDMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000306 component Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 230000009849 deactivation Effects 0.000 description 1
- GTBGXKPAKVYEKJ-UHFFFAOYSA-N decyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GTBGXKPAKVYEKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 150000001993 dienes Chemical class 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007717 exclusion Effects 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N hexyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCOC(=O)C=C LNMQRPPRQDGUDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical class I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005764 inhibitory process Effects 0.000 description 1
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011133 lead Substances 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- LKEDKQWWISEKSW-UHFFFAOYSA-N nonyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C LKEDKQWWISEKSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 1
- AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethanamine Chemical compound NCC1CO1 AFEQENGXSMURHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 150000004714 phosphonium salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L potassium persulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S(=O)(=O)OOS([O-])(=O)=O USHAGKDGDHPEEY-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 125000003748 selenium group Chemical class *[Se]* 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229940080264 sodium dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011135 tin Substances 0.000 description 1
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBMBVTRWEAAZEY-UHFFFAOYSA-N trisulfane Chemical compound SSS KBMBVTRWEAAZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J163/00—Adhesives based on epoxy resins; Adhesives based on derivatives of epoxy resins
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C08L33/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, which oxygen atoms are present only as part of the carboxyl radical
- C08L33/08—Homopolymers or copolymers of acrylic acid esters
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/04—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
- H01L21/48—Manufacture or treatment of parts, e.g. containers, prior to assembly of the devices, using processes not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326
- H01L21/4814—Conductive parts
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Non-Insulated Conductors (AREA)
- Adhesive Tapes (AREA)
- Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
Abstract
본 발명은 우수한 리페어성을 갖는 회로 접속 재료를 제공한다.
본 발명에 따른 회로 접속 재료는 에폭시 수지와, 양이온 중합 개시제와, 메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체를 포함하는 아크릴 고무를 함유한다. 이에 따라, 제1 전자 부품의 단자 상에 가압착했을 때에 높은 기계적 강도가 얻어지기 때문에, 위치 어긋남 등에 의해 회로 접속 재료를 박리할 때에 파단하는 것을 방지할 수 있어, 우수한 리페어성을 얻을 수 있다.
본 발명에 따른 회로 접속 재료는 에폭시 수지와, 양이온 중합 개시제와, 메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체를 포함하는 아크릴 고무를 함유한다. 이에 따라, 제1 전자 부품의 단자 상에 가압착했을 때에 높은 기계적 강도가 얻어지기 때문에, 위치 어긋남 등에 의해 회로 접속 재료를 박리할 때에 파단하는 것을 방지할 수 있어, 우수한 리페어성을 얻을 수 있다.
Description
본 발명은 전극간의 접속에 이용되는 회로 접속 재료에 관한 것이다.
종래 회로 접속 재료를 통해 배선판에 전자 부품을 실장하는 방법으로서, 이방성 도전 필름(ACF: Anisotropic Conductive Film)을 배선판 상에 배치하여 작은 압력으로 가압하면서, 이방성 도전 필름에 포함되는 열 경화성 수지가 경화하지 않을 정도의 낮은 온도로 가압착하고, 이방성 도전 필름이 어느 정도 고정되자마자 전자 부품을 배치하여, 전자 부품 위로부터 열 경화성 수지가 경화하는 온도로 본압착하여 실장체를 얻는 방법이 채용되어 있다.
최근 가압착 공정의 짧은 택트 타임화에 따라, 가압착의 단계에서 이방성 도전 필름에 위치 어긋남이 발생하는 경우가 있다. 위치 어긋남이 발생한 경우, 이방성 도전 필름을 박리하는 리페어(repair)가 행해진다(예를 들면, 특허문헌 1, 2 참조).
또한, 최근 압착 조건의 저온화에 따라, 음이온 경화계보다도 신속한 경화 반응을 기대할 수 있는 양이온 경화계의 이방성 도전 필름이 이용된다(예를 들면, 특허문헌 1 참조).
그러나, 종래의 이방성 도전 필름은 기계적 강도가 충분하지 않아, 이방성 도전 필름을 박리할 때에 파단하는 경우가 있었다.
본 발명은 이러한 종래의 실정을 감안하여 제안된 것으로, 우수한 리페어성을 갖는 회로 접속 재료를 제공한다.
본건 발명자들은 예의 검토를 행한 결과, 단량체 성분으로서 메틸(메트)아크릴레이트를 이용한 아크릴 고무를 배합함으로써, 가압착시에 있어서의 막성이 향상되어 우수한 리페어성이 얻어지는 것을 발견하였다.
즉, 본 발명에 따른 회로 접속 재료는 에폭시 수지와, 양이온 중합 개시제와, 메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체를 포함하는 아크릴 고무를 함유하는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명에 따른 실장체는, 상기 회로 접속 재료에 의해서 제1 전자 부품과 제2 전자 부품이 전기적으로 접속되어 있는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명에 따른 실장체의 제조 방법은, 상기 회로 접속 재료를 제1 전자 부품의 단자 상에 첩부하고, 상기 회로 접속 재료 상에 제2 전자 부품을 가(假)배치시키고, 상기 제2 전자 부품 위로부터 가열 가압 장치에 의해 가압하여, 상기 제1 전자 부품의 단자와 상기 제2 전자 부품의 단자를 접속시키는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따르면, 메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체를 포함하는 아크릴 고무가 배합되어 있기 때문에, 가압착시의 막성이 향상되어 우수한 리페어성을 얻을 수 있다.
도 1은 실장체의 리페어성의 시험을 설명하기 위한 측면도이다.
이하, 본 발명의 실시 형태에 대해서, 도면을 참조하면서 하기 순서로 상세하게 설명한다.
1. 회로 접속 재료
2. 실장체 및 실장체의 제조 방법
3. 실시예
<1. 회로 접속 재료>
본 실시 형태에 있어서의 회로 접속 재료는 에폭시 수지와, 양이온 중합 개시제와, 메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체를 포함하는 아크릴 고무를 함유한다.
에폭시 수지로는 비스페놀형 에폭시 수지, 페놀 노볼락형 에폭시 수지, 지환형 에폭시 수지, 복소환형 에폭시 수지, 글리시딜 에스테르형 에폭시 수지, 글리시딜 아민형 에폭시 수지, 할로겐화 에폭시 수지 등을 단독 또는 혼합하여 사용할 수 있다. 에폭시 수지의 함유량은, 접착제 성분의 15 내지 95 질량%인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 30 내지 60 질량%이다.
또한, 막 형성성을 향상시키기 위해, 에피클로로히드린과 비스페놀로 제조되는 고분자량 에폭시 수지인 페녹시 수지를 혼합하는 것이 바람직하다. 페녹시 수지의 함유량은, 너무 적으면 필름을 형성하지 못하고, 너무 많으면 전기 접속을 얻기 위한 수지의 배제성이 낮아지는 경향이 있기 때문에, 접착제 성분의 20 내지 60 질량%인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 30 내지 60 질량%이다.
양이온 중합 개시제는, 양이온종이 에폭시 수지 말단의 에폭시기를 개환시켜 에폭시 수지끼리 자기 가교시킨다. 이러한 양이온 경화제로는 술포늄염, 디아조늄염, 요오도늄염, 포스포늄염, 셀레노늄염 등의 오늄염을 들 수 있다. 특히, 아릴기를 갖는 술포늄염은 저온에서의 반응성이 우수하고, 가용 시간이 길기 때문에, 양이온 중합 개시제로서 바람직하다.
아크릴 고무는 메틸(메트)아크릴레이트와 다른 단량체와의 공중합체를 포함한다. 다른 단량체로는 특별히 한정되지 않지만, 예를 들면 에틸아크릴레이트(Tg=-22℃, 이하 괄호 내에 온도만을 나타냄), n-프로필아크릴레이트(-37℃), n-부틸아크릴레이트(-54℃), 이소부틸아크릴레이트(-24℃), sec-부틸아크릴레이트(-21℃), n-헥실아크릴레이트(-57℃), 2-에틸헥실아크릴레이트(-85℃), n-옥틸메타크릴레이트(-25℃), 이소옥틸아크릴레이트(-45℃), n-노닐메타크릴레이트(-35℃), n-데실메타크릴레이트(-45℃) 등의 알킬(메트)아크릴레이트류: 부타디엔 등의 탄소수 4 내지 6개의 탄소 원자를 포함하는 공액 디엔 단량체류: 비닐메틸에테르(-31℃), 비닐에틸에테르(-33℃), 비닐프로필에테르(-49℃) 등의 비닐에테르류를 들 수 있다. 이들 단량체 중에서도, 유리 전이 온도의 조정, 점착성, 경제성 등의 측면에서 (메트)아크릴레이트 단량체가 바람직하게 이용된다. 또한, 이들 단량체는 단독 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.
또한, 본 실시 형태의 양이온 중합으로는, 염기성 물질이나 극성 용제 등의 공존하에서 경화 저해나 경화제의 실활이 발생하기 때문에, 아크릴니트릴, 아크릴아미드 등의 염기성 관능기를 갖는 단량체는 사용할 수 없다. 이는 양이온 중합 개시제로부터 발생하는 양이온종이 이들 물질에 의해서 포착되기 때문이라고 생각된다.
또한, 아크릴 고무의 배합량은 1 내지 15 질량%인 것이 바람직하다. 아크릴 고무의 배합량이 접착제 성분의 1 내지 15 질량%임으로써, 우수한 리페어성을 얻을 수 있다. 배합량이 1 질량% 미만인 경우, 가압착시의 기계적 강도가 부족하여, 우수한 리페어성이 얻어지지 않는다. 또한, 배합량이 15 질량%를 초과하는 경우, 접속 저항값이 상승하여, 접속 신뢰성이 악화된다.
또한, 아크릴 고무의 분자량은 20만 이상인 것이 바람직하다. 아크릴 고무의 분자량이 20만 이상임으로써, 우수한 리페어성을 얻을 수 있다. 한편, 분자량이 20만 미만인 경우, 가압착시의 기계적 강도가 부족하여, 우수한 리페어성이 얻어지지 않는다.
또한, 아크릴 고무의 유리 전이점은 -35℃ 이상인 것이 바람직하다. 아크릴 고무의 유리 전이점이 -35℃ 이상임으로써, 우수한 접속 신뢰성을 얻을 수 있다. 한편, 유리 전이점이 -35℃ 미만인 경우, 접속 저항값이 상승하여, 접속 신뢰성이 악화된다.
또한, 접착제 성분의 다른 첨가 조성물로서 실란 커플링제를 첨가하는 것이 바람직하다. 실란 커플링제로는, 에폭시계, 아미노계, 메르캅토·술피드계, 우레이도계 등을 사용할 수 있지만, 본 실시 형태에서는 에폭시계 실란 커플링제가 바람직하게 이용된다. 이에 따라, 유기 재료와 무기 재료의 계면에서의 접착성을 향상시킬 수 있다. 또한, 무기 충전재를 첨가시킬 수도 있다. 무기 충전재로는 실리카, 탈크, 산화티탄, 탄산칼슘, 산화마그네슘 등을 사용할 수 있으며, 무기 충전재의 종류는 특별히 한정되는 것은 아니다. 무기 충전재의 함유량에 의해 유동성을 제어하여, 입자 포착률을 향상시킬 수 있다. 또한, 이들 각 성분을 배합할 때에는 톨루엔, 아세트산에틸, 또는 이들의 혼합 용제가 바람직하게 이용된다.
본 실시 형태에 있어서의 회로 접속 재료는, 비도전성 필름(NCF: Non Conductive Film)이나, 접착제 중에 도전성 입자가 분산되어 필름상으로 형성된 이방성 도전 필름(ACF: Anisotropic Conductive Film)에 적용된다.
ACF에 분산되는 도전성 입자로는, 이방성 도전 필름에서 사용되고 있는 공지된 어느 하나의 도전성 입자를 들 수 있다. 도전성 입자로는, 예를 들면 니켈, 철, 구리, 알루미늄, 주석, 납, 크롬, 코발트, 은, 금 등의 각종 금속 또는 금속 합금의 입자, 에폭시 수지, 페놀 수지, 아크릴 수지, 아크릴로니트릴·스티렌(AS) 수지, 벤조구아나민 수지, 디비닐벤젠계 수지, 스티렌계 수지 등의 수지 입자의 표면에 금속을 코팅한 것, 이들 입자의 표면에 절연 박막을 더 코팅한 것 등을 사용할 수 있다. 또한, 도전성 입자의 평균 입경은 1 내지 10㎛인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 2 내지 6㎛이다. 또한, 접착제 성분 중 도전성 입자의 평균 입자 밀도는, 접속 신뢰성 및 절연 신뢰성 측면에서 1000 내지 80000개/mm2인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 3000 내지 50000개/mm2이다.
이러한 구성으로 이루어지는 회로 접속 재료는 메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체를 포함하는 아크릴 고무가 배합되어 있기 때문에, 가압착시의 기계적 강도가 향상되어, 우수한 리페어성을 얻을 수 있다.
다음으로, 상술한 회로 접속 재료의 제조 방법에 대해서 설명한다. 본 실시 형태에 있어서의 회로 접속 재료의 제조 방법은, 박리 기재 상에 결합제 조성물을 도포하는 도포 공정과, 박리 기재 상의 조성물을 건조시키는 건조 공정을 갖는다.
도포 공정에서는, 상술한 에폭시 수지와, 양이온 중합 개시제와, 메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체를 포함하는 아크릴 고무를 함유하는 결합제 조성물을 배합하고, 유기 용제를 이용하여 조정한 후, 이 조성물을 박리 기재 상에 바 코터, 도포 장치 등을 이용하여 도포한다.
유기 용제로는 톨루엔, 아세트산에틸, 또는 이들의 혼합 용제, 기타 각종 유기 용제를 사용할 수 있다. 또한, 박리 기재는, 예를 들면 실리콘 등의 박리제를 PET(폴리에틸렌 테레프탈레이트), OPP(배향된 폴리프로필렌), PMP(폴리-4-메틸펜텐-1), PTFE(폴리테트라플루오로에틸렌) 등에 도포한 적층 구조로 이루어지며, 조성물의 필름 형상을 유지한다.
다음 건조 공정에서는, 박리 기재 상의 결합제 조성물을 열 오븐, 가열 건조 장치 등에 의해 건조시킨다. 이에 따라, 회로 접속 재료가 막상으로 형성된 접착 필름을 얻을 수 있다.
<2. 실장체 및 실장체의 제조 방법>
다음으로, 상술한 회로 접속 재료를 이용한 실장체 및 그의 제조 방법에 대해서 설명한다. 본 실시 형태에 있어서의 실장체는, 상술한 에폭시 수지와, 양이온 중합 개시제와, 메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체를 포함하는 아크릴 고무를 함유하는 회로 접속 재료에 의해서 제1 전자 부품과 제2 전자 부품이 전기적으로 접속되어 이루어지는 것이다.
제1 전자 부품으로는, 예를 들면 IZO(Indium Zinc Oxide; 인듐 아연 산화물), 비결정 ITO(Indium Tin Oxide; 인듐 주석 산화물) 등, 표면이 평활한 파인 피치의 단자를 갖는 배선재를 들 수 있다. 또한, 제2 전자 부품으로는, 파인 피치의 범프 등의 단자가 형성된 IC(Integrated Circuit; 집적 회로)를 들 수 있다.
본 실시 형태에 있어서의 실장체는, 메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체를 포함하는 아크릴 고무가 배합된 회로 접속 재료로 접속되어 있기 때문에, 저저항, 고신뢰성을 얻을 수 있다.
또한, 본 실시 형태에 있어서의 실장체의 제조 방법은, 상술한 에폭시 수지와, 양이온 중합 개시제와, 메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체를 포함하는 아크릴 고무를 함유하는 회로 접속 재료를 제1 전자 부품의 단자 상에 첩부하고(가압착), 회로 접속 재료 상에 제2 전자 부품을 가배치시키고, 제2 전자 부품 위로부터 가열 가압 장치에 의해 가압하여, 제1 전자 부품의 단자와 제2 전자 부품의 단자를 접속시키는 것이다. 이에 따라, 도전성 입자를 통해 제1 전자 부품의 단자와 제2 전자 부품의 단자가 접속된 실장체가 얻어진다.
본 실시 형태에서는, 회로 접속 재료에 메틸(메트)아크릴레이트의 공중합체를 포함하는 아크릴 고무가 배합되어 있기 때문에, 제1 전자 부품의 단자 상에 가압착했을 때에 높은 기계적 강도가 얻어진다. 이 때문에, 위치 어긋남 등에 의해 회로 접속 재료를 박리할 때에 회로 접속 재료가 파단하는 것을 방지할 수 있어, 우수한 리페어성을 얻을 수 있다.
[실시예]
<3. 실시예>
이하, 본 발명의 실시예에 대해서 설명한다. 본 실시예에서는, 회로 접속 재료로서 양이온 중합계 접착제 중에 아크릴 고무를 배합한 이방성 도전 필름(ACF: Anisotropic Conductive Film)을 제작하고, 실장체의 도통 저항, 리페어성에 대해서 평가하였다. 또한, 본 발명은 이들 실시예로 한정되는 것은 아니다.
아크릴 고무의 조정, 이방성 도전 필름의 제작, 실장체의 제작, 도통 저항의 평가 및 리페어성의 평가는 다음과 같이 행하였다.
[아크릴 고무의 조정]
1 L의 둥근바닥 플라스크에 순수를 400 질량부, 도데실벤젠술폰산나트륨을 0.02 질량부 투입하고, 교반하면서 80℃로 가온하였다. 이어서, 개시제로서 과황산칼륨을 0.3 질량부 첨가하고, 메타크릴산메틸(MMA)과 다른 아크릴 단량체를 조합하여, 이 혼합액을 100분에 걸쳐 적하하고, 적하 종료 후 추가로 30분간 교반하여 아크릴 고무를 얻었다.
아크릴 고무의 중량 평균 분자량(Mw)은 GPC(겔 투과 크로마토그래피)를 이용하여 표준 폴리스티렌 환산에 의해 산출하였다.
또한, 아크릴 고무의 유리 전이 온도(Tg)는, 하기 식 (1)(FOX식)에 의해 계산하였다.
(1) 식 중, W1, W2 … Wn은 각 단량체의 질량분율이고, T1, T2 … Tn은 각 단량체의 유리 전이 온도(K)이다.
[이방성 도전 필름의 제작]
페녹시 수지(상품명: YP50, 도토 가세이사 제조), 에폭시 수지(상품명: EP-828, 재팬 에폭시 레진사 제조), 실란 커플링제(상품명: KBM403, 신에쓰 가가꾸사 제조), 경화제(상품명: SI-60L, 산신 가가꾸사 제조)로 구성된 접착제 중에, 도전성 입자(품명: AUL704, 세키스이 가가꾸 고교사 제조)를 입자 밀도 50000개/mm2가 되도록 분산시켜 두께 20㎛의 이방성 도전 필름을 제작하였다.
[실장체의 제작]
이방성 도전 필름을 이용하여 평가용 IC(외형: 1.8mm×20mm, 범프 높이: 15㎛)와 평가용 ITO 코팅 유리(유리 두께 0.5mm)의 접합을 행하였다. 우선, 1.5mm 폭으로 슬릿된 이방성 도전 필름을 평가용 ITO 코팅 유리에 첩부하여 가압착하고(조건: 70℃-1MPa-1초), 그 위에 평가용 IC를 위치 정렬한 후, 압착 조건 170℃-60MPa-6초로 본압착을 행하여 실장체를 완성시켰다.
[도통 저항의 평가]
실장체에 대해서, 초기의 접속 저항과, 온도 85℃, 습도 85%RH, 500시간의 TH 테스트(Thermal Humidity Test; 온도 습도 시험) 후의 접속 저항을 측정하였다. 측정에는 디지털 멀티미터(품번: 디지털 멀티미터 7555, 요꼬가와 덴끼사 제조)를 이용하여, 4 단자법으로 전류 2 mA를 흘렸을 때의 저항값을 측정하였다. TH 테스트 후의 접속 저항값이 8.0Ω 이하인 것을 ◎, 8.0Ω 초과 10.0Ω 미만인 것을 ○, 10.0Ω 이상인 것을 ×라고 평가하였다.
[리페어성의 평가]
도 1에 도시한 바와 같이, 폭 1.5mm, 길이 5 cm로 한 이방성 도전 필름 (12)를 유리 기판 (11) 상에 70℃-1MPa-1초로 가압착하였다. 그 후, 이방성 도전 필름 (12)의 한 쪽에 점착 테이프 (13)을 부착시켜, 유리 기판 (11)로부터 박리하였다. 이방성 도전 필름을 길이 방향으로 박리하고, 마지막까지 끊어지지 않고 박리할 수 있었던 경우를 합격(OK)이라 하였다. 이 시험을 10회 행하여, 리페어의 성공률(%)을 계산하였다.
<3.1 아크릴 고무의 배합량에 대해서>
우선, 이방성 도전 필름에 배합되는 아크릴 고무의 배합량의 영향에 대해서 검토하였다.
[비교예 1]
페녹시 수지 50 질량부, 에폭시 수지 43 질량부, 실란 커플링제 2 질량부, 및 경화제 5 질량부로 구성된 접착제의 이방성 도전 필름을 제작하였다.
비교예 1의 이방성 도전 필름을 이용하여 제작한 실장체의 초기의 접속 저항은 0.2Ω이고, TH 테스트 후의 접속 저항은 6.1Ω이었다. 따라서 도통 저항의 평가는 ◎였다. 또한, 비교예 1의 이방성 도전 필름의 리페어 성공률은 0%였다.
[비교예 2]
페녹시 수지 47 질량부, 에폭시 수지 43 질량부, 실란 커플링제 2 질량부, 경화제 5 질량부, 및 아크릴 고무 3 질량부로 구성된 접착제의 이방성 도전 필름을 제작하였다. 이 아크릴 고무는 메타크릴산메틸(MMA)을 사용하지 않고 다른 단량체를 사용하여 중합한 것이고, 그의 중량 평균 분자량(Mw)은 60만이고, 유리 전이점(Tg)은 -12℃였다.
비교예 2의 이방성 도전 필름을 이용하여 제작한 실장체의 초기의 접속 저항은 0.2Ω이고, TH 테스트 후의 접속 저항은 6.4Ω이었다. 따라서 도통 저항의 평가는 ◎였다. 또한, 비교예 2의 이방성 도전 필름의 리페어 성공률은 20%였다.
[실시예 1]
페녹시 수지 49 질량부, 에폭시 수지 43 질량부, 실란 커플링제 2 질량부, 경화제 5 질량부, 및 아크릴 고무 1 질량부로 구성된 접착제의 이방성 도전 필름을 제작하였다. 이 아크릴 고무는 메타크릴산메틸의 공중합체이고, 그의 중량 평균 분자량(Mw)은 60만이고, 유리 전이점(Tg)은 12℃였다.
실시예 1의 이방성 도전 필름을 이용하여 제작한 실장체의 초기의 접속 저항은 0.2Ω이고, TH 테스트 후의 접속 저항은 5.9Ω이었다. 따라서 도통 저항의 평가는 ◎였다. 또한, 실시예 1의 이방성 도전 필름의 리페어 성공률은 50%였다.
[실시예 2]
페녹시 수지 47 질량부, 에폭시 수지 43 질량부, 실란 커플링제 2 질량부, 경화제 5 질량부, 및 아크릴 고무 3 질량부로 구성된 접착제의 이방성 도전 필름을 제작하였다. 이 아크릴 고무는 메타크릴산메틸의 공중합체이고, 그의 중량 평균 분자량(Mw)은 60만이고, 유리 전이점(Tg)은 12℃였다.
실시예 2의 이방성 도전 필름을 이용하여 제작한 실장체의 초기의 접속 저항은 0.2Ω이고, TH 테스트 후의 접속 저항은 5.8Ω이었다. 따라서 도통 저항의 평가는 ◎였다. 또한, 실시예 2의 이방성 도전 필름의 리페어 성공률은 100%였다.
[실시예 3]
페녹시 수지 45 질량부, 에폭시 수지 43 질량부, 실란 커플링제 2 질량부, 경화제 5 질량부, 및 아크릴 고무 5 질량부로 구성된 접착제의 이방성 도전 필름을 제작하였다. 이 아크릴 고무는 메타크릴산메틸의 공중합체이고, 그의 중량 평균 분자량(Mw)은 60만이고, 유리 전이점(Tg)은 12℃였다.
실시예 3의 이방성 도전 필름을 이용하여 제작한 실장체의 초기의 접속 저항은 0.2Ω이고, TH 테스트 후의 접속 저항은 6.1Ω이었다. 따라서 도통 저항의 평가는 ◎였다. 또한, 실시예 3의 이방성 도전 필름의 리페어 성공률은 100%였다.
[실시예 4]
페녹시 수지 40 질량부, 에폭시 수지 43 질량부, 실란 커플링제 2 질량부, 경화제 5 질량부, 및 아크릴 고무 10 질량부로 구성된 접착제의 이방성 도전 필름을 제작하였다. 이 아크릴 고무는 메타크릴산메틸의 공중합체이고, 그의 중량 평균 분자량(Mw)은 60만이고, 유리 전이점(Tg)은 12℃였다.
실시예 4의 이방성 도전 필름을 이용하여 제작한 실장체의 초기의 접속 저항은 0.2Ω이고, TH 테스트 후의 접속 저항은 7.7Ω이었다. 따라서 도통 저항의 평가는 ◎였다. 또한, 실시예 4의 이방성 도전 필름의 리페어 성공률은 100%였다.
[실시예 5]
페녹시 수지 35 질량부, 에폭시 수지 43 질량부, 실란 커플링제 2 질량부, 경화제 5 질량부, 및 아크릴 고무 15 질량부로 구성된 접착제의 이방성 도전 필름을 제작하였다. 이 아크릴 고무는 메타크릴산메틸의 공중합체이고, 그의 중량 평균 분자량(Mw)은 60만이고, 유리 전이점(Tg)은 12℃였다.
실시예 5의 이방성 도전 필름을 이용하여 제작한 실장체의 초기의 접속 저항은 0.2Ω이고, TH 테스트 후의 접속 저항은 9.4Ω이었다. 따라서 도통 저항의 평가는 ○였다. 또한, 실시예 5의 이방성 도전 필름의 리페어 성공률은 100%였다.
[비교예 3]
페녹시 수지 34 질량부, 에폭시 수지 43 질량부, 실란 커플링제 2 질량부, 경화제 5 질량부, 및 아크릴 고무 16 질량부로 구성된 접착제의 이방성 도전 필름을 제작하였다. 이 아크릴 고무는 메타크릴산메틸의 공중합체이고, 그의 중량 평균 분자량(Mw)은 60만이고, 유리 전이점(Tg)은 12℃였다.
비교예 3의 이방성 도전 필름을 이용하여 제작한 실장체의 초기의 접속 저항은 0.2Ω이고, TH 테스트 후의 접속 저항은 10.8Ω이었다. 따라서 도통 저항의 평가는 ×였다. 또한, 비교예 3의 이방성 도전 필름의 리페어 성공률은 100%였다.
하기 표 1에 실시예 1 내지 5 및 비교예 1 내지 3에 있어서의 이방성 도전 필름의 배합 및 평가 결과를 나타내었다.
비교예 1과 같이 아크릴 고무를 배합하지 않은 경우, 도통 저항은 낮지만, 이방성 도전 필름의 기계적 강도가 낮아, 리페어가 성공하지 않았다. 또한, 비교예 2와 같이 메타크릴산메틸의 공중합체 이외의 아크릴 고무를 이용한 경우, 도통 저항은 낮지만, 이방성 도전 필름의 기계적 강도가 낮아, 리페어의 성공률이 낮았다. 또한, 비교예 3과 같이 아크릴 고무를 16 질량% 배합한 경우, 리페어의 성공률은 높지만, 접속 신뢰성이 저하되었다.
한편, 실시예 1 내지 5와 같이 아크릴 고무를 1 내지 15 질량% 배합한 경우, 우수한 접속 신뢰성이 얻어지고, 리페어의 성공률도 높았다.
<3.2 아크릴 고무의 분자량에 대해서>
다음으로, 이방성 도전 필름에 배합되는 아크릴 고무의 분자량의 영향에 대해서 검토하였다.
[비교예 4]
페녹시 수지 47 질량부, 에폭시 수지 43 질량부, 실란 커플링제 2 질량부, 경화제 5 질량부, 및 아크릴 고무 3 질량부로 구성된 접착제의 이방성 도전 필름을 제작하였다. 이 아크릴 고무는 메타크릴산메틸이 단독 중합 또는 공중합한 것이고, 그의 중량 평균 분자량(Mw)은 10만이고, 유리 전이점(Tg)은 12℃였다.
비교예 4의 이방성 도전 필름을 이용하여 제작한 실장체의 초기의 접속 저항은 0.2Ω이고, TH 테스트 후의 접속 저항은 6.0Ω이었다. 따라서 도통 저항의 평가는 ◎였다. 또한, 비교예 4의 이방성 도전 필름의 리페어 성공률은 20%였다.
[비교예 5]
페녹시 수지 47 질량부, 에폭시 수지 43 질량부, 실란 커플링제 2 질량부, 경화제 5 질량부, 및 아크릴 고무 3 질량부로 구성된 접착제의 이방성 도전 필름을 제작하였다. 이 아크릴 고무는 메타크릴산메틸이 단독 중합 또는 공중합한 것이고, 그의 중량 평균 분자량(Mw)은 15만이고, 유리 전이점(Tg)은 12℃였다.
비교예 5의 이방성 도전 필름을 이용하여 제작한 실장체의 초기의 접속 저항은 0.2Ω이고, TH 테스트 후의 접속 저항은 5.8Ω이었다. 따라서 도통 저항의 평가는 ◎였다. 또한, 비교예 5의 이방성 도전 필름의 리페어 성공률은 30%였다.
[실시예 6]
페녹시 수지 47 질량부, 에폭시 수지 43 질량부, 실란 커플링제 2 질량부, 경화제 5 질량부, 및 아크릴 고무 3 질량부로 구성된 접착제의 이방성 도전 필름을 제작하였다. 이 아크릴 고무는 메타크릴산메틸이 단독 중합 또는 공중합한 것이고, 그의 중량 평균 분자량(Mw)은 20만이고, 유리 전이점(Tg)은 12℃였다.
실시예 6의 이방성 도전 필름을 이용하여 제작한 실장체의 초기의 접속 저항은 0.2Ω이고, TH 테스트 후의 접속 저항은 5.7Ω이었다. 따라서 도통 저항의 평가는 ◎였다. 또한, 실시예 6의 이방성 도전 필름의 리페어 성공률은 50%였다.
[실시예 7]
페녹시 수지 47 질량부, 에폭시 수지 43 질량부, 실란 커플링제 2 질량부, 경화제 5 질량부, 및 아크릴 고무 3 질량부로 구성된 접착제의 이방성 도전 필름을 제작하였다. 이 아크릴 고무는 메타크릴산메틸이 단독 중합 또는 공중합한 것이고, 그의 중량 평균 분자량(Mw)은 30만이고, 유리 전이점(Tg)은 12℃였다.
실시예 7의 이방성 도전 필름을 이용하여 제작한 실장체의 초기의 접속 저항은 0.2Ω이고, TH 테스트 후의 접속 저항은 5.8Ω이었다. 따라서 도통 저항의 평가는 ◎였다. 또한, 실시예 7의 이방성 도전 필름의 리페어 성공률은 70%였다.
[실시예 8]
페녹시 수지 47 질량부, 에폭시 수지 43 질량부, 실란 커플링제 2 질량부, 경화제 5 질량부, 및 아크릴 고무 3 질량부로 구성된 접착제의 이방성 도전 필름을 제작하였다. 이 아크릴 고무는 메타크릴산메틸이 단독 중합 또는 공중합한 것이고, 그의 중량 평균 분자량(Mw)은 80만이고, 유리 전이점(Tg)은 12℃였다.
실시예 8의 이방성 도전 필름을 이용하여 제작한 실장체의 초기의 접속 저항은 0.2Ω이고, TH 테스트 후의 접속 저항은 5.5Ω이었다. 따라서 도통 저항의 평가는 ◎였다. 또한, 실시예 8의 이방성 도전 필름의 리페어 성공률은 100%였다.
하기 표 2에 실시예 6 내지 8 및 비교예 4, 5에 있어서의 이방성 도전 필름의 배합 및 평가 결과를 나타내었다.
비교예 4, 5와 같이 아크릴 고무의 분자량이 작아짐에 따라, 리페어의 성공률도 저하되었다. 한편, 실시예 6 내지 8과 같이 아크릴 고무의 분자량이 20만 이상이 된 경우, 높은 접속 신뢰성이 얻어지고, 리페어의 성공률도 높았다.
<3.3 아크릴 고무의 유리 전이점에 대해서>
다음으로, 이방성 도전 필름에 배합되는 아크릴 고무의 유리 전이점의 영향에 대해서 검토하였다.
[비교예 6]
페녹시 수지 47 질량부, 에폭시 수지 43 질량부, 실란 커플링제 2 질량부, 경화제 5 질량부, 및 아크릴 고무 3 질량부로 구성된 접착제의 이방성 도전 필름을 제작하였다. 이 아크릴 고무는 메타크릴산메틸이 단독 중합 또는 공중합한 것이고, 그의 중량 평균 분자량(Mw)은 60만이고, 유리 전이점(Tg)은 -40℃였다.
비교예 6의 이방성 도전 필름을 이용하여 제작한 실장체의 초기의 접속 저항은 0.2Ω이고, TH 테스트 후의 접속 저항은 15.3Ω이었다. 따라서 도통 저항의 평가는 ×였다. 또한, 비교예 6의 이방성 도전 필름의 리페어 성공률은 100%였다.
[실시예 9]
페녹시 수지 47 질량부, 에폭시 수지 43 질량부, 실란 커플링제 2 질량부, 경화제 5 질량부, 및 아크릴 고무 3 질량부로 구성된 접착제의 이방성 도전 필름을 제작하였다. 이 아크릴 고무는 메타크릴산메틸이 단독 중합 또는 공중합한 것이고, 그의 중량 평균 분자량(Mw)은 60만이고, 유리 전이점(Tg)은 -35℃였다.
실시예 9의 이방성 도전 필름을 이용하여 제작한 실장체의 초기의 접속 저항은 0.2Ω이고, TH 테스트 후의 접속 저항은 9.7Ω이었다. 따라서 도통 저항의 평가는 ○였다. 또한, 실시예 9의 이방성 도전 필름의 리페어 성공률은 100%였다.
[실시예 10]
페녹시 수지 47 질량부, 에폭시 수지 43 질량부, 실란 커플링제 2 질량부, 경화제 5 질량부, 및 아크릴 고무 3 질량부로 구성된 접착제의 이방성 도전 필름을 제작하였다. 이 아크릴 고무는 메타크릴산메틸이 단독 중합 또는 공중합한 것이고, 그의 중량 평균 분자량(Mw)은 60만이고, 유리 전이점(Tg)은 0℃였다.
실시예 10의 이방성 도전 필름을 이용하여 제작한 실장체의 초기의 접속 저항은 0.2Ω이고, TH 테스트 후의 접속 저항은 6.8Ω이었다. 따라서 도통 저항의 평가는 ◎였다. 또한, 실시예 10의 이방성 도전 필름의 리페어 성공률은 100%였다.
하기 표 3에 실시예 9, 10 및 비교예 6에 있어서의 이방성 도전 필름의 배합 및 평가 결과를 나타내었다.
비교예 6과 같이 아크릴 고무의 유리 전이점이 낮은 경우, 도통 저항이 높았다. 한편, 실시예 9, 10과 같이 아크릴 고무의 유리 전이점이 -35℃ 이상인 경우, 우수한 접속 신뢰성이 얻어지고, 리페어의 성공률도 높았다.
11 유리 기판
12 이방성 도전 필름
13 점착 테이프
12 이방성 도전 필름
13 점착 테이프
Claims (6)
- 에폭시 수지와, 양이온 중합 개시제와, 메타크릴산메틸의 공중합체를 포함하는 아크릴 고무를 함유하고,
상기 아크릴 고무의 배합량이 1 내지 15 질량%이고, 상기 아크릴 고무의 분자량이 20만 이상이고, 상기 아크릴 고무의 유리 전이 온도가 -35℃ 이상인 회로 접속 재료. - 제1항에 있어서, 도전성 입자를 함유하는 회로 접속 재료.
- 제1항에 기재된 회로 접속 재료에 의해서 제1 전자 부품과 제2 전자 부품이 전기적으로 접속되어 이루어지는 실장체.
- 제2항에 기재된 회로 접속 재료에 의해서 제1 전자 부품과 제2 전자 부품이 도전성 입자를 통해 이방성 도전 접속되어 이루어지는 실장체.
- 제1항에 기재된 회로 접속 재료를 제1 전자 부품의 단자 상에 첩부하고,
상기 회로 접속 재료 상에 제2 전자 부품을 가(假)배치시키고,
상기 제2 전자 부품 위로부터 가열 가압 장치에 의해 가압하여, 상기 제1 전자 부품의 단자와 상기 제2 전자 부품의 단자를 접속시키는 실장체의 제조 방법. - 제2항에 기재된 회로 접속 재료를 제1 전자 부품의 단자 상에 첩부하고,
상기 회로 접속 재료 상에 제2 전자 부품을 가배치시키고,
상기 제2 전자 부품 위로부터 가열 가압 장치에 의해 가압하여, 상기 제1 전자 부품의 단자와 상기 제2 전자 부품의 단자를 도전성 입자를 통해 이방성 도전 접속시키는 실장체의 제조 방법.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JPJP-P-2012-173730 | 2012-08-06 | ||
JP2012173730A JP6027812B2 (ja) | 2012-08-06 | 2012-08-06 | 回路接続材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20140019234A KR20140019234A (ko) | 2014-02-14 |
KR102094305B1 true KR102094305B1 (ko) | 2020-03-31 |
Family
ID=50044148
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020130092327A KR102094305B1 (ko) | 2012-08-06 | 2013-08-05 | 회로 접속 재료 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6027812B2 (ko) |
KR (1) | KR102094305B1 (ko) |
CN (1) | CN103571424B (ko) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104951156A (zh) * | 2014-03-31 | 2015-09-30 | 宸盛光电有限公司 | 电容式触控装置 |
JP7273283B2 (ja) * | 2018-09-10 | 2023-05-15 | デクセリアルズ株式会社 | 接着剤組成物 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011181525A (ja) * | 2011-06-09 | 2011-09-15 | Sony Chemical & Information Device Corp | 異方性導電材料 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3211602A (en) * | 1961-05-05 | 1965-10-12 | Harold R Horstman | Polytrifluorocarbon adhesive comprising an alpha-carboxymethylacrylate copolymer reacted with an epoxy and a polyamino-polyamide resin |
JPH03277650A (ja) * | 1990-03-28 | 1991-12-09 | Nissan Motor Co Ltd | 接着性にすぐれた導電性樹脂組成物 |
JPH06228412A (ja) * | 1993-01-29 | 1994-08-16 | Nissan Motor Co Ltd | 防錆性に優れた樹脂組成物 |
JP4275221B2 (ja) * | 1998-07-06 | 2009-06-10 | リンテック株式会社 | 粘接着剤組成物および粘接着シート |
JP3904798B2 (ja) * | 1999-04-01 | 2007-04-11 | 三井化学株式会社 | 異方導電性ペースト |
KR100402154B1 (ko) * | 1999-04-01 | 2003-10-17 | 미쯔이카가쿠 가부시기가이샤 | 이방 도전성 페이스트 |
JP2003147306A (ja) | 2001-11-09 | 2003-05-21 | Fujitsu Ltd | 導電性接着剤 |
JP5252698B2 (ja) * | 2008-06-18 | 2013-07-31 | 信越化学工業株式会社 | 樹脂バンプ用組成物 |
JP2010241951A (ja) * | 2009-04-06 | 2010-10-28 | Hitachi Chem Co Ltd | 透明接着剤組成物、透明接着フィルムとその製造方法及び表示装置搭載部材とその製造方法 |
JP2011228637A (ja) * | 2010-03-30 | 2011-11-10 | Furukawa Electric Co Ltd:The | チップ保護用フィルム |
JP5767792B2 (ja) | 2010-08-27 | 2015-08-19 | デクセリアルズ株式会社 | 実装体の製造方法、接続方法及び異方性導電膜 |
-
2012
- 2012-08-06 JP JP2012173730A patent/JP6027812B2/ja active Active
-
2013
- 2013-08-05 KR KR1020130092327A patent/KR102094305B1/ko active IP Right Grant
- 2013-08-06 CN CN201310338315.2A patent/CN103571424B/zh active Active
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011181525A (ja) * | 2011-06-09 | 2011-09-15 | Sony Chemical & Information Device Corp | 異方性導電材料 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN103571424B (zh) | 2017-07-18 |
JP2014031464A (ja) | 2014-02-20 |
CN103571424A (zh) | 2014-02-12 |
JP6027812B2 (ja) | 2016-11-16 |
KR20140019234A (ko) | 2014-02-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN100491489C (zh) | 各向异性的导电性粘接剂以及应用该粘接剂的薄膜 | |
TWI628673B (zh) | Anisotropic conductive film, connection method, and connection structure | |
JP5685473B2 (ja) | 異方性導電フィルム、接合体の製造方法、及び接合体 | |
TWI699415B (zh) | 熱硬化性接著組成物 | |
TWI525167B (zh) | 異向性導電材料 | |
TWI542652B (zh) | A circuit connecting material and a connecting method using the same, and a connecting structure | |
JP7037004B1 (ja) | 導電性接着剤 | |
KR102094305B1 (ko) | 회로 접속 재료 | |
CN106459717B (zh) | 粘接剂及连接结构体 | |
WO2013157378A1 (ja) | 回路接続材料、及びこれを用いた実装体の製造方法 | |
CN103797078B (zh) | 电路连接材料以及使用该电路连接材料的连接方法和连接结构体 | |
JP6408759B2 (ja) | 接着剤組成物、及びフィルム巻装体 | |
JP6007022B2 (ja) | 回路接続材料 | |
JP2014062184A (ja) | 異方性導電フィルム、接続方法、及び接合体 | |
KR20120022580A (ko) | 실장체의 제조 방법, 접속 방법 및 이방성 도전막 | |
TWI596184B (zh) | Circuit connecting material, and manufacturing method of a package using the same | |
JP2015135949A (ja) | 実装体の製造方法、及び異方性導電フィルム | |
JP2007018760A (ja) | ガラス基板接続用異方導電フィルム | |
JP6181825B2 (ja) | 異方性導電フィルム、及びこれを用いた実装体の製造方法 | |
JP6419457B2 (ja) | 接着剤及び接続構造体 | |
KR101731677B1 (ko) | 이방 도전성 필름용 조성물, 이방 도전성 필름 및 반도체 장치 | |
JP2011211245A (ja) | 接続構造体の製造方法及び接続構造体並びに接続方法 | |
TW201635312A (zh) | 各向異性導電薄膜、連接方法、及其接合體 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |