KR102072241B1 - 확산 시트, 백 라이트, 액정 표시 장치 및 확산 시트의 제조 방법 - Google Patents

Abstract

확산 시트는 투광성 기재, 복수의 구조체 및 평탄부를 포함한다. 투광성 기재는, 제1 주면 및 제2 주면을 포함한다. 복수의 구조체는, 제1 주면상에 랜덤하게 형성된 볼록 형상을 갖는다. 평탄부는, 제1 주면상의 복수의 구조체 사이에 형성되며 0.9㎛이상의 표면 조도(Ra)를 갖는다.

Description

확산 시트, 백 라이트, 액정 표시 장치 및 확산 시트의 제조 방법{DIFFUSION SHEET, BACKLIGHT, LIQUID CRYSTAL DISPLAY APPARATUS, AND METHOD OF PRODUCING A DIFFUSION SHEET}

본 발명은, 볼록 형상의 구조체가 표면에 형성된 확산 시트 및 그 제조 방법, 및 이러한 확산 시트를 각각 포함하는 백 라이트 및 액정 표시 장치에 관한 것이다.

종래, 액정 표시 장치에 내장되는 백 라이트에는, 여러가지 광학 시트가 이용되고 있다. 여러가지 광학 시트 중 가장 중요한 하나로서, 확산 시트를 들 수 있다. 확산 시트로서, 투명한 시트 기재의 주면상에 볼록 형상의 미소-렌즈군(micro-lens group)을 형성함으로써 얻어진 시트가 알려져 있다(예를 들어, 일본 특허 출원 공개 제2006-318668호를 참조).

최근 액정 표시 장치의 박형화가 진행됨으로 인해, 확산 시트의 두께를 더 감소시키는 것이 요구되고 있다. 확산 시트는 광원과 액정 패널 사이에 배치되며 광원으로부터 출사된 광을 확산하므로, 휘도 혹은 휘점의 불균일(unevenness)을 제거하는 기능을 갖는다. 구체적으로, 확산 시트가 고헤이즈를 가질수록, 광의 확산 기능이 향상된다.

이상과 같은 사정을 감안하여, 광의 확산 기능을 향상시킬 수 있는 확산 시트, 이 확산 시트를 각각 포함하는 백 라이트 및 액정 표시 장치, 및 확산 시트의 제조 방법을 제공할 필요가 있다.

본 발명의 일 실시 형태에 따른, 투광성 기재, 복수의 구조체 및 평탄부를 포함하는 확산 시트가 제공된다.

상기 투광성 기재는 제1 주면 및 제2 주면을 포함한다.

상기 복수의 구조체는, 상기 제1 주면상에 랜덤하게 형성된 볼록 형상을 갖는다.

상기 평탄부는, 상기 제1 주면상의 상기 복수의 구조체 사이에 형성되고, 0.9㎛이상의 표면 조도(粗度)(roughness)(Ra)를 갖는다.

상기 확산 시트에 있어서, 상기 구조체는 기재를 투과하는 광의 확산 기능 및 집광 기능을 갖는다. 상기 구조체는 제1 주면상에 랜덤하게 형성되어 있으므로, 모아레의 발생이 억제된다. 또한, 상기 제1 주면상의 상기 구조체들 사이에 형성된 평탄부는, 0.9㎛이상의 표면 조도(Ra: 산술 평균 조도)를 갖고 있어, 이에 의해 광의 큰 확산 효과가 얻어진다. 따라서, 상기 확산 시트에 따르면, 광의 확산 기능의 대폭적인 향상을 도모할 수 있다.

상기 제2 주면은, 0.5㎛이하의 표면 조도(Ra)를 가져도 좋다. 이런 구성에 의해, 확산 시트의 헤이즈의 상승을 도모할 수 있다. 또한, 제2 주면은 저 마찰력을 가지기 때문에, 손상 방지를 도모할 수 있다.

본 발명의 일 실시 형태에 따른, 확산 시트 및 광원을 포함하는 백 라이트가 제공된다.

상기 확산 시트는, 투광성 기재, 복수의 구조체 및 평탄부를 포함한다. 상기 투광성 기재는, 제1 주면 및 제2 주면을 포함한다. 상기 복수의 구조체는, 상기 제1 주면상에 랜덤하게 형성된 볼록 형상을 갖는다. 상기 평탄부는, 상기 제1 주면상의 상기 복수의 구조체 사이에 형성되고, 0.9㎛이상의 표면 조도(Ra)를 갖는다.

상기 광원은, 상기 제2 주면측에 제공된다.

본 발명의 일 실시 형태에 따른, 확산 시트, 광원 및 액정 패널을 포함하는 액정 표시 장치가 제공된다.

상기 확산 시트는, 투광성 기재, 복수의 구조체 및 평탄부를 포함한다. 상기 투광성 기재는, 제1 주면 및 제2 주면을 포함한다. 상기 복수의 구조체는, 상기 제1 주면상에 랜덤하게 형성된 볼록 형상을 갖는다. 상기 평탄부는, 상기 제1 주면상의 상기 복수의 구조체 사이에 형성되고, 0.9㎛이상의 표면 조도(Ra)를 갖는다.

상기 광원은 상기 제2 주면측에 제공된다.

상기 액정 패널은, 상기 제1 주면측에 제공된다.

상기 백 라이트 및 상기 액정 표시 장치 각각에 있어서, 상기 확산 시트는, 광의 확산 기능 및 집광 기능을 갖는다. 상기 구조체는 제1 주면상에 랜덤하게 형성되어 있으므로, 모아레의 발생이 억제된다. 또한, 상기 제1 주면상의 상기 구조체들 사이에 형성된 평탄부는, 0.9㎛이상의 표면 조도(Ra:산술 평균 조도)를 갖고 있기 때문에, 광의 확산 기능을 갖는다. 이런 구성에 의해, 광의 확산 기능의 향상을 도모할 수 있다.

본 발명의 일 실시 형태에 따른, 원반 제조용 기재의 표면상에 형성된 레지스트층에 대하여 랜덤 노광 패턴을 형성하는 단계를 포함하는 확산 시트의 제조 방법이 제공된다.

상기 랜덤 노광 패턴이 형성된 레지스트층을 현상함으로써, 랜덤 패턴의 개구부가 상기 레지스트층에 형성된다.

상기 개구부가 형성된 상기 레지스트층을 마스크로 사용하여 상기 원반 제조용 기재를 에칭함으로써, 상기 개구부에 대응하여 형성된 오목부 및 상기 레지스트층으로 피복된 평탄부를 포함하는 원반이 제조된다.

상기 평탄부는 0.9㎛이상의 표면 조도(Ra)를 갖도록 조면화(粗面化)된다.

상기 원반의 오목부 및 조면화된 평탄부의 형상을 투광성 기재의 주면에 전사함으로써, 볼록 형상의 복수의 구조체, 및 복수의 구조체 사이의 조면화된 평탄부를 포함하는 확산 시트가 제조된다.

상기 확산 시트의 제조 방법에 따르면, 광의 확산 기능 및 집광 기능을 갖는 구조체와 광의 확산 기능을 갖는 평탄부가 주면상에 형성되는 확산 시트가 제조된다. 이런 구성에 의해, 광의 확산 기능의 향상을 도모할 수 있다.

상기 원반의 평탄부를 조면화하는 단계에 있어서, 상기 평탄부 위로 블라스팅 입자(blasting particles)를 분사하는 블라스트 처리를 이용할 수 있다. 이외에도, 레이저 가공 또는 와이어 브러싱, 또는 원반 표면의 연삭 처리 등의 다른 표면 처리법에 의해, 원반의 평탄부를 조면화해도 좋다.

상기 블라스트 처리에서, 상기 오목부 각각의 개구경보다 큰 입자 직경을 갖는 블라스팅 입자를 이용함으로써, 오목부 내부면이 조면화되는 것을 억제할 수 있다. 이런 구성에 의해, 확산 시트의 구조체의 표면 평활성이 유지되고, 정면 휘도의 저하를 억제할 수 있다.

이상 설명한 바와 같이, 본 발명의 실시 형태들에 따르면, 광의 확산 기능의 향상을 도모할 수 있는 확산 시트를 제공할 수 있다. 또한, 해당 확산 시트를 백 라이트 또는 액정 표시 장치에 내장함으로써, 각기 휘도 불균일이 저감된 백 라이트 및 액정 표시 장치를 제공할 수 있다.

본 발명의 이러한 목적 및 다른 목적, 특징 및 이점은, 이하의 최량의 실시 형태의 상세한 설명에 관련하여, 첨부 도면에 나타낸 바와 같이, 보다 명확해질 것이다.

도 1a는 본 발명의 일 실시 형태에 따른 확산 시트의 주요부의 개략 사시도이고, 도 1b는 상기 주요부의 개략 평면도.
도 2a는 상기 확산 시트의 주면상에 형성된 구조체들 중 하나의 개략 단면도이고, 도 2b는 상기 구조체의 변형예를 도시하는 단면도.
도 3a 내지 도 3g는 본 발명의 일 실시 형태에 따른 확산 시트의 제조 방법을 설명하는 공정의 개략 단면도.
도 4는 본 발명의 일 실시 형태에 따른 확산 시트를 제조하는 성형 장치의 일 구성예를 도시한 개략도이며, 도 4a는 용융 압출 성형 장치의 개략도이고, 도 4b는 라미네이트 전사 성형 장치의 개략도.
도 5는 본 발명의 일 실시 형태에 따른 액정 표시 장치의 개략 구성도이며, 도 5a는 제1 구성예, 도 5b는 제2 구성예, 도 5c는 제3 구성예를 나타내는 도면.
도 6은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 확산 시트의 이면 헤이즈와 정면 방향의 휘도 손실 사이의 관계를 나타내는 일 실험 결과.
도 7은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 확산 시트의 제조용 원반에 대한 블라스트 처리에서, 블라스팅 입자의 토출 압력과 해당 원반을 사용하여 제조된 확산 시트의 헤이즈 사이의 관계를 나타내는 일 실험 결과.
도 8은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 확산 시트의 제조용 원반에 대한 블라스트 처리에서, 블라스팅 입자의 토출 압력과 해당 원반을 사용하여 제조된 확산 시트의 정면 휘도 사이의 관계를 나타내는 일 실험 결과.
도 9는 본 발명의 일 실시 형태에 따른 확산 시트의 제조용 원반에 대한 블라스트 처리에서, 블라스팅 입자의 토출 압력과 해당 원반의 표면 조도(Ra) 사이의 관계를 나타내는 일 실험 결과.
도 10은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 확산 시트에서의 평탄부의 표면 조도와 헤이즈의 상승률 사이의 관계를 나타내는 일 실험 결과.
도 11은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 확산 시트에서의 평탄부의 표면 조도와 정면 방향의 휘도 저하율 사이의 관계를 나타내는 일 실험 결과.
도 12는 본 발명의 일 실시 형태에 따른 확산 시트에서의 평탄부의 표면 조도와 헤이즈의 상승률 사이의 관계를 나타내는 일 실험 결과.
도 13은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 확산 시트에서의 평탄부의 표면 조도와 정면 방향의 휘도 저하율 사이의 관계를 나타내는 일 실험 결과.
도 14는 본 발명의 일 실시 형태에 따른 확산 시트의 제조용 원반의 일례를 도시하는 확대 사진.
도 15는 도 14에 도시한 원반을 사용하여 제조된 확산 시트의 평탄부의 표면 조도의 측정 결과를 나타내는 도면.
도 16a는 본 발명의 일 실시 형태에 따른 확산 시트의 변형예를 개략적으로 도시하는 주요부의 단면도이며, 도 16b는 그 사시도.
도 17은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 확산 시트의 변형예를 도시하는 전자 현미경 사진.

이하, 도면을 참조하면서, 본 발명의 실시 형태들을 설명한다.

＜제1 실시 형태>

[확산 시트의 구성]

도 1a는 본 발명의 일 실시 형태에 따른 확산 시트의 주요부의 개략 사시도이고, 도 1b는 상기 주요부의 개략 평면도이다. 본 실시 형태에 따른 확산 시트(1)는 기재(11), 볼록 형상의 구조체(12) 및 평탄부(13)를 포함한다. 상기 기재(11)는 주면(11a)(제1 주면) 및 주면(11b)(제2 주면)을 포함한다. 상기 볼록 형상의 구조체(12)는 상기 기재(11)의 한쪽의 주면(11a)상에 형성된다. 상기 평탄부(13)는 상기 주면(11a)상의 구조체(12) 사이에 형성된다.

확산 시트(1)의 이면측의 주면(11b)은 광의 입사면으로서 기능한다. 확산 시트(1)의 정면측의 주면(11a)은 광의 출사면으로서 기능한다. 확산 시트(1)의 양쪽 주면(11a, 11b)은 공기에 노출되어 있다. 주면(11a)은, 공기층과의 계면에서의 굴절률차를 이용한 광의 확산 기능 및 집광 기능 등의 광학 기능을 갖는다. 특히, 구조체(12)는 광의 확산 기능 및 집광 기능을 갖고, 평탄부(13)는 광의 확산 기능을 갖는다.

기재(11)로서는, 예를 들어, 투명성을 갖는 시트 혹은 필름을 이용할 수 있다. 기재(11)의 재료로서는, 예를 들어, 공지의 고분자 재료를 이용할 수 있다. 공지의 고분자 재료의 예로서는, 트리아세틸 셀룰로스(TAC), 폴리에스테르(TPEE), 폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 폴리이미드(PI), 폴리아미드(PA), 아라미드, 폴리에틸렌(PE), 폴리아크릴레이트, 폴리에테르 술폰, 폴리술폰, 폴리프로필렌(PP), 디아세틸 셀룰로스, 폴리염화비닐, 아크릴수지(PMMA), 폴리카보네이트(PC), 에폭시 수지, 요소수지(urea formaldehyde resin), 우레탄 수지, 멜라민 수지 등을 들 수 있다. 기재(11)는, 필요에 따라, 필러, 가소제, 안정화제, 열화 방지제, 분산제, 난연제, 자외선 흡수제 등을 포함해도 된다. 기재(11)의 두께는 특별히 한정되지 않는다. 생산성의 관점에서는, 예를 들어, 기재(11)의 두께는 25㎛ 내지 300㎛이다.

기재(11)의 주면(11a)상에는, 볼록 형상의 복수의 구조체(12)가 랜덤하게(불규칙하게) 형성되어 있다. 구조체(12)는, 기재(11)의 주면(11a)과 일체로 형성된다. 따라서, 확산 시트(1)는, 단일 열가소성 수지 재료로 형성된 단층 구조를 갖는다. 이러한 구조를 채용함으로써, 다층 구조를 갖는 확산 시트와는 달리, 계면 반사가 발생하지 않기 때문에, 휘도를 향상시킬 수 있다. 또한, 확산 시트(1)용의 수지를 재사용할 수도 있다.

(구조체)

기재(11)의 주면(11a)상에 형성된 구조체(12)는, 동일한 형상 또는 거의 동일한 형상을 갖는다. 본 실시 형태에 있어서, 구조체(12) 각각은 부분 구면 형상을 갖는다. 부분 구면 형상은 구체의 일부를 잘라내어 얻어진 형상을 의미한다. 부분 구면 형상인 경우에는, 후술하는 제조 공정에서의 구조체의 이형성(離型性)(mold release property)을 고려하면, 반구체보다 작은 것이 바람직하다. 또한, 부분 구면 형상으로서, 거의 부분 구면 형상도 포함된다. 여기서, 거의 부분 구면 형상은, 부분 구면 형상이 사용된 경우에 비하여, 휘도 등의 광학 특성이 대폭적으로 저하하지 않는 범위 내에서, 부분 구면 형상이 약간 왜곡되어 얻어진 형상을 의미한다.

도 2a는 구조체(12) 각각의 형상에 대해서 설명하기 위한 도면이다. 구조체(12)의 크기는, 구조체(12)의 형상을 전사하는 방법에 따라 선택될 수 있다. 형상 전사 방법으로 용융 압출 성형법을 이용할 경우, 구조체(12)의 원형 저면의 평균 직경 D는, 예를 들어, 50㎛이상 100㎛이하이다. 평균 직경 D가 50㎛미만이면, 전사성이 저하되는 경향이 있다. 한편, 평균 직경 D가 100㎛를 초과하면, 확산 시트(1)를 액정 표시 장치에 실장했을 때에, 시인성이 저하되는 경향이 있다. 형상 전사 방법으로 라미네이트 전사 성형법을 이용할 경우, 구조체(12)의 원형 저면의 평균 직경 D는, 예를 들어, 20㎛이상 50㎛이하이다. 평균 직경 D가 20㎛미만이면, 원반 제조가 곤란하게 되는 경향이 있다. 평균 직경 D가 50㎛를 초과하면, 생산성이 저하되는 경향이 있다. 여기서, 용융 압출 성형법은, 가열 용융된 수지를 시트 형상으로 압출하고, 롤 원반의 요철 형상을 그에 전사하는 방법을 의미한다. 또한, 라미네이트 전사 성형법은, 열 전사에 의해 엠보싱 벨트의 요철 형상을 시트로 전사하는 방법을 의미한다. 또한, 이들 성형법을 채용한 성형 장치에 대해서는 이후에 상세히 기술할 것임에 주목해야 한다.

구조체(12)의 어스펙트비 h/r(r: 구조체의 평균 반경, h: 구조체의 평균 높이)는, 0.85초과 1.50이하이며, 바람직하게는, 0.95이상 1.10이하이다. 어스펙트비 h/r가 0.85이하이면, 1매 또는 복수 매의 확산 시트(1)를 백 라이트에 사용했을 때에, 휘도가 저하되는 경향이 있다. 한편, 어스펙트비 h/r가 1.50를 초과하면, 전사성이 저하되는 경향이 있다. 복수 매의 확산 시트(1)를 백 라이트에 사용할 경우, 복수 매의 확산 시트 중, 광원으로부터 가장 멀리 배치된 확산 시트(1)의 어스펙트비가 가장 큰 것이 바람직하다. 이는 광원으로부터 가장 멀리 배치된 확산 시트의 어스펙트비의 변화가, 백 라이트의 휘도에 미치는 영향이 가장 크기 때문이다.

적어도 1매의 확산 시트(1)를 포함하는 복수 매의 광학 시트를 백 라이트에 사용할 경우, 구조체(12)의 어스펙트비 h/r는, 0.50초과 1.50이하이며, 바람직하게는, 0.55이상 1.10이하인 것에 주목해야 한다. 어스펙트비 h/r가 0.50이하이면, 상기 복수 매의 광학 시트를 백 라이트에 사용했을 때에, 휘도가 저하되는 경향이 있다. 한편, 어스펙트비가 1.50를 초과하면, 전사성이 저하되는 경향이 있다. 복수 매의 확산 시트(1)를 포함하는 복수 매의 광학 시트를 백 라이트에 사용할 경우, 복수 매의 확산 시트 중, 광원으로부터 가장 멀리 배치된 확산 시트의 어스펙트비가 가장 큰 것이 바람직하다. 이는 광원으로부터 가장 멀리 배치된 확산 시트의 어스펙트비의 변화가, 백 라이트의 휘도에 미치는 영향이 가장 크기 때문이다.

기재(11)의 주면(11a)과의 경계 근방에서의 구조체(12)의 측면 각도 θ는, 65°이상 90°이하인 것이 바람직하다. 측면 각도 θ가 65°미만이면, 휘도가 대폭으로 저하되는 경향이 있다. 휘도를 향상시키기 위해서는, 측면 각도 θ를 약 70°±2°로 설정하는 것이 바람직하다. 한편, 측면 각도 θ가 90°를 초과하면, 구조체(12)의 이형이 곤란하게 되는 경향이 있다. 여기서, "기재(11)의 주면(11a)과의 경계 근방에서의 구조체(12)의 측면 각도"는, 구조체(12)를 그 중심선을 따라 절단했을 때에, 구조체(12)의 절단면의 윤곽선과 평탄부(13)의 윤곽선과의 교점 근방에서, 구조체(12)의 윤곽선의 접선과 평탄부의 윤곽선이 이루는 각도를 의미한다.

도 2b는, 구조체(12)의 다른 구성예를 도시하는 도면이다. 도 2b에 도시한 바와 같이, 구조체(12)는 본체부(12a) 및 기저부(12b)를 포함해도 좋다. 본체부(12a)는 렌즈 기능을 갖는다. 기저부(12b)는 본체부(12a)의 저면으로부터 기재(11)를 향하여 연장된다. 구조체(12)는 이러한 기저부(12b)를 포함하므로, 구조체(12)의 높이가 변동하는 경우라도, 구조체(12)의 본체부(12a)는 반구 형상 또는 반구 형상에 보다 가까운 형상을 갖도록 허용된다. 즉, 상술한 바와 같이, 기재(11)의 주면(11a)과의 경계 근방에서 구조체(12)의 측면 각도를, 65°이상 90°이하의 각도 범위로 할 수 있다. 따라서, 확산 시트(1)의 휘도를 향상시킬 수 있다. 본체부(12a)의 형상으로서, 부분 구면 형상이 바람직하다. 여기서, 본체부(12a)는, 확산 시트(1)의 면내 방향으로부터 구조체(12) 및 상기 구조체들 사이의 평탄부를 바라본 경우에, 구조체(12) 각각의 윤곽선의 접선과 구조체들 사이의 평탄부(13)의 윤곽선이 이루는 각도가 0°이상 85°이하의 범위에 속하는 구획 A를 의미한다. 또한, 기저부(12b)는, 확산 시트(1)의 면내 방향으로부터 구조체(12) 및 상기 구조체들 사이의 평탄부(13)를 바라본 경우에, 구조체(12) 각각의 윤곽선의 접선과 상기 구조체들 사이의 평탄부(13)의 윤곽선이 이루는 각도가 85°이상 90°이하의 범위에 속하는 구획 B를 의미한다.

기저부(12b)의 평균 길이 l(구획 B의 기재(11)의 주면(11a)으로부터의 높이)은, 예를 들어, 0＜l≤20㎛이다. 기저부(12b)의 평균 길이 l을 0＜l이라고 설정함으로써, 구조체(12)의 높이가 변동하는 경우라도, 구조체(12)의 본체부(12a)는 반구 형상 또는 반구 형상에 보다 가까운 형상을 갖도록 허용된다. 기저부(12b)의 평균 길이 l을 l≤20㎛이라고 설정함으로써, 전사성의 저하를 억제할 수 있다.

기재(11)의 주면(11a)에서의 구조체(12)의 충전율은, 예를 들어, 60%이상 80%이하이다. 충전율이 55% 미만이면, 휘도가 저하되는 경향이 있다. 한편, 충전율이 80%를 초과하면, 모아레가 발생하는 경향이 있다. 여기서, 모아레로서, 복수 매의 확산 시트(1)를 서로 적층했을 때에 발생하는 모아레, 확산 시트(1)를 액정 패널과 조합하여 이용했을 때에 발생하는 패널 픽셀과의 모아레, 및 확산 시트(1)를 확산판과 조합하여 이용했을 때에 발생하는 확산판 피치로 인한 모아레가 포함된다.

구조체(12)는 동일한 높이 또는 거의 동일한 높이를 갖는다. 구조체(12)의 높이의 변동(K)은, 예를 들어, 0＜K≤10%의 관계, 바람직하게는, 0＜K≤8%의 관계를 충족시킨다. 구조체(12)의 높이의 변동(K)을 이러한 범위 내로 설정함으로써, 확산 시트(1)의 휘도의 향상에 기여할 수 있다.

(평탄부)

평탄부(13)는 기재(11)의 주면(11a)상의 개개의 구조체(12) 사이에 형성된다. 평탄부(13)는 각 구조체(12)의 저면과 동일한 평면상에 개개의 구조체(12)의 주위를 둘러싸도록 형성된다.

평탄부(13)의 표면을 적당히 조면화함으로써, 평탄부(13)를 투과하는 광의 확산 기능을 평탄부(13)에 제공할 수 있다. 구체적으로, 평탄부(13)의 표면 조도가 높을수록, 고헤이즈 값이 얻어진다. 한편, 헤이즈 값이 높을수록, 정면 방향의 휘도가 저하되는 경향이 있다. 또한, 확산 시트(1)의 헤이즈 값은, 확산 시트(1)의 주면(11a)에서의 평탄부(13)의 점유 비율, 즉 구조체(12)의 충전율에 의존하므로, 평탄부(13)의 표면 조도는, 구조체(12)의 충전율에 따라 적절히 결정될 수 있다.

상술한 바와 같이, 구조체(12)의 충전율이 60% 내지 80%의 경우, 평탄부(13)의 표면 조도는, 예를 들어 0.9㎛이상의 산술 평균 조도(Ra)이다. 이러한 값으로 평탄부(13)의 표면 조도를 규정함으로써, 휘도의 대폭적인 저하를 억제하면서, 평탄부(13)를 적절한 헤이즈를 갖도록 조정하는 것이 가능하게 된다. 구체적으로, 평탄부(13)는, 0.9㎛이상의 표면 조도(Ra)를 갖도록 조면화됨으로써, 평탄부를 조면화하지 않는 경우와 비교하여, 정면 휘도의 저하율을 7% 미만으로 유지하면서, 헤이즈를 20% 이상 상승시킬 수 있다.

상술한 상기 표면 조도(Ra)를 갖는 평탄부(13)의 형성 방법은, 특별히 한정되지 않는다. 본 실시 형태에서는, 후술하는 바와 같이 성형 장치를 이용하여 확산 시트(1)가 제조된다. 이때, 확산 시트(1)의 주면(11a)은, 성형 장치에 사용되는 원반의 형상을 전사함으로써 형성된다. 따라서, 평탄부(13)에 대응하는 상기 원반의 평탄부를 상기 언급한 범위 내의 표면 조도를 갖도록 조면화함으로써, 평탄부(13)를 구조체(12)와 동시에 형성한다.

평탄부(13)를 조면화하는 것은, 평탄부(13)의 표면을 똑같이 조면화하는 것에 한정되지 않고, 평탄부(13)의 표면을 국소적으로 조면화하는 것도 포함한다는 점에 주목해야 한다. 조면화하는 구체적인 처리로서는, 평탄부(13)의 표면에 미세한 요철을 형성하는 것과, 미세한 크랙(crack)을 생성하는 것이 포함된다. 또한, 평탄부(13)의 조도에 방향성이 있는 경우에는, 적어도 한 방향에서의 조도가 0.9㎛이상이면 좋다.

(기타)

기재(11)의 이면측의 주면(11b)은 평탄한 면이 되도록 형성된다. 이 경우, 주면(11b)은 평활면이어도 좋지만, 주면(11b)이 적당히 조면화되는 경우에는, 마찰로 인한 주면(11b)의 손상을 억제할 수 있고, 외관상의 결함을 저감할 수 있다. 또한, 주면(11b)을 조면화함으로써, 주면(11b)에서의 광의 확산 기능이 향상된다. 따라서, 단일 확산 시트(1)의 헤이즈 값이 상승하고, 이는 휘도 불균일의 저감에 공헌할 수 있다.

한편, 주면(11b)의 헤이즈의 상승분에 의해, 정면 휘도가 저하되는 경향이 있다. 도 6은 그 일례를 나타내는 일 실험 결과이다. 도 6에서 알 수 있는 바와 같이, 확산 시트의 이면의 헤이즈의 상승에 따라, 정면 휘도의 손실률이 높아진다. 따라서, 주면(11b)의 표면 조도는, 원하는 확산 시트(1)의 헤이즈 값 및 원하는 정면 휘도 특성에 따라 설정될 수 있다. 또한, 주면(11b)의 표면 조도는, 주면(11a) 측의 헤이즈 값, 특히, 평탄부(13)의 표면 조도, 구조체(12)의 충전율 등도 고려하여 설정된다. 구조체(12)의 충전율이 60%이상 80%이하이며 평탄부(13)의 표면 조도(Ra)가 0.9㎛이상일 경우, 주면(11b)의 표면 조도(Ra)는, 예를 들어, 0.5㎛이하이다.

[확산 시트의 제조 방법]

다음으로, 도 3a 내지 도 3f를 참조하면서, 확산 시트(1)의 제조 방법의 일례에 대해서 설명한다.

(레지스트층 형성 공정)

우선, 피가공체인 원반 제조용 기재(21)의 표면상에, 레지스트층(22)을 형성한다(도 3a를 참조). 피가공체인 원반 제조용 기재(21)는, 예를 들어, 금속 재료로 형성된다. 원반 제조용 기재(21)의 표면에는, 미리 구리 도금 등의 도금 처리가 실시되어도 좋다. 피가공체인 원반 제조용 기재(21)의 형상의 예로서는, 판 형상, 시트 형상, 필름 형상, 블록 형상, 원기둥 형상, 원통 형상, 둥근 고리 형상 등이 포함된다. 레지스트층(22)의 재료로서는, 예를 들어, 무기 레지스트 또는 유기 레지스트가 이용될 수 있다. 또한, 원반 제조용 기재(21)가 원기둥 형상 또는 원통 형상을 갖는 경우에는, 그들의 외주면에 레지스트층(22)이 형성된다는 점에 주목해야 한다.

(노광 공정)

다음으로, 예를 들어, 레이저광 등의 광 L1을 레지스트층(22)에 조사함으로써, 노광부(22a)를 랜덤하게 형성한다(도 3b를 참조). 레지스트층(22)에 형성되는 노광부(22a)의 형상의 예로서는, 원형 또는 거의 원형이 포함된다. 이러한 형상을 갖는 노광부를 형성할 경우, 노광부(22a)의 크기는, 후술하는 형상 전사 공정에서 이용되는 전사 방법에 따라 선택된다. 예를 들어, 전사 방법으로 용융 압출 성형법이 이용될 경우, 노광부 각각의 저면의 평균 직경 D는, 예를 들어, 50㎛이상 100㎛이하이다. 전사 방법으로 라미네이트 전사 성형법이 이용될 경우, 노광부 각각의 저면의 평균 직경 D는, 예를 들어, 20㎛이상 50㎛이하이다.

(현상 공정)

다음으로, 노광부(22a)가 형성된 레지스트층(22)을 현상한다. 이에 의해, 노광부(22a)에 따른 개구부(22b)가 레지스트층(22)에 형성된다(도 3c를 참조). 또한, 도 3c는 레지스트로서 포지티브형 레지스트를 이용하고 노광부에 개구부(22b)를 형성하는 예를 도시하고 있지만, 레지스트는 이 예에 한정되는 것은 아니다라는 점에 주목해야 한다. 따라서, 레지스트로서 네가티브형 레지스트를 이용해도 좋고, 노광부를 남겨도 좋다.

(에칭 공정)

다음으로, 개구부(22b)가 형성된 레지스트층(22)을 마스크로 사용하여, 원반 제조용 기재(21)의 표면을 에칭한다. 이에 의해, 동일한 깊이 또는 거의 동일한 깊이를 갖는 오목부(21a)가, 원반 제조용 기재(21)의 표면에 형성된다(도 3d를 참조). 에칭으로서는, 예를 들어, 드라이 에칭 및 웨트 에칭 중 어느 것이라도 이용될 수 있지만, 설비가 용이하다는 점에서, 웨트 에칭을 이용하는 것이 바람직하다. 또한, 에칭으로서는, 예를 들어, 등방성 에칭 및 이방성 에칭 중 어느 것이라도 이용될 수 있고, 원하는 구조체(12)의 형상에 따라 적절히 선택될 수 있다.

(레지스트 박리 공정)

다음으로, 애싱 등에 의해, 원반 제조용 기재 표면에 형성된 레지스트층(22)을 박리한다(도 3e를 참조). 이에 의해, 구조체(12)의 반전된 형상을 갖는 오목부(21a)와, 레지스트층(22)으로 피복되어 있었던 평탄부(21b)를 포함하는 요철면을 갖는 원반(23)이 얻어진다.

(도금 공정)

다음으로, 필요에 따라, 원반(23)의 요철면에 도금 처리를 실시하여, 니켈 도금, 니켈-인 도금 또는 크롬-니켈 도금 등의 도금층을 형성한다. 본 실시 형태에서는, 원반(23)의 요철면을 크롬 도금한다.

(조면화 공정)

다음으로, 원반(23)의 평탄부(21b)를 조면화한다. 본 실시 형태에서는, 원반(23)의 평탄부(21b)에 블라스트 처리를 실시함으로써, 평탄부(21b)를 조면화한다(도 3f를 참조). 구체적으로, 도 3f에 도시한 바와 같이, 원반(23)에 블라스팅 입자 B1를 고속으로 분사함으로써, 평탄부(21b)의 표면을 조면화한다. 블라스팅 입자에는 글래스 입자가 이용되지만, 입자는 이에 한정되지 않고, 금속 입자, 수지 입자 등이 이용되어도 좋다.

또한, 블라스팅 입자의 분사로 인해, 원반(23)의 평탄부(21b)를 피복한 크롬 도금에 미세한 크랙이 발생하는 경우가 있다. 이 크롬 도금에 발생한 크랙은, 블라스팅 입자와의 충돌에 의한 표면의 변형 작용과 함께 평탄부(21b)의 표면 조도를 향상시키는 기능을 완수한다.

한편, 오목부(21a)의 내부면이 조면화되는 것을 방지하기 위해서, 오목부(21a) 각각의 직경(개구경)보다 큰 입자 직경을 갖는 블라스팅 입자가 이용된다. 이에 의해, 후술하는 바와 같이 원반(23)을 이용하여 제조된 확산 시트(1)의 구조체(12)의 표면 평활성이 유지된다. 따라서, 정면 휘도의 대폭적인 저하를 억제할 수 있다.

블라스트 처리 조건은, 원반(23)을 이용하여 그 형상이 전사되는 확산 시트(1)의 주면(11a)의 헤이즈 값 및 정면 휘도에 영향을 주기 때문에, 예를 들어, 해당 주면(11a)을 구성하는 구조체(12)의 충전율을 고려하여 설정된다. 예를 들어, 도 7은, 블라스팅 입자의 토출 압력(원반에의 분사 압력)과, 해당 원반(23)을 이용하여 그 형상이 전사된 확산 시트의 주면(11b)의 헤이즈 값 사이의 관계를 나타내는 일 실험 결과이다. 또한, 도 8은, 원반(23)에의 블라스팅 입자 B1의 토출 압력과, 해당 원반(23)을 이용하여 그 형상이 전사된 확산 시트의 주면(11b)의 정면 휘도 사이의 관계를 나타내는 일 실험 결과이다.

측정 샘플로서, 구조체(12)의 충전율이 59%(샘플 1), 63%(샘플 2) 및 74%(샘플 3)인 3개의 샘플을 이용했다. 여기서, 블라스팅 입자로서 입자 직경이 75 내지 90㎛인 글래스 비즈를 이용하고, 블라스팅 입자의 토출 노즐과 원반(23)의 평탄부(21b) 사이의 거리는 20cm로 설정했다. 블라스팅 입자의 토출 압력은, 공기의 분출 압력으로 설정했다. 원반(23)으로서, 외주면이 크롬 도금된 원통 형상의 원반을 이용했다. 이 원반을 축을 중심으로 1분당 50회전(rpm)시키면서, 해당 원반에 블라스팅 입자를 분사했다. 3종류의 원반은 샘플 1 내지 3에 대하여 준비된다. 샘플 1의 제조용 원반의 오목부의 직경을 68㎛, 샘플 2의 제조용 원반의 오목부의 직경을 70㎛, 샘플 3의 제조용 원반의 오목부의 직경을 76㎛으로 설정했다.

도 7 및 도 8에 도시한 바와 같이, 블라스팅 입자의 토출 압력의 상승에 따라, 헤이즈 값이 상승하는 한편, 정면 휘도는 저하되는 경향이 있다. 도 8에서는 정면 휘도를, 샘플 2의 정면 휘도를 기준으로 하는 "상대 휘도"로 나타냈다. 모든 샘플과 관련하여, 토출 압력이 1 kPa를 초과하면, 급격한 휘도의 저하 및 헤이즈의 상승이 발견된다. 휘도의 저하는, 블라스팅 입자의 충돌 작용에 의한 오목부(21a)의 테두리부의 변형이 원인인 것으로 생각된다. 도 7 및 도 8에서 알 수 있는 바와 같이, 블라스팅 입자의 토출 압력이 약 0.7 내지 1.3 kPa의 범위 내에서, 모든 샘플에 대해서, 휘도 저하율을 4%미만으로 유지하면서 동시에 헤이즈의 상승을 도모할 수 있다.

평탄부(21b)의 표면 조도(Ra)는, 평탄부(21b)에 대한 블라스팅 입자의 분사 압력(토출 압력), 블라스팅 입자의 입자 직경, 블라스팅 입자의 종류 등에 따라, 상이하다. 따라서, 원하는 표면 조도를 얻기 위해서, 이들 처리 조건을 고려할 필요가 있다. 예를 들어, 도 9는, 원반(23)에의 블라스팅 입자 B1의 토출 압력과, 해당 원반(23)을 이용하여 그 형상이 전사된 확산 시트의 주면(11b)상의 평탄부(13)의 표면 조도(Ra) 사이의 관계를 나타내는 일 실험 결과이다. 원반(23)으로서는, 상기 샘플 1 내지 3의 제조용 원반을 이용했다. 도 9에, 각 원반의 평탄부의 표면 조도의 평균값 및 그 편차(+3σ, -3σ)를 도시했다.

도 9에 도시한 바와 같이, 블라스팅 입자의 토출 압력이 커질수록, 평탄부(21b)의 표면 조도(Ra)가 상승한다. 상기의 예와 같이, 블라스팅 입자의 토출 압력이 약 1.5 kPa의 범위 내에서, 0.9㎛이상의 표면 조도(Ra)를 얻을 수 있다.

또한, 블라스팅 입자의 입자 직경을 변경함으로써, 원하는 표면 조도를 얻도록 해도 좋다. 예를 들어, 입자 직경이 106 내지 125㎛인 글래스 비즈를 이용하는 경우, 약 1 kPa의 토출 압력에서, 원반의 평탄부가 0.9㎛이상의 표면 조도(Ra)를 갖도록 하는 것이 가능하다.

도 10은 확산 시트의 주면(11a)의 평탄부(13)의 표면 조도(Ra)와, 해당 확산 시트의 헤이즈 값의 상승률 사이의 관계를 나타내는 일 실험 결과이다. 도 11은 확산 시트의 주면(11a)의 평탄부(13)의 표면 조도(Ra)와, 해당 확산 시트의 정면 휘도의 저하율 사이의 관계를 나타내는 일 실험 결과이다. 측정 샘플로서, 구조체(12)의 충전율이 서로 다른 3개의 샘플을 이용했으며, 3개의 샘플은 상술된 샘플 1 내지 3의 제조용 원반을 이용하여 제조되었다. 헤이즈 값의 상승률(H1)은, 블라스트 처리가 실시되지 않은 샘플 1 내지 3을 각각 이용하여 제조된 확산 시트의 헤이즈 값(H0)으로부터의 차분(H1-H0)으로 설정되었다. 정면 휘도의 저하율은 상기 확산 시트의 정면 휘도를 기준으로 하는 상대비로 설정되었다.

도 10 및 도 11에 도시한 바와 같이, 구조체(12)의 충전율이 낮을수록, 평탄부(13)의 총 면적이 증가하므로, 헤이즈의 상승률은 크다. 또한, 구조체(12)의 충전율이 높을수록, 휘도의 저하율이 크다. 이는, 구조체(12)를 형성하는 원반의 오목부의 테두리부의 형상 변화에 기인하는 것이라고 생각된다.

도 12는 상기 샘플 3을 이용하여 제조된 확산 시트(1)의 평탄부(13)의 표면 조도(Ra)와, 해당 확산 시트의 헤이즈 값의 상승률 사이의 관계를 나타내는 일 실험 결과이다. 도 13은 상기 샘플 3을 이용하여 제조된 확산 시트(1)의 평탄부(13)의 표면 조도(Ra)와, 해당 확산 시트의 정면 휘도의 저하율 사이의 관계를 나타내는 일 실험 결과이다. 여기서는, 특히, 표면 조도가 0.9㎛이상일 때의 관계를 나타내고 있다.

도 12에 도시한 바와 같이, 표면 조도가 커질수록, 헤이즈 값은 상승한다. 하지만, 소정의 값(Ra: 0.9㎛)에 도달한 후에는, 헤이즈 상승 효과가 작아지는 경향이 있다. 이는 블라스트 처리가 실시되는 면적이 고정되기 때문에, 광의 확산 효과가 소정의 조도 레벨에서 포화되는 것이라고 생각된다.

마찬가지로, 도 13에 도시한 바와 같이, 표면 조도가 커질수록, 휘도 손실은 커진다. 하지만, 소정의 값(Ra: 0.9㎛)에 도달한 후에는, 휘도 손실 곡선의 기울기가 작아지는 경향이 있다. 이는 블라스트 처리에 의한 원반 오목부의 테두리부의 형상 변화가 소정 레벨에 도달한 후에는 포화되고, 그 결과 휘도 손실이 소정 레벨로 수렴되는 것이라고 생각된다.

도 14는 입경 106 내지 125㎛의 블라스팅 입자를 이용하여 토출 압력 1 kPa로 블라스트 처리를 실시한 원반의 사진으로서, 전자 현미경으로 촬영한 사진이다. 원형의 구조체를 둘러싸는 평탄부가 그물 무늬의 복수의 크랙 또는 왜곡(strains)을 갖는 것이 확인될 수 있다. 또한, 구조체(12)를 형성하는 원반의 오목부의 테두리부의 형상이 블라스트 처리에 의해 변화되는 것이 확인될 수 있다.

도 15는, 도 14에 도시한 원반을 이용하여 제조한 확산 시트의 평탄부의 표면 조도의 측정 데이터이다. 본 예의 경우, 평탄부의 표면 조도(Ra)는, 1.3㎛이었다. 측정 장치에는, 자이고 주식회사에 의해 제조된 표면 조도 측정기 "NewView series"를 이용했다.

이상과 같이, 평탄부(13)의 표면 조도(Ra)가 0.9㎛이상인 범위에서, 해당 평탄부를 조면화하지 않은 경우와 비교하여, 헤이즈 값을 20%이상 상승시킬 수 있다. 이에 의해, 90%이상의 헤이즈 값을 갖는 확산 시트를 얻을 수 있다.

이러한 확산 시트는, 사이드 라이트 방식의 백 라이트 장치에서의 도광판의 휘점 불균일 혹은 직접형 백 라이트 장치에서의 광원의 휘점 불균일을 해소하는 데 효과적이다. 또한, 단일 확산 시트에 의해, 원하는 고헤이즈가 얻어지므로, 복수의 확산 시트를 적층하여 사용할 필요가 없어진다. 따라서, 박형의 백 라이트 장치를 구성하는 것이 가능하게 된다.

또한, 최근, LED를 광원에 이용한 텔레비전용의 사이드 라이트 방식의 백 라이트 장치가 개발되었다. 이러한 방식의 백 라이트 장치에서는, 도광판상에 형성된 광 확산용 도트 패턴이 액정 패널을 통해 시인될 우려가 있다. 하지만, 헤이즈 값이 90%이상인 확산 시트를 사용함으로써, 상기 도트 패턴의 시인을 방지할 수 있다. 본 발명자들은, 32인치 액정 패널용의 도광판의 일단부에 LED를 10㎜ 간격으로 배치한 표면 발광 광원상에, 본 실시 형태에 따른 확산 시트와 편광 분리 소자를 이 순서대로 배치하여 도광판의 도트 패턴의 시인성을 평가했다. 그 결과, 평탄부(13)의 표면 조도(Ra)가 0.9㎛이상(헤이즈는 90%이상)인 범위에서, 도트 패턴이 시인되지 않게 된다는 것이 확인되었다.

한편, 평탄부(13)의 표면 조도(Ra)가 0.9㎛이상인 범위에서도, 휘도 손실의 상승률은 소정의 범위로 수렴되고, 1.33㎛이하의 표면 조도(Ra)에서는, 휘도 저하율은 7%미만으로 유지된다. 따라서, 휘도의 대폭적인 저하가 방지될 수 있다. 특히, LED 등의 고휘도 광원을 이용하여 백 라이트 장치를 구성할 경우에는, 종래의 형광관(CCFL)을 이용한 백 라이트 장치와 비교하여 휘도를 가능한 많이 향상시켜야 할 필요가 없어진다. 따라서, 휘도 손실의 약간의 상승은 실용상 전혀 문제가 안 된다고 말할 수 있다.

(형상 전사 공정)

다음으로, 예를 들어, 용융 압출 성형 장치 또는 라미네이트 전사 성형 장치등의 성형 장치에, 제조한 원반(23)을 설치한다. 그 다음으로, 원반(23)의 오목부(21a) 및 평탄부(21b)의 형상을 기재(11)의 주면에 전사한다(도 3g를 참조).

이렇게 하여, 도 1에 도시한 바와 같이, 기재(11)의 주면(11a)상에, 볼록 형상의 복수의 구조체(12)와, 이들 구조체(12)의 사이의 미리 정해진 표면 조도를 갖는 평탄부(13)가 형성된 확산 시트(1)가 제조된다.

[확산 시트의 성형 장치]

(성형 장치의 제1 예)

도 4a는 용융 압출 성형 장치의 일 구성예를 도시하는 도면이다. 도 4a에 도시한 바와 같이, 이 용융 압출 성형 장치(30)는 압출기(31), T 다이(32), 성형 롤(33), 탄성 롤(34) 및 냉각 롤(35)을 포함한다. 여기서, 성형 롤(33)이 상술한 원반(23)의 일례이다.

압출기(31)는 호퍼(도시 생략)로부터 공급된 수지 재료를 용융하고, 용융한 수지 재료를 T 다이(32)에 공급한다. T 다이(32)는, 즉, 직선형 개구를 갖는 다이이며, 압출기(31)로부터 공급된 수지 재료를, 성형하려는 시트 폭까지 늘려서 토출한다.

성형 롤(33)은 원기둥 형상을 갖고, 그 중심축을 회전축으로 하여 회전 가능하게 구성되어 있다. 또한, 성형 롤(33)은 냉각가능하게 구성되어 있다. 구체적으로, 성형 롤(33)은, 해당 성형 롤(33)의 내부에 기름 매체 등의 냉각 매체를 흘리기 위한 1 또는 2 이상의 유로를 포함한다.

성형 롤(33)의 원기둥 표면은, T 다이(32)로부터 토출되는 시트에 미세한 패턴을 전사하기 위한 요철 형상을 갖는다. 이 요철 형상은, 예를 들어, 구조체(12)의 형상을 기재(11)에 전사하기 위한 미세한 요철 형상이다. 이 요철 형상은, 상술한 바와 같이, 포토리소그래피 공정과 에칭 공정의 조합에 의해 형성되는 것이 바람직하다. 이는 구조체(12)의 높이의 변동을 억제할 수 있기 때문이다. 상술된 요철 형상으로서는, 도 3g를 참조하여 설명한 원반(23)의 요철면이 포함된다.

탄성 롤(34)은 원기둥 형상을 갖고, 그 중심축을 회전축으로 하여 회전 가능하게 구성되어 있다. 또한, 탄성 롤(34)의 표면은 탄성 변형 가능하게 구성되어 있다. 성형 롤(33)과 탄성 롤(34)에 의해 시트를 니프(nip)했을 경우에는, 성형 롤(33)과 접촉하게 되는 탄성 롤(34)의 표면이 눌러 찌부러지게 된다.

탄성 롤(34)은, 예를 들어, Ni 도금 등으로 이루어지는 심리스 통(seamless tube)에 의해 덮인다. 탄성 롤(34)은, 심리스 통의 내부에, 탄성 롤(34)의 표면을 탄성 변형 가능하도록 허용하기 위한 탄성체를 포함한다. 탄성 롤(34)의 표면은, 미리 정해진 압력으로 성형 롤(33)과 접촉하게 될 때에, 탄성 변형가능하게 되는 것이라면, 탄성 롤(34)의 구성 및 재료는 한정되는 것이 아니다. 그 재료로서는, 예를 들어, 고무 재료, 금속 또는 복합 재료 등이 이용될 수 있다. 또한, 탄성 롤(34)은, 롤 형상을 갖는 것에 한정되지 않고, 벨트 형상을 갖는 것이 이용될 수 있다. 탄성 롤(34)은 냉각가능하게 구성되어 있다. 구체적으로는, 탄성 롤(34)은, 해당 탄성 롤(34)의 내부에 물 등의 냉각 매체를 흘리기 위한 1 또는 2 이상의 유로를 포함한다.

탄성 롤(34)의 표면은, 적당히 조면화되어 있어도 좋다. 이 경우, 제조되는 확산 시트의 이면측(주면(11b))을 조면화하는 것을 도모할 수 있다. 탄성 롤(34)의 표면 조도(Ra)는, 예를 들어, 0.5㎛이하이다.

냉각 롤(35)은 원기둥 형상을 갖고, 그 중심축을 회전축으로 하여 회전 가능하게 구성되어 있다. 냉각 롤(35)은 냉각가능하게 구성되어 있다. 구체적으로, 냉각 롤(35)은, 해당 냉각 롤(35)의 내부에 물 등의 냉각 매체를 흘리기 위한 1 또는 2 이상의 유로를 포함한다.

다음으로, 상술한 구성을 갖는 용융 압출 성형 장치(30)의 동작에 대해서 설명한다.

우선, 수지 재료를 압출기(31)에 의해 용융하여 T 다이(32)에 순차적으로 공급하고, T 다이(32)로부터 시트를 연속적으로 토출시킨다. 그 다음으로, T 다이(32)로부터 토출된 시트 중 하나를 성형 롤(33)과 탄성 롤(34)에 의해 니프한다. 이에 의해, 수지 재료에 성형 롤(33)의 요철 형상이 전사된다. 그 다음으로, 성형 롤(33)과 냉각 롤(35)에 의해 기재(11)를 니프하여, 기재(11)의 요동을 억제하면서, 냉각 롤(35)에 의해 성형 롤(33)로부터 기재(11)를 박리한다.

이렇게 하여, 원하는 확산 시트(1)를 얻을 수 있다.

(성형 장치의 제2 예)

도 4b는 라미네이트 전사 성형 장치의 일 구성예를 도시하는 도면이다. 이 라미네이트 전사 성형 장치(40)는 엠보싱 벨트(43)와 평탄 벨트(45)를 포함한다. 엠보싱 벨트(43)는 가열 롤(41)과 냉각 롤(42)에 의해 회전한다. 평탄 벨트(45)는 가열 롤(41) 및 냉각 롤(42)에 대향하여 배치된 2개의 압박 롤(44)에 의해 회전한다. 또한, 표면에 복수의 오목부(43A)를 포함하는 엠보싱 벨트(43)와, 입체 형상이 없는 평탄 벨트(45) 사이에, 형상화 전의 기재(11)가 삽입될 수 있다. 여기서, 엠보싱 벨트(43)는 상술한 원반(23)의 일례이다.

엠보싱 벨트(43)로서는, 도 3g를 참조하여 상술한 원반(23)을 이용할 수 있다. 이 경우, 오목부(43A)는, 원반(23)의 오목부(21a) 및 평탄부(21b)를 포함하는 요철면으로 형성된다. 또한, 평탄 벨트의 표면을 조면화함으로써, 제조되는 확산 시트의 이면(주면(11b))에 적절한 표면 조도를 제공할 수 있다.

다음으로, 상술한 구성을 갖는 라미네이트 전사 성형 장치(40)의 동작에 대해서 설명한다.

우선, 엠보싱 벨트(43) 및 평탄 벨트(45)를 회전시키고, 가열 롤(41)의 측면으로부터 엠보싱 벨트(43)와 평탄 벨트(45) 사이의 갭(gap)에 형상화 전의 기재(11)를 삽입한다. 이에 의해, 가열 롤(41)의 열에 의해 기재(11)의 일 주면이 잠시 동안만 용융하고, 기재(11)의 일 주면에, 오목부(43A)의 형상이 전사된다. 그 후, 오목부(43A)의 형상이 전사된 기재(11)의 표면이, 냉각 롤(42)에 의해 냉각되어, 표면 형상이 고정된다. 따라서, 기재(11)의 일 주면상에 복수의 구조체(12)가 형성된다.

이렇게 하여, 원하는 확산 시트(1)를 얻을 수 있다.

본 실시 형태에 따른 확산 시트(1)에서는, 구조체(12)가 주면(11a)상에 랜덤하게 형성되어 있으므로, 모아레의 발생을 억제할 수 있다. 또한, 주면(11a)상의 구조체(12) 사이에 형성된 평탄부(13)는, 0.9㎛이상의 표면 조도(Ra)를 갖고 있기 때문에, 평탄부(13)는, 해당 평탄부(13)를 투과하는 광의 확산 기능을 갖는다. 이에 의해, 정면 방향에서의 휘도의 대폭적인 저하를 억제하면서 동시에 광의 확산 기능의 향상을 도모할 수 있다.

본 실시 형태에 따르면, 정면 방향에서의 휘도의 저하를 억제하면서 동시에 광의 확산 기능을 높일 수 있기 때문에, 확산 시트의 주름에 기인하는 휘도 불균일이 더 이상 쉽사리 시인되지 않는다. 이로 인해, 확산 시트(1)의 두께를 줄이려는 요구를 충분히 충족시키는 것이 가능하게 된다.

또한, 주면(11b) 및 평탄부(13)의 표면 조도를 조정함으로써, 구조체(12)의 충전율을 80%이상으로 설정했을 경우라도, 모아레의 발생을 억제하는 것이 가능하게 된다.

＜제2 실시 형태>

[액정 표시 장치의 구성]

(제1 구성예)

도 5a는 본 발명의 제2 실시 형태에 따른 액정 표시 장치의 제1 구성예를 도시하는 도면이다. 도 5a에 도시한 바와 같이, 이 액정 표시 장치는, 광을 출사하는 백 라이트(6)와 액정 패널(7)을 포함한다. 액정 패널(7)은 백 라이트(6)로부터 출사된 광을 시간 및 공간의 관점에서 변조하여 화상을 표시한다.

이하, 액정 표시 장치를 구성하는 백 라이트(6) 및 액정 패널(7)에 대해서 순차적으로 설명한다.

(백 라이트)

백 라이트(6)로서는, 예를 들어, 직접형 백 라이트, 에지형 백 라이트 또는 평면 광원형 백 라이트를 사용할 수 있다. 또한, 도 5a는, 백 라이트(6)가 직접형 백 라이트일 경우를 예시한다는 점에 주목해야 한다. 백 라이트(6)는, 예를 들어, 반사 시트(4), 광원(5), 확산판(3), 2매의 확산 시트(1) 및 렌즈 시트(2)를 포함한다. 반사 시트(4)는, 액정 표시 장치의 표시면과는 반대측이 되는 이면측에 배치된다. 광원(5)과 액정 패널(7) 사이에, 확산판(3), 확산 시트(1), 렌즈 시트(2) 및 확산 시트(1)가, 광원(5)으로부터 액정 패널(7)을 향하여 이 순서대로 배치된다.

광원(5)으로서는, 예를 들어, 냉음극 형광 램프(Cold Cathode Fluorescent Lamp)(CCFL), 열음극 형광관(Hot Cathode Fluorescent Lamp)(HCFL), 유기 일렉트로 루미네센스(Organic Electro Luminescence)(OEL), 무기 일렉트로 루미네센스(Inorganic Electro Luminescence)(IEL) 또는 발광 다이오드(Light Emitting Diode)(LED) 등이 이용된다.

반사 시트(4)는, 광원(5)으로부터 출사된 광을, 예를 들어, 확산 또는 반사함으로써, 광의 이용 효율을 높이는 기능을 한다. 반사 시트(4)로서는, 예를 들어, 확산 반사계(백색) 반사 시트 또는 경면 반사계 반사 시트가 이용될 수 있다. 확산 반사계 반사 시트(4)로서는, 예를 들어, 백색 폴리에스테르 필름 또는 계면 다중 반사 시트(예를 들어, 초 백색(ultra-white) 폴리에스테르 필름)가 이용될 수 있다. 경면 반사계 반사 시트(4)로서는, 예를 들어, 은(Ag) 박막 등의 금속 박막이 이용될 수 있다.

렌즈 시트(2)는, 광원(5)으로부터의 확산광을 집광하여 휘도를 향상시키는 역할을 한다. 렌즈 시트(2)로서는, 예를 들어, 뾰족한 프리즘 정점(sharp prism apex)를 갖는 프리즘 시트, 둥근 프리즘 정점을 갖는 프리즘 시트, 랜덤 프리즘 패턴이 일 주면에 형성된 프리즘 시트, 균일한 웹 패턴이 일 주면에 형성된 광학 시트(웹 시트) 등을 이용될 수 있다.

확산 시트(1)로서는, 상술한 제1 실시 형태에 따른 확산 시트가 이용된다. 확산 시트(1)는, 한쪽의 주면(11a)이 액정 패널(7)에 대향하고 다른 쪽의 주면(11b)이 광원(5)에 대향하도록 배치된다.

(액정 패널)

액정 패널(7)로서는, 예를 들어, 트위스티드 네마틱(Twisted Nematic)(TN) 모드, 슈퍼 트위스티드 네마틱(Super Twisted Nematic)(STN) 모드, 수직 배향(Vertically Aligned)(VA) 모드, 수평 배열(In-Plane Switching)(IPS) 모드, 광학 보상 복굴절(Optically Compensated Birefringence)(OCB) 모드, 강유전성 액정(Ferro-electric Liquid Crystal)(FLC) 모드, 고분자 분산형 액정(Polymer Dispersed Liquid Crystal)(PDLC) 모드 또는 상전이형 게스트 호스트(Phase Change Guest Host)(PCGH) 모드 등의 표시 모드의 액정 패널이 이용될 수 있다.

또한, 반사형 편광자(도시 생략)를 구비한 백 라이트(6)를 더 배치함으로써, 광원(5)으로부터 출사되는 광을 효율적으로 이용하는 것이 가능해진다. 따라서, 액정 표시 장치의 휘도를 높이고, 소비 전력을 저감할 수 있다. 반사형 편광자는, 액정 패널(7)에 인접하도록 액정 패널측에 배치된다. 반사형 편광자는, 서로 직교하는 편광 성분 중 한쪽만을 통과시키고, 다른 쪽은 반사시킨다. 반사형 편광자로서는, 예를 들어, 유기 다층막, 무기 다층막 또는 액정 다층막 등의 적층체가 이용될 수 있다.

(제2 구성예)

도 5b는 본 발명의 제2 실시 형태에 따른 액정 표시 장치의 제2 구성예를 도시하는 도면이다. 도 5b에 도시한 바와 같이, 백 라이트(6)는 확산판(3) 및 3매의 확산 시트(1)를 포함한다. 확산판(3) 및 3매의 확산 시트(1)는, 광원(5)으로부터 액정 패널(7)을 향하여 이 순서대로 배치된다.

이 제2 구성예에서, 다른 부분은 제1 구성예와 마찬가지이다.

(제3 구성예)

도 5c는 본 발명의 제2 실시 형태에 따른 액정 표시 장치의 제3 구성예를 도시하는 도면이다. 도 5c에 도시한 바와 같이, 백 라이트(6)는, 확산판(3), 렌즈 시트(2) 및 확산 시트(1)를 포함한다. 확산판(3), 렌즈 시트(2) 및 확산 시트(1)는, 광원(5)으로부터 액정 패널(7)을 향하여 이 순서대로 배치된다.

이 제3 구성예에서, 다른 부분은 제1 구성예와 마찬가지이다.

본 실시 형태에 따르면, 백 라이트(6)가 제1 실시 형태에 따른 확산 시트(1)를 포함하고 있으므로, 광원(5)의 휘도 불균일을 효과적으로 개선하면서 동시에 액정 표시 장치의 휘도를 향상시킬 수 있다. 또한, 렌즈 시트(2)를 확산 시트(1)로 치환하는 것도 가능하다.

이상, 본 발명의 실시 형태들에 대해서 설명했으나, 본 발명은 이들에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 기초로 하여 다양한 변형이 가능하다.

예를 들어, 이상의 실시 형태들에서는, 확산 시트 제조용 원반의 조면화 처리에 블라스트 처리를 이용했다. 하지만, 이 대신에, 와이어 브러싱, 레이저 처리 및 연삭 처리 등의 각종 표면 처리 방법이, 원반의 조면화 처리에 이용될 수 있다. 처리 방법에 상관없이, 평탄부(13)는 그 표면 조도(Ra)에 의해 규정된다. 처리 형상은 특별히 한정되지 않고, 구형, 프리즘 형상 또는 격자 형상 등의 임의의 형상이어도 좋다. 예를 들어, 도 16a 및 도 16b는, 평탄부(13)의 표면상에 단면이 대략 삼각 형상인 프리즘(13p)이 형성된 확산 시트(2)를 개략적으로 도시한 주요부의 측단면도 및 사시도이다. 프리즘 형상으로 평탄부(13)를 형성함으로써, 평탄부의 광의 확산 효과를 얻을 수 있다. 또한, 이 경우에, 평탄부(13)의 표면 조도는, 프리즘(13p)의 능선 방향과 배열 방향에 있어서 다르다. 하지만, 평탄부(13)는 양쪽 방향 중 적어도 한 방향으로 0.9㎛이상의 표면 조도(Ra)를 가지면 충분하다.

구조체(12)의 표면 조도(Ra)는, 원하는 헤이즈 값과 허용되는 휘도 손실 사이의 관계에 따라 적절히 설정될 수 있고, 예를 들어, 3.5㎛이하로 설정될 수 있다. 또한, 구조체(12)는 부분 구면 형상을 갖는 것들에 한정되지 않는다. 예를 들어, 도 17은, 부분 구면 형상의 구조체를 형성한 후, 해당 구조체의 표면에 미세한 홈 형상을 부가한 예를 나타낸다. 이에 의해, 구면부의 광의 확산 효과와, 홈부의 집광 기능을 갖는 구조체를 형성할 수 있다.

확산 시트의 성형 방법은, 상술한 용융 압출 성형 장치 및 라미네이트 전사 성형 장치에 한정되지 않는다. 예를 들어, 열 프레스 장치 등의 다른 성형 장치가 사용될 수 있다.

또한, 상술한 실시 형태들에서 설명한 구성, 방법, 형상, 재료, 수치 등은 단순히 일례이며, 필요에 따라 이들과 다른 구성, 방법, 형상, 재료, 수치 등이 이용될 수 있다.

또한, 본 발명은 이하와 같은 구성을 채용할 수도 있음에 주목해야 한다.

(1) 확산 시트로서,

제1 주면 및 제2 주면을 포함하는 투광성 기재와,

상기 제1 주면상에 랜덤하게 형성된 볼록 형상의 복수의 구조체와,

상기 제1 주면상의 상기 복수의 구조체 사이에 형성되며 0.9㎛이상의 표면 조도(Ra)를 갖는 평탄부

를 포함하는, 확산 시트.

(2) 상기 항목 (1)에 따른 확산 시트로서,

상기 제2 주면은 0.5㎛이하의 표면 조도(Ra)를 갖는, 확산 시트.

(3) 상기 항목 (1) 또는 (2)에 따른 확산 시트로서,

상기 복수의 구조체 각각은 부분 구면 형상을 갖는, 확산 시트.

(4) 상기 항목 (1) 내지 (3) 중 어느 하나에 따른 확산 시트로서,

상기 제1 주면에서 상기 복수의 구조체의 충전율이 60%이상 80%이하인, 확산 시트.

(5) 백 라이트로서,

제1 주면 및 제2 주면을 포함하는 광 투과성 기재와, 상기 제1 주면상에 랜덤하게 형성된 볼록 형상의 복수의 구조체와, 상기 제1 주면상의 상기 복수의 구조체 사이에 형성되며 0.9㎛이상의 표면 조도(Ra)를 갖는 평탄부를 포함하는 확산 시트; 및

상기 제2 주면측에 제공된 광원

을 포함하는, 백 라이트.

(6) 액정 표시 장치로서,

제1 주면 및 제2 주면을 포함하는 광 투과성 기재와, 상기 제1 주면상에 랜덤하게 형성된 볼록 형상의 복수의 구조체와, 상기 제1 주면상의 상기 복수의 구조체 사이에 형성되며 0.9㎛이상의 표면 조도(Ra)를 갖는 평탄부를 포함하는 확산 시트;

상기 제2 주면측에 제공된 광원; 및

상기 제1 주면측에 제공된 액정 패널

을 포함하는, 액정 표시 장치.

(7) 확산 시트의 제조 방법으로서,

원반 제조용 기재의 표면상에 형성된 레지스트층에 랜덤 노광 패턴을 형성하는 단계;

상기 랜덤 노광 패턴이 형성된 상기 레지스트층을 현상함으로써, 랜덤 패턴의 개구부를 상기 레지스트층에 형성하는 단계;

상기 개구부가 형성된 상기 레지스트층을 마스크로 사용하여 상기 원반 제조용 기재를 에칭함으로써, 상기 개구부에 대응하여 형성된 오목부와, 상기 레지스트층으로 피복된 평탄부를 포함하는 원반을 제조하는 단계;

0.9㎛이상의 표면 조도(Ra)를 갖도록, 상기 평탄부를 조면화하는 단계; 및

상기 원반의 오목부 및 조면화된 평탄부의 형상을 투광성 기재의 주면에 전사함으로써, 볼록 형상의 복수의 구조체와, 상기 복수의 구조체 사이의 조면화된 평탄부를 포함하는 확산 시트를 제조하는 단계

를 포함하는, 확산 시트의 제조 방법.

(8) 상기 항목 (7)에 따른 확산 시트의 제조 방법으로서,

상기 원반의 평탄부를 조면화하는 단계에서는, 상기 평탄부 위로 블라스팅 입자를 분사하는 블라스트 처리가 이용되는, 확산 시트의 제조 방법.

(9) 상기 항목 (8)에 따른 확산 시트의 제조 방법으로서,

상기 블라스트 처리에서는, 상기 오목부 각각의 개구경보다 큰 입자 직경을 갖는 블라스팅 입자가 이용되는, 확산 시트의 제조 방법.

(10) 상기 항목 (7) 내지 (9) 중 어느 하나에 따른 확산 시트의 제조 방법으로서,

상기 오목부의 형성 후 상기 평탄부를 조면화하기 전에, 상기 오목부 및 상기 평탄부를 크롬 도금하는 단계

를 더 포함하는, 확산 시트의 제조 방법.

본 발명은 2011년 8월 8일자로 출원된 일본 특허원 제2011-172722호에 개시된 것과 관련된 주제를 포함하고, 그 전체 내용은 본원에 참조로서 포함된다.

해당 분야의 숙련자는, 첨부된 청구항들 또는 그 등가물의 범주 내에서, 다양한 수정, 결합, 부분 결합 및 변경이 설계 요건 및 다른 요소에 따라 행해질 수 있음을 이해해야 한다.

1 : 확산 시트
11 : 기재
11a, 11b : 주면
12 : 구조체
13 : 평탄부
21 : 원반 제조용 기재
21a : 오목부
21b : 평탄부
22 : 레지스트층
22a : 노광부
22b : 개구부
23 : 원반
30 : 용융 압출 성형 장치
40 : 라미네이트 전사 성형 장치

Claims (10)

1. 백 라이트로서,
   확산 시트 및 렌즈 시트를 포함하고,
   상기 확산 시트는,
   제1 주면 및 상기 제1 주면에 대향하는 제2 주면을 포함하는 투광성 기재,
   상기 제1 주면상에 랜덤하게 형성된 볼록 형상을 갖는 복수의 구조체들 - 상기 확산 시트는 삼각 형상의 단면을 각각 갖는 프리즘이 있도록 형성됨 - 및
   상기 제2 주면측에 제공된 광원 - 상기 제1 주면과의 상기 볼록 형상을 갖는 구조체들의 측면 각도는 65°이상 및 90°이하임 -
   을 포함하며,
   상기 렌즈 시트는 상기 광원으로부터의 확산광을 집광하는 역할을 하고, 상기 렌즈 시트는 뾰족한 프리즘 정점 또는 둥근 프리즘 정점을 갖고, 모아레의 발생이 억제되도록 하고 확산 기능의 향상을 일으키는 랜덤 프리즘 패턴을 갖는, 백 라이트.
2. 제1항에 있어서,
   평탄부가 상기 제1 주면상의 상기 복수의 구조체들 사이에 형성되고 상기 평탄부는 0.9㎛이상의 표면 조도(Ra)를 갖고,
   상기 제2 주면은 0.5㎛이하의 표면 조도(Ra)를 가지며,
   상기 투광성 기재, 상기 복수의 구조체들 및 상기 평탄부는 성형 장치에 사용되는 원반의 형상을 전사함으로써 형성되고,
   상기 원반은 조면화된 평탄부 및 복수의 오목부들을 포함하는 요철면을 갖고 상기 요철면을 피복한 크롬 도금을 가지며, 상기 조면화된 평탄부는 상기 평탄부를 피복한 상기 크롬 도금에 크랙들을 발생시키고 블라스팅 입자와의 충돌에 의한 상기 평탄부의 표면의 변형을 발생시키도록 블라스트 처리된 것인, 백 라이트.
3. 제1항에 있어서,
   상기 복수의 구조체들 각각은 부분 구면 형상을 갖는, 백 라이트.
4. 제1항에 있어서,
   상기 제1 주면에서 상기 복수의 구조체들의 충전율이 60%이상 80%이하인, 백 라이트.
5. 액정 표시 장치로서,
   확산 시트 및 렌즈 시트를 포함하고,
   상기 확산 시트는,
   제1 주면 및 상기 제1 주면에 대향하는 제2 주면을 포함하는 투광성 기재,
   상기 제1 주면상에 랜덤하게 형성된 볼록 형상을 갖는 복수의 구조체들 - 상기 확산 시트는 삼각 형상의 단면을 각각 갖는 프리즘이 있도록 형성됨 -,
   상기 제2 주면측에 제공된 광원 - 상기 제1 주면과의 상기 볼록 형상을 갖는 구조체들의 측면 각도는 65°이상 및 90°이하임 - 및
   상기 제1 주면상의 상기 복수의 구조체들 사이에 형성되고 0.9㎛이상의 표면 조도(Ra)를 갖는 평탄부
   를 포함하며,
   상기 렌즈 시트는 상기 광원으로부터의 확산광을 집광하는 역할을 하고, 상기 렌즈 시트는 뾰족한 프리즘 정점 또는 둥근 프리즘 정점을 갖고 랜덤 프리즘 패턴을 갖고,
   상기 투광성 기재, 상기 복수의 구조체들 및 상기 평탄부는 성형 장치에 사용되는 원반의 형상을 전사함으로써 형성되고,
   상기 원반은 조면화된 평탄부 및 복수의 오목부들을 포함하는 요철면을 갖고 상기 요철면을 피복한 크롬 도금을 가지며, 상기 조면화된 평탄부는 상기 평탄부를 피복한 상기 크롬 도금에 크랙들을 발생시키고 블라스팅 입자와의 충돌에 의한 상기 평탄부의 표면의 변형을 발생시키도록 블라스트 처리된 것인, 액정 표시 장치.
6. 표시 장치로서,
   확산 시트 및 광원을 포함하고,
   상기 확산 시트는,
   제1 주면 및 상기 제1 주면에 대향하는 제2 주면을 포함하는 투광성 기재,
   상기 제1 주면상에 랜덤하게 형성된 볼록 형상을 갖는 복수의 구조체들 - 랜덤 형성이 모아레의 발생이 억제되도록 하고 확산 기능의 향상을 일으키도록, 상기 확산 시트는 삼각 형상의 단면을 각각 갖는 프리즘이 있도록 형성됨 - 및
   상기 제1 주면상의 상기 복수의 구조체들 사이에 형성되고 0.9㎛이상의 표면 조도(Ra)를 갖는 평탄부
   를 포함하고,
   상기 광원은 상기 제2 주면측에 제공되고, 상기 확산 시트는 0.50 초과 1.50 이하인 상기 볼록 형상을 갖는 구조체들의 어스펙트비 높이/반경을 포함하는, 표시 장치.
7. 확산 시트의 제조 방법으로서,
   원반 제조용 기재의 표면상에 형성된 레지스트층에 랜덤 노광 패턴을 형성하는 단계;
   상기 랜덤 노광 패턴이 형성된 상기 레지스트층을 현상함으로써, 랜덤 패턴의 개구부를 상기 레지스트층에 형성하는 단계;
   상기 개구부가 형성된 상기 레지스트층을 마스크로 사용하여 상기 원반 제조용 기재를 에칭함으로써, 상기 개구부에 대응하여 형성된 오목부와, 상기 레지스트층으로 피복된 평탄부를 포함하는 원반을 제조하는 단계;
   상기 오목부의 형성 후 상기 평탄부를 조면화하기 전에, 상기 오목부 및 상기 평탄부를 크롬 도금하는 단계;
   0.9㎛이상의 표면 조도(Ra)를 갖도록, 상기 평탄부를 조면화하는 단계; 및
   상기 원반의 오목부 및 조면화된 평탄부의 형상을 투광성 기재의 주면에 전사함으로써, 볼록 형상의 복수의 구조체들과, 상기 복수의 구조체들 사이의 조면화된 평탄부를 포함하는 확산 시트를 제조함으로써, 헤이즈 값이 90% 이상이 되도록 하는 단계
   를 포함하며,
   상기 원반의 평탄부를 조면화하는 단계에서는, 상기 평탄부 위로 블라스팅 입자를 분사하는 블라스트 처리가 이용되고,
   상기 조면화된 평탄부는 상기 평탄부를 피복한 상기 크롬 도금에 크랙들을 발생시키고 블라스팅 입자와의 충돌에 의한 상기 평탄부의 표면의 변형을 발생시키도록 블라스트 처리된 것인, 확산 시트의 제조 방법.
8. 삭제
9. 제7항에 있어서,
   상기 블라스트 처리에서는, 상기 오목부 각각의 개구경보다 큰 입자 직경을 갖는 각각의 블라스팅 입자가 이용되는, 확산 시트의 제조 방법.
10. 삭제

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