KR101953043B1 - 열간 압연용 공업용 순티타늄 주조편 및 그 제조 방법 - Google Patents

열간 압연용 공업용 순티타늄 주조편 및 그 제조 방법 Download PDF

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요시츠구 다츠자와
도모노리 구니에다
겐이치 모리
히데키 후지이
가즈히로 다카하시
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신닛테츠스미킨 카부시키카이샤
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Abstract

전자 빔 용해법이나 플라즈마 아크 용해법에 의해 제조한 공업용 순티타늄으로 이루어지는 티타늄 주조편의 압연면이 되는 표면에, 1종 또는 2종류 이상의 β상 안정화 원소를 첨가해서 용융시켜서 재응고시킨 용융 재응고층을 깊이 1㎜ 이상의 범위에 갖고, 깊이 1㎜까지의 범위에 있어서의 β상 안정화 원소의 농도의 평균값이, 모재 중의 β상 안정화 원소의 농도에 비교해서, 질량%로, 0.08mass% 이상, 1.50mass% 이하 높다. β상 안정화 원소를 함유하는 소재로서, 분말, 칩, 와이어, 박이 사용된다. 또한, 표층을 용융하는 수단으로서, 전자 빔 가열 및 플라즈마 아크 가열이 사용된다.

Description

열간 압연용 공업용 순티타늄 주조편 및 그 제조 방법{TITANIUM SLAB FOR HOT ROLLING, AND PRODUCTION METHOD THEREFOR}
본 발명은 공업용 순티타늄으로 이루어지는 열간 압연용 티타늄 주조편의 제조 방법이며, 특히 분괴 압연이나 단조 등의 브레이크다운 공정을 생략해도, 열간 압연 후에 있어서의 표면 성상을 양호하게 유지할 수 있는 티타늄 주조편 및 그 제조 방법에 관한 것이다.
공업용 순티타늄은 일반적으로, 스폰지 티타늄이나 티타늄 스크랩을 원료로 하여, 비소모 전극식 아크 용해법, 전자 빔 용해법, 플라즈마 아크 용해법 등에 의해 용해되어, 티타늄 잉곳(티타늄 주조편)이 된다. 비소모식 아크 용해법에서는, 스폰지 티타늄을 가압 성형한 브리켓을 전극으로 해서, 전극과 주형으로 아크 방전시켜서, 전극 자체를 용해하여, 주형 내에 주조함으로써 잉곳을 얻고 있다. 그 때문에, 주형과 전극의 방전을 균일하게 행할 필요가 있어, 주형 형상은 원통형으로 한정되며, 주조 후의 잉곳 형상은 원기둥 형상이 된다. 한편, 전자 빔 용해법이나 플라즈마 아크 용해법에서는, 각각 전자 빔과 플라즈마 아크를 사용하고 있어, 용해법은 다르지만, 용해 시에 노상 상에서 용해한 티타늄 용탕을 주형에 유입하기 때문에, 주형 형상의 선택이 자유롭고, 원기둥 형상으로 한정하지 않아, 직사각형이나 빌렛 형상 등의 다양한 형상의 잉곳을 제조하는 것이 가능하다.
현상의 티타늄재 제조 공정에서는, 이후 잉곳의 브레이크다운 공정이라고 불리는, 분괴 압연이나 단조 등의 열간 가공 공정을 거친 후, 열간 압연을 실시하고 있어 브레이크다운 공정이 필요해지고 있다. 그러나, 그 형상으로부터, 직사각형 잉곳(슬래브 형상 잉곳)에서는 판재 제조 시에, 원기둥 형상 및 빌렛 형상 잉곳에서는 봉재나 선재 제조 시에 브레이크다운 공정을 생략할 수 있을 것으로 생각되고 있으며, 브레이크다운 공정을 생략해서 열간 압연을 행하는 기술이 검토되고 있다. 이 기술이 확립되면, 공정 생략 및 수율 향상에 따른 비용 개선을 기대할 수 있다.
그러나, 전자 빔 용해법이나 플라즈마 아크 용해법을 사용해서 제조한 티타늄 주조편은, 주조 상태이므로, 수십㎜나 달하는 조대 입자가 존재하고 있다. 이러한 티타늄 주조편에 대해서, 브레이크다운 공정을 생략하여, 열간 압연을 행하면, 조대 입자에 기인해서 입자 내 및 각 결정립간의 변형 이방성의 영향에 의해, 표면에 요철을 발생시키고, 이것이 표면 흠이 된다. 열간 압연으로 발생한 표면 흠을 제거하기 위해서는, 다음 공정인 산 세정 공정에서 열연재 표면의 용삭량을 증가시킬 필요가 있어, 그 만큼의 수율이 악화되고, 비용의 증가가 우려된다.
따라서, 전자 빔 용해법이나 플라즈마 아크 용해법으로 제조한 티타늄 잉곳은, 분괴 압연이나 단조 등의 브레이크다운 공정의 생략에 의한 비용 개선이 기대되는 반면에, 표면 흠의 증가에 따른 비용의 증가가 우려되어, 브레이크다운 공정을 생략한 티타늄 주조편의 실용화를 저해하였다.
특허문헌 1에서는, 전자 빔 용해로에서 용해하여, 주형 내에서 직접 인발한 티타늄 슬래브의 단면 조직에 있어서, 표층으로부터 내부를 향하는 응고 방향과 슬래브의 주조 방향이 이루는 각 θ가 45° 내지 90°, 또는 표층의 결정 방위 분포에 있어서, hcp의 c축과 슬래브 표층과의 법선의 이루는 각이 35° 내지 90°인 경우에, 주조 표면이 양호하고, 또한 잉곳의 브레이크다운 공정을 생략해도, 열간 압연 후의 표면 흠을 개선할 수 있는 방법이 개시되어 있다. 즉, 표면의 결정립의 형상이나 결정 방위를 제어함으로써 이러한 조대 결정립에 기인하는 흠의 발생을 억제할 수 있다.
특허문헌 2에서는, 티타늄재의 잉곳의 브레이크다운 공정을 생략하여, 직접 열간 압연을 행하는 방법으로서, 압연면에 닿는 면의 표층을 고주파 유도 가열, 아크 가열, 플라스마 가열, 전자 빔 가열 및 레이저 가열 등으로 용융 재응고시킴으로써, 표층으로부터 깊이 1㎜ 이상의 세립화를 행하고 있었다. 이 슬래브 표층의 급랭 응고에 의해 미세하고 또한 불규칙한 결정 방위 분포로 함으로써, 표면 흠의 발생을 방지하고 있다.
국제공개 제2010/090353호 공보 일본특허공개 제2007-332420호 공보
본 발명은 브레이크다운 공정의 생략뿐만 아니라, 주조 상태 티타늄 주조편 표층의 절삭 정정 공정을 불필요로 하면서도, 그 후의 열간 압연 후의 티타늄재의 표면 흠 발생을 억제한 티타늄 주조편 및 그 제조 방법을 제공한다.
본 발명자들은, 상기 과제를 달성하기 위해, 예의 검토하였다. 그 결과, 순티타늄제 티타늄 주조편의 용해 방법으로서, 전자 빔 용해법이나 플라즈마 아크 용해법을 사용해서 제조한 주조 상태의 티타늄 주조편에 있어서, 종래 필요한 브레이크다운 공정을 생략하고, 열간 압연을 행할 때, 열간 압연의 전 공정으로서, 주조 상태 티타늄 주조편의 압연면 표층에 β상 안정화 원소를 함유하는 소재(분말, 칩, 와이어, 박)를 두거나, 또는 살포하고, 소재마다 티타늄재 표층을 용융한다. 이와 같이 해서, 티타늄재 표층에 모재보다 β상 안정화 원소 농도가 높은 층, 즉 β상 안정화 원소 리치층을 형성시킨다. 이에 의해, 열간 압연 후의 표면 성상을 양호하게 유지하는 것을 발견하였다.
즉, 본 발명은 이하와 같다.
(1)
모재가 공업용 순티타늄으로 이루어지는 열간 압연용 티타늄 주조편이며,
압연면이 되는 표면에, 1종 또는 2종류 이상의 β상 안정화 원소를 함유하는 층을 깊이 1㎜ 이상의 범위에 갖고,
깊이 1㎜까지의 범위에 있어서의 β상 안정화 원소의 농도의 평균값이, 모재 중의 β상 안정화 원소의 농도에 비교해서, 질량%로, 0.08mass% 이상, 1.50mass% 이하 높은, 열간 압연용 티타늄 주조편.
(2)
상기 β상 안정화 원소가, Fe, Ni, Cr의 1종 또는 2종 이상인, (1)에 기재된 열간 압연용 티타늄 주조편.
(3)
상기 β상 안정화 원소를 함유하는 층에, 상기 β상 안정화 원소와 함께, α상 안정화 원소 또는 중성 원소를 1종 또는 2종 이상 함유하는, (1)에 기재된 열간 압연용 티타늄 주조편.
(4)
모재가 공업용 순티타늄으로 이루어지는 열간 압연용 티타늄 주조편의 압연면이 되는 표면을, β상 안정화 원소를 함유하는 소재와 함께 용융시킨 후, 응고시키고, 깊이 1㎜까지의 범위에 있어서의 β상 안정화 원소의 농도의 평균값을, 모재 중의 β상 안정화 원소의 농도에 비교해서, 질량%로, 0.08mass% 이상, 1.50mass% 이하 높게 하는, 열간 압연용 티타늄 주조편의 제조 방법.
(5)
상기 β상 안정화 원소를 함유하는 소재가, 분말, 칩, 와이어, 박 중 어느 것의 형태인, (4)에 기재된 열간 압연용 티타늄 주조편의 제조 방법.
(6)
모재가 상기 공업용 순티타늄으로 이루어지는 열간 압연용 티타늄 주조편의 압연면이 되는 표면을, 전자 빔 가열 또는 플라스마 가열에 의해 용융시키는, (4)에 기재된 열간 압연용 티타늄 주조편의 제조 방법.
본 발명의 티타늄 주조편은, 종래 필요하였던 분괴 압연이나 단조 등의 브레이크다운 공정을 생략하여, 열간 압연을 실시해도, 종래재와 동등한 표면 성상을 갖는 티타늄재를 제조하는 것이 가능하다. 브레이크다운 공정 생략에 의한 가열 시간의 저감, 표층 용융에 의한 티타늄 주조편의 표층의 평활화에 수반하는 절삭 손질의 저감, 열간 압연 후의 티타늄재의 표면 성상의 향상에 의한 산 세정 시의 용삭량의 저감 등, 이들에 의해 수율의 향상이 도모되는 점에서, 제조 비용의 삭감에 효과가 있으며, 산업상의 효과는 헤아릴 수 없다.
도 1은 용융 재응고층의 농도 변화의 모식도를 나타낸다.
이하, 본 발명에 대해서 상세하게 설명한다.
본 발명에 있어서, 공업용 순티타늄이란, JIS 규격의 1종 내지 4종, 및 그것에 대응하는 ASTM 규격의 Grade1 내지 4, DIN 규격의 3·7025로 규정되는 공업용 순티타늄을 포함하는 것으로 한다. 즉, 본 발명에서 대상으로 하는 공업용 순티타늄은, C: 0.1mass% 이하, H: 0.015mass% 이하, O: 0.4mass% 이하, N: 0.07mass% 이하, Fe: 0.5mass% 이하, 잔부가 Ti 및 불가피 불순물로 이루어지는 것이라 할 수 있다. 또한, 공업용 순티타늄 중에, 다른 β상 안정화 원소와 비교해서 많이 포함되는 Fe는, 실질적으로는 JIS1, 2종에서는 약 0.020 내지 0.05mass%, JIS3종에서는 약 0.08mass%이다.
본 발명에서 대상으로 하는 티타늄 주조편은, 직사각형 잉곳(슬래브 형상 잉곳), 원기둥 형상 잉곳, 빌렛 형상 잉곳이다. 이들 형상의 티타늄 주조편의 표층을, β상 안정화 원소를 함유하는 소재와 함께 용융함으로써 열간 압연 후의 티타늄재에 대해서 표면 흠을 억제하는 기술이다.
본 발명에서는, 주조 상태의 티타늄 주조편의 표층부만을 가열하여, 깊이 1㎜ 이상을 용융한다. 이와 같이 해서 용융된 티타늄 주조편의 표층부는, 용융 후에 급랭 재응고되어, 실온까지 냉각했을 때의 용융 재응고층(이와 같이, 주조 상태의 티타늄 주조편의 표층부만을 가열에 의해 용융시키고, 그 후 급랭해서 다시 응고시킨 응고층을 「용융 재응고층」이라고 부름)의 단면 조직은, 미세한 침상 조직이 된다. 그리고, 표층 용융 시에 β상 안정화 원소와 동시에 모재의 표층을 용융함으로써, 모재와 비교해서 용융 재응고층 내의 β상 안정화 원소 농도가 높아지고, 그 결과, β상 안정화 원소 첨가에 의한 켄칭성 향상에 의해, 용융 재응고층을 보다 미세한 조직으로 할 수 있다. 여기에서 말하는 「켄칭성 향상」이란, 티타늄 주조편의 표층에 β상 안정화 원소를 함유시킴으로써, 연속 냉각 시의 변태의 노즈를 장시간측으로 시프트시킴으로써, 저온에서 변태시키는 것을 가리킨다. 저온에서 변태시킴으로써 핵 생성 사이트를 증가시켜서, 결정립을 미세화시키는 것을 목적으로 하고 있다.
후술하는 바와 같이, 본 발명에 있어서, 형성된 용융 재응고층은 깊은 부분과 얕은 부분이 발생한다. 본 발명에서는, 용융 재응고층의 깊이를 1㎜ 이상으로 하고 있지만, 이 깊이는 용융 비드의 주사 방향과 수직 방향의 단면에서 보았을 때의 최천부의 깊이를 가리키는 것으로 한다.
통상, 공업용 순티타늄은 β 변태점 이하의 온도 영역의 α단상 영역에서 열간 압연을 실시하고 있다. 그로 인해, 티타늄 주조편은 열연 가열 온도인 α상 고온 영역으로 가열된다. 일반적으로, 공업용 순티타늄은, 합금 원소로서, Fe 등의 β상 안정화 원소를 미량으로 함유하고 있고, 얼마 안 되지만 α+β 2상 온도 영역이 존재한다. 그러나, 통상의 공업용 순티타늄에서는, α+β 2상 온도 영역은 불과 수십도의 매우 좁은 온도 영역이다. 한편, 상기 티타늄 주조편의 표층에 β 안정화 원소를 첨가하여, 티타늄 소재의 표층과 동시에 β 안정화 원소를 용융시켜서 재응고를 행한 티타늄 주조편은, 표층에 있어서의 β 안정화 원소의 농도가 모재 중보다 높아진다. 즉, 용융 재응고층 내의 β상 안정화도가 높기 때문에, α+β 2상 영역의 온도 영역을 확장할 수 있어, 열연 가열 시에 용융 재응고층 내를 α+β 2상 영역의 상태로 할 수 있다. α상의 입계에 β상이 발생하므로, α상의 입성장이 억제되어, 용융 재응고 후의 미세 결정립을, 열연 가열 후의 열간 압연 시까지 유지할 수 있다. 따라서, 조대 결정립에 기인한 티타늄재 표면의 요철을 억제할 수 있어, 표면 흠이 발생하지 않는 티타늄 열간 압연재를 제조할 수 있다고 하는 것을 알 수 있었다.
또한, 상기와 같은 용해를 행함으로써, 용융된 티타늄 주조편의 표면에서는, β상 안정화 원소가 균일하게 분산되지 않고, 그 결과 부분적으로 상기 원소의 농도가 높은 영역이 발생하고, 이 부분에서는 α+β 2상 영역의 온도 영역을 보다 확장할 수 있어, 열연 가열 시의 α상의 입성장을 보다 억제할 수 있는 효과가 있다.
티타늄 주조편에 표층의 깊이 1㎜ 이상을 상기와 같이 재용융한 후, 응고함으로써, 표층으로부터 깊이 1㎜ 이상이 재용융 후에 응고한 미세 침상 조직이 되지만, 용융 재응고층 및 그 열 영향부로부터 티타늄재 판 두께 방향 중앙측은, 주조 상태의 조직이 된다. 적어도 티타늄 주조편의 압연면에 닿는 표층을, β상 안정화 원소를 함유하는 소재와 함께 재용융한 후, 응고함으로써, 용융 재응고층 내의 표층으로부터 1㎜ 깊이까지의 β상 안정화 원소의 농도의 평균값이, 모재의 β상 안정화 원소의 농도에 비교해서, 질량%로 0.08mass% 이상, 1.50mass% 이하 높게 함유되어 있으면 된다. β상 안정화 원소는 복수의 β상 안정화 원소를 조합해서 첨가해도 되고, 그 경우의 β상 안정화 원소의 농도는, 함유하는 β상 안정화 원소의 각 농도의 총합을 가리킨다. 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도의 차가, 0.08mass% 미만에서는, β상 안정화 원소의 첨가에 의한 켄칭성 향상 효과 및 결정립 성장 억제 효과를 충분히 얻지 못하여, 열간 압연 후의 티타늄재에는, 표면 흠이 발생하기 쉬워진다. 표면 흠 억제의 효과를 보다 발휘시키기 위해서는, β상 안정화 원소의 농도차가 0.2mass%를 초과하고 있는 것이 바람직하고, 더욱더 0.5mass%를 초과하고 있는 것이 가장 바람직하다. 또한, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 상기 범위 내이면, 열간 압연 이후의 공정인, 숏 블라스트 및 산 세정의 공정에 의한 용삭에 의해, 표층의 β상 안정화 원소의 농화층은 제거되어, 용융 재응고층에 농화한 β상 안정화 원소는 무해화된다. 즉, 숏 블라스트 및 산 세정의 공정을 행함으로써, β상 안정화 원소 농화층을 없애고, 통상의 제법으로 제조한 냉연판과 동등한 성분 및 기계적 특성이 되도록 하고 있다. 그러나, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 1.50mass%보다 높아지면, 열간 압연 시에 티타늄 주조편 표층의 β상의 비율이 많아져서, 모재와 비교해서 슬래브 표층부의 산화가 심하게 된다. 또한, 티타늄 주조편의 표층의 β상 안정화 원소의 농도가 높아짐으로써, 모재와 비교해서 용융 재응고층의 경도가 높아져서, 열간 압연 시에 표면 균열 등이 발생하는 경우가 있다. 이들 요인으로부터, 산 세정 공정에서의 표면 용삭량을 증가시킬 필요가 있어, 수율이 현저하게 저하된다. 게다가, 후속 공정에서의 β상 안정화 원소의 농화층의 무해화도 곤란해지기 때문에, 표층으로부터 1㎜ 깊이까지의 β상 안정화 원소의 농도의 평균값이, 모재의 β상 안정화 원소의 농도에 대하여 1.50mass% 이하로 하였다. 게다가, 용융 깊이를 1㎜ 이상으로 하였지만, 용융 깊이가 지나치게 깊어지면, 숏 블라스트 및 산 세정의 공정 후에도 β상 안정화 원소의 농화층이 잔존할 우려가 있으므로, 용융 깊이는 5㎜ 정도까지가 바람직하다.
또한, 통상, 티타늄 주조편은 주조 시, 주형과 접해 있는 티타늄 주조편 표층부로부터 응고가 진행되기 때문에, 원소마다 용질의 분배에 의해 티타늄 주조편의 표층과 내부는 약간 성분이 다르다. Fe 등의 β상 안정화 원소는 정편석을 나타내는 원소이기 때문에, 응고 시나 변태 시에서는, 티타늄 주조편의 표층부의 Fe 농도가 낮아져서, 티타늄 주조편의 내부일수록 Fe 농도가 높아지는 경향이 있다. 그 때문에, β상 안정화 원소와 모재를 동시에 용융함으로써, 용융 재응고층 내의 β상 안정화 원소 농도를 모재와 동등 이상으로 하는 것이 매우 유효하다.
게다가, 티타늄재의 주조 시, 원료의 투입량을 제어함으로써, 슬래브 전체의 성분이 균일해지도록 조정되어 있다. 그러나, 부분적으로는, 성분의 변동 등이 발생하는 경우가 있다. 그 때문에, β상 안정화 원소인 Fe 함유량이 원래 높은 공업용 순티타늄 JIS 3종이나 JIS 4종에서도, 용융 응고층 내에 Fe의 성분 변동에 따른 미세 결정립화 불충분의 영역이 존재하여, 열간 압연 후에는 부분적으로 표면 흠이 발생하는 경우가 많다. 그로 인해, β 안정화 원소를 용융 재응고 시에 첨가함으로써, β상 안정화 원소의 첨가량을 베이스업하는 것이 매우 유효하고, 이에 의해, 부분적으로 발생하는 표면 흠도 억제하는 것이 가능하게 된다.
용융 비드의 주사 방향과 수직 방향의 단면에서 보면, 용융 재응고층의 형상은, 티타늄 주조편 표층의 재용융 시의 용융 비드 중앙에서 가장 깊어지는 경향이 있고, 용융 비드를 겹쳤을 때, 인접한 용융 비드끼리의 중간에서 가장 얕아져서, 최심부와 최천부가 주기적으로 반복되는 형태를 취한다. 이때, 최심부와 최천부의 차가 크면, 열간 압연 시에 이 차이에 의해 변형 저항에 차이가 발생하고, 이것에 기인한 흠이 발생하는 경우가 있다. 그 때문에, 상기 차이는 2㎜ 미만인 것이 바람직하다. 또한, 본 발명에서는 용융 재응고층의 깊이를 1㎜ 이상으로 하고 있지만, 이 깊이란, 용융 비드의 주사 방향과 수직 방향의 단면에서 보았을 때의 최천부의 깊이를 가리키는 것으로 한다.
용융 재응고층의 깊이나 용융 재응고 내의 불균일성의 측정 방법에 대해서 설명한다. 용융 비드의 주사 방향과 수직 방향의 단면의 티타늄 주조편 표층부에서 잘라낸 부분을 매립 연마 시료로 하고, 이것을 SEM(Scaning Electron Microscopy)/EPMA(Electron Probe Micro Analyser)에 제공함으로써 용이하게 판별 할 수 있다. 본 발명에서는, 용융 재응고층 깊이를, 최천부의 깊이라 정의하고 있기 때문에, 원소 맵핑 분석에 의해, 용융 깊이를 구하는 것이 간편하다. 도 1에 모재 및 용융 재응고층의 농도 변화의 실측값의 일례를 나타낸다. 이것은, 티타늄 주조편의 압연면 표층 부근의 모재 부분으로부터 압연 표면을 향해서 두께 방향으로 β상 안정화 원소 농도에 대해서 선분석한 경우이다. 모재에서는 β상 안정화 원소 농도가 낮아 거의 균일해지고 있지만, 용융 재응고층에서는 β상 안정화 농도가 높아, 더욱 농도의 요동이 발생하고 있어, 불균일성이 있는 것을 알 수 있다.
β상 안정화 원소로서는, V, Mo, Fe, Cr, Mn, Ta, Nb, Ni, Co, Cu, W 등을 들 수 있다. 그러나, 티타늄에서는, 융점이 높은 W, Ta 등의 원소는, HDI(고밀도 개재물)의 원인이 되어, 미용융이나 확산 불충분한 채로 티타늄재 중에 잔존하면 피로의 기점이 되기 때문에, 사용하기 위해서는 주의가 필요하다. 또한, Mo나 Nb 등도 W나 Ta와 비교하면 융점은 낮기는 하지만, 융점이 2000℃ 이상이므로, Mo나 Nb를 사용하는 경우에는, 미리 Ti 등의 원소와의 합금으로서 융점을 낮게 한 합금으로서 첨가하는 쪽이 바람직하다. β상 안정화 원소는 V, Mo, Ta, Nb 등의 전율 고용형과, Fe, Cr, Mn, Co, Ni, Cu 등의 공석형으로 분류할 수 있고, 공석형으로는 각 β상 안정화 원소의 고용도는 작지만, β상 안정화능은 크기 때문에, 공석형의 β상 안정화 원소 쪽이 소량의 첨가로도 유효하다. 공석형의 Fe, Cr, Mn, Co, Ni, Cu로는, 모재에 대한 용융 재응고층의 β상 안정화 원소 농도가 0.08 내지 0.60mass% 정도로 높으면 열간 압연 후의 표면 흠을 억제할 수 있기 때문에, 상기 범위가 바람직하다. 전율 고용형의 V, Mo, Ta, Nb에서는, β상 안정화능이 공석형과 비교해서 작기 때문에, 모재에 대하여 용융 재응고층의 β상 안정화 원소 농도가 0.60 내지 1.50mass% 정도, β상 안정화 원소를 많이 첨가하는 것이 보다 효과를 발휘하기 쉽다. 또한, 공석형의 β상 안정화 원소를 사용해도, 재용융 후의 응고 시는 급랭되기 때문에, 냉각 속도가 빨라서, 석출물은 생기지 않고, 열연 가열 시도 α+β의 2상 영역이 되므로, 석출물은 생기지 않는다. 또한, β상 안정화 원소를 함유하는 소재 중에는 Al로 대표되는 α상 안정화 원소나 Sn, Zr 등의 중성 원소가 포함되어 있어도 된다. α상 안정화 원소와 중성 원소 중 어느 한쪽, 또는 양쪽이 포함되어 있어도 된다. 또한, 모재에 대하여 용융 재응고층 중의 α상 안정화 원소와 중성 원소의 총량은 2.0mass% 이하로 하는 것이 바람직하다. 주조 상태의 주조편의 표층과 함께 용융하는 소재는, β상 안정화 원소이고 또한 비교적 저렴한 Fe, Ni, Cr을 사용하는 쪽이 바람직하다. Fe 분말 등이나 스테인리스 분말 등을 사용하거나, 보통강이나 스테인리스강의 스크랩을 분쇄한 것을 활용하거나 해도 효과적이다. 마찬가지로, 티타늄 합금의 스크랩을 분쇄한 것을 사용해도 된다.
상기 β상 안정화 원소를 주조편의 표층에 첨가하기 위해서 사용하는 소재는 분말, 칩, 와이어, 박 중 어느 것의 형상이어도 되고, 소편으로 되어 있는 것이 바람직하다. 분말은 입경 1㎛ 내지 0.5㎜, 칩은 한변의 크기가 2㎜ 내지 5㎜인 정방형, 와이어는 φ 0.5㎜ 내지 φ5㎜, 박은 막 두께 1㎛ 내지 0.1㎜의 범위의 소재를 사용하면 효과적이다. 이들 소재는, 주조편의 표면에 설치하거나 또는 살포할 때에 주조편의 표면에 균일하게 배치함으로써, 티타늄 주조편의 표층에 있어서 모재에 함유되는 농도와 동일한 농도의 영역을 적게 하는 것이 가능하게 되어, 보다 양호한 표면 성상의 티타늄 주조편이 얻어진다.
또한, β상 안정화 원소와 모두 표층을 용융하는 방법은, 전자 빔 가열, 아크 가열, 레이저 가열, 및 유도 가열 등의 방법이 있지만, 티타늄은 활성의 금속이며, 대기 중에서 표층을 용융하면 용융부가 현저하게 산화하기 때문에, 진공 분위기 또는 불활성 가스 분위기에서 처리가 가능한 전자 빔 가열, 아크 가열(특히, 플라즈마 아크 가열이나 TIG(Tungsten Inert Gas) 용접 등의 이너트 가스를 사용하는 가열 방법), 레이저 가열 등이 적합하며, 어느 방법으로도 상기한 처리는 가능하다. 그 중에서도, 한번에 고에너지를 부여할 수 있는 전자 빔 가열 또는 플라즈마 아크 가열이 공업적으로는 적합하며, 이들 방법을 사용하면 된다.
실시예
이하, 실시예에 의해 본 발명을 더욱 상세하게 설명한다.
Figure 112017029842681-pct00001
Figure 112017029842681-pct00002
표 1 및 표 2에 나타내는 참고예, 실시예 및 비교예에 있어서, 티타늄 주조편은 전자 빔 용해에 의해, 직사각형 주형을 사용해서 제조된 것이다. 또한, 이후의 실시예 및 비교예에서는 특별히 지정하지 않는 경우에는, 직사각형 주형으로부터 제조한 주조 상태의 티타늄 슬래브로부터, 열연판을 제조한 경우에 대해서 기재하고 있다. 두께 200㎜×폭 1000㎜×길이 4500㎜의 티타늄 주조편으로부터 열간 압연에 의해 두께 4㎜의 열연판을 제조하였다. 티타늄의 품종은, 공업용 순티타늄 JIS1종, JIS2종, JIS3종, JIS4종을 사용하였다. 또한, β상 안정화 원소를 함유하는 소재로서는, 분말(입경 100㎛ 이하), 칩(한변이 2㎜인 정방형, 1㎜ 두께), 와이어(φ1㎜), 박(20㎛)의 어느 것을 사용하였다. 또한, β상 안정화 원소를 함유시키는 경우에는, 주조 상태의 티타늄 주조편(슬래브)의 주조 표면 상태의 면에 β상 안정화 원소를 함유하는 소재를 설치하거나 또는 살포하였다. 그 위에서 슬래브 표층의 가열을 실시하여, 전자 빔 및 플라즈마 아크에 의해 가열부를 주사시킴으로써, 압연면 전체면을 처리하고 있어, β상 안정화 원소가 포함되는 소재 및 압연면의 미용융부가 잔존하지 않도록 하였다. 게다가, 주조 상태의 티타늄 주조편은 비교적, 주조 표면이 양호한 것을 사용하고 있어, 표층의 용융 시에 주조 표면에 기인한 용융 잔여물이 발생하지 않도록 하고 있다. 또한, β상 안정화 원소가 슬래브 전체에 균일하게 첨가되도록, β상 안정화 원소를 함유하는 소재를, 티타늄 주조편의 압연면 전체에 균일하게 분산시켰다. 용융 재응고층의 깊이의 측정 방법은, 표층을 재용융 후에 응고시킨 티타늄 주조편을 일부 잘라내어, 연마 및 에칭한 것을, 광학 현미경으로 관찰하고, 미세 침상 조직(β상 안정화 원소를 첨가함으로써, 미세한 침상 조직이 되기 때문에, 판별 가능)이 되어 있는 층의 깊이를 측정했다(관찰 개소 중에서 가장 얕은 부분의 깊이를 용융 재응고층의 깊이로서 채용했다). 또한, 이때, 티타늄 주조편의 압연면의 임의의 10개소의 표층 1㎜ 이내로부터 분석 샘플을 채취하여, ICP 발광 분광 분석을 행하여, 10개소의 평균값을 취하였다. 또한, 비교로서, 티타늄 주조편의 표층을 재용융하기 전에 티타늄 주조편의 압연면의 임의의 3개소의 표층 20㎜ 이내로부터 분석 샘플을 채취하고, 마찬가지로 ICP 발광 분광 분석을 행하여, 3개소의 평균값을 취하였다. 이 2종류의 분석 결과에 대해서, 용융 재응고층 중의 깊이 1㎜까지의 범위에 있어서의 β상 안정화 원소의 농도의 평균값과, 모재 중의 β상 안정화 원소의 농도의 평균값의 차이를 조사하였다. 또한, 표면 흠의 발생 상황은, 열간 압연 후, 열연판을 숏 블라스트 및 산 세정한 후에, 티타늄재(열연판)의 표면을 눈으로 관찰하여, 평가하였다. 또한, 산 세정은 1회당 압연면의 편면을 약 50㎛ 정도(양면에서 약 100㎛) 용삭하고 있고, 산 세정을 1 내지 2회 통판 후, 열연판의 표면 성상을 평가하고 있다. 또한, 표층의 용융 처리를 실시하지 않은 비교예에서는 표층 1㎜ 이내로부터 분석 샘플을 채취하고, 용융 재응고층의 두께가 1㎜ 미만인 비교예에 있어서는 용융 재응고층 내에서 분석 샘플을 채취하였다.
먼저, β상 안정화 원소로서 저렴한 Fe, Ni, Cr을 포함하는 소재와 함께 표층을 용융한 티타늄 주조편에 대한 결과에 대해서 기재한다.
No.1, No.2의 참고예 및 비교예에서는, 표층의 용융 처리를 실시하지 않고, 열간 압연을 실시하고 있다. 용융 처리를 실시하고 있지 않으므로, 표층 1㎜까지의 β상 안정화 원소의 농도는 모재의 β상 안정화 원소의 농도와 같고, 그 차는 0.08mass% 미만이었다. No.1의 참고예는, 통상의 티타늄 주조편과 마찬가지로, 분괴 압연을 실시한 경우이다. 두께 200㎜로부터 100㎜까지 분괴 압연을 행하고, 그 후 재가열해서 4㎜까지 열간 압연을 실시하였다. 분괴 압연을 실시했으므로, 열간 압연 후의 표면 성상에 이상은 없었다. No.2의 비교예는, 분괴 압연을 실시하지 않은 경우이다. 분괴 압연도 실시하고 있지 않기 때문에, 산 세정 후의 열연판에는 조대한 표면 흠이 발생하고 있었다.
No.3의 비교예는, 전자 빔 가열에 의해, 압연면의 표층을 용융한 경우이며, 용융 시에 β상 안정화 원소를 사용하지 않은 경우이다. 용융 재응고층은 2㎜ 이상을 확보하기는 했지만, β상 안정화 원소를 첨가하고 있지 않기 때문에, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도는 같고, 그 농도차는 0.08mass% 미만이었다. 열간 압연 및 산 세정 후의 열연판 표면에는, 부분적으로 조대한 흠이 발생하고 있었다.
No.4, No.5의 비교예는, β상 안정화 원소를 포함하는 소재로서 Fe 분말을 사용해서, 전자 빔 가열에 의해, 압연면의 표층을 용융한 경우이다. No.4의 비교예는, 모재보다 용융 재응고층의 β상 안정화 원소 농도가 높고, 그 차가 0.08mass% 미만이고, 용융 재응고층의 깊이가 2㎜인 경우이다. Fe의 농도가 0.08mass%보다 낮았기 때문에, 산 세정 후의 열연판의 표면에는, 부분적으로 조대한 흠이 발생하고 있었다. No.5의 비교예는, 모재에 비해, 용융 재응고층 내의 β상 안정화 원소의 농도가 0.22mass% 높고, 최천부의 용융 재응고층의 깊이가 0.5㎜인 경우이다. 용융 재응고층의 깊이가 1㎜보다 얕았기 때문에, 산 세정 후의 열연판의 표면에는, 부분적으로 조대한 흠이 발생하고 있었다. No.4, No.5의 비교예는, No.2에 나타내는 비교예와 비교하면, 열연판의 표면 성상은 개선되고 있었지만, 약간 큰 표면 흠도 발생하고 있어, 품질은 불충분하였다.
No.6 내지 No.9, No.11 내지 No.16의 실시예, No.10의 비교예에서는, 슬래브 표층의 용융 방법으로서, 전자 빔 가열을 사용하고 있어, β상 안정화 원소를 포함하는 소재의 양과 형상을 변화시켜서, 열간 압연 시험을 행하였다.
또한, No.6 내지 No.9의 실시예, No.10의 비교예에서는, β상 안정화 원소를 포함하는 소재로서 분말을 사용하고 있다.
No.6의 실시예는, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 0.08mass%이고, 용융 재응고층의 깊이가 3㎜인 경우이다. 산 세정 후의 열연판에서는, 부분적으로 약간 조대한 표면 흠이 발생하고 있었지만, 허용 가능한 수준이며, No.4, No.5의 비교예와 비교하면, 매우 양호한 표면 성상이었다.
No.7의 실시예는, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 0.87mass%이고, 용융 재응고층의 깊이가 1㎜인 경우이다. No.8의 실시예는, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 1.50mass%이고, 용융 재응고층의 깊이가 5㎜인 경우이다. No.7, No.8의 실시예에서는, 산 세정 후의 표면 흠이 경미해서, 매우 양호한 표면 성상이 얻어졌다.
No.9의 실시예는, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 0.49mass%이고, 용융 재응고층의 깊이가 7㎜인 경우이다. 산 세정 후의 열연판의 표면 성상은 양호했지만, 용융 재응고층의 깊이가 7㎜로 깊기 때문에, Fe 농화층의 제거를 위해 통상보다 산 세정의 횟수를 증가시키고 있어, No.8의 실시예보다 수율이 저하되었다.
No.10의 비교예는, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 1.67mass%이고, 용융 재응고층의 깊이가 4㎜인 경우이다. 산 세정 후의 열연판 표면에서는 부분적으로 조대한 흠이 발생하고 있고, 또한 표면 균열도 발생하고 있어, 품질은 불충분하였다.
No.11 내지 No.16의 실시예에서는, 슬래브 표층의 용융 재응고층의 깊이를 3㎜가 되도록, 표층의 가열을 실시하였다. No.11, No.12의 실시예에서는, β상 안정화 원소를 포함하는 소재로서 칩을, No.13, No.14의 실시예에서는 와이어를, No.15, No.16의 실시예에서는 박을 사용하고 있다. No.11 내지 No.16의 실시예에서는, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 0.08mass% 이상으로 되어 있고, 열연판의 표면 흠은 허용 가능한 수준의 것 및 경미한 것으로 되어 있었다.
이상의 결과에서, β상 안정화 원소를 포함하는 소재의 형상으로서, 분말, 칩, 와이어, 및 박 중 어느 것을 사용해도, 열연판의 표면 성상은 양호한 결과가 얻어졌다.
No.17, No.18의 실시예에서는, β상 안정화 원소를 포함하는 소재로서 분말을 사용하고 있고, 슬래브 표층의 용융 방법을 변화시켜서, 열간 압연 시험을 행하였다. No.17, No.18의 실시예에서는, 슬래브 표층의 용융 방법으로서, 플라즈마 아크 가열을 사용하고 있고, 용융 재응고층의 깊이는 4㎜였다. No.17, No.18의 실시예에서는, 산 세정 후의 열연판의 표면 흠은 경미해서, 매우 양호하였다.
이상의 결과에서, 슬래브 표층의 용융 방법으로서, 전자 빔 가열 및 플라즈마 아크 가열의 어느 쪽을 사용해도, 열연판의 표면 성상은 양호한 결과가 얻어졌다.
이어서, Fe 외에, Cr이나 Ni를 포함하는 스테인리스강을 사용한 경우의 결과에 대해서 기재한다.
No.19 내지 No.22의 비교예 및 실시예는, 스테인리스강으로서 SUS304의 분말을 사용하고 있고, 전자 빔 가열에 의해 표층을 용융함으로써, 용융 재응고층의 깊이를 2㎜로 한 경우이다. No.19의 비교예는, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 0.08mass% 미만으로 되어 있어, 열연판의 표면 흠은 조대한 것이 발생하고 있었다. No.20 내지 No.22의 실시예에서는, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 0.08mass% 이상으로 되어 있어, 열연판의 표면 흠은 허용 가능한 수준의 것 및 경미한 것으로 되어 있었다.
No.23 내지 No.26의 비교예 및 실시예는, 스테인리스강으로서 SUS430의 분말을 사용하고 있고, 전자 빔 가열에 의해 표층을 용융함으로써, 용융 재응고층의 깊이를 2㎜로 한 경우이다. No.23의 비교예에서는, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 0.08mass% 미만으로 되어 있어, 열연판의 표면 흠은 조대한 것이 발생하고 있었다. No.24 내지 No.26의 실시예에서는, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 0.08mass% 이상으로 되어 있어, 열연판의 표면 흠은 허용 가능한 수준의 것 및 경미한 것으로 되어 있었다.
이어서, No.27 내지 No.32의 비교예 및 실시예는, Cr 또는 Ni를 단독으로 첨가한 경우의 결과이다. No.27 내지 No.29의 비교예 및 실시예는, Cr칩을 사용하고 있고, 전자 빔 가열에 의해 표층을 용융함으로써, 용융 재응고층의 깊이를 3㎜로 한 경우이다. No.27 및 No.28의 실시예에서는, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 0.08mass% 이상, 1.5mass% 이하로 되어 있어, 열연판의 표면의 흠은, 부분적으로 약간 조대한 경우도 있었지만, 기본적으로는 양호하였다. No.29의 비교예에서는, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 1.50mass% 이상으로 되어 있어, 산 세정 후의 열연판 표면에서는 부분적으로 조대한 흠이 발생하고 있고, 또한 표면 균열도 산견되어, No.27 및 No.28의 실시예와 비교하면 표면 성상은 악화되고 있었다.
No.30 내지 No.32의 비교예 및 실시예는, Ni칩을 사용하고 있고, 전자 빔 가열에 의해 표층을 용융함으로써, 용융 재응고층의 깊이를 3㎜로 한 경우이다. No.30의 비교예에서는, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 0.08mass% 미만으로 되어 있어, 열연판의 표면 흠은 부분적으로 조대한 흠이 발생하고 있었다. No.31 내지 No.32의 실시예에서는, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 0.08 내지 1.50mass%로의 범위로 되어 있어, 모두 열연판의 표면 흠은 허용 가능한 수준에 들어 있었다.
No.33 내지 No.37의 실시예 및 비교예는, 전자 빔 용해법으로 얻어진 직경 170㎜×길이 12m의 원기둥 형상 잉곳으로부터, 열간 압연에 의해, 직경 13㎜의 선재를 제조한 경우이다. 표면 흠의 평가 방법은, 열연판과 마찬가지로 산 세정 후의 선재의 표층을 눈으로 관찰함으로써 실시하였다.
No.33의 참고예에서는, 표층의 용융 처리를 실시하지 않고, 열간 압연을 실시하고 있다. 용융 처리를 실시하고 있지 않으므로, 표층 1㎜까지의 β상 안정화 원소 농도는 모재 Fe 농도와 같다. 통상의 티타늄 주조편과 마찬가지로, 분괴 압연을 실시한 경우이고, 분괴 압연을 실시했으므로, 열간 압연 후의 표면 성상에 이상은 없었다.
No.34 및 No.35의 비교예 및 실시예는, β상 안정화 원소를 포함하는 소재로서 Fe 분말을 사용한 경우이다. No.34의 비교예에서는, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 0.08mass% 미만으로 되어 있어, 열연판의 표면 흠은 부분적으로 조대한 흠이 발생하고 있었다. No.35의 실시예에서는, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 0.08 내지 1.50mass%의 범위이며, 양호한 표면 성상이 얻어졌다.
No.36의 실시예는, β상 안정화 원소를 포함하는 소재로서 Cr 칩을 사용한 경우이다. No.36의 실시예에서는, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 0.08 내지 1.50mass%의 범위이며, 양호한 표면 성상이 얻어졌다.
No.37의 실시예는, β상 안정화 원소를 포함하는 소재로서 Ni칩을 사용한 경우이다. No.37의 실시예에서도, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 0.08 내지 1.50mass%의 범위이며, No.35 및 No.36의 실시예 마찬가지로, 양호한 표면 성상이 얻어졌다.
No.38 내지 No.66의 비교예 및 실시예는, 전자 빔으로 용융 깊이 4㎜가 되는 조건으로 티타늄재의 표층을 용융한 경우이다. 다양한 β상 안정화 원소에 대해서 첨가한 경우에 대해서 기재하고 있다.
No.38 내지 No.42의 비교예 및 실시예는, β상 안정화 원소를 함유하는 소재로서, Ti-Mo 합금의 칩을 사용한 경우이다. No.38의 비교예에서는, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 0.08mass% 미만으로 되어 있어, 열연판의 표면에는 부분적으로 조대한 흠이 발생하고 있었다. No.39 내지 No.41의 실시예에서는, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 0.08 내지 1.50mass%의 범위로 되어 있고, 어느 열연판의 표면 상태도 No.38의 비교예와 비교하면 양호하였다. No.42의 비교예에서는, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 1.50mass% 초과로 되어 있어, 산 세정 후의 열연판 표면에서는 부분적으로 조대한 흠이 발생하고 있었다. 또한 표면 균열도 산견되고 있어, 표면 성상은 나빴다.
No.43 내지 No.45의 비교예 및 실시예는, β상 안정화 원소를 함유하는 소재로서 V칩을 사용한 경우이다. No.43의 비교예에서는, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 0.08mass% 미만으로 되어 있어, 열연판의 표면 성상은 나쁘고, 부분적으로 조대한 흠이 발생하였다. No.44 및 No.45의 실시예에서는, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 0.08 내지 1.50mass%의 범위이며, 어느 열연판의 표면 상태도 허용 가능한 수준이었다.
No.46 내지 No.48의 비교예 및 실시예는, β상 안정화 원소를 함유하는 소재로서 Mn칩을 사용한 경우이다. No.46의 비교예는, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 0.08mass% 미만인 경우이며, 열연판의 표면에는 부분적으로 조대한 흠이 발생하고 있었다. No.47 및 No.48의 실시예에서는, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 0.08 내지 1.50mass%의 범위이며, No.46의 비교예와 비교하면 표면 상태는 허용 가능 범위였다.
No.49 내지 No.51의 비교예 및 실시예는, β상 안정화 원소를 함유하는 소재로서 Fe-Nb 합금의 칩을 사용한 경우이다. No.49 및 No.50의 실시예에서는, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 0.08 내지 1.50mass%의 범위이며, 표면 상태는 양호하며, 흠은 경미하였다. No.51의 비교예에서는, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 1.50mass% 초과로 되어 있어, 산 세정 후의 열연판 표면에서는 부분적으로 조대한 흠이 발생하고 있었다.
No.52 내지 No.54의 비교예 및 실시예는, β상 안정화 원소를 함유하는 소재로서 Co칩을 사용한 경우이다. No.52의 비교예에서는, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 0.08mass% 미만이고, 열연판의 표면에는 부분적으로 조대한 흠이 발생하고 있었다. No.53 및 No.54의 실시예에서는, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 0.08 내지 1.50mass%의 범위이며, No.52의 비교예와 비교하면 표면 상태는 양호하였다.
No.55 내지 No.57의 비교예 및 실시예는, β상 안정화 원소를 함유하는 소재로서 Cu 칩을 사용한 경우이다. No.55의 비교예는, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 0.08mass% 미만의 경우이며, 산 세정 후의 열연판 표면에는 부분적으로 조대한 흠이 발생하고 있었다. No.56 및 No.57의 실시예에서는, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 0.08 내지 1.50mass%의 범위이며, 매우 양호한 표면 성상이었다.
No.58 내지 No.60의 비교예 및 실시예는, β상 안정화 원소를 포함하는 소재로서, α+β 합금인 Ti-6Al-4V(6-4V칩)의 스크랩을 분쇄한 티타늄 합금 칩을 첨가한 경우이다.
No.58의 비교예는, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 0.08mass% 미만인 경우이며, 산 세정 후의 열연판 표면에는 부분적으로 조대한 흠이 발생하고 있었지만, No.59 및 No.60의 실시예에서는, α상 안정화 원소인 Al이 첨가되어 있기는 하지만, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 0.08 내지 1.50mass%의 범위이며, 표면 흠은 합격 수준이었다.
No.61 내지 No.63의 비교예 및 실시예는, β상 안정화 원소를 포함하는 소재로서, α+β 합금인 Ti-15V-3Cr-3Sn-3Al의 스크랩(15-3-3-3칩)을 분쇄한 티타늄 합금 칩을 첨가한 경우이다.
No.61의 비교예는, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 0.08mass% 미만인 경우이며, 열연판 표면에는 부분적으로 조대한 흠이 발생하고 있었다. No.62 및 No.63의 실시예에서는, α상 안정화 원소인 Al이나 중성 원소인 Sn이 첨가되어 있고, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 0.08 내지 1.50mass%의 범위이며, 각각의 열연판의 표면 흠은 부분적으로 약간 조대한 흠이 보이는 것과, 경미한 것이며, 이들 조건으로도 열연판 표면 흠 억제 효과를 확인할 수 있었다.
No.64 내지 No.68의 비교예 및 실시예는, 전자 빔으로 용융 깊이 3㎜가 되는 조건으로 순티타늄 및 티타늄 합금 주조편의 표층을 Fe칩과 함께 용융한 경우이다.
No.64 내지 No.66의 실시예는 티타늄재로서 순티타늄 JIS3종의 티타늄 슬래브를 사용한 경우이다.
No.64의 비교예는, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 0.08mass% 미만인 경우이며, 열연판 표면에는 부분적으로 조대한 흠이 발생하고 있었다. No.65 및 No.66의 실시예에서는, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 0.08 내지 1.50mass%의 범위이며, 각각의 열연판의 표면 흠은 경미한 것이었다.
No.67 내지 No.68의 실시예는 티타늄재로서 순티타늄 JIS4종의 티타늄 슬래브를 사용한 경우이다.
No.67의 비교예는, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 0.08mass% 미만인 경우이며, 산 세정 후의 열연판에서는 부분적으로 조대한 표면 흠이 발생하고 있었다. No.68의 실시예에서는, 모재와 용융 재응고층의 β상 안정화 원소의 농도차가 0.08 내지 1.50mass%의 범위이며, 열연판 표면은 양호하였다.

Claims (6)

  1. 모재가 공업용 순티타늄으로 이루어지는 열간 압연용 티타늄 주조편이며,
    상기 공업용 순티타늄은, 질량%로, C: 0.1% 이하, H: 0.015% 이하, O: 0.4% 이하, N: 0.07% 이하, Fe: 0.5% 이하, 잔부 Ti 및 불가피 불순물로 이루어지고,
    압연면이 되는 표면에, 1종 또는 2종류 이상의 β상 안정화 원소를 함유하는 층을 깊이 1㎜ 이상의 범위에 갖고,
    깊이 1㎜까지의 범위에 있어서의 β상 안정화 원소의 농도의 평균값이, 모재 중의 β상 안정화 원소의 농도에 비교해서, 질량%로, 0.08mass% 이상, 1.50mass% 이하 높은, 열간 압연용 티타늄 주조편.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 β상 안정화 원소가, Fe, Ni, Cr의 1종 또는 2종 이상인, 열간 압연용 티타늄 주조편.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 β상 안정화 원소를 함유하는 층에, 상기 β상 안정화 원소와 함께, α상 안정화 원소 또는 중성 원소를 1종 또는 2종 이상 함유하는, 열간 압연용 티타늄 주조편.
  4. 모재가 공업용 순티타늄으로 이루어지는 열간 압연용 티타늄 주조편의 제조 방법이며,
    상기 공업용 순티타늄은, 질량%로, C: 0.1% 이하, H: 0.015% 이하, O: 0.4% 이하, N: 0.07% 이하, Fe: 0.5% 이하, 잔부 Ti 및 불가피 불순물로 이루어지고,
    상기 주조편의 압연면이 되는 표면을, β상 안정화 원소를 함유하는 소재와 함께 용융시킨 후, 응고시키고, 깊이 1㎜까지의 범위에 있어서의 β상 안정화 원소의 농도의 평균값을, 모재 중의 β상 안정화 원소의 농도에 비교해서, 질량%로, 0.08mass% 이상, 1.50mass% 이하 높게 하는, 열간 압연용 티타늄 주조편의 제조 방법.
  5. 제4항에 있어서,
    상기 β상 안정화 원소를 함유하는 소재가, 분말, 칩, 와이어, 박 중 어느 것의 형태인, 열간 압연용 티타늄 주조편의 제조 방법.
  6. 제4항에 있어서,
    상기 용융은, 전자 빔 가열 또는 플라스마 가열에 의해 행해지는, 열간 압연용 티타늄 주조편의 제조 방법.
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101953487B1 (ko) * 2014-09-30 2019-02-28 신닛테츠스미킨 카부시키카이샤 표면 결함이 발생하기 어려운 열간 압연용 티타늄 주조편 및 그 제조 방법
CN111278581B (zh) * 2017-10-26 2021-10-01 日本制铁株式会社 钛热轧板的制造方法
CN111663134A (zh) * 2019-03-05 2020-09-15 中国科学院金属研究所 金属粉末固态沉积-轧制生产钛钢复合板的方法
CN114540811A (zh) * 2022-02-28 2022-05-27 河北恒韧增材制造有限公司 一种微束等离子熔敷制备热轧功能板、辊的工艺方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004115906A (ja) 2002-09-20 2004-04-15 Ichiro Kawakatsu ＴｉまたはＴｉ合金基体に対するＡｌ−Ｓｉ合金の被覆法
JP2007084855A (ja) 2005-09-20 2007-04-05 Yamaha Motor Co Ltd 黒色表面を有するチタン部材およびその製造方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61231151A (ja) * 1985-04-08 1986-10-15 Kobe Steel Ltd チタン又はチタン合金の表面硬化処理方法
JPS6256561A (ja) 1985-09-06 1987-03-12 Honda Motor Co Ltd ＴｉまたはＴｉ合金の表面硬化方法
JPH0776431B2 (ja) * 1987-12-11 1995-08-16 住友金属工業株式会社 チタン製品の表面硬化方法
JPH05148598A (ja) * 1991-02-20 1993-06-15 Mitsubishi Materials Corp チタン又はチタン合金からなる基材の表面硬化法および表面硬化部材
JPH04272147A (ja) * 1991-02-25 1992-09-28 Sumitomo Metal Ind Ltd チタンの製造方法
JP3866792B2 (ja) * 1996-05-30 2007-01-10 福島製鋼株式会社 チタン・チタン合金鋳造用鋳型材
US6755239B2 (en) * 2001-06-11 2004-06-29 Santoku America, Inc. Centrifugal casting of titanium alloys with improved surface quality, structural integrity and mechanical properties in isotropic graphite molds under vacuum
JP4414983B2 (ja) 2006-06-15 2010-02-17 新日本製鐵株式会社 チタン材の製造方法および熱間圧延用素材
UA105035C2 (uk) 2009-02-09 2014-04-10 Ніппон Стіл Корпорейшн Титанова плоска заготовка для гарячого прокатування, спосіб її отримання та спосіб її прокатування
JP2016128171A (ja) 2013-04-01 2016-07-14 新日鐵住金株式会社 表面疵の発生し難いチタン熱間圧延用スラブおよびその製造方法
UA114669C2 (uk) * 2013-04-01 2017-07-10 Ніппон Стіл Енд Сумітомо Метал Корпорейшн Титановий виливок для гарячої прокатки і спосіб його виготовлення
JP2014233753A (ja) * 2013-06-05 2014-12-15 新日鐵住金株式会社 分塊工程や精整工程を省略しても熱間圧延後の表面性状に優れた工業用純チタンインゴットおよびその製造方法
WO2016051502A1 (ja) * 2014-09-30 2016-04-07 新日鐵住金株式会社 熱間圧延用チタン鋳片およびその製造方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004115906A (ja) 2002-09-20 2004-04-15 Ichiro Kawakatsu ＴｉまたはＴｉ合金基体に対するＡｌ−Ｓｉ合金の被覆法
JP2007084855A (ja) 2005-09-20 2007-04-05 Yamaha Motor Co Ltd 黒色表面を有するチタン部材およびその製造方法

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