KR101871006B1 - 감압 건조 장치 및 감압 건조 방법 - Google Patents

감압 건조 장치 및 감압 건조 방법 Download PDF

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Abstract

용제 성분의 액적화에 의한 기판의 잔사 불량을 일으키기 어려운 감압 건조 장치를 제공한다.
감압 건조 장치(1)에서는, 감압 건조 처리 후, 기판 G의 중심 위치에서 보아 수평 방향 일방측(+Y측)의 공간 영역 내에 개구한 급기구(일방측 급기구)를 통해서, 챔버(10) 내로의 질소의 급기가 행해진다. 이 때문에, 급기 직후에서는, 급기구가 위치하는 +Y측의 공간 영역에서 양압의 분위기가 형성된다. 그 결과, 급기에 의해 챔버(10) 내에 생기는 기류 AF2 중, 기판 G의 제1 주면 S1측을 흐르는 기류는, +Y측으로부터 -Y측을 향하는 일방향의 기류가 된다. 이것에 의해, 복압 공정에서 챔버(10) 내에 발생하는 기류 AF2들이 충돌하여 순간적으로 압력이 높아지는 개소인 「압력 집중 영역 PD」가, 기판 G의 제1 주면 S1측에 생길 가능성이 저하된다. 즉, 압력 집중 영역 PD에서 생기는 용제 성분의 액적이 기판 G의 제1 주면 S1측에 부착되는, 잔사 불량의 리스크가 저하된다.

Description

감압 건조 장치 및 감압 건조 방법{METHOD AND APPARATUS FOR DRYING UNDER REDUCED PRESSURE}
본 발명은, 피처리 기판 상에 형성된 도포액에 감압 상태에서 건조 처리를 실시하는 감압 건조 장치 및 감압 건조 방법에 관한 것이다.
종래, 기판 처리 장치(예를 들면, 액정 패널 제조 장치 등)에서는, 그 표면에 도포액이 도포된 기판에 대해, 감압 건조 처리를 실시하는 감압 건조 장치가 알려져 있다. 예를 들면, 포토리소그래피 공정에 있어서는, 유리 기판 등의 피처리 기판 상에 도포한 레지스트액의 도포막을 프리베이킹에 앞서 적당히 건조시키기 위해 감압 건조 장치가 이용되고 있다.
종래의 대표적인 감압 건조 장치는, 예를 들어 특허 문헌 1에 기재되는 바와 같이, 개폐 가능한 챔버 중의 적당한 높이로 설치된 기판 지지 부재 상에 기판을 수평으로 올려 놓고 나서, 챔버를 닫고 감압 건조 처리를 행한다.
이런 종류의 감압 건조 처리에서는, 우선, 챔버 내에 설치된 배기구를 통해서 밖의 진공 펌프에 의해 챔버 내의 진공 배기를 행한다. 이 진공 배기에 의해, 챔버 내의 압력이 그때까지의 대기압 상태로부터 감압 상태로 바뀌어, 이 감압 상태 하에서 기판 상의 레지스트 도포막으로부터 용제 성분이 증발된다. 그리고, 챔버 내의 압력이 일정 압력까지 감압된 시점에서, 챔버 내의 감압을 종료시킨다. 이 후, 챔버 내에 설치된 공급구로부터 불활성 가스(예를 들어 질소 가스) 혹은 에어를 분출 또는 확산 방출시켜, 챔버 내의 압력을 대기압으로 되돌린다(복압(復壓)시킨다). 챔버 내가 복압되면, 상부 챔버를 들어 올리고 챔버를 열어, 기판을 반출한다.
일본국 특허공개 2011-64400호 공보
이러한 감압 건조 처리에서는, 상기 복압의 공정에 있어서 챔버 내의 압력이 급격하게 상승됨에 따라, 챔버 내에 부유하는 용제 성분이 액적화되는 경우가 있다. 그리고, 액적화된 용제 성분이 기판의 표면 상에 부착되면, 당해 기판에 대해서 잔사에 의한 불량을 일으켜, 수율의 저하로 연결된다.
용제 성분이 액적화되는 것을 방지하기 위한 구성으로서, 이런 종류의 감압 건조 장치에는 챔버 내의 압력을 계측하는 압력 센서가 설치되는 것이 일반적이다. 그리고, 챔버 내의 압력이 일정 압력(용제 성분이 충분히 건조되는 압력)까지 감압되고 나서 복압 공정이 개시되도록 시퀀스 제어를 행함으로써, 용제 성분이 액적화될 가능성을 저하시킬 수 있다. 그러나, 최근의 기판의 대형화, 및 그에 수반하는 챔버의 대형화에 의해, 챔버 내에서도 부분마다 생기는 압력의 차가 커지고 있어, 상기 압력 센서에 의해 챔버 내 전체의 압력 상태(용제 성분이 건조되어 있는지 여부)를 충분히 파악하는 것은 곤란했었다.
또, 감압 건조 장치의 사용 양태에 따라서는, 감압 공정에 있어서 상기 일정 압력까지 감압하지 않고 복압 공정을 개시한다는 경우도 있다. 이 경우, 만일 압력 센서에 의해 챔버 내의 압력 상태를 완전히 파악 가능했다고 해도, 감압 공정에 있어서 챔버 내의 용제 성분이 완전히 제거되지 않은 상태에서 복압 공정을 실행하여, 용제 성분이 액적화될 가능성이 있다.
이러한 「용제 성분의 액적화에 의한 잔사 불량」과 같은 과제를 해결하기 위한 수단으로서는, 복압 공정에 있어서 약한 급기압으로 완만하게 챔버 내를 복압함으로써, 챔버 내의 급격한 압력 상승을 방지하는 수단이 알려져 있다. 그러나, 이 경우, 「감압 건조 처리에 걸리는 처리 시간이 증대한다」라는 새로운 과제가 생긴다.
이 발명은 상기 과제를 해결하기 위해 이루어진 것으로, 용제 성분의 액적화에 의한 기판의 잔사 불량의 가능성을 저하시킴과 함께, 감압 건조 처리에 걸리는 처리 시간을 증대시키지 않는 감압 건조 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 과제를 해결하기 위해, 청구항 1에 기재된 발명은, 제1 주면과 제2 주면을 가짐과 함께 용제를 포함하는 도포액이 상기 제1 주면 상에 도포된 기판에 감압 건조 처리를 행하는 감압 건조 장치에 있어서, 상기 기판을 수용하는 챔버와, 상기 챔버 내에서 상기 기판을 수평 자세로 지지하는 지지부와, 상기 챔버 내에 개구한 배기구를 통해서 상기 챔버 내를 배기하는 배기부와, 상기 챔버 내에 개구한 급기구를 통해서 상기 챔버 내로 급기하는 급기부와, 상기 배기부에 의한 상기 배기 및 상기 급기부에 의한 상기 급기를 제어하는 제어부를 구비하고, 상기 급기구에는, 소정의 수평 방향에 대해서, 상기 지지부에 의해 지지된 상기 기판의 중심에서 보아 일방측의 제1 공간 영역 내에 개구한 적어도 1개의 일방측 급기구가 포함되어 있으며, 상기 제어부는, 상기 챔버 내에서 기판의 감압 건조가 행해진 후, 상기 급기부를 제어하여 상기 챔버 내를 복압할 때에, 상기 일방측 급기구를 이용하여 상기 챔버 내로 급기시킴으로써, 상기 수평 방향에 대해서, 상기 제1 공간 영역으로부터 상기 중심을 넘어 타방측의 제2 공간 영역 내로 향하는 일방향 기류가, 적어도 상기 기판의 상기 제1 주면 상에 형성되는 것을 특징으로 한다.
청구항 2에 기재된 발명은, 청구항 1에 기재된 감압 건조 장치이며, 상기 챔버의 내부 공간에 관해서, 상기 복압 시에 있어서의 상기 기판의 높이로 규정한 가상 수평면을 경계로 하여, 상기 제1 주면측의 제1 부분 공간과, 상기 제2 주면측의 제2 부분 공간을 정의했을 때, 상기 일방측 급기구가, 상기 제2 부분 공간에 설치됨과 함께, 상기 제1 부분 공간을 향해 개구되어 있는 것을 특징으로 한다.
청구항 3에 기재된 발명은, 청구항 2에 기재된 감압 건조 장치이며, 상기 배기구가 제2 부분 공간에 설치되고, 상기 일방측 급기구는, 수평면에서 보았을 때에 상기 배기구보다 상기 챔버의 측벽측에서 개구되어 있으며, 상기 감압 건조를 종료시키고 상기 복압으로 이행할 때에, 상기 배기구 위치에서의 배기압이 소실되기 전에 상기 일방측 급기구의 위치에서의 급기압이 상승하는 타이밍 관계가 되도록, 상기 제어부가 상기 급기부 및 상기 배기부의 동작 시퀀스를 제어하는 것을 특징으로 한다.
청구항 4에 기재된 발명은, 청구항 2에 기재된 감압 건조 장치이며, 상기 일방측 급기구가, 수평면에서 보았을 때에 상기 복압 시에 있어서의 상기 기판의 존재 위치보다 상기 챔버의 측벽측에서 개구되어 있으며, 또한, 연직축으로부터 상기 기판측으로 경사진 방향으로 개구되어 있는 것을 특징으로 한다.
청구항 5에 기재된 발명은, 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 기재된 감압 건조 장치이며, 상기 일방측 급기구는, 상기 수평 방향에 직교하는 방향을 따라 배열된 복수의 스폿형상의 개구가 되어 있는 것을 특징으로 한다.
청구항 6에 기재된 발명은, 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 기재된 감압 건조 장치이며, 상기 일방측 급기구는, 상기 수평 방향에 직교하는 방향을 따라 연장된 슬릿형상의 개구가 되어 있는 것을 특징으로 한다.
청구항 7에 기재된 발명은, 제1 주면과 제2 주면을 가짐과 함께 용제를 포함하는 도포액이 상기 제1 주면 상에 도포된 기판에 감압 건조 처리를 행하는 감압 건조 방법에 있어서, 수평 자세로 상기 기판을 수용한 챔버 내를 감압하는 감압 공정과, 상기 감압 공정 후에, 상기 챔버 내를 복압하는 복압 공정을 구비하고, 상기 복압 공정에 있어서는, 상기 챔버 내에 있어서, 소정의 수평 방향에 대해서 상기 기판의 중심에서 보아 일방측의 제1 공간 영역으로부터 상기 중심을 넘어 타방측의 제2 공간 영역 내로 향하는 일방향 기류를, 적어도 상기 기판의 상기 제1 주면 상에 형성시키는 것을 특징으로 한다.
청구항 1 내지 청구항 7에 기재된 발명에 의하면, 감압 건조 후의 챔버 내의 복압 시에, 수평 방향에 관해서 기판의 일방측으로부터 급기된 기류가 일방향 기류가 되고, 도포액이 도포되어 있는 기판의 제1 주면의 중심을 넘어 타방측으로 향한다. 따라서, 증발하고 있던 용제 성분은 제1 주면 상을 타방측을 향해 효율적으로 흘러가게 되어, 기판의 제1 주면 상에서 액적화되기 어렵다. 이 때문에, 용제 성분의 액적화에 의한 기판의 잔사 불량의 가능성을 저하시키는 것이 가능하다. 또, 복압 공정에 필요로 하는 시간을 연장할 필요가 없기 때문에, 감압 건조 처리에 걸리는 처리 시간을 증대시키지 않는다.
특히, 청구항 2에 기재된 발명에서는, 복압 공정에서의 급기 시에, 직접적으로 기판의 제1 주면측에 기체가 뿜어 내어지지 않는 급기 방향으로 되어 있다. 이 때문에, 기판의 제1 주면 상에 복압 시의 기류의 영향에 의한 흐름 편차가 생기지 않는다.
또, 급기구(일방측 급기구)가 기판의 제1 주면측의 제1 부분 공간을 향해 개구되어 있기 때문에, 기판의 제1 주면측을 흐르는 상기 일방향의 기류가, 기판의 제2 주면측을 흐르는 기류에 비해 상대적으로 빨라진다. 이 결과, 압력 집중 영역(기판의 양 주면 상을 각각 흐르는 2개의 기류 성분의 충돌 개소)이 기판의 제1 주면측에 발생할 가능성을 더 저하시킬 수 있어, 잔사 불량의 리스크가 더 저하된다.
특히 청구항 3에 기재된 발명에서는, 감압 공정으로부터 복압 공정으로의 이행 시에, 일방측 급기구의 부근에서 부유하는 용제의 증기를 배기구로부터 효율적으로 배기할 수 있도록, 배기구와 일방측 급기구의 상대적 위치 관계, 및, 급기 및 배기의 상대적 타이밍 관계를 규정하고 있다. 이 때문에, 용제 성분의 액적화에 의한 기판의 잔사 불량의 가능성을 더 저하시키는 것이 가능하다.
특히 청구항 4에 기재된 발명에서는, 급기구(일방측 급기구)의 개구 방향을 기울여 둠으로써, 기판의 제1 주면 상을 향해 효율적으로 급기할 수 있도록 되어 있어, 그 결과, 기판의 제1 주면 상으로부터 도포액의 용제 증기를 흘러가게 하는 작용이 강하여, 잔사 불량의 리스크가 더 저하된다.
도 1은 제1 실시 형태에 관련된 감압 건조 장치(1)와 도포 장치(9)의 위치 관계를 나타내는 배치도이다.
도 2는 제1 실시 형태에 관련된 도포 장치(9)의 구성을 나타내는 사시도이다.
도 3은 제1 실시 형태에 관련된 감압 건조 장치(1)의 구성을 나타내는 종단면도이다.
도 4는 제1 실시 형태에 관련된 감압 건조 장치(1)의 구성을 나타내는 상면도이다.
도 5는 제1 실시 형태에 관련된 감압 건조 장치(1)의, 특히 배기부(30)에 관련된 구성을 나타내는 상면도이다.
도 6은 제1 실시 형태에 관련된 감압 건조 장치(1)의, 특히 급기부(40)에 관련된 구성을 나타내는 상면도이다.
도 7은 제1 실시 형태에 관련된 감압 건조 장치(1)의, 특히 처리 공간 L의 구성을 나타내는 개념도이다.
도 8은 제1 실시 형태에 관련된 제어부(8)의 전기적인 구성을 나타내는 블럭도이다.
도 9는 제1 실시 형태에 관련된 감압 건조 장치(1)의 처리 동작의 일례를 나타내는 동작 플로우도이다.
도 10은 제1 실시 형태에 관련된 감압 공정과 복압 공정에 있어서의, 배기부(30)와 급기부(40)의 동작 타이밍을 나타내는 타이밍 차트이다.
도 11은 제1 실시 형태에 관련된 감압 건조 장치(1)에 있어서, 배기의 영향에 의해 챔버(10) 내에 발생하는 기류 AF1을 개념적으로 나타내는 측면도이다.
도 12는 제1 실시 형태에 관련된 감압 건조 장치(1)에 있어서, 배기의 영향에 의해 챔버(10) 내에 발생하는 기류 AF1을 개념적으로 나타내는 상면도이다.
도 13은 제1 실시 형태에 관련된 감압 건조 장치(1)에 있어서, 급기의 영향에 의해 챔버(10) 내에 발생하는 기류 AF2를 개념적으로 나타내는 측면도이다.
도 14는 제1 실시 형태에 관련된 감압 건조 장치(1)에 있어서, 급기의 영향에 의해 챔버(10) 내에 발생하는 기류 AF2를 개념적으로 나타내는 상면도이다.
도 15는 제2 실시 형태에 관련된 감압 건조 장치(1A)의 구성을 나타내는 종단면도이다.
도 16은 제2 실시 형태에 관련된 감압 건조 장치(1A)의, 특히 급기 부재(46)에 관련된 구성을 나타내는 모식도이다.
도 17은 제2 실시 형태에 관련된 감압 건조 장치(1A)에 있어서, 급기의 영향에 의해 챔버(10) 내에 발생하는 기류 AF2를 개념적으로 나타내는 측면도이다.
도 18은 제2 실시 형태에 관련된 감압 건조 장치(1A)에 있어서, 급기의 영향에 의해 챔버(10) 내에 발생하는 기류 AF2를 개념적으로 나타내는 상면도이다.
도 19는 제2 실시 형태의 변형예에 관련된 급기 부재(46B)의 구성을 나타내는 모식도이다.
＜1. 제1 실시 형태＞
＜1.1 감압 건조 장치(1) 및 주변 장치의 구성＞
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 제1 실시 형태를 설명한다.
본 발명은, 다양한 기판 처리 플로우에 있어서 적용 가능한 감압 건조 장치(감압 건조 방법)이지만, 이하의 설명에서는, 레지스트 도포 처리가 실시된 액정 표시 장치용의 유리 기판(이하, 「기판 G」라고 부른다)에 사용되는 감압 건조 장치(감압 건조 방법)에 대해서 설명한다.
도 1은, 이 발명의 제1 실시 형태에 있어서의 감압 건조 장치(1)와 도포 장치(9)의 위치 관계의 일례를 나타내는 배치도이다. 도 1 이후의 각 도에는, 수평면을 규정하는 직교 2방향으로서 X방향 및 Y방향이 규정되며, 또한, 이들 XY방향에 직교하는 연직 방향으로서 Z방향이 규정되어 있다.
도 2는, 제1 실시 형태에 있어서의 도포 장치(9)의 구성을 나타내는 사시도이다. 또, 이하의 설명에서는, 기판 G의 표면측(레지스트액이 도포되는 측)의 주면을 「제1 주면 S1」이라고 부르며, 기판 G의 이면측(레지스트액이 도포되지 않는 측)의 주면을 「제2 주면 S2」라고 부른다.
도포 장치(9)는, 기판 G의 제1 주면 S1에 레지스트액을 도포하는 장치이며, 기판 G를 수평 자세로 흡착 유지 가능한 유지면을 가지는 스테이지(90)와, X방향으로 연장되는 장척형의 슬릿 노즐(91)과, 스테이지(90) 상을 X방향으로 횡단하여 슬릿 노즐(91)을 지지하는 브릿지 구조의 노즐 지지체(92)와, Y방향으로 연장되는 한쌍의 가이드 레일(93)을 따라 슬릿 노즐(91)(노즐 지지체(92))을 수평 이동시키는 수평 이동 기구(94)(예를 들면, 전동 리니어 모터)를 가진다.
도포 처리를 행할 때는, 스테이지(90) 상에 제1 주면 S1이 상방향이 되도록 기판 G를 수평으로 유지한 상태로, 레지스트액 공급부(도시하지 않음)로부터 레지스트액을 소정의 유량으로 슬릿 노즐(91)에 급송함과 함께, 수평 이동 기구(94)에 의해 슬릿 노즐(91)(노즐 지지체(92))을 일정 속도로 Y방향을 따라 이동시킨다. 이것에 의해, 당해 슬릿 노즐(91)의 토출구로부터 기판 G 상에 레지스트액이 공급되어, 기판 G의 제1 주면 S1 상에는 일정한 막두께로 레지스트액의 도포막이 형성된다.
반송 로봇 TR은, 도포 장치(9)에서 그 제1 주면 S1에 레지스트액이 도포된 기판 G를 감압 건조 장치(1)에 반송하고, 또, 감압 건조 장치(1)에서 감압 건조 처리가 완료된 기판 G를 다음 공정의 프리베이킹 유닛(도시하지 않음)으로 반송하는 로봇이다.
반송 로봇 TR은, 수평 방향으로 연장되는 4개의 봉형상 부재인 핑거부 FG를 가짐과 함께, 연직 방향을 중심으로 선회하는 선회 구동 기구, 승강 기구, 수평 이동 기구(모두 도시하지 않음)를 구비하는 로봇이다. 반송 로봇 TR은, 이들을 능동화시킴으로써, 각 장치 사이에서 기판 G를 수도(受渡)할 수 있다.
도 3은, 본 발명의 제1 실시 형태에 관련된 감압 건조 장치(1)의 구성을 나타낸 종단면도이다.
감압 건조 장치(1)는, 당해 장치에 고정된 하부 챔버(11)와, 하부 챔버(11)에 대해 개폐 가능한 상측 뚜껑으로서 기능하는 가동의 상부 챔버(12)로 이루어지는 챔버(10)를 가진다. 상부 챔버(12)는, 구동원의 내장된 승강 기구(13)와 연결되어 있으며, 당해 승강 기구(13)에 의해 상하로 구동된다. 이러한 구성으로 되어 있기 때문에, 상부 챔버(12)를 하부 챔버(11)에 대해 밀착(챔버 밀폐) 혹은 분리(챔버 개방)시킬 수 있다. 그리고, 밀착 상태에서는 챔버(10)의 내부에 기판 G의 처리 공간 L이 형성된다. 한편, 분리 상태에서는, 챔버(10)의 내부와 반송 로봇 TR의 사이에서 기판 G의 수도가 가능해진다.
반송 로봇 TR이 기판 G를 감압 건조 장치(1)에 반입할 때는, 감압 건조 장치(1)는, 상부 챔버(12)를 들어 올려 챔버 개방으로 한다. 그리고, 반송 로봇 TR이 챔버(10) 내에 설치되어 있는 복수의 지지판(22) 상에 기판 G를 올려 놓고, 챔버(10) 외부로 퇴피하면, 상부 챔버(12)를 내려 챔버(10)가 밀폐 상태가 된다. 이 밀폐 상태에서, 챔버(10) 내의 기판 G에 대해 감압 처리 및 복압 처리를 시간 순차적으로 실행함으로써, 기판 G 상에 형성된 레지스트 도포막에 감압 건조 처리가 실시되고, 당해 기판 G의 제1 주면 S1에 원하는 레지스트 막질 특성이 균일하게 얻어진다.
그리고, 감압 건조 장치(1)에서 1회(기판 1장분)의 감압 건조 처리가 종료되면, 승강 기구(13)가 상부 챔버(12)를 들어 올려 챔버 개방 상태가 된다. 그곳에 반송 로봇 TR이 액세스하여 지지판(22)으로부터 처리가 완료된 기판 G를 받아 반출하고, 다음 공정의 프리베이킹을 행하는 프리베이킹 유닛(도시하지 않음)으로 기판 G를 반송하도록 되어 있다.
＜1.2 감압 건조 장치(1)의 각 부의 구성＞
도 4는, 본 발명의 제1 실시 형태에 관련된 감압 건조 장치(1)의 구성을 나타낸 상면도이다. 또한, 도 4에서는, 감압 건조 장치(1)에 관련된 구성 중, 도 3에 나타내는 상부 챔버(12) 및 승강 기구(13)를 제외한 구성을 나타내고 있다.
상기 서술한 바와 같이, 감압 건조 장치(1)는, 레지스트 도포 후의 기판 G에 대해 감압 건조 처리를 행하고, 당해 레지스트액을 건조시켜 레지스트막을 형성하기 위한 장치이다. 감압 건조 장치(1)는, 대략적으로, 기판을 수용하는 챔버(10)와, 챔버(10) 내에서 기판을 수평 자세로 지지하는 지지부(20)와, 챔버(10) 내에 개구한 배기구(31)를 통해서 챔버(10) 내의 배기를 행하는 배기부(30)와, 챔버(10) 내에 개구한 급기구(41)를 통해서 챔버(10) 내에 급기하는 급기부(40)와, 챔버(10) 내의 압력을 검지하는 압력 센서(50)를 구비하고 있다(도 3, 도 4 참조). 또, 감압 건조 장치(1)는, 이들 각 부의 동작을 제어하기 위한 구성으로서 제어부(8)를 구비하고 있다.
챔버(10)는, 기판에 대해 감압 건조 처리를 행하기 위한 처리 공간 L을 내부에 가지는 내압 용기이다. 상기 서술한 바와 같이, 챔버(10)는, 서로 분리 가능한 하부 챔버(11)와 상부 챔버(12)를 가지고 있으며, 하부 챔버(11)는 당해 장치에 고정되고, 상부 챔버(12)에는 구동원을 내장하는 승강 기구(13)가 접속되어 있다. 당해 승강 기구(13)로서는, 예를 들면, 에어 실린더 또는 전동 리니어 모터로 이루어지는 승강 기구를 채용할 수 있다.
하부 챔버(11)의 상면의 주연부에는, 실리콘 고무 등으로 구성된 O링(14)이 설치되어 있다. 이 때문에, 승강 기구(13)에 의해 상부 챔버(12)가 하강했을 때에는, 하부 챔버(11)의 상면과 상부 챔버(12)의 하면의 사이가 O링(14)에 의해 밀폐되어, 챔버(10) 내부에 형성되는 처리 공간 L은 기밀 상태가 된다.
지지부(20)는, 챔버(10)의 내부에 있어서 기판 G를 수평 자세로 지지하기 위한 기구이며, 복수의 지지 핀(21)을 그 상면에 가지는 복수의 지지판(22)과, 당해 복수의 지지판(22)에 각각 맞닿아 설치되는 복수의 승강 부재(23)와, 복수의 승강 부재(23)를 일체적으로 상하로 구동시키는 승강 기구(24)를 가진다.
도 3에 나타내는 바와 같이, 복수의(본 실시 형태에서는 3개의) 지지판(22)은, 각각 동일한 높이 위치가 되도록 설치되어 있다. 이 때문에, 각 지지 핀(21)의 머리부를 기판 G의 제2 주면 S2에 맞닿게 함으로써, 기판 G는 수평 자세로 지지된다.
복수의 승강 부재(23)는, 챔버(10)의 외부에 배치된 1개의 승강 기구(24)와 연결되어 있으며, 각각 하부 챔버(11)의 바닥 부분을 관통하여 챔버(10)의 내부로 돌출되어 있다. 또, 복수의 승강 부재(23)와 하부 챔버(11)의 바닥 부분은 도시하지 않은 시일 부재에 의해 진공 봉지되어 있어, 당해 관통 부분으로부터 챔버(10) 안밖의 기체가 연통하는 것이 방지된다.
그리고, 승강 기구(24)를 동작시킴으로써, 복수의 승강 부재(23) 및 복수의 지지판(22)을 일체적으로 상하로 구동시켜, 챔버(10) 내에서 기판 G가 지지되는 높이를 조절할 수 있다. 당해 승강 기구(24)로서는, 승강 기구(13)와 마찬가지로, 에어 실린더 또는 전동 리니어 모터로 이루어지는 승강 기구를 채용할 수 있다.
복수의 지지판(22)(본 실시 형태에서는 3개의 지지판(22))은 X방향으로 연장되는 장척형의 판형상 부재이며, Y방향으로 일정 간격을 두고 평행하게 설치되어 있다. 또, 도 1에 나타내는 바와 같이, 반송 로봇 TR은, -X방향측으로부터 감압 건조 장치(1)에 액세스하여 감압 건조 장치(1)로의 기판 G의 반입출을 행한다. 이 때문에, 감압 건조 장치(1)에 액세스하는 타이밍에서는, 반송 로봇 TR의 핑거부 FG(4개의 봉형상 부재)와 복수의 지지판(22)이, 각각, Y방향으로 일정 간격을 두고 평행하게 설치되어 있다. 또, 핑거부 FG의 인접하는 봉형상 부재들의 Y방향 간격은, 1개의 지지판(22)의 Y방향폭보다 커지도록 형성되어 있다. 이러한 구성으로 되어 있으므로, 반송 로봇 TR이 챔버(10) 내에 액세스한 경우에서도, 상면에서 보았을 때에 핑거부 FG의 4가닥의 공극 부분에 복수의 지지판(22)이 배치되어, 지지판(22)과 반송 로봇 TR이 충돌하지 않는다.
따라서, 기판 G를 유지한 핑거부 FG를 지지판(22)의 바로 윗쪽으로 이동시켜, 승강 기구(24)에 의해 핑거부 FG의 상방까지 지지판(22)을 상승시킴으로써, 반송 로봇 TR로부터 감압 건조 장치(1)에 기판 G를 건넬 수 있다. 또, 기판 G가 올려 놓아져 있는 지지판(22)의 바로 아래에 핑거부 FG를 이동시켜, 승강 기구(24)에 의해 핑거부 FG의 하방까지 지지판(22)을 하강시킴으로써, 챔버(10)로부터 반송 로봇 TR에 기판 G를 건넬 수 있다.
도 5는, 본 실시 형태의 감압 건조 장치(1)의 배기에 관련된 구성을 개념적으로 나타낸 상면도이다. 또한, 도 5 중에는, 감압 공정 시에 기판 G가 존재하는 위치를 점선으로 나타내고, 그 때의 기판 G의 중심을 중심 위치 PO로서 나타내고 있다. 이 실시 형태의 경우, 기판 G는 직사각형이기 때문에, 그 중심 위치 PO는 당해 직사각형의 2개의 대각선의 교점으로서 정의된다. 반도체 웨이퍼와 같이 기판이 대략 원형인 경우에는, 기판이 챔버 내에서 지지된 상태에서의 당해 원의 중심점을 중심 위치로서 정의할 수 있다.
배기부(30)는, 챔버(10) 내의 기체를 흡인 배기하여 챔버(10) 내를 감압 상태로 하기 위한 배관계이며, 챔버(10) 내에 개구한 배기구(31)와, 배기관(32)과, 개폐 밸브(33)와, 압력 제어 밸브(34)와, 진공 펌프(35)를 구비한다. 또한, 이하의 설명에서는, 배기구(31), 배기관(32), 개폐 밸브(33)의 각각에 대해서, 그 구성 요소를 특정하는 경우에는, 「배기구 31a, 31b, 31c, 31d」, 「배기관 32a, 32b, 32c, 32d」, 「개폐 밸브 33a, 33b, 33c, 33d」와 같은 표현을 이용하는 경우가 있다.
배기구(31a, 31b, 31c, 31d)는, 챔버(10) 내에 개구되어 있으며, 배기관(32a, 32b, 32c, 32d)을 각각 통해 압력 제어 밸브(34) 및 진공 펌프(35)에 접속되어 있다. 또, 배기관(32a, 32b, 32c, 32d)에는, 개폐 밸브(33a, 33b, 33c, 33d)가 각각 설치되어 있다. 또한, 진공 펌프(35)는 배기 라인에 접속되어 있다.
개폐 밸브(33), 압력 제어 밸브(34) 및, 진공 펌프(35)는, 제어부(8)와 전기적으로 접속되어 있다. 따라서, 제어부(8)가, 진공 펌프(35)를 동작시킨 상태에서, 개폐 밸브(33)와 압력 제어 밸브(34)를 개방함으로써, 챔버(10) 내의 기체가 배기구(31)에 흡인되고, 배기관(32)을 경유하여 배기 라인으로 배기된다. 한편, 제어부(8)가 개폐 밸브(33)를 폐지함으로써 챔버(10) 내의 배기가 정지된다. 이와 같이, 본 실시 형태의 감압 건조 장치(1)에서는, 진공 펌프(35)는 동작시킨 상태에서, 개폐 밸브(33)의 개폐에 의해 챔버(10) 내의 배기의 온 오프 제어를 행한다. 그 때문에, 진공 펌프(35)의 온 오프에 의해 챔버(10) 내의 배기의 온 오프 제어를 행하는 경우와 달리, 배기의 개시 시에도 충분한 배기력을 실현할 수 있다.
또, 제어부(8)에 의해 압력 제어 밸브(34)의 개방도를 조절함으로써, 배기부(30)의 배기력을 조절할 수 있다. 이와 같이 배기력을 조절함으로써, 챔버(10) 내를 완만하게 감압하는 상태(부배기)와, 챔버(10) 내를 급격하게 감압하는 상태(주배기)를 전환할 수 있다. 후술하는 감압 공정에서는, 부배기를 행하고 일정 시간이 경과하고 나서 주배기로 전환하는 동작 절차가 채용되어 있다. 이렇게 함으로써, 챔버(10) 내의 급격한 감압에 수반하여, 기판 G 상에 도포된 레지스트액에 포함되는 용제 성분이 돌비(突沸)하는 것을 방지하고 있다.
도 6은, 본 실시 형태의 감압 건조 장치(1)의 급기에 관련된 구성을 모식적으로 나타낸 상면도이다. 또한, 도 6 중에는, 복압 공정 시에 기판 G가 존재하는 위치를 점선으로, 그 때의 기판의 중심을 중심 위치 PO로서 나타내고 있다.
급기부(40)는, 챔버(10) 내에 기체를 공급하고, 배기부(30)에 의해 감압 상태가 된 챔버(10) 내의 압력을 대기압까지 복압시키기 위한 배관계이며, 급기구(41)와, 급기관(42)과, 개폐 밸브(43)와, 유량 조정 밸브(44)와, 가스 공급원(45)을 구비한다. 또한, 이하의 설명에서는, 급기구(41), 급기관(42), 개폐 밸브(43), 유량 조정 밸브(44)의 각각에 대해서, 그 구성 요소를 특정하는 경우에는, 「급기구 41a, 41b, 41c, 41d」, 「급기관 42a, 42b, 42c, 42d」, 「개폐 밸브 43a, 43b, 43c, 43d」, 「유량 조정 밸브 44a, 44b, 44c, 44d」라는 표현을 이용하는 경우가 있다.
급기부(40)에서 챔버(10) 내에 공급하는 기체로서는, 예를 들면, 질소나 압축 공기 등을 채용할 수 있지만, 이하의 설명에서는 질소를 공급하는 경우에 대해서 설명한다.
급기구(41a, 41b, 41c, 41d)는 챔버(10) 내에 개구되어 있으며, 급기관(42a, 42b, 42c, 42d)을 각각 통해 가스 공급원(45)에 접속되어 있다. 또, 급기관(42a, 42b, 42c, 42d)에는, 개폐 밸브(43a, 43b, 43c, 43d) 및 유량 조정 밸브(44a, 44b, 44c, 44d)가 각각 설치되어 있다.
개폐 밸브(43), 유량 조정 밸브(44) 및, 가스 공급원(45)은, 제어부(8)와 전기적으로 접속되어 있다. 따라서, 제어부(8)가, 개폐 밸브(43)와 유량 조정 밸브(44)를 개방함과 함께 가스 공급원(45)으로부터 질소를 공급함으로써, 당해 질소는 급기관(42)을 경유하여, 급기구(41)로부터 챔버(10) 내에 공급된다. 그 결과, 챔버(10) 내의 압력이 대기압까지 복압된다. 한편, 제어부(8)가 가스 공급원(45)으로부터의 질소의 공급을 정지시킴으로써 챔버(10) 내의 복압이 정지된다.
또, 유량 조정 밸브(44)의 개방도를 조절함으로써 급기부(40)의 급기력을 조절할 수 있다. 이와 같이 급기력을 조절함으로써, 챔버(10) 내를 완만하게 복압하는 상태(슬로우 퍼지)와, 챔버(10) 내를 급격하게 복압하는 상태(메인 퍼지)를 전환할 수 있다.
따라서, 복압 공정을 슬로우 퍼지로 행함으로써, 챔버(10) 내의 급격한 압력 증가를 방지하여, 챔버(10) 내에 기체 상태로 존재할 수 있는 레지스트액의 용제 성분이 액적화될 가능성을 저하시킬 수 있다. 당해 액적이 기판 G의 제1 주면 S1 상에 부착되는 것은 기판 G의 잔사 불량으로 연결되기 때문에, 슬로우 퍼지는 잔사 불량의 리스크를 저하시킨다는 이점이 있다. 한편, 복압 공정을 메인 퍼지로 행하면, 복압 공정에 걸리는 처리 시간이 단축되어, 택트 업이 실현된다는 이점이 있다.
도 7은, 밀폐 상태의 챔버(10) 내에 형성되는 처리 공간 L을 개념적으로 분할하여 나타낸 측면도이다. 또한, 도 7은, 챔버(10)와, 배기구(31)와, 급기구(41)에 관련된 구성을 나타낸 도이며, 잔여의 구성(지지부(20) 등)은 생략하고 있다. 또, 도 7 중의 기판 G의 위치는, 감압 공정 및 복압 공정 시에 지지부(20)에 의해 지지되는 경우에 존재하는 기판 G의 위치를 나타내고 있다.
이하의 설명에서는, 지지부(20)에 의해 지지된 기판 G의 중심 위치 PO에서 보아 수평 방향의 일방측(이 실시 형태에서는 +Y측)의 처리 공간 L을 「+Y공간 영역 L1」이라고 부르며, 타방측(이 실시 형태에서는 -Y측)의 처리 공간 L을 「-Y공간 영역 L2」라고 부른다. 또, 처리 공간 L에 관해서, 감압 공정 및 복압 공정 시에 있어서의 기판 G의 높이로 규정한 가상 수평면 IP를 경계로 하여, 제1 주면 S1측(이 실시 형태에서는 +Z측)을 「상부분 공간 L11」, 제2 주면 S2측(이 실시 형태에서는 -Z측)을 「하부분 공간 L12」라고 부른다.
또한, 「+Y공간 영역 L1」, 「-Y공간 영역 L2」, 「상부분 공간 L11」, 및 「하부분 공간 L12」는, 각각, 본 발명에 있어서의 「제1 공간 영역」, 「제2 공간 영역」, 「제1 부분 공간」, 및 「제2 부분 공간」에 상당한다.
이러한 처리 공간 L에 대한 개념적인 분할을 이용하여, 본 실시 형태의 감압 건조 장치(1)에 있어서의, 배기구(31a, 31b, 31c, 31d), 및 급기구(41a, 41b, 41c, 41d)의 배치 관계에 대해서 설명한다.
배기구(31a, 31b, 31c, 31d)는, 직사각형 형상인 하부 챔버(11) 바닥면의 4코너에 대응하여 1개씩 설치되어 있다. 보다 구체적으로는, -Y공간 영역 L2에 배치되는 배기구(31a, 31c)와, +Y공간 영역 L1에 배치되는 배기구(31d, 31b)는, 수평면에서 보았을 때에, 기판 G의 중심 위치 PO에 대해 점대칭인 배치로 되어 있다(도 5 참조).
이 때문에, 후술하는 감압 공정에 의해 챔버(10) 내의 기체가 흡인 배기될 때에는, 기판 G의 제1 주면 S1측(+Z측)에, 중심 위치 PO로부터 배기구(31a, 31b, 31c, 31d)를 향해 균일하게 확산되는 4방향의 기류 AF1이 발생한다(도 12 참조).
한편, 급기구(41a, 41b, 41c, 41d)는 모두, 기판 G의 중심 위치 PO에서 보아 일방측(+Y방향측)의, 하부 챔버(11)의 바닥면에 설치되어 있다(도 6 참조). 이와 같이, 급기구(41a, 41b, 41c, 41d)는, 기판의 중심 위치 PO에서 보아 일방측의 +Y공간 영역 L1(「제1 공간 영역」) 내에 개구한 「일방측 급기구」로서 기능한다.
이 때문에, 후술하는 복압 공정에 있어서 챔버(10) 내에 질소가 급기된 직후의 타이밍에서는, 급기구(41a, 41b, 41c, 41d)가 위치하는 +Y공간 영역 L1에 있어서, -Y공간 영역 L2보다 양압의 분위기가 형성된다. 그 결과, 기판 G의 제1 주면 S1측(+Z측)에는, +Y공간 영역 L1로부터 중심 위치 PO를 넘어 -Y공간 영역 L2로 향하는 일방향의 기류 AF2가 발생한다(도 14 참조). 단, 여기에 있어서의 「중심 위치 PO를 넘어」란, 「중심 위치 PO의 바로 윗쪽을 지나는」 것을 의미하는 것이 아니라, +Y공간 영역 L1과 -Y공간 영역 L2의 경계선으로서 중심 위치 PO를 지나는 가상 경계면 IF(도 14 참조)를 넘는다는 의미이다.
또, 본 실시 형태의 감압 건조 장치(1)에서는, 배기구(31) 및 급기구(41)는, 함께, 기판 G의 제2 주면 S2측(-Z측)인 하부분 공간 L12에 배치된다. 이 때문에, 감압 공정에 있어서 발생하는 기류 AF1 중 배기구(31) 근방에서 발생하는 강력한 기류인 흡인 기류 AF10이나, 복압 공정에 있어서 발생하는 기류 AF2 중 급기구(41) 근방에서 발생하는 강력한 기류인 분출 기류 AF20이, 기판 G의 제1 주면 S1(레지스트액이 도포된 측의 주면)에 직접적으로 영향을 미치지 않는다(도 11, 도 13 참조). 따라서, 기판 G의 제1 주면 S1에는, 상기 기류의 영향에 의한 레지스트액의 액편차가 생기기 어렵다.
또, 도 4에 나타내는 바와 같이, 급기구(41)는, 수평면에서 보았을 때에 배기구(31)보다 챔버(10)의 측벽(10S)측에 있어서 개구되어 있다. 이러한 배치 관계로 되어 있는 이유에 대해서는 후술한다.
압력 센서(50)는, 챔버(10) 내의 압력을 측정하기 위한 장치이다(도 3 참조). 본 실시 형태의 감압 건조 처리에서는, 압력 센서(50)에 의해 측정되는 챔버(10) 내의 압력이 소정의 값에 이른 타이밍에, 배기부(30)에 의한 흡인 배기(감압 공정)를 종료시키고, 급기부(40)에 의한 챔버(10) 내로의 질소의 공급(복압 공정)이 개시된다. 이러한 압력 센서(50)로서는, 예를 들어 진공계를 채용할 수 있다.
도 8에 나타내는 제어부(8)는, 감압 건조 장치(1)에 설치된 상기 다양한 동작 기구를 제어한다. 제어부(8)의 하드웨어로서의 구성은 일반적인 컴퓨터와 동일하다. 즉, 제어부(8)는, 각종 연산 처리를 행하는 CPU(81), 기본 프로그램을 기억하는 읽어내기 전용의 메모리인 ROM(82), 각종 정보를 기억하는 읽고 쓰기 가능한 메모리인 RAM(83), 및 처리 프로그램 PR이나 데이터 등을 기억해 두는 고정 디스크(84)를 버스 라인(89)에 접속해 구성되어 있다.
버스 라인(89)에는, 승강 기구(13), 승강 기구(24), 배기부(30), 급기부(40), 및 압력 센서(50)가 접속되어 있다. 제어부(8)의 CPU(81)는, 고정 디스크(84)에 저장되어 있는 처리 프로그램 PR을 실행함으로써, 감압 건조 장치(1)에 관련된 각 동작 기구를 제어하여 기판 G로의 감압 건조 처리를 진행시킨다.
또, 버스 라인(89)에는, 표시 장치(86) 및 입력 장치(87)가 전기적으로 접속되어 있다. 표시 장치(86)는, 예를 들면 액정 디스플레이 등을 이용해 구성되어 있으며, 처리 결과나 메세지 등의 다양한 정보를 표시한다. 입력 장치(87)는, 예를 들면 키보드나 마우스 등을 이용해 구성되어 있으며, 커멘드나 파라미터 등의 입력을 받아들인다. 장치의 오퍼레이터는, 표시 장치(86)에 표시된 내용을 확인하면서 입력 장치(87)로부터 커멘드나 파라미터 등의 입력을 행할 수 있다. 또한, 표시 장치(86)와 입력 장치(87)를 일체화하여 터치 패널로서 구성하도록 해도 된다.
또한, 버스 라인(89)에는, DVD나 CD-ROM 등의 기록 매체 RM으로부터 기록 내용을 판독하는 판독 장치(88)가 접속되어 있다. 처리 프로그램 PR은, 기록 매체 RM으로부터 판독 장치(88)에 의해 읽어내어져 고정 디스크(84)에 저장되도록 해도 된다. 또, 네트워크 경유로 외부의 정보 처리 장치로부터 다운로드되도록 해도 된다.
＜1.3 감압 건조 장치(1)의 동작＞
도 9는, 본 실시 형태에 있어서의 감압 건조 장치(1)의 처리 동작의 일례를 나타내는 동작 플로우도이다. 이하, 도 9에 나타내는 동작 플로우를 따라, 감압 건조 장치(1)의 동작을 설명한다.
감압 건조 장치(1)에 있어서 기판 G를 처리할 때에는, 우선, 승강 기구(13)에 의해 상부 챔버(12)가 상승되고, 챔버(10)가 개방된다(단계 ST1).
그리고, 반송 로봇 TR에 의해 기판 G가 챔버(10)의 내부에 반입되면, 승강 기구(24)에 의해 복수의 지지판(22)이 상승되고, 복수의 지지 핀(21) 상에 기판 G가 건네진다. 그 후, 반송 로봇 TR은 챔버(10)의 외부로 퇴피하고, 복수의 지지판(22)에 지지되는 기판 G는, 승강 기구(24)에 의해 감압 건조 처리를 실행하는 높이까지 하강된다(단계 ST2).
이와 같이 챔버(10) 내에 기판 G가 반입되고 그 높이 조절이 행해지면, 승강 기구(13)에 의해 상부 챔버(12)가 하강되고, 챔버(10)가 밀폐 상태가 된다(단계 ST3). 또한, 승강 기구(24)에 의한 지지판(22)의 승강은, 승강 기구(13)에 의한 상부 챔버(12)의 승강과 동기하여 행해져도 된다.
도 10은, 감압 공정(단계 ST4~단계 ST7A)과 복압 공정(단계 ST7B~단계 ST9)에 관련된, 배기부(30)(진공 펌프(35))와 급기부(40)(가스 공급원(45))의 동작 타이밍을 나타내는 타이밍 차트이다.
또, 도 11, 도 12는, 감압 공정(부배기와 주배기를 포함한다) 중에, 배기부(30)에 의한 배기의 영향에 의해 챔버(10) 내에 발생하는 기류 AF1을 개념적으로 나타낸 측면도 및 상면도이다. 또한, 도 12는, 상부 챔버(12) 및 승강 기구(13)에 관련된 구성을 제외한 상면도로 그려져 있다.
단계 ST3에서 기판 G가 챔버(10) 내에 지지된 상태로 챔버(10)가 밀폐되면, 챔버(10) 내의 부배기가 개시된다(단계 ST4). 구체적으로는, 감압 건조 장치(1)는, 미리 진공 펌프(35)를 동작시켜 두고, 부배기 개시의 타이밍(도 10：T1)에 배기부(30)의 개폐 밸브(33) 및 압력 제어 밸브(34)를 개방한다. 이 결과, 챔버(10) 내부의 기체는 배기구(31)를 통해서 배기 라인으로 흡인 배기되어, 챔버(10)의 내부는 비교적 완만하게 감압된다(도 10：시각 T1~시각 T2).
그리고, 부배기가 개시되고 일정 시간이 경과하면, 부배기로부터 주배기로 전환된다(단계 ST5). 상기 서술한 바와 같이, 주배기에서는, 부배기일 때보다 압력 조절 밸브(34)의 개방도가 커지도록 제어부(8)에 의해 제어된다. 이 결과, 챔버(10) 내는, 보다 급격하게 감압된다(도 10：시각 T2~시각 T3).
이와 같이, 감압 공정(단계 ST4, 단계 ST5)에 의해 챔버(10)의 내부가 감압됨에 따라, 기판 G의 표면에 도포된 레지스트액에 포함되는 용제 성분이 기화되어, 기판 G 상에 도포된 레지스트액이 건조된다. 그리고, 기화된 용제 성분도 기류 AF1을 따라 배기구(31)로부터 배기 라인으로 흡인 배기된다(도 11, 12).
또, 부배기와 주배기의 2단계로 나누어 감압함으로써, 챔버(10) 내의 급격한 압력 변화가 방지되어, 기판 G 상의 레지스트액에 포함되는 용제 성분이 돌비하는 것을 회피할 수 있다.
그리고, 압력 센서(50)에 의해 측정되는 챔버(10) 내의 압력이 설정값에 이르면(단계 ST6에서 Yes로 분기), 개폐 밸브(33)가 폐지되고 배기 동작이 정지된다(단계 ST7A). 그와 동시에, 급기부(40)에 의한 챔버(10) 내로의 질소의 급기가 개시된다(단계 ST7B). 또한, 당해 설정값은, 기판 처리의 레시피에 의해 결정되는 파라미터이며, 감압 건조 처리에 앞서 제어부(8)의 RAM(83)에 저장되는 값이다.
도 13, 도 14는, 복압 공정 중에, 급기부(40)에 의한 급기의 영향에 의해 챔버(10) 내에 발생하는 기류 AF2를 개념적으로 나타낸 측면도 및 상면도이다. 또한, 도 14는, 상부 챔버(12) 및 승강 기구(13)에 관련된 구성을 제외한 상면도로 그려져 있다.
본 실시 형태에서 실행되는 복압 공정(도 10：시각 T3~시각 T5)은, 유량 조정 밸브(44)의 개방도가 큰 상태에서 개폐 밸브(43)를 개방함과 함께 가스 공급원(45)으로부터 질소를 공급하는 메인 퍼지 만이 실행된다. 이 때문에, 슬로우 퍼지를 실행하는 경우에 비해 복압 공정에 걸리는 처리 시간이 단축되어, 택트 업으로 연결된다.
또, 도 10에 있어서의 시각 T3~시각 T4에 있어서는, 개폐 밸브(33)의 폐지 동작과 가스 공급원(45)의 동작 개시는 시퀀스 제어 상은 동일한 타이밍에 행해지지만, 현실에서는, 감압을 종료하고 복압으로 이행할 때에, 배기구(31) 근방에서의 흡인 기류 AF10(배기압)이 소실되기 전에 급기구(41)의 위치에서의 분출 기류 AF20(급기압)이 상승한다. 이 때문에, 복압 공정의 개시 직후(도 10：시각 T3~시각 T4)에서는, 급기부(40)로부터 급기되어 발생하는 기류 AF2 중 하부분 공간 L12를 흐르는 기류의 일부가 배기구(31)에 흡인되면서, 전체적으로는 +Y공간 영역 L1로부터 -Y공간 영역 L2를 향한 기류가 발생한다(도 13 참조).
그리고, 챔버(10) 내의 압력이 상승하고, 압력 센서(50)에 의해 계측되는 챔버(10) 내의 압력이 대기압에 이르면, 단계 ST8에서 Yes로 분기하여, 급기부(40)에 의한 챔버(10) 내의 복압이 종료된다(단계 ST9).
복압이 종료되면, 승강 기구(13)에 의해 상부 챔버(12)가 상승되고, 챔버(10)가 개방된다(단계 ST10). 이 때, 승강 기구(24)에 의해 지지판(22)도 기판 G를 유지한 상태로 상승한다.
그 후, 챔버(10)로부터 감압 건조 처리가 완료된 기판 G를 반출한다(단계 S11). 구체적으로는, 반송 로봇 TR을 동작시킴으로써 복수의 지지 핀(21) 상에 올려 놓아지는 기판 G의 하방에 핑거부 FG를 삽입함과 함께, 복수의 지지판(22)을 하강시켜 기판 G를 핑거부 FG에 건넨다. 반송 로봇 TR은, 핑거부 FG 상에 기판 G를 받으면, 당해 기판 G를 유지한 상태로 챔버(10)의 외부로 이동한다. 이상으로, 1장의 기판 G에 대한 감압 건조 처리가 종료된다.
또한, 후속의 기판 G에도 연속해서 감압 건조 처리를 실시하는 경우에는, 단계 ST12에서 Yes로 분기하여 단계 ST2로 이행함으로써, 당해 후속의 기판 G에 대해서도 감압 건조 처리를 실시하는 것이 가능해진다.
＜1.4 감압 건조 장치(1)의 효과＞
이하, 본 발명의 제1 실시 형태에 관련된 감압 건조 장치(1)의 효과에 대해서 설명한다.
(1) 본 실시 형태의 감압 건조 장치(1)에서는, 급기구(41)가 기판 G의 중심 위치 PO에서 보아 수평 방향 일방측(+Y측)의 +Y공간 영역 L1 내에 개구한 「일방측 급기구」로서 기능하고 있으며, 챔버(10) 내에서 기판 G의 감압 건조가 행해진 후의 복압 공정에서는, 당해 일방측 급기구(급기구(41))를 이용하여 챔버(10) 내로의 급기가 행해진다. 이 때문에, 급기구(41)로부터 챔버(10) 내로 질소가 급기된 직후의 타이밍에서는, 급기구(41)가 위치하는 +Y공간 영역 L1에서, -Y공간 영역 L2보다 양압의 분위기가 형성된다. 그 결과, 도 13, 도 14에 나타내는 바와 같이, 급기에 의해 챔버(10) 내에 생기는 기류 AF2 중, 지지판(22)에 지지되는 기판 G의 제1 주면 S1측을 흐르는 기류는, +Y공간 영역 L1로부터 중심 위치 PO를 넘어 -Y공간 영역 L2로 향하는 일방향의 기류가 된다.
이와 같이 기판 G의 제1 주면 S1측에서 일방향의 기류가 형성되기 때문에, 복압 공정에서 챔버(10) 내에 발생하는 기류 AF2들이 충돌하여 순간적으로 압력이 높아지는 개소인 「압력 집중 영역 PD」가, 기판 G의 제1 주면 S1측에 생길 가능성을 저하시킬 수 있다.
이 압력 집중 영역 PD에서는, 그 압력의 상승에 수반하여, 당해 압력 집중 영역 PD 내에 부유하는 레지스트액의 용제 성분이 액적화될 우려가 있다. 따라서, 상기 서술한 바와 같이 압력 집중 영역 PD가 기판 G의 제1 주면 S1측에서 발생할 가능성을 저하시킴(압력 집중 영역 PD를 기판 G의 측방 혹은 제2 주면 S2측에서 발생시킨다)으로써, 액적화된 레지스트액의 용제 성분이 기판 G의 제1 주면 S1측에 부착되는 잔사 불량의 리스크를 저하시킬 수 있다.
(2) 또, 급기구(41)가 하부분 공간 L12(기판 G의 제2 주면 S2측)에 설치되어 있기 때문에, 복압 공정 시에 챔버(10) 내에 발생하는 기류 AF2 중, 급기구(41)의 근방에서 발생하며 특히 압력이 강한 기류인 분출 기류 AF20이, 직접적으로 기판 G의 제1 주면 S1측(레지스트액이 도포된 측)에 뿜어 내어지지 않는다. 이 때문에, 기판 G의 제1 주면 S1 상에 복압 시의 분출 기류 AF20의 영향에 의한 흐름 편차가 생기지 않는다.
(3) 또, 급기구(41)는 상부분 공간 L11(기판 G의 제1 주면 S1측)을 향해 개구되어 있기 때문에, 복압 공정 시에 챔버(10) 내에 발생하는 기류 AF2 중, 기판 G의 제1 주면 S1측을 흐르는 일방향의 기류가, 기판 G의 제2 주면 S2측을 흐르는 기류에 비해 상대적으로 빨라진다. 이 결과, 압력 집중 영역 PD(기류의 충돌 개소)가 기판 G의 제1 주면 S1측에 발생할 가능성을 더 저하시킬 수 있어, 잔사 불량의 리스크가 저하된다.
(4) 또, 본 실시 형태의 감압 건조 장치(1)에서는,
(4 -1) 급기구(41)와 배기구(31)가 하부분 공간 L12에 설치되고,
(4 -2) 급기구(41)가 수평면에서 보았을 때에 배기구(31)보다 챔버(10)의 측벽(10S)측에 있어서 개구되어 있으며,
(4 -3) 감압 공정(기판 G의 감압 건조)을 종료시키고 복압 공정으로 이행할 때에, 배기구(31) 위치에서의 흡인 기류 AF10(배기압)이 소실되기 전에 급기구(41) 위치에서의 분출 기류 AF20(급기압)이 상승하는 타이밍 관계가 되도록(도 13 참조), 제어부(8)가 급기부(40) 및 배기부(30)의 동작 시퀀스를 제어하고 있다.
이상과 같은 구성으로 되어 있으므로, 하부분 공간 L12에 급기된 질소에 의해 발생하는 기류 AF2 중, 수평면에서 보았을 때에 외측(측벽(10S)을 따라)을 향하는 기류는 흡인 기류 AF10의 영향을 받기 어려운 한편, 수평면에서 보았을 때에 내측을 향하는 기류는 흡인 기류 AF10의 영향에 의해 배기구(31)에 흡인되기 쉽다(도 13 참조). 이 때문에, 감압 공정으로부터 복압 공정으로 이행된 직후에 있어서, 기류 AF2 중, 수평면에서 보았을 때에 외측을 향하는 기류가 내측을 향하는 기류에 비해 상대적으로 빠르게 유동한다.
또, 급기구(41)와 배기구(31)가 하부분 공간 L12에 설치되어 있으므로, 도 13 및 도 14에 나타내는 바와 같이, 기류 AF2 중, 수평면에서 보았을 때에 내측을 향하는 기류는 하부분 공간 L12(기판 G의 제2 주면 S2측)를 유동하고, 수평면에서 보았을 때에 외측을 향하는 기류는 상부분 공간 L11(기판 G의 제1 주면 S1측)로 유동한다.
정리하면, 복압 공정에서 발생하는 기류 AF2 중, 상부분 공간 L11(기판 G의 제1 주면 S1측)에서 흐르는 기류가, 하부분 공간 L12(기판 G의 제2 주면 S2측)에서 흐르는 기류보다 빨라진다. 이러한 구성으로 되어 있기 때문에, 압력 집중 영역 PD가 기판 G의 바로 윗쪽에 발생할 가능성을 더 저하시킬 수 있어, 잔사 불량의 리스크가 저하된다. 또, 급기구(41)는 배기구(31)보다 챔버(10)의 측벽(10S)측에 있어서 개구되어 있기 때문에, 감압 공정으로부터 복압 공정으로 이행된 직후에 있어서, 감압 공정에 의해 배기구(31) 근방까지 유동한 레지스트액의 용제 성분이 급기 공정에서 기판 G의 제1 주면 S1측으로 되돌려지는 것을 방지할 수 있어, 잔사 불량의 리스크가 저하된다.
또한, 도 13에서 나타내는 바와 같이, 일방향 기류가 기판 G의 제1 주면 S1의 면 상에 생길 뿐만 아니라, 기판 G의 제2 주면 S2의 면 상의 대부분에서도 일방향 기류 상태가 되는 것이 바람직하다. 제2 주면 S2 그 자체에는 액정 표시 셀 등의 전자 디바이스를 형성하지 않기 때문에, 만일 제2 주면 S2 상에 잔사 불량이 생겨도 직접적으로는 기판 G의 수율에는 영향을 주지 않는다. 그러나, 감압 건조 처리의 후속 공정 등에서 제2 주면 S2에 부착된 잔사가 떠올라 제1 주면 S1측에 부착될 가능성이 제로는 아니기 때문에, 잔사의 발생은 최대한 방지하는 것이 바람직하며, 압력 집중 영역 PD는, 급기구(41)로부터도 기판 G의 중심으로부터도 가능한 한 먼 영역(구체적으로는, 급기구(41)로부터 먼 측에서의 기판 G의 단부 또는 그보다 외측)에서 발생시키는 것이 바람직하다.
이상 설명한 바와 같이, 본 실시 형태의 감압 건조 장치(1)에서는, 배기구(31)와 급기구(41)의 배치, 및 배기와 급기의 동작 타이밍을 특징 지음으로써, 압력 집중 영역 PD가 기판의 제1 주면 S1측에 발생할(기판 G의 잔사 불량이 일어남) 가능성을 저하시키는 것이 가능하다.
따라서, 감압 건조 처리에 있어서 종래 행해지고 있던, 메인 퍼지 전에 일정 시간 슬로우 퍼지를 실행함으로써 챔버(10) 내의 급격한 압력 증가를 방지하는 기술을 이용하지 않고도, 기판 G에 있어서의 잔사 불량의 가능성을 저하시킬 수 있다. 즉, 복압 공정을 메인 퍼지(급기압의 강한 급격한 복압) 만으로 실행하는 것이 가능해져, 감압 건조 처리의 택트 업이 실현된다.
＜2. 제2 실시 형태＞
＜2.1 제2 실시 형태에 있어서의 감압 건조 장치(1A)의 구성＞
다음에, 본 발명의 제2 실시 형태에 대해서 설명한다. 도 15는, 제2 실시 형태의 감압 건조 장치(1A)의 주요부 구성의 개략을 나타내는 측면도이다. 또, 도 16은, 제2 실시 형태에 관련된 급기부(40A)(특히, 급기 부재(46))의 외관을 나타내는 모식도이며, 도 16(b)는 도 16(a)의 A-A단면을 나타내고 있다. 또한, 도 15 이후의 각 도에 있어서, 제1 실시 형태와 동일한 요소에 대해서는 동일한 부호를 붙이고 있다.
제2 실시 형태의 감압 건조 장치(1A)는, 제1 실시 형태의 감압 건조 장치(1)의 구성에 있어서, 급기부(40)를 급기부(40A)로 대신한 구성으로 되어 있다. 보다 구체적으로는, 제1 실시 형태에서 챔버(10)의 바닥벽에 설치되며 챔버(10) 내에 개구되어 있던 급기구(41) 대신에, 제2 실시 형태에서는, 슬릿형상의 개구부(47)를 가지는 급기 부재(46)가 챔버(10) 내에 설치된다. 제2 실시 형태의 감압 건조 장치(1)의 잔여의 구성은 제1 실시 형태와 동일하므로, 이들의 설명은 생략한다.
제2 실시 형태의 급기부(40A)는, 배기부(30)에 의해 감압 상태가 된 챔버(10) 내의 압력을 대기압까지 복압시키기 위한 배관계이며, 슬릿형상의 개구부(47)를 가지는 급기 부재(46)와, 가스 공급원(45)으로부터 공급되는 질소를 급기 부재(46)에 보내는 급기관(42)과, 급기관(42)에 설치되는 개폐 밸브(43)와, 유량 조정 밸브(44)와, 가스 공급원(45)을 구비한다.
도 15 및 도 16에 나타내는 바와 같이, 급기 부재(46)는, 챔버(10) 내에 X방향을 따라 연장된 통형상의 부재이며, X방향으로 연장되어 설치된 슬릿형상의 개구부(47)를 가진다. 또, 급기 부재(46)는 +Y공간 영역 L1이며 또한 하부분 공간 L12에 설치되어 있으며, 그 개구부(47)는, 수평면에서 보았을 때에 복압 공정 시에 기판 G가 존재하는 위치보다 챔버(10)의 측벽(10S)측에서, 연직축(Z방향)으로부터 기판 G측으로 각도 θ(0도＜θ＜90도)만큼 경사진 방향으로 개구되어 있다(도 16(a), (b) 참조).
이상과 같은 구성으로 되어 있기 때문에, 제2 실시 형태의 감압 건조 장치(1)에서는, 개구부(47)가, 중심 위치 PO에서 보아 수평 방향 일방측(+Y측)의 하부분 공간 L12에 개구되어 있으며, 상기 수평 방향과 직교하는 방향을 따라 연장된 슬릿형상의 「일방측 급기구」로서 기능한다.
＜2.2 제2 실시 형태에 있어서의 감압 건조 장치(1A)의 효과＞
이하, 본 발명의 제2 실시 형태에 관련된 감압 건조 장치(1A)의 효과에 대해서 설명한다.
도 17, 도 18은, 복압 공정 중에 급기부(40A)에 의한 급기의 영향에 의해 챔버(10) 내에 발생하는 기류 AF2를 개념적으로 나타낸 측면도 및 상면도이다. 또한, 도 18은, 상부 챔버(12) 및 승강 기구(13)에 관련된 구성을 제외한 상면도로 그려져 있다.
상기 서술한 바와 같이, 제2 실시 형태의 개구부(47)(일방측 급기구)는, 수평면에서 보았을 때에 복압 공정 시에 기판 G가 존재하는 위치보다 챔버(10)의 측벽(10S)측에서, 연직축으로부터 기판 G측으로 경사진 방향으로 개구되어 있다. 이 때문에, 개구부(47)로부터 분출되는 분출 기류 AF20은 기판 G의 제1 주면 S1측으로 보다 많이 유동하고, 상기 기판 G의 제1 주면 S1측을 흐르는 기류 AF2가, 기판 G의 제2 주면 S2측을 흐르는 기류 AF2에 비해 상대적으로 빨라진다(도 17, 도 18 참조). 이 결과, 압력 집중 영역 PD(기류의 충돌 개소)가, 기판 G의 제1 주면 S1측에 발생할 가능성을 더 저하시킬 수 있어, 잔사 불량의 리스크가 저하된다.
또한, 제2 실시 형태의 감압 건조 장치(1A)에 있어서, 제1 실시 형태의 감압 건조 장치(1)와 동일한 구성으로 되어 있는 사항에 관해서는, 제1 실시 형태의 감압 건조 장치(1)와 동일한 효과를 얻을 수 있는 것은 말할 필요도 없다.
＜3 변형예＞
이하, 본 발명의 변형예에 대해서 설명한다.
본 발명의 감압 건조 장치(1, 1A)(감압 건조 방법)는, 용제를 포함하는 도포액이 제1 주면 S1 상에 도포된 기판 G에 감압 건조 처리를 행하는 것이면 적용 가능하며, 상기 실시 형태의 구성에 한정되는 것은 아니다.
따라서, 피처리 기판은 액정용의 유리 기판에 한정하는 것이 아니며, 다른 플랫 패널 디스플레이용 기판이나, 반도체 웨이퍼, CD기판, 포토마스크, 프린트 기판 등도 가능하다. 감압 건조 처리 대상의 도포액도 레지스트액에 한정되지 않고, 예를 들어 층간 절연 재료, 유전체 재료, 배선 재료 등의 처리액도 가능하다. 또, 도포 장치(9)와 감압 건조 장치(1, 1A)의 배치 관계도 도 1에 나타내는 구성에 한정되지 않고, 예를 들어, 감압 건조 장치(1)가 다단으로 겹쳐진 구성이어도 되고, 반송 로봇 TR이 복수 구비되는 구성이어도 된다.
챔버(10)의 구조나 형상은 물론, 챔버(10) 안밖의 각 부, 특히, 배기부(30), 급기부(40)의 구조, 일방측 급기구의 개수, 배치 위치 등도, 상기 서술한 실시 형태의 것에 한정되지 않고, 다양한 변형이 가능하다. 즉, 일방측 급기구는 1개여도 되고 복수개여도 된다. 또, 상기 실시 형태에서는, 배기의 온 오프 제어 및 배기력의 제어를 행하기 위해 개폐 밸브(33)와 압력 제어 밸브(34)를 이용하고 있었지만, 이들 대신에, 폐지 상태로부터 전개(全開) 상태까지를 조정 가능한 하나의 밸브를 채용해도 된다. 개폐 밸브(43)와 유량 조정 밸브(44)에 대해서도 마찬가지이다.
도 19는, 상기 제2 실시 형태의 변형예에 관련된 급기 부재(46B)의 외관을 나타내는 모식도이다. 도 19에 나타내는 바와 같이, 급기 부재(46B)는, 일방향으로 연장되는 통형상의 부재이며, 당해 일방향을 따라 등간격으로 배열된 복수의 원형 개구(48)를 일방측 급기구로서 가지고 있다. 이 원형 개구(48)의 개구축도 또한, 도 18(b)의 경우와 동일한 각도 θ만큼 연직축 Z로부터 기울어져 있는 것이 바람직하다. 이 원형 개구(48)의 배열은, 복수의 스폿형상 개구의 배열의 전형예로 되어 있다. 이 급기 부재(46B)를, 제2 실시 형태의 급기 부재(46) 대신에, +Y공간 영역 L1이며 또한 하부분 공간 L12에 X방향을 따라 연장되는 구성을 채용해도 된다.
또, 상기 실시 형태에서는, 슬로우 퍼지를 행하지 않는 복압 공정에 대해서 설명했지만, 이것에 한정되는 것은 아니다. 즉, 메인 퍼지 전에 일정 시간 슬로우 퍼지를 실행해도 된다. 이 경우, 본 발명의 적용과 슬로우 퍼지를 이용한 복압(급격한 압력 변화를 수반하지 않는 복압)에 의해, 잔사 불량의 가능성을 크게 저하시키는 것이 가능하다.
또, 상기 실시 형태에서는, 기판 G의 제1 주면 S1측이 상방이 되도록 지지부(20)에 올려 놓아지는 구성을 나타냈지만, 기판 G의 제1 주면 S1측이 하방이 되는 경우, 즉 처리액이 도포된 주면을 하측을 향해 기판을 유지하고 감압 건조를 행하는 경우에도 본 발명의 감압 건조 장치(1)를 적용할 수 있다. 이 경우에는, 상부분 공간 L11을 「제2 부분 공간」, 하부분 공간 L12를 「제1 부분 공간」과 대응시킴으로써, 상기 실시 형태와 동일한 효과를 얻을 수 있다.
또, 상기 실시 형태에서는, 기판 G의 중심 위치 PO에서 보아 수평 방향 일방측의 「제1 공간 영역 내」에 일방측 급기구가 개구한 구성을 예로 들어 설명했지만, 상기 제1 공간 영역을 「챔버(10) 내의 수평면에서 보았을 때의 영역 중, 기판 G의 중심 위치 PO에서 보아 수평 방향 일방측의 단부로부터의 4분의 1의 영역」으로 규정함으로써, 보다 적합하게 본 발명을 실시할 수 있다. 즉, 일방측 급기구가 수평면에서 보았을 때에 챔버(10)의 단부측으로부터 4분의 1의 영역 내에 배치됨으로써, 복압 공정 시에 기판 G의 제1 주면 S1 상에서 제1 공간 영역으로부터 제2 공간 영역을 향한 보다 강한 일방향 기류가 형성되어, 압력 집중 영역 PD가 기판의 상방에서 발생하기 어려워지기 때문에, 잔사 불량의 방지 효과가 특히 높아진다.
또, 본 발명의 감압 건조 장치(1, 1A)에서는, 챔버(10) 내의 복압을, 제1 공간 영역 내에 개구되어 있는 적어도 1개의 일방측 급기구를 통해서 급기함으로써 행한다. 즉, 본 발명의 감압 건조 장치(1)에서는, 복압 공정에 있어서 이용하는 일방측 급기구가 제1 공간 영역 내에 배치되어 있으면 충분하며, 다른 공정에서 이용하는 급기구에 대해서는 제2 공간 영역이나 중심 부분에 배치되어 있어도 상관없다.
1 감압 건조 장치 8 제어부
9 도포 장치 10 챔버
10S 측벽 11 하부 챔버
12 상부 챔버 13 승강 기구
20 지지부 21 지지 핀
22 지지판 24 승강 기구
30 배기부 31, 31a, 31b, 31c, 31d 배기구
32, 32a, 32b, 32c, 32d 배기관 33, 33a, 33b, 33c, 33d 개폐 밸브
34 압력 제어 밸브 35 진공 펌프
40 급기부
41, 41a, 41b, 41c, 41d 급기구(일방측 급기구)
42, 42a, 42b, 42c, 42d 급기관
43, 43a, 43b, 43c, 43d 개폐 밸브
44, 44a, 44b, 44c, 44d 유량 조정 밸브
45 가스 공급원 46, 46B 급기 부재
50 압력 센서 AF1, AF2 기류
AF10 흡인 기류 AF20 분출 기류
FG 핑거부 G 기판
L 처리 공간 L1 +Y공간 영역
L2 -Y공간 영역 L11 상부분 공간
L12 하부분 공간 PD 압력 집중 영역
PO 중심 위치 TR 반송 로봇

Claims (7)

  1. 제1 주면과 제2 주면을 가짐과 함께 용제를 포함하는 도포액이 상기 제1 주면 상에 도포된 기판에 감압 건조 처리를 행하는 감압 건조 장치에 있어서,
    상기 기판을 수용하는 챔버와,
    상기 챔버 내에서 상기 기판을 수평 자세로 지지하는 지지부와,
    상기 챔버 내에 개구한 배기구를 통해서 상기 챔버 내를 배기하는 배기부와,
    상기 챔버 내에 개구한 급기구를 통해서 상기 챔버 내로 급기하는 급기부와,
    상기 배기부에 의한 상기 배기 및 상기 급기부에 의한 상기 급기를 제어하는 제어부를 구비하고,
    상기 급기구에는, 소정의 수평 방향에 대해서, 상기 지지부에 의해 지지된 상기 기판의 중심에서 보아 일방측의 제1 공간 영역 내에 개구한 적어도 1개의 일방측 급기구가 포함되어 있으며,
    상기 제어부는, 상기 챔버 내에서 기판의 감압 건조가 행해진 후, 상기 급기부를 제어하여 상기 챔버 내를 복압(復壓)할 때에, 상기 일방측 급기구를 이용하여 상기 챔버 내로 급기시킴으로써, 상기 수평 방향에 대해서, 상기 제1 공간 영역으로부터 상기 중심을 넘어 타방측의 제2 공간 영역 내로 향하는 일방향 기류가, 상기 기판의 상기 제1 주면 및 상기 제2 주면상에 형성되고,
    상기 챔버의 내부 공간에 관해서, 상기 복압 시에 있어서의 상기 기판의 높이로 규정한 가상 수평면을 경계로 하여, 상기 제1 주면측의 제1 부분 공간과, 상기 제2 주면측의 제2 부분 공간을 정의했을 때,
    상기 일방측 급기구가, 상기 제2 부분 공간에 설치되어 상기 제1 공간 영역 내에 개구됨과 함께, 상기 제1 부분 공간을 향해 개구되어 있고,
    상기 배기구가 제2 부분 공간에 설치되고,
    상기 일방측 급기구는, 수평면에서 보았을 때에 상기 배기구보다 상기 챔버의 측벽측에서 개구되어 있으며,
    상기 감압 건조를 종료시키고 상기 복압으로 이행할 때에, 상기 배기구 위치에서의 배기압이 소실되기 전에 상기 일방측 급기구의 위치에서의 급기압이 상승하는 타이밍 관계가 되도록, 상기 제어부가 상기 급기부 및 상기 배기부의 동작 시퀀스를 제어하는 것을 특징으로 하는 감압 건조 장치.
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 일방측 급기구가, 수평면에서 보았을 때에 상기 복압 시에 있어서의 상기 기판의 존재 위치보다 상기 챔버의 측벽측에서 개구되어 있으며, 또한, 연직축으로부터 상기 기판측으로 경사진 방향으로 개구되어 있는 것을 특징으로 하는 감압 건조 장치.
  5. 청구항 1 또는 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 일방측 급기구는, 상기 수평 방향에 직교하는 방향을 따라 배열된 복수의 스폿형상의 개구가 되어 있는 것을 특징으로 하는 감압 건조 장치.
  6. 청구항 1 또는 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 일방측 급기구는, 상기 수평 방향에 직교하는 방향을 따라 연장된 슬릿형상의 개구가 되어 있는 것을 특징으로 하는 감압 건조 장치.
  7. 제1 주면과 제2 주면을 가짐과 함께 용제를 포함하는 도포액이 상기 제1 주면 상에 도포된 기판에 감압 건조 처리를 행하는 감압 건조 방법에 있어서,
    수평 자세로 상기 기판을 수용한 챔버 내를 감압하는 감압 공정과,
    상기 감압 공정 후에, 상기 챔버 내를 복압하는 복압 공정을 구비하고,
    상기 복압 공정에 있어서는, 상기 챔버 내에 있어서, 소정의 수평 방향에 대해서 상기 기판의 중심에서 보아 일방측의 제1 공간 영역으로부터 상기 중심을 넘어 타방측의 제2 공간 영역 내로 향하는 일방향 기류를, 상기 기판의 상기 제1 주면 및 상기 제2 주면상에 형성시키고,
    상기 챔버의 내부 공간에 관해서, 상기 복압 시에 있어서의 상기 기판의 높이로 규정한 가상 수평면을 경계로 하여, 상기 제1 주면측의 제1 부분 공간과, 상기 제2 주면측의 제2 부분 공간을 정의했을 때,
    상기 챔버 내로 급기하기 위한 급기구가, 상기 제2 부분 공간에 설치되어 상기 제1 공간 영역 내에 개구됨과 함께, 상기 제1 부분 공간을 향해 개구되어 있고,
    상기 챔버 내를 배기하기 위한 배기구가 상기 제2 부분 공간에 설치되고,
    상기 급기구는, 수평면에서 보았을 때에 상기 배기구보다 상기 챔버의 측벽측에서 개구되어 있으며,
    상기 감압 건조를 종료시키고 상기 복압으로 이행할 때에, 상기 배기구 위치에서의 배기압이 소실되기 전에 상기 급기구의 위치에서의 급기압이 상승하는 타이밍 관계가 되도록, 상기 급기구 및 상기 배기구를 통한 급기 및 배기 동작을 제어하는 것을 특징으로 하는 감압 건조 방법.


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