CN107219727B - 减压干燥设备 - Google Patents

减压干燥设备 Download PDF

Info

Publication number
CN107219727B
CN107219727B CN201710479323.7A CN201710479323A CN107219727B CN 107219727 B CN107219727 B CN 107219727B CN 201710479323 A CN201710479323 A CN 201710479323A CN 107219727 B CN107219727 B CN 107219727B
Authority
CN
China
Prior art keywords
sub
platform
modules
substrate
photoresist
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201710479323.7A
Other languages
English (en)
Other versions
CN107219727A (zh
Inventor
金建龙
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Original Assignee
Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co Ltd filed Critical Wuhan China Star Optoelectronics Technology Co Ltd
Priority to CN201710479323.7A priority Critical patent/CN107219727B/zh
Publication of CN107219727A publication Critical patent/CN107219727A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN107219727B publication Critical patent/CN107219727B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/16—Coating processes; Apparatus therefor
    • G03F7/168—Finishing the coated layer, e.g. drying, baking, soaking
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs

Abstract

本发明提供一种减压干燥设备，包括密封腔室，所述密封腔室设置有承载平台，所述承载平台用以承载表面涂布有光刻胶的基板，所述承载平台上还设置有温度调节模块，以对所述基板进行局部温度调控，使得所述基板表面各区域的光刻胶干燥程度均匀；本发明能够使基板表面各区域的光刻胶干燥程度均匀，从而提高基板表面光刻胶的显影均一性。

Description

减压干燥设备
技术领域
本发明涉及基板制造技术领域，尤其涉及一种减压干燥设备。
背景技术
TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display，简称薄膜晶体管液晶显示器)的基板制作过程中，真空减压干燥(Vacuum Dry，简称VCD)是一道重要的工序。真空减压干燥是对涂布有光致抗蚀剂等膜层的涂覆液的基板进行减压干燥处理，使得膜层固化。
完整的光刻工艺通过光刻胶涂覆制程，曝光制程，显影制程三个主体步骤，完成基板上精密图形的定义。在涂覆制程后的减压干燥工序中，将涂布有光刻胶的基板置于密封腔室内，密封腔室内抽真空，使得光刻胶溶剂达到饱和蒸汽压快速挥发，挥发汽体进而随气流被抽走，达到初步干燥光刻胶的目的。
现有技术的减压干燥设备，抽真空时，基板上方气流从中间往两侧移动，然而，中间区域受气流影响小，该区域光刻胶容易发生干燥不足的现象，基板表面的光刻胶干燥均一性不足会降低显影精度，进而导致产品特征线宽(CD)均一性不满足要求，进一步会影响显示面板的显示效果。
综上所述，现有技术的减压干燥设备，对基板表面的光刻胶进行干燥后，位于基板中间区域的光刻胶干燥不足，导致后续制程无法对基板上的图形进行精密定义，进而影响显示面板的显示品质。
发明内容
本发明提供一种减压干燥设备，能够使基板表面各区域的光刻胶干燥程度均匀，从而提高基板表面光刻胶的显影均一性。
为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：
本发明提供一种减压干燥设备，用于对涂布于基板表面的光刻胶进行减压干燥处理，包括：
密封腔室，包括上盖以及与所述上盖相对设置的底盖，所述上盖与所述底盖密闭结合；
气压调节装置，包括开设于所述底盖表面的排气孔与进气孔；所述进气孔处设置有气阀，所述排气孔处连接有气泵；
承载平台，位于所述密封腔室内，所述承载平台用以承载表面涂布有光刻胶的基板；以及：
温度调节模块，设置于所述承载平台上；所述温度调节模块至少包括一加热子模块和一冷却子模块；
其中，所述温度调节模块用以对所述基板进行局部温度调控，使得所述基板表面各区域的光刻胶干燥程度均匀。
根据本发明一优选实施例，所述温度调节模块分布于所述承载平台上，并且，所述温度调节模块分布在所述承载平台中心区域的密度，大于所述温度调节模块分布在其余区域的密度。
根据本发明一优选实施例，所述温度调节模块嵌设于所述承载平台内，并且，所述温度调节模块的加热子模块靠近所述承载平台的上表面，所述冷却子模块贴合于所述加热子模块的底部。
根据本发明一优选实施例，所述承载平台至少包括第一子平台与第二子平台，所述第一子平台与所述第二子平台位于同一高度；
所述第一子平台与所述第二子平台上均设置有所述温度调节模块。
根据本发明一优选实施例，位于所述第一子平台上的各所述加热子模块共同接入第一控制信号，位于所述第一子平台上的各所述冷却子模块共同接入第二控制信号；
位于所述第二子平台上的各所述加热子模块共同接入第三控制信号，位于所述第二子平台上的各所述冷却子模块共同接入第四控制信号。
根据本发明一优选实施例，各所述加热子模块独立接入第一控制信号，各所述冷却子模块独立接入第二控制信号。
根据本发明一优选实施例，分布在所述承载平台中心区域的所述温度调节模块，其端部朝向第一方向，分布在所述承载平台其余区域的所述温度调节模块，其端部朝向第二方向，所述第二方向与所述第一方向相互垂直。
根据本发明一优选实施例，分布于所述承载平台中心区域的所述温度调节模块，其长度小于位于其余区域的所述温度调节模块，其宽度大于位于其余区域的所述温度调节模块。
根据本发明一优选实施例，所述加热子模块为红外热辐射源，所述冷却子模块为循环水冷器。
根据本发明一优选实施例，所述排气孔为两个，且分别靠近所述底盖两端设置。
根据本发明一优选实施例，所述承载平台底部通过支撑杆支撑，所述支撑杆连接有升降装置。
本发明的有益效果为：相较于现有的减压干燥设备，本发明的减压干燥设备通过在承载平台上设置温度调节模块，可针对性地对基板各区域进行温度调控，使基板表面各区域的光刻胶具有相同的干燥效果，能够使基板表面各区域的光刻胶干燥程度均匀，从而提高基板表面光刻胶的显影均一性；解决了现有技术的减压干燥设备，对基板表面的光刻胶进行干燥后，位于基板中间区域的光刻胶的干燥效果不足，导致后续制程无法对基板上的图形进行精密定义，进而影响显示面板的显示品质的技术问题。
附图说明
为了更清楚地说明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明的减压干燥设备的一结构示意图。
图2为本发明的温度调节模块一俯视结构示意图；
图3为本发明的温度调节模块又一俯视结构示意图。
具体实施方式
以下各实施例的说明是参考附加的图示，用以例示本发明可用以实施的特定实施例。本发明所提到的方向用语，例如[上]、[下]、[前]、[后]、[左]、[右]、[内]、[外]、[侧面]等，仅是参考附加图式的方向。因此，使用的方向用语是用以说明及理解本发明，而非用以限制本发明。在图中，结构相似的单元是用以相同标号表示。
本发明针对现有技术的减压干燥设备中，对基板表面的光刻胶进行干燥后，位于基板中间区域的光刻胶的干燥效果不足，导致后续制程无法对基板上的图形进行精密定义，进而影响显示面板的显示品质的技术问题，本实施例能够解决该缺陷。
如图1所示，本发明提供一种减压干燥设备，包括一密封腔室101，所述密封腔室101表面开设有用以调节内部气压的排气孔与进气孔，所述密封腔室101内设置有用以盛放基板102的承载平台103，所述基板102表面涂布有光刻胶105，所述承载平台103表面分布设置有顶针104，所述顶针104顶端用以支撑所述基板102，所述承载平台103上还设置有温度调节模块106。
所述密封腔室101，至少包括一上盖1011与一底盖1012，所述上盖1011包括上盖板，所述上盖板底部设置有第一侧壁，所述下盖包括底板，所述底板上部设置有与所述第一侧壁相对应的第二侧壁，所述上盖1011与所述底盖1012紧密结合，所述上盖1011可与所述下盖相分离，以打开所述密封腔室101，将待干燥处理的所述基板102放置于所述承载平台103上，或将干燥处理后的所述基板102从所述密封腔室101内取出。
所述排气孔至少为两个，即第一排气孔1013与第二排气孔1014，所述第一排气孔1013靠近所述底盖1012的一端设置，所述第二排气孔1014靠近所述底盖1012的相对另一端设置。
所述承载平台103设置于所述密封腔室101内相对居中的位置，使得所述承载平台103相对的两端部与所述密封腔室101的侧壁之间存在第一空隙，并且，所述承载平台103表面与所述上盖1011的上盖板之间具有第二空隙，所述承载平台103相对的端部与所述密封腔室101的侧壁之间的第一空隙以及所述承载平台103表面与上盖板之间的第二空隙形成风道，所述第一排气孔1013位于所述风道的一端，所述第二排气孔1014位于所述风道的相对另一端；所述第一排气孔1013连接有第一气泵1017，所述第二排气孔1014连接有第二气泵1018，当所述第一气泵1017与所述第二气泵1018开启，所述风道内的气体流动以将所述密封腔室101内的汽体排出，所述汽体包括空气，水蒸气，其它液体所挥发的气体、蒸汽等中的任意一者或一者以上的组合。
所述承载平台103底部设置有支撑杆107，所述支撑杆107连接有用以调节所述承载平台103高度的升降气缸(升降装置)。
所述进气孔与所述排气孔结合以调节所述密封腔室101内的气压，所述密封腔室101内的气压达到光刻胶105溶剂的饱和蒸气压，会使光刻胶105溶剂迅速蒸发，蒸发的所述汽体经所述风道排出；所述进气孔包括第一进气孔1015与第二进气孔1016，所述第一进气孔1015靠近所述第一排气孔1013设置，所述第二进气孔1016靠近所述第二排气孔1014设置，从而将所述第一排气孔1013与所述第二排气孔1014靠近所述底盖1012的两侧设置，在进气时，以保持所述密封腔室101内整体气压的均衡。
所述承载平台103包括一壳体，所述壳体内形成有容腔，所述容腔内设置有所述温度调节模块106，所述温度调节模块106包括一加热子模块1061与一冷却子模块1062，其中，所述加热子模块1061与所述冷却子模块1062层叠设置，并且，所述加热子模块1061位于所述冷却子模块1062上方，贴近所述承载平台103的上表面，进而靠近位于所述承载平台103表面的所述基板102，以发挥较佳的加热效果，所述冷却子模块1062贴设于所述加热子模块1061的底部，以对相应的所述加热子模块1061迅速降温。
所述承载平台103上设置的所述温度调节模块106至少为一个，当所述温度调节模块106为一个时，所述温度调节模块106设置于所述承载平台103的中心区域，以对所述基板102的中心区域进行温度调控。
当所述承载平台103上设置的所述温度调节模块106为至少两个时，所述温度调节模块106分散设置于所述承载平台103上；以对所述承载平台103上的所述基板102进行局部温度调控，使得所述基板102表面各区域的光刻胶105干燥程度均匀。
如图2所示，本发明所提供的减压干燥设备，包括密封腔室201，所述密封腔室201内设置有承载平台203，所述承载平台203上分布有所述温度调节模块206；各所述温度调节模块206均包括一加热子模块与一冷却子模块，各所述加热子模块独立接入第一控制信号，各所述冷却子模块独立接入第二控制信号，使得分布于所述承载平台203表面的各加热子模块与冷却子模块均可独立控制开闭，从而提升对基板表面温度的控制精度。
由于所述基板中心区域对应的光刻胶受气流带动影响较小，位于所述密封腔室201内与所述中心区域对应的位置处的所述汽体难以排除，因此，所述温度调节模块206在所述承载平台203上的分布为非均匀分布，所述温度调节模块206分布在所述承载平台203的中心区域202的密度大于所述温度调节模块206分布在其余区域的密度；以增加所述承载平台203的中心区域202的所述温度调节模块206的数量，进而增加所述温度调节模块206在所述承载平台203的中心区域202的覆盖率，进一步加强对所述基板中心区域的光刻胶的干燥。
分布在所述承载平台203的中心区域202的所述温度调节模块206，其端部朝向第一方向，分布在所述承载平台203其余区域的所述温度调节模块206，其端部朝向第二方向，所述第二方向与所述第一方向相互垂直；以便于增加分布在所述承载平台203的中心区域202的所述温度调节模块206的密度。
分布于所述承载平台203的中心区域202的所述温度调节模块206，其长度小于位于其余区域的所述温度调节模块206，其宽度大于位于其余区域的所述温度调节模块206；进而使得分布在所述承载平台203的中心区域202的所述温度调节模块206的尺寸相对缩小，从而在所述承载平台203的中心区域202能够分布较多数量的所述温度调节模块206，以提高对所述承载平台203的中心区域202的温度控制精度。
设置于所述承载平台203的中心区域202的所述温度调节模块206呈同心圆形分布，使得相邻的所述温度调节模块206之间连接紧密，热量相互传递，利于对局部区域的快速升温与降温。
本发明的减压干燥设备，可独立对所述温度调节模块206的覆盖区域进行温度调控，以对所述基板干燥不足的区域进行温度干预，以使对应区域的光刻胶达到与其余区域具有相同的干燥程度。
分布于所述承载平台203上的全部所述温度调节模块206亦可同时开启，以加快整个所述基板表面的光刻胶溶剂的蒸发，从而加速光刻胶的固化，缩短制程时间。
如图3所示，本发明所提供的减压干燥设备，包括密封腔室301，所述密封腔室301内设置有承载平台303，所述承载平台303上分布有所述温度调节模块306。
与图2所示的所述减压干燥设备的区别在于，所述承载平台303包括多个子平台，例如，所述承载平台303包括第一子平台与所述第二子平台；所述第一子平台与所述第二子平台平行或近似平行，且所述第一子平台与所述第二子平台位于相同高度，所述基板置于所述第一子平台与所述第二子平台上。
位于所述第一子平台上的各所述加热子模块共同接入第一控制信号，位于所述第一子平台上的各所述冷却子模块共同接入第二控制信号；位于所述第二子平台上的各所述加热子模块共同接入第三控制信号，位于所述第二子平台上的各所述冷却子模块共同接入第四控制信号，即位于同一子平台上的所述加热子模块或所述冷却子模块可同时控制，以提高对所述温度调节模块306的控制效率。
又如，所述承载平台303包括五个所述子平台，各所述子平台上均设置有所述温度调节模块306，位于同一子平台上的所述加热子模块或所述冷却子模块可同时控制。
所述温度调节模块306在所述承载平台303上的分布，所述温度调节模块306分布在所述承载平台303的中心区域302的密度，大于所述温度调节模块306分布在其余区域的密度；以增加所述承载平台303的中心区域302的所述温度调节模块306的数量，进而增加所述温度调节模块306在所述承载平台303的中心区域302的覆盖率，进一步加强对所述基板中心区域的光刻胶的干燥。
本发明的有益效果为：相较于现有的减压干燥设备，本发明的减压干燥设备通过在承载平台上设置温度调节模块，可针对性地对基板各区域进行温度调控，使基板表面各区域的光刻胶具有相同的干燥效果，能够使基板表面各区域的光刻胶干燥程度均匀，从而提高基板表面光刻胶的显影均一性；解决了现有技术的减压干燥设备，对基板表面的光刻胶进行干燥后，位于基板中间区域的光刻胶的干燥效果不足，导致后续制程无法对基板上的图形进行精密定义，进而影响显示面板的显示品质的技术问题。
综上所述，虽然本发明已以优选实施例揭露如上，但上述优选实施例并非用以限制本发明，本领域的普通技术人员，在不脱离本发明的精神和范围内，均可作各种更动与润饰，因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (7)

1.一种减压干燥设备，用于对涂布于基板表面的光刻胶进行减压干燥处理，其特征在于，包括：
密封腔室，包括上盖以及与所述上盖相对设置的底盖，所述上盖与所述底盖密闭结合；
气压调节装置，包括开设于所述底盖表面的排气孔与进气孔；所述进气孔处设置有气阀，所述排气孔处连接有气泵；
承载平台，位于所述密封腔室内，所述承载平台用以承载表面涂布有光刻胶的基板；以及；
温度调节模块，设置于所述承载平台上；所述温度调节模块至少包括一加热子模块和一冷却子模块；
其中，所述冷却子模块贴设于所述加热子模块的底部，以对相应的所述加热子模块迅速降温，所述温度调节模块用以对所述基板进行局部温度调控，使得所述基板表面各区域的光刻胶干燥程度均匀，所述温度调节模块分布于所述承载平台上，并且，所述温度调节模块分布在所述承载平台中心区域的密度，大于所述温度调节模块分布在其余区域的密度，设置于所述承载平台的中心区域的所述温度调节模块呈同心圆形分布。
2.根据权利要求1所述的减压干燥设备，其特征在于，所述承载平台至少包括第一子平台与第二子平台，所述第一子平台与所述第二子平台位于同一高度；
所述第一子平台与所述第二子平台上均设置有所述温度调节模块。
3.根据权利要求2所述的减压干燥设备，其特征在于，
位于所述第一子平台上的各所述加热子模块共同接入第一控制信号，位于所述第一子平台上的各所述冷却子模块共同接入第二控制信号；
位于所述第二子平台上的各所述加热子模块共同接入第三控制信号，位于所述第二子平台上的各所述冷却子模块共同接入第四控制信号。
4.根据权利要求2所述的减压干燥设备，其特征在于，各所述加热子模块独立接入第一控制信号，各所述冷却子模块独立接入第二控制信号。
5.根据权利要求1至2中任一项权利要求所述的减压干燥设备，其特征在于，分布在所述承载平台中心区域的所述温度调节模块，其端部朝向第一方向，分布在所述承载平台其余区域的所述温度调节模块，其端部朝向第二方向，所述第二方向与所述第一方向相互垂直。
6.根据权利要求1所述的减压干燥设备，其特征在于，所述加热子模块为红外热辐射源，所述冷却子模块为循环水冷器。
7.根据权利要求1所述的减压干燥设备，其特征在于，所述排气孔为两个，且分别靠近所述底盖两端设置。
CN201710479323.7A 2017-06-22 2017-06-22 减压干燥设备 Active CN107219727B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710479323.7A CN107219727B (zh) 2017-06-22 2017-06-22 减压干燥设备

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201710479323.7A CN107219727B (zh) 2017-06-22 2017-06-22 减压干燥设备

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN107219727A CN107219727A (zh) 2017-09-29
CN107219727B true CN107219727B (zh) 2021-02-02

Family

ID=59950104

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201710479323.7A Active CN107219727B (zh) 2017-06-22 2017-06-22 减压干燥设备

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN107219727B (zh)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107894741B (zh) * 2017-11-06 2020-03-17 西安交通大学 一种溶液环境可控的高性能薄膜制备装备
US10871325B2 (en) 2018-11-15 2020-12-22 Wuhan China Star Optoelectronics Semiconductor Display Technology Co., Ltd. Vaccum drying apparatus
CN109445251B (zh) * 2018-11-15 2020-06-30 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 一种减压干燥设备
CN112838180A (zh) * 2021-01-07 2021-05-25 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 真空干燥装置

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014126263A (ja) * 2012-12-26 2014-07-07 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 減圧乾燥装置および減圧乾燥方法
KR20160066607A (ko) * 2014-12-02 2016-06-13 삼성디스플레이 주식회사 감압건조장치 및 이를 이용한 감압건조방법

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5089288B2 (ja) * 2007-01-26 2012-12-05 大日本スクリーン製造株式会社 減圧乾燥装置
CN202860803U (zh) * 2012-10-31 2013-04-10 京东方科技集团股份有限公司 一种减压干燥装置
CN103707451A (zh) * 2013-12-27 2014-04-09 京东方科技集团股份有限公司 一种基板真空干燥装置和基板真空干燥方法
CN106111487B (zh) * 2016-06-27 2019-11-12 昆山国显光电有限公司 一种基板减压干燥系统及其干燥方法
CN205762150U (zh) * 2016-07-05 2016-12-07 北京京东方显示技术有限公司 一种减压干燥设备

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014126263A (ja) * 2012-12-26 2014-07-07 Dainippon Screen Mfg Co Ltd 減圧乾燥装置および減圧乾燥方法
KR20160066607A (ko) * 2014-12-02 2016-06-13 삼성디스플레이 주식회사 감압건조장치 및 이를 이용한 감압건조방법

Also Published As

Publication number Publication date
CN107219727A (zh) 2017-09-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN107219727B (zh) 减压干燥设备
KR100875597B1 (ko) 가열처리장치
US20170372926A1 (en) Substrate treating unit, baking apparatus including the same, and substrate treating method using baking apparatus
US20180182611A1 (en) Thermal treatment apparatus, thermal treatment method, and non-transitory computer storage medium
JPH11329926A (ja) 基板冷却装置および基板冷却方法
US10871325B2 (en) Vaccum drying apparatus
KR100324440B1 (ko) 치수 정밀도가 높은 포토마스크를 형성할 수 있는 포토마스크형성 방법 및 열처리장치
US20050205007A1 (en) Apparatus for uniformly baking substrates such as photomasks
JP2011044663A (ja) 加熱処理装置
JP3619876B2 (ja) 加熱処理装置
KR20210055362A (ko) 반송 유닛, 이를 포함하는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
US7384595B2 (en) Heat-treating apparatus and heat-treating method
JP3847473B2 (ja) 基板熱処理装置および基板熱処理方法
JP3504436B2 (ja) 基板の枚葉式熱処理装置
CN109445251B (zh) 一种减压干燥设备
CN1287423C (zh) 包括采用热管制造的冷却装置的烘干系统
JP4079596B2 (ja) 加熱処理装置
KR20190068121A (ko) 베이크공정용 가열유닛 및 이를 포함하는 베이크장치
JP4302646B2 (ja) 加熱処理装置
US11469135B2 (en) Substrate placing part that is arranged in substrate processing apparatus
KR102611238B1 (ko) 가열 처리 장치
JP2006100719A (ja) 熱処理装置
JP2001237171A (ja) 加熱処理装置
JP2003037033A (ja) 熱処理装置
KR20240051840A (ko) 감압 건조 장치 및 감압 건조 방법

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
GR01 Patent grant
GR01 Patent grant