JP4879304B2 - 減圧乾燥装置及び減圧乾燥方法 - Google Patents
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Description
本発明の第2の観点における減圧乾燥装置は、被処理基板上に形成された塗布液の膜を減圧状態で乾燥させるための減圧乾燥装置であって、基板を出し入れ可能に収容する減圧可能なチャンバと、前記チャンバ内で基板を載置する載置部と、 水平な第1の方向において前記チャンバ内の前記載置部の片側に設けられる第1の給気ポートを有し、前記第1の給気ポートを介して前記チャンバ内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給部と、前記チャンバ内で前記第1の給気ポートと前記載置部との間の第1の領域を除く第2の領域に設けられる排気ポートを有し、前記排気ポートを介して前記チャンバ内を真空排気する排気部と、前記第1の給気ポートより噴出した不活性ガスの多くが前記載置部および前記基板の上を通過して前記排気ポートに到達するように不活性ガスの気流のルートを規制する第1のモードと不活性ガスに対する前記気流ルートの規制を実質的に解除する第2のモードとの間で切り換え可能な気流制御部とを具備し、前記気流制御部は、前記第1の方向と直交する水平な第2の方向において前記チャンバの側壁の内側で前記載置部の両側に配置される第1の仕切板と、前記第1の仕切板を、前記第1のモード用の第1の高さ位置と、前記第2のモード用の第2の高さ位置との間で昇降移動させる第1の昇降機構とを有する。
本発明の第2の観点における減圧乾燥方法は、基板を出し入れ可能に収容する減圧可能なチャンバと、前記チャンバ内で基板を載置する載置部と、水平な第1の方向において前記チャンバ内の前記載置部の片側に設けられる第1の給気ポートを有し、前記第1の給気ポートを介して前記チャンバ内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給部と、前記チャン内で前記第1の給気ポートと前記載置部との間の第1の領域を除く第2の領域に設けられる排気ポートを有し、前記排気ポートを介して前記チャンバ内を真空排気する排気部とを有する減圧乾燥装置を用いて、被処理基板上に形成された塗布液の膜を減圧状態で乾燥させるための減圧乾燥方法であって、前記第1の給気ポートより噴出した不活性ガスの多くが前記載置部および前記基板の上を通過して前記排気ポートに到達するように不活性ガスの気流のルートを規制する第1のモードと、不活性ガスに対する前記気流ルートの規制を実質的に解除する第2のモードとを選択的に切り換え、前記第1の方向と直交する水平な第2の方向において前記チャンバの側壁の内側で前記載置部の両側に配置される第1の仕切板を使用し、前記第1の仕切板の高さ位置を、前記第1のモード用の第1の高さ位置と、前記第2のモード用の第2の高さ位置との間で切り換える。
Claims (19)
- 被処理基板上に形成された塗布液の膜を減圧状態で乾燥させるための減圧乾燥装置であって、
基板を出し入れ可能に収容する減圧可能なチャンバと、
前記チャンバ内で基板を載置する載置部と、
水平な第1の方向において前記チャンバ内の前記載置部の片側に設けられる第1の給気ポートを有し、前記第1の給気ポートを介して前記チャンバ内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給部と、
前記チャンバ内で前記第1の給気ポートと前記載置部との間の第1の領域を除く第2の領域に設けられる排気ポートを有し、前記排気ポートを介して前記チャンバ内を真空排気する排気部と、
前記第1の給気ポートより噴出した不活性ガスの一部が前記載置部に載置されている前記基板の下を通過することなく不活性ガスの多くが前記載置部および前記基板の上を通過して前記排気ポートに到達するように不活性ガスの気流のルートを規制する第1のモードと不活性ガスに対する前記気流ルートの規制を実質的に解除する第2のモードとの間で切り換え可能な気流制御部と
を有する減圧乾燥装置。 - 被処理基板上に形成された塗布液の膜を減圧状態で乾燥させるための減圧乾燥装置であって、
基板を出し入れ可能に収容する減圧可能なチャンバと、
前記チャンバ内で基板を載置する載置部と、
水平な第1の方向において前記チャンバ内の前記載置部の片側に設けられる第1の給気ポートを有し、前記第1の給気ポートを介して前記チャンバ内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給部と、
前記チャンバ内で前記第1の給気ポートと前記載置部との間の第1の領域を除く第2の領域に設けられる排気ポートを有し、前記排気ポートを介して前記チャンバ内を真空排気する排気部と、
前記第1の給気ポートより噴出した不活性ガスの多くが前記載置部および前記基板の上を通過して前記排気ポートに到達するように不活性ガスの気流のルートを規制する第1のモードと不活性ガスに対する前記気流ルートの規制を実質的に解除する第2のモードとの間で切り換え可能な気流制御部と
を具備し、
前記気流制御部は、
前記第1の方向と直交する水平な第2の方向において前記チャンバの側壁の内側で前記載置部の両側に配置される第1の仕切板と、
前記第1の仕切板を、前記第1のモード用の第1の高さ位置と、前記第2のモード用の第2の高さ位置との間で昇降移動させる第1の昇降機構と
を有する、減圧乾燥装置。 - 前記第1の仕切板は、前記第1の高さ位置では前記チャンバの底面から天井に接する高さか、またはその近くの高さまで鉛直方向に突出し、前記第2の高さ位置ではその上端が前記チャンバの底面に近い高さか、またはそれよりも低い高さになるように沈む、請求項2に記載の減圧乾燥装置。
- 前記第1の仕切板は、前記第1の方向において、前記第1の給気ポートの近くの位置から前記載置部の反対側の位置まで延びる、請求項2または請求項3記載の減圧乾燥装置。
- 前記気流制御部は、
前記載置部の少なくとも前記第1の給気ポートと対向する側の傍らに配置された第2の仕切板と、
前記第2の仕切板を、前記第1のモード用の第3の高さ位置と前記第2のモード用の第4の高さ位置との間で昇降移動させる第2の昇降機構と
を有する、請求項2〜4のいずれか一項に記載の減圧乾燥装置。 - 前記第2の仕切板は、前記第3の高さ位置では前記チャンバの底面から基板の裏面に接する高さか、またはその近くの高さまで鉛直方向に突出し、前記第4の高さ位置ではその上端が前記チャンバの底面に近い高さかまたはそれよりも低い高さになるように沈む、請求項5に記載の減圧乾燥装置。
- 前記第2の仕切板は、前記載置部の前記第1の給気ポートと対向する側の傍らで前記第2の方向に延びる第1の平板部と、前記載置部の前記第1の仕切板と対向する側の傍らで前記第1の方向に延びる第2の平板部とを有する、請求項5または請求項6に記載の減圧乾燥装置。
- 前記不活性ガス供給部は、前記第2の領域に第2の給気ポートを有し、基板上の塗布膜が前記第1のモードで減圧乾燥処理を受ける時は、その処理中に前記第2の給気ポートを閉じるとともに前記第1の給気ポートを開けて前記チャンバ内に不活性ガスを供給し、減圧乾燥処理の終了後に前記第2のモードで前記チャンバ内の圧力を大気圧に戻す時は、前記第1および第2の給気ポートの全部を開けて前記チャンバ内に不活性ガスを供給する、請求項1〜7のいずれか一項に記載の減圧乾燥装置。
- 前記不活性ガス供給部は、基板上の塗布膜が前記第2のモードで減圧乾燥処理を受ける時は、その処理中に前記第1および第2の給気ポートの全部を開けて前記チャンバ内に不活性ガスを供給する、請求項8に記載の減圧乾燥装置。
- 前記チャンバは平面視で矩形であり、その四辺の中の一辺のチャンバ側壁に近接して前記第1の給気ポートが設けられ、残りの三辺の一部または全部のチャンバ側壁に近接して前記第2の給気ポートが設けられる、請求項8または請求項9に記載の減圧乾燥装置。
- 前記排気部は、前記第2の領域内で前記排気ポートを前記載置部の周囲に複数設け、前記第1のモードで前記チャンバ内の真空排気を行う時は前記載置部から見て前記第1の給気ポートに相対的に近い排気ポートを閉じて前記第1の給気ポートから相対的に離れている排気ポートを開け、前記第2のモードで前記チャンバ内の真空排気を行う時は前記複数の排気ポートを全部開ける、請求項1〜10のいずれか一項に記載の減圧乾燥装置。
- 基板を出し入れ可能に収容する減圧可能なチャンバと、前記チャンバ内で基板を載置する載置部と、水平な第1の方向において前記チャンバ内の前記載置部の片側に設けられる第1の給気ポートを有し、前記第1の給気ポートを介して前記チャンバ内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給部と、前記チャン内で前記第1の給気ポートと前記載置部との間の第1の領域を除く第2の領域に設けられる排気ポートを有し、前記排気ポートを介して前記チャンバ内を真空排気する排気部とを有する減圧乾燥装置を用いて、被処理基板上に形成された塗布液の膜を減圧状態で乾燥させるための減圧乾燥方法であって、
前記第1の給気ポートより噴出した不活性ガスの一部が前記載置部に載置されている前記基板の下を通過することなく不活性ガスの多くが前記載置部および前記基板の上を通過して前記排気ポートに到達するように不活性ガスの気流のルートを規制する第1のモードと、不活性ガスに対する前記気流ルートの規制を実質的に解除する第2のモードとを選択的に切り換える減圧乾燥方法。 - 基板を出し入れ可能に収容する減圧可能なチャンバと、前記チャンバ内で基板を載置する載置部と、水平な第1の方向において前記チャンバ内の前記載置部の片側に設けられる第1の給気ポートを有し、前記第1の給気ポートを介して前記チャンバ内に不活性ガスを供給する不活性ガス供給部と、前記チャン内で前記第1の給気ポートと前記載置部との間の第1の領域を除く第2の領域に設けられる排気ポートを有し、前記排気ポートを介して前記チャンバ内を真空排気する排気部とを有する減圧乾燥装置を用いて、被処理基板上に形成された塗布液の膜を減圧状態で乾燥させるための減圧乾燥方法であって、
前記第1の給気ポートより噴出した不活性ガスの多くが前記載置部および前記基板の上を通過して前記排気ポートに到達するように不活性ガスの気流のルートを規制する第1のモードと、不活性ガスに対する前記気流ルートの規制を実質的に解除する第2のモードとを選択的に切り換え、
前記第1の方向と直交する水平な第2の方向において前記チャンバの側壁の内側で前記載置部の両側に配置される第1の仕切板を使用し、
前記第1の仕切板の高さ位置を、前記第1のモード用の第1の高さ位置と、前記第2のモード用の第2の高さ位置との間で切り換える、減圧乾燥方法。 - 前記第1の仕切板は、前記第1の高さ位置では前記チャンバの底面から天井に接する高さか、またはその近くの高さまで鉛直方向に突出し、前記第2の高さ位置ではその上端が前記チャンバの底面に近い高さか、またはそれよりも低い高さになるように沈む、請求項13に記載の減圧乾燥方法。
- 前記載置部の少なくとも前記第1の給気ポートと対向する側の傍らに配置された第2の仕切板を使用し、
前記第2の仕切板の高さ位置を、前記第1のモード用の第3の高さ位置と前記第2のモード用の第4の高さ位置との間で切り換える、
請求項12〜14のいずれか一項に記載の減圧乾燥方法。 - 前記第2の仕切板は、前記第3の高さ位置では前記チャンバの底面から基板の裏面に接する高さか、またはその近くの高さまで鉛直方向に突出し、前記第4の高さ位置ではその上端が前記チャンバの底面に近い高さかまたはそれよりも低い高さになるように沈む、請求項15に記載の減圧乾燥方法。
- 前記第2の仕切板は、前記載置部の前記第1の給気ポートと対向する側の傍らで前記第2の方向に延びる第1の平板部と、前記載置部の前記第1の仕切板と対向する側の傍らで前記第1の方向に延びる第2の平板部とを有する、請求項15に記載の減圧乾燥方法。
- 基板上の塗布膜が前記第1のモードで減圧乾燥処理を受ける時は、その処理中に前記第2の領域に設けられている第2の給気ポートを閉じるとともに前記第1の給気ポートを開けて前記チャンバ内に不活性ガスを供給し、減圧乾燥処理の終了後に前記第2のモードで前記チャンバ内の圧力を大気圧に戻す時は、前記第1および第2の給気ポートの全部を開けて前記チャンバ内に不活性ガスを供給する、請求項12〜17のいずれか一項に記載の減圧乾燥方法。
- 基板上の塗布膜が前記第2のモードで減圧乾燥処理を受ける時は、その処理中に前記第1および第2の給気ポートの全部を開けて前記チャンバ内に不活性ガスを供給する、請求項18に記載の減圧乾燥方法。
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