KR102625727B1 - 건조 장비 및 그를 이용한 표시 장치의 제조 방법 - Google Patents
건조 장비 및 그를 이용한 표시 장치의 제조 방법 Download PDFInfo
- Publication number
- KR102625727B1 KR102625727B1 KR1020160095176A KR20160095176A KR102625727B1 KR 102625727 B1 KR102625727 B1 KR 102625727B1 KR 1020160095176 A KR1020160095176 A KR 1020160095176A KR 20160095176 A KR20160095176 A KR 20160095176A KR 102625727 B1 KR102625727 B1 KR 102625727B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- stage
- decompression chamber
- air flow
- gas
- drying equipment
- Prior art date
Links
- 238000001035 drying Methods 0.000 title claims abstract description 67
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 18
- 230000006837 decompression Effects 0.000 claims abstract description 89
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 54
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 51
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 17
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 121
- 238000002347 injection Methods 0.000 claims description 48
- 239000007924 injection Substances 0.000 claims description 48
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 13
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 13
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 5
- 238000011109 contamination Methods 0.000 abstract description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 28
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 27
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 11
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 9
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 8
- 239000013557 residual solvent Substances 0.000 description 7
- 238000001291 vacuum drying Methods 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 4
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 4
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 3
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 3
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 230000002123 temporal effect Effects 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B21/00—Arrangements or duct systems, e.g. in combination with pallet boxes, for supplying and controlling air or gases for drying solid materials or objects
- F26B21/02—Circulating air or gases in closed cycles, e.g. wholly within the drying enclosure
- F26B21/022—Circulating air or gases in closed cycles, e.g. wholly within the drying enclosure with provisions for changing the drying gas flow pattern, e.g. by reversing gas flow, by moving the materials or objects through subsequent compartments, at least two of which have a different direction of gas flow
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B21/00—Arrangements or duct systems, e.g. in combination with pallet boxes, for supplying and controlling air or gases for drying solid materials or objects
- F26B21/004—Nozzle assemblies; Air knives; Air distributors; Blow boxes
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B21/00—Arrangements or duct systems, e.g. in combination with pallet boxes, for supplying and controlling air or gases for drying solid materials or objects
- F26B21/06—Controlling, e.g. regulating, parameters of gas supply
- F26B21/10—Temperature; Pressure
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F26—DRYING
- F26B—DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM
- F26B25/00—Details of general application not covered by group F26B21/00 or F26B23/00
- F26B25/06—Chambers, containers, or receptacles
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Drying Of Solid Materials (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
본 발명은 건조 장비 및 그를 이용한 표시 장치의 제조 방법에 관한 것으로, 감압 챔버와 갑압 챔버의 내부에 설치되어 기판을 지지하는 스테이지, 및 스테이지의 측면에 연결되어 감압 챔버 내부의 기류를 조절하는 기류 조절부를 포함한다.
또한, 본 발명의 표시 장치의 제조 방법은 기판 상에 액상의 패턴 물질을 도포하는 공정과 액상의 패턴 물질을 건조하는 공정을 포함하며, 기류 조절부를 포함하는 건조 장비를 통해 감압 챔버 내에서 기류를 조절하면서 감압 건조한다.
이러한 건조 장비를 이용하여 표시 장치를 제조함으로써, 스테이지의 모서리 영역 근처에 발생되는 오염을 방지할 수 있다.
또한, 본 발명의 표시 장치의 제조 방법은 기판 상에 액상의 패턴 물질을 도포하는 공정과 액상의 패턴 물질을 건조하는 공정을 포함하며, 기류 조절부를 포함하는 건조 장비를 통해 감압 챔버 내에서 기류를 조절하면서 감압 건조한다.
이러한 건조 장비를 이용하여 표시 장치를 제조함으로써, 스테이지의 모서리 영역 근처에 발생되는 오염을 방지할 수 있다.
Description
본 발명은 인쇄 공정으로 표시 장치를 제조하는 방법에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 인쇄 공정으로 도포된 패턴 물질을 건조하는 건조 장비 및 그를 이용하여 표시 장치를 제조하는 방법에 관한 것이다.
액정 표시 장치 및 유기 발광 표시 장치 등과 같은 표시 장치는 기판 상에 금속 또는 금속 산화물로 이루어진 도전물질, 및 유기물 또는 무기물로 이루어진 절연물질 등을 다양한 형태로 패턴 형성하는 공정을 통해 제조될 수 있다.
상기 패턴을 형성하는 공정으로는 포토 리소그라피 공정이 주로 사용되고 있다. 상기 포토 리소그라피 공정은 기판 상에 도전물질 또는 절연물질과 같은 패턴 물질을 증착하고, 상기 패턴 물질 상에 포토 레지스트를 도포한 후 노광 공정과 현상 공정을 통해 포토 레지스트 패턴을 형성하고, 상기 포토 레지스트 패턴을 마스크로 하여 상기 패턴 물질을 식각하여 원하는 패턴을 형성한 후, 상기 포토 레지스트 패턴을 스트립하는 일련의 공정을 포함하여 이루어진다. 이와 같은 포토 리소그라피 공정은 정밀한 패턴을 형성할 수 있는 장점이 있지만 공정이 복잡하고 공정 시간이 증가하는 단점이 있다.
상기 포토 리소그라피 공정의 단점을 해결하기 위해서 인쇄 공정을 통해 패턴을 형성하는 방법이 연구되었다. 상기 인쇄 공정은 기판 상에 원하는 패턴을 바로 형성할 수 있기 때문에 공정이 단순하고 공정 시간이 단축될 수 있다. 상기 인쇄 공정은 인쇄 방식에 따라 스크린 인쇄 공정, 롤 인쇄 공정, 및 잉크젯 인쇄 공정 등으로 구분될 수 있다. 상기 잉크젯 인쇄 공정은 잉크젯 헤드에 액상의 잉크를 수용한 후 잉크젯 헤드의 노즐을 통해 기판 상에 잉크를 분사하여 원하는 패턴을 형성하는 인쇄 방식이다. 이와 같은 잉크젯 인쇄 공정을 이용하여 액정 표시 장치의 컬러 필터를 화소별로 패턴 형성할 수도 있고, 유기 발광 표시 장치의 발광층을 화소별로 패턴 형성할 수도 있다.
이하에서는 도면을 참조로 종래의 잉크젯 인쇄 공정을 통해 유기 발광 표시 장치를 제조하는 방법에 대해서 설명하기로 한다.
도 1a 내지 도 1c는 종래의 잉크젯 인쇄 공정을 통해 유기 발광 표시 장치를 제조하는 방법을 도시한 개략도이다.
우선, 도 1a에서 알 수 있듯이, 기판(10) 상에 회로 소자층(20)을 형성하고, 상기 회로 소자층(20) 상에서 화소 별로 제1 전극(31)을 형성하고, 상기 제1 전극(31) 상에 화소 영역을 정의하는 뱅크층(32)을 형성한다. 그 후, 잉크젯 인쇄 장비(40)를 이용하여 상기 제1 전극(31) 상에 화소 별로 유기층용 잉크(33a)를 도포한다.
다음, 도 1b에서 알 수 있듯이, 상기 유기층용 잉크(33a)가 도포된 기판(10)을 감압 챔버(1) 내의 스테이지(2) 상에 안착시킨 후, 상기 감압 챔버(1) 내에 구비된 가스 배기구(1a)를 통해 가스를 배기하여 상기 감압 챔버(1) 내부를 감압시킨다. 그리하면, 상기 유기층용 잉크(33a)의 용매가 증발하면서 상기 유기층용 잉크(33a)가 건조하여 고체 상태의 유기층(33)이 형성된다.
도 1c는 상기 감압 챔버(1) 내부를 위에서 바라본 평면도로서, 도 1c에서 알 수 있듯이, 감압 챔버(1) 내에 스테이지(2)가 위치하고 상기 스테이지(2)에 기판(10)이 안착되어 있다. 이때, 감압 공정을 수행하면 화살표로 표시된 바와 같이 상기 감압 챔버(1)의 측면 방향으로 기류가 형성되면서 상기 기류를 따라서 용매가 증발하여 배기된다.
그러나, 종래의 경우 상기 가스 배기구(1a)를 통해서 가스를 배기하는 단순한 공정을 통해서 기류를 형성하기 때문에 상기 기류의 조절이 원활하지 않아서 증발된 용매나 유기물이 상기 가스 배기구(1a)로 배기되지 못하고 상기 감압 챔버(1) 내에 잔류하는 문제가 있다. 이와 같이 증발된 용매나 유기물이 상기 감압 챔버(1) 내에 잔류하게 되면 증발된 용매나 유기물이 낙하하여 상기 유기층(33)을 오염시키는 문제가 발생한다. 상기 유기층(33)은 수분이나 산소에 취약하기 때문에 상기 증발된 용매에 함유된 수분이 상기 유기층(33)에 침투하면 유기 발광 표시 장치가 쉽게 열화되는 문제가 있다. 특히, 도 1c를 참조하면, 상기 스테이지(2)의 네 모서리 영역에서의 기류는 상기 스테이지(2)의 네 변 영역에서의 기류와 상이하며, 따라서 상기 스테이지(2)의 네 모서리 영역에서의 기류 조절이 원활하지 않아서 상기 스테이지(2)의 모서리 영역에 위치하는 상기 유기층(33)의 오염 가능성이 상대적으로 크다.
본 발명은 전술한 종래의 문제점을 해결하기 위해 고안된 것으로서, 본 발명은 감압 챔버 내의 기류를 원활하게 조절함으로써 증발된 용매나 유기물이 감압 챔버 내에 잔류하는 문제를 최소화하여 얻어지는 유기층의 오염을 방지할 수 있는 건조 장비 및 그를 이용한 표시 장치의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하기 위해서, 본 발명의 일 실시예에 따른 건조 장비는 감압 챔버 내부에 설치되어 기판을 지지하는 스테이지, 및 상기 스테이지의 측면에 연결되어 상기 감압 챔버 내부의 기류를 조절하는 기류 조절부를 포함하여 이루어진다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 방법은 감압 챔버 내에서 기류를 조절하면서 액상의 패턴 물질을 감압 건조하는 공정을 포함하고, 상기 기류를 조절하면서 감압 건조하는 공정은 상기 감압 챔버 내부에 설치되어 기판을 지지하는 스테이지, 및 상기 스테이지의 측면에 연결되어 상기 감압 챔버 내부의 기류를 조절하는 기류 조절부를 포함한 건조 장비를 이용하여 수행한다.
이상과 같은 본 발명에 따르면 다음과 같은 효과가 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 스테이지의 측면에 연결되어 감압 챔버 내부의 기류를 조절하는 기류 조절부를 포함함으로써, 감압 챔버 내의 기류를 원활하게 조절할 수 있어 증발된 용매나 유기물이 감압 챔버 내에 잔류하는 문제를 최소화할 수 있고 그에 따라 얻어지는 패턴 물질의 오염을 방지할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 기류 조절부가 감압 챔버 내부면에서 이격되어 있고 기류 조절부의 상측 끝단이 스테이지의 상면보다 높은 위치까지 연장됨으로써, 기류 조절부 위쪽으로 상승 기류가 형성된 후 상기 기류 조절부와 상기 감안 챔버 내부면 사이의 공간으로 통해 다시 하강 기류가 형성됨으로써 감압 챔버 내부에 균일한 기류 형성이 가능하다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 기류 조절부가 스테이지의 모서리에 구비됨으로써 상기 스테이지의 모서리 영역에서 기류의 흐름이 조절되어 기판의 모서리 영역에서의 감압 건조 공정이 보다 원활히 이루어질 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 기류 조절부가 감압 챔버에 구비된 개폐부와 중첩되지 않도록 형성됨으로써 기판의 로딩 및 언로딩시 상기 기류 조절부에 의해서 간섭이 발생하지 않는다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 기류 조절부가 스테이지의 측면에 승강 가능하도록 구비됨으로써 기판의 로딩 및 언로딩시 상기 기류 조절부에 의해서 간섭이 발생하지 않는다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 기류 조절부의 상측 끝단이 기판의 상면보다 높은 위치까지 연장됨으로써, 감압 챔버 내부에서 기류의 흐름 조절이 보다 용이하게 조절될 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 기류 조절부가 스테이지의 측면을 둘러싸도록 구비됨으로써 기판의 네 측면 모두에서 기류 조절부의 상측 방향으로만 기류가 형성되어 기판 전체에서 균일한 기류 형성이 가능하다.
본 발명의 다른 실시예에 따르면, 스테이지의 적어도 하나의 측면이 감압 챔버의 내부면과 접하도록 연장되어 있고 이와 같이 감압 챔버의 내부면과 접하도록 연장된 상기 스테이지의 부분이 기류 조절부의 역할을 수행함으로써, 별도의 구성을 추가하지 않으면서 기류 조절이 가능하고 특히 스테이지의 모서리 영역에서 이상 기류가 형성되지 않게 되어 스테이지의 모서리 영역 근처에서 패턴 물질의 오염이 발생하는 것을 방지할 수 있다.
본 발명의 일 실시예에 따르면, 가스 배기부가 상대적으로 저진공 펌프로 이루어진 복수 개의 제1 진공 펌프 및 상대적으로 고진공 펌프로 이루어진 복수 개의 제2 진공 펌프를 포함하고, 상기 복수 개의 제1 진공 펌프가 상기 복수 개의 제2 진공 펌프와 독립적으로 동작함으로써, 감압 챔버 내부의 기류를 2단계를 통해 원활히 조절하여 기판의 전체에서 균일한 건조 공정이 이루어질 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 스테이지의 상측에 승강 가능하도록 구비된 기류 안내부를 추가로 포함함으로써, 스테이지의 측면 방향으로 기류를 안내하여 기류를 원활히 제어할 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 감압 챔버 내부로 불활성 가스를 분사하기 위한 가스 분사 장치를 추가로 포함함으로써, 감압 챔버 내부의 잔류 용매나 유기물을 보다 용이하게 제거할 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 제1 가스 분사판을 스테이지보다 하측에서 설치하여 스테이지의 측면에서 기류의 양이 증가되어 기류 속도가 저하되면서 기류를 조절할 수 있고, 또한, 제2 가스 분사판을 감압 챔버의 상면에 설치하여 스테이지의 상면 방향으로 이동하는 잔류 용매나 유기물을 스테이지의 하면 방향으로 배출할 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 가스 분사판을 가스 저장부와 연결하는 가스 분사 배관에 온도 조절부가 연결됨으로써 감압 챔버 내부의 잔류 용매나 유기물을 보다 용이하게 제거할 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 감압 챔버에는 히터가 내장되어 있음으로써, 감압 챔버 내부의 잔류 용매나 유기물을 보다 용이하게 제거할 수 있다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따르면, 반송 챔버에 불활성 가스를 분사하기 위한 가스 분사 장치 및 분사된 가스를 배기하기 위한 가스 배기부가 구비되어 있음으로써, 감압 건조 공정을 통해 얻어진 유기층에 수분이 침투하는 것을 방지할 수 있다.
도 1a 내지 도 1c는 종래의 잉크젯 인쇄 공정을 통해 유기 발광 표시 장치를 제조하는 방법을 도시한 개략도이다.
도 2a 내지 도 2c는 본 발명의 일 실시예에 따른 감압 건조 장비에 관한 것으로서, 도 2a는 위에서 바라본 평면도이고, 도 2b는 도 2a의 I-I라인의 단면도이고, 도 2c는 아래에 배치된 가스 배기부의 모습을 도시한 개념도이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 감압 건조 장비의 평면도이다.
도 4a 내지 도 4c은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 감압 건조 장비에 관한 것으로서, 도 4a는 위에서 바라본 평면도이고, 도 4b는 도 4a의 A-A라인의 단면도이고, 도 4c는 도 4a의 B-B라인의 단면도이다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 감압 건조 장비의 단면도이다.
도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 감압 건조 장비의 단면도이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 감압 챔버(100)의 일 부분을 도시한 것이다.
도 8a 내지 도 8c는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 공정을 도시한 것이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 건조 장비 시스템을 도시한 개념도이다.
도 2a 내지 도 2c는 본 발명의 일 실시예에 따른 감압 건조 장비에 관한 것으로서, 도 2a는 위에서 바라본 평면도이고, 도 2b는 도 2a의 I-I라인의 단면도이고, 도 2c는 아래에 배치된 가스 배기부의 모습을 도시한 개념도이다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 감압 건조 장비의 평면도이다.
도 4a 내지 도 4c은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 감압 건조 장비에 관한 것으로서, 도 4a는 위에서 바라본 평면도이고, 도 4b는 도 4a의 A-A라인의 단면도이고, 도 4c는 도 4a의 B-B라인의 단면도이다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 감압 건조 장비의 단면도이다.
도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 감압 건조 장비의 단면도이다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 감압 챔버(100)의 일 부분을 도시한 것이다.
도 8a 내지 도 8c는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 공정을 도시한 것이다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 건조 장비 시스템을 도시한 개념도이다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.
본 발명의 실시예를 설명하기 위한 도면에 개시된 형상, 크기, 비율, 각도, 개수 등은 예시적인 것이므로 본 발명이 도시된 사항에 한정되는 것은 아니다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. 또한, 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지 기술에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우 그 상세한 설명은 생략한다. 본 명세서 상에서 언급한 '포함한다', '갖는다', '이루어진다' 등이 사용되는 경우 '~만'이 사용되지 않는 이상 다른 부분이 추가될 수 있다. 구성 요소를 단수로 표현한 경우에 특별히 명시적인 기재 사항이 없는 한 복수를 포함하는 경우를 포함한다.
구성 요소를 해석함에 있어서, 별도의 명시적 기재가 없더라도 오차 범위를 포함하는 것으로 해석한다.
위치 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~상에', '~상부에', '~하부에', '~옆에' 등으로 두 부분의 위치 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 두 부분 사이에 하나 이상의 다른 부분이 위치할 수도 있다.
시간 관계에 대한 설명일 경우, 예를 들어, '~후에', '~에 이어서', '~다음에', '~전에' 등으로 시간적 선후 관계가 설명되는 경우, '바로' 또는 '직접'이 사용되지 않는 이상 연속적이지 않은 경우도 포함할 수 있다.
제1, 제2 등이 다양한 구성요소들을 서술하기 위해서 사용되나, 이들 구성요소들은 이들 용어에 의해 제한되지 않는다. 이들 용어들은 단지 하나의 구성 요소를 다른 구성요소와 구별하기 위하여 사용하는 것이다. 따라서, 이하에서 언급되는 제1 구성요소는 본 발명의 기술적 사상 내에서 제2 구성요소일 수도 있다.
본 발명의 여러 실시예들의 각각 특징들이 부분적으로 또는 전체적으로 서로 결합 또는 조합 가능하고, 기술적으로 다양한 연동 및 구동이 가능하며, 각 실시예들이 서로에 대하여 독립적으로 실시 가능할 수도 있고 연관 관계로 함께 실시할 수도 있다.
이하, 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예에 대해서 상세히 설명하기로 한다.
도 2a 내지 도 2c는 본 발명의 일 실시예에 따른 감압 건조 장비에 관한 것으로서, 도 2a는 위에서 바라본 평면도이고, 도 2b는 도 2a의 I-I라인의 단면도이고, 도 2c는 아래에 배치된 가스 배기부의 모습을 도시한 개념도이다.
도 2a에서 알 수 있듯이, 본 발명의 일 실시예에 따른 감압 건조 장비는 감압 챔버(100), 스테이지(200), 및 기류 조절부(250)를 포함하여 이루어진다.
상기 감압 챔버(100)는 감압 건조 공정이 이루어지는 처리 공간을 제공한다. 상기 감압 챔버(100)는 일반적으로 육면체의 3차원 구조로 이루어지며 따라서 도시된 바와 같이 4각형의 수평 단면 구조로 이루어질 수 있지만, 반드시 그에 한정되는 것은 아니다. 본 명세서에서 수평 단면 구조라 함은 수평으로 자른 단면의 형상을 의미한다.
상기 감압 챔버(100)에는 기판(10)의 로딩 및 언로딩을 위한 개폐부(110)가 구비되어 있다. 상기 개폐부(110)는 상기 기판(10)의 로딩 및 언로딩 공정시에는 열림 상태를 유지하고, 상기 기판(10)에 대한 감압 건조 공정시에는 닫힘 상태를 유지한다. 상기 개폐부(110)는 당업계에 공지된 게이트 밸브로 이루어질 수 있다.
상기 스테이지(200)는 상기 감압 챔버(100) 내에 설치되어 있다. 상기 스테이지(200)는 그 위에 안착되는 기판(10)을 지지하는 역할을 한다. 상기 스테이지(200)는 상기 기판(10)보다는 넓은 면적으로 가지도록 형성되며, 따라서, 상기 기판(10)의 하면 전체가 상기 스테이지(200) 상에 안착 된다.
상기 스테이지(200)는 상기 감압 챔버(100)에 대응하는 형태로 이루어질 수 있다. 즉, 상기 감압 챔버(100)가 4각형의 수평 단면 구조로 이루어진 경우 상기 스테이지(200)도 4각형의 수평 단면 구조로 이루어질 수 있다.
상기 스테이지(200)의 네 측면은 상기 감압 챔버(100)의 네 측면과 소정 거리를 두고 이격되어 있으며, 이와 같이 상기 스테이지(200)와 상기 감압 챔버(100) 사이의 이격된 공간을 통해 기류(화살표)가 형성된다. 균일한 기류 형성을 위해서 서로 마주하는 상기 스테이지(200)의 측면과 상기 감압 챔버(100)의 측면 사이의 거리는 4군데 모두 동일한 것이 바람직할 수 있다.
상기 기류 조절부(250)는 상기 스테이지(200)의 모서리에 구비된다. 본 명세서에서 상기 기류 조절부(250)가 상기 스테이지(200)의 모서리에 구비된다는 것은 상기 스테이지(200)의 일변과 타변이 만나는 꼭지점에서 상기 일변 및 상기 타변으로 소정거리까지 연장되는 것을 의미한다.
상기 기류 조절부(250)가 상기 스테이지(200)의 네 모서리에 구비된 경우 상기 스테이지(200)의 네 모서리 영역에서 기류의 흐름이 조절되어 상기 기판(10)의 네 모서리 영역에서의 감압 건조 공정이 보다 원활히 이루어질 수 있다. 상기 기류 조절부(250)는 기류의 흐름을 막게 되며, 따라서 기류는 상기 기류 조절부(250)의 좌측, 우측, 및 상측으로 우회하게 되고, 결국 상기 기류 조절부(250)에 의해서 기류의 속도가 제어될 수 있다.
상기 기류 조절부(250)는 상기 스테이지(200)의 네 측면에 연결되는데, 이때, 상기 스테이지(200)의 네 측면에 고정될 수도 있고, 상기 스테이지(200)의 네 측면에 승강 가능하도록 연결될 수도 있다. 상기 기류 조절부(250)가 상기 스테이지(200)의 네 측면에 고정된 경우에는 상기 기판(10)의 로딩 및 언로딩시 간섭을 방지하기 위해서, 상기 기류 조절부(250)는 상기 개폐부(110)와 중첩되지 않도록 형성된다. 즉, 상기 기류 조절부(250)가 기판(10)의 이동경로에 위치하게 되면 상기 기판(10)의 로딩 및 언로딩 공정이 어렵게 되므로 상기 기류 조절부(250)는 상기 기판(10)의 이동 통로가 되는 상기 개폐부(110)와 중첩되지 않는 것이 바람직하다.
한편, 상기 기류 조절부(250)가 상기 스테이지(200)의 네 측면에 승강 가능하도록 연결된 경우에는 상기 기판(10)의 로딩 및 언로딩시에는 상기 기류 조절부(250)를 하강시켜 상기 기판(10)을 간섭하지 않게 하고 상기 기판(10)에 대한 감압 건조 공정시에는 상기 기류 조절부(250)를 상승시켜 기류의 흐름을 조절할 수 있다. 따라서, 상기 기류 조절부(250)가 상기 스테이지(200)의 네 측면에 승강 가능하도록 연결된 경우에는 상기 기류 조절부(250)가 상기 개폐부(110)와 중첩되도록 형성하는 것도 가능하다.
도 2b를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 감압 건조 장비의 단면 구조에 대해서 구체적으로 설명하면, 감압 챔버(100) 내에 스테이지(200)가 설치되어 있고, 상기 스테이지(200)의 상면에 기판(10)이 안착되어 있으며, 상기 스테이지(200)의 서로 마주하는 양 측면에 기류 조절부(250)가 연결되어 있다.
상기 스테이지(200)는 상하로 이동가능하도록 구비될 수 있지만 반드시 그에 한정되는 것은 아니다.
상기 기류 조절부(250)는 상기 스테이지(200)의 측면에 연결되어 있으며, 전술한 바와 같이 상기 스테이지(200)의 측면에 고정되어 상기 스테이지(200)와 동일한 움직임을 가질 수도 있고, 상기 스테이지(200)의 측면에 승강 가능하도록 연결되어 상기 스테이지(200)와 독립적으로 상하 이동할 수도 있다.
상기 기류 조절부(250)는 상기 감압 챔버(100) 내부면에서 이격되어 있으며, 상기 기류 조절부(250)로 인해서 기류(화살표 참조)가 상기 스테이지(200)의 상면에서 바로 측면으로 이동하지 못하고 상기 기류 조절부(250)를 타고 넘어야 하기 때문에 기류의 흐름이 조절되면서 기류가 속도가 제어될 수 있다. 상기 기류 조절부(250)의 상측 끝단은 상기 스테이지(200)의 상면보다는 높은 위치까지 연장되어야 기류 조절이 가능하며, 특히, 상기 기류 조절부(250)의 상측 끝단을 상기 기판(10)의 상면보다 높은 위치까지 연장할 경우 기류의 흐름 조절이 보다 용이할 수 있다.
상기 감압 챔버(100)의 하면에는 가스 배기부(300)가 구비되어 있어, 상기 가스 배기부(300)를 통해 가스를 배기함으로써 상기 감압 챔버(100) 내부를 감압할 수 있다. 이 경우 상기 감압 챔버(100) 내에 하강 기류(화살표 참조)를 생성하여 상기 기판(10) 상에 도포된 패턴물질을 건조할 수 있다.
도 2c를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 가스 배기부(300)에 대해서 설명하면, 감압 챔버(100)의 하부에는 복수의 제1 가스 배기홀(310), 복수의 제2 가스 배기홀(320), 및 복수의 제3 가스 배기홀(330)이 구비되어 있다.
상기 복수의 제1 가스 배기홀(310)은 상기 감압 챔버(100)의 중앙부에 구비되어 있다. 각각의 제1 가스 배기홀(310)은 제1 진공 펌프(311)에 연결되어 있고 각각의 제1 진공 펌프(311)는 제1 가스 배기 배관(312)에 의해서 서로 연결되어 있다. 상기 제1 가스 배기 배관(312)에는 가스 흐름을 조절하는 제1 밸브(315)가 연결되어 있다. 상기 제1 진공 펌프(311)는 상대적으로 저진공 펌프로 이루어진다.
상기 복수의 제2 가스 배기홀(320)은 상기 복수의 제1 가스 배기홀(310)의 일측에 구비되어 있다. 각각의 제2 가스 배기홀(320)은 제2 진공 펌프(321)에 연결되어 있고 각각의 제2 진공 펌프(321)는 제2 가스 배기 배관(322)에 의해서 서로 연결되어 있다. 상기 제2 진공 펌프(321)는 상대적으로 고진공 펌프로 이루어진다.
상기 복수의 제3 가스 배기홀(330)은 상기 복수의 제1 가스 배기홀(310)의 타측에 구비되어 있다. 각각의 제3 가스 배기홀(330)은 제3 진공 펌프(331)에 연결되어 있고 각각의 제3 진공 펌프(331)는 제3 가스 배기 배관(332)에 의해서 서로 연결되어 있다. 상기 제3 진공 펌프(331)는 상대적으로 고진공 펌프로 이루어진다. 상기 제3 진공 펌프(331)는 상기 제2 진공 펌프(321)와 동일한 펌프로 이루어질 수 있다.
상기 제2 가스 배기 배관(322)과 상기 제3 가스 배기 배관(332)은 제4 가스 배기 배관(342)에 연결되어 있다. 즉, 상기 제2 가스 배기 배관(322)과 상기 제3 가스 배기 배관(332)은 상기 제4 가스 배기 배관(342)으로 합쳐진다. 상기 제4 가스 배기 배관(342)에는 가스 흐름을 조절하는 제2 밸브(345)가 연결되어 있다.
전술한 제1 가스 배기 배관(312)과 상기 제4 가스 배기 배관(342)은 제5 가스 배기 배관(352)에 연결되어 있다. 즉, 상기 제1 가스 배기 배관(312)과 상기 제4 가스 배기 배관(342)은 상기 제5 가스 배기 배관(352)으로 합쳐진다. 그리고, 상기 제5 가스 배기 배관(352)은 가스 흡입부(360)에 연결되어 있다.
이와 같은 본 발명의 일 실시예에 따른 가스 배기부(300)의 동작을 설명하면 다음과 같다.
우선, 상기 제1 밸브(315)를 열고 상기 제2 밸브(345)를 닫은 상태에서 상기 가스 흡입부(360)를 작동시킨다. 그리하면, 상기 복수의 제1 진공 펌프(311)가 동작하게 되어 상기 복수의 제1 가스 배기홀(310)을 통해서 상기 감압 챔버(100) 내부를 감압한다. 이때, 상기 복수의 제1 진공 펌프(311)는 저진공 펌프로 이루어지므로 소정 범위까지 상기 감압 챔버(100) 내부의 압력을 낮출 수 있다.
다음, 상기 제2 밸브(345)를 열고 상기 제1 밸브(315)를 닫은 상태에서 상기 가스 흡입부(360)를 작동시킨다. 그리하면, 상기 복수의 제2 진공 펌프(321) 및 제3 진공 펌프(331)가 동작하게 되어 상기 복수의 제2 가스 배기홀(320) 및 제3 가스 배기홀(330)을 통해서 상기 감압 챔버(100) 내부를 감압한다. 이때, 상기 복수의 제2 진공 펌프(321) 및 제3 진공 펌프(331)는 고진공 펌프로 이루어지므로 원하는 범위까지 상기 감압 챔버(100) 내부의 압력을 낮추어 충분한 건조가 이루어질 수 있도록 한다.
이와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따르면, 상기 복수 개의 제1 진공 펌프(311)를 상기 복수 개의 제2 및 제3 진공 펌프(321, 331)와 독립적으로 동작할 수 있다. 따라서, 상기 복수의 제1 진공 펌프(311)를 통해서 상기 감압 챔버(100) 내부를 상대적으로 낮은 진공 상태로 감압하고 이어서 상기 복수의 제2 진공 펌프(321) 및 제3 진공 펌프(331)를 통해서 상기 감압 챔버(100) 내부를 상대적으로 높은 진공 상태로 감압함으로써, 상기 감압 챔버(100) 내부의 기류를 2단계로 조절하여 기판(10)의 전체에서 균일한 건조 공정이 이루어질 수 있게 된다.
도 3은 본 발명의 다른 실시예에 따른 감압 건조 장비의 평면도로서, 이는 기류 조절부(250)가 변경된 것을 제외하고 전술한 도 2a 내지 도 2c에 따른 감압 건조 장비와 동일하다. 이하의 다양한 실시예들에서, 전술한 도 2a 내지 도 2c에 따른 감압 건조 장비의 개별 구성과 동일한 구성에 대해서는 동일한 도면부호를 부여하였고, 이하에서는 상이한 구성에 대해서만 설명하기로 한다.
도 3에서 알 수 있듯이, 감압 챔버(100) 내에 스테이지(200)가 설치되어 있고, 상기 스테이지(200) 상에 기판(10)이 안착되어 있으며, 상기 스테이지(200)의 측면에 기류 조절부(250)가 연결되어 있다. 상기 기류 조절부(250)는 상기 스테이지(200)의 네 모서리 뿐만아니라 상기 스테이지(200)의 네 측면 모두에 연결되어 있다. 즉, 상기 기류 조절부(250)는 상기 스테이지(200)의 네 측명을 둘러싸고 있으며, 이 경우 기판(10)의 네 측면 모두에서 상기 기류 조절부(250)의 상측 방향으로만 기류가 형성되고(도 2b의 화살표 참조), 그에 따라 기판(10) 전체에서 균일한 기류 형성이 가능하다.
도 4a 내지 도 4c은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 감압 건조 장비에 관한 것으로서, 도 4a는 위에서 바라본 평면도이고, 도 4b는 도 4a의 A-A라인의 단면도이고, 도 4c는 도 4a의 B-B라인의 단면도이다.
도 4a 내지 도 4c에서 알 수 있듯이, 감압 챔버(100) 내에 스테이지(200)가 설치되어 있고, 상기 스테이지(200) 상에 기판(10)이 안착되어 있다. 또한, 상기 감압 챔버(100)의 일측에는 개폐부(110)가 구비되어 있어, 상기 개폐부(110)를 통해 기판(10)의 로딩 및 언로딩 공정이 이루어진다.
이때, 도 4a 및 도 4b에서 알 수 있듯이, 상기 개폐부(110)가 구비되지 않으면서 서로 마주하는 상기 스테이지(200)의 일 측과 타 측은 상기 감압 챔버(100)의 내부 면에 접하도록 형성되어 있다. 따라서, 상기 개폐부(110)가 구비되지 않으면서 서로 마주하는 상기 스테이지(200)의 일 측과 타 측 방향으로는 하강 기류가 형성되지 못한다.
도 4a 및 도 4c에서 알 수 있듯이, 상기 개폐부(110)가 구비된 상기 스테이지(200)의 일 측 및 그와 마주하는 타 측은 상기 감압 챔버(100)의 내부 면에 접하지 않도록 형성되어 있다. 따라서, 상기 개폐부(110)가 구비된 상기 스테이지(200)의 일 측 및 그와 마주하는 타 측 방향으로는 하강 기류가 형성된다.
이와 같이, 본 발명의 또 다른 실시예에서는 상기 스테이지(200)의 4면 모두에서 하강 기류가 형성되는 것이 아니라, 상기 감압 챔버(100)의 내부 면과 접하는 상기 스테이지(200)의 2면에서는 하강 기류가 형성되지 않고 상기 감압 챔버(100)의 내부 면과 접하지 않는 상기 스테이지(200)의 2면에서만 하강 기류가 형성된다. 따라서, 상기 스테이지(200)의 모서리 영역에서 이상 기류가 형성되지 않게 되어 상기 스테이지(200)의 모서리 영역 근처에서 패턴 물질의 오염이 발생하는 것을 방지할 수 있다. 이 경우에는 상기 감압 챔버(100)의 내부 면과 접하도록 연장된 상기 스테이지(200)의 부분이 기류 조절부의 역할을 하는 것이다.
한편, 구체적으로 도시하지는 않았지만, 전술한 기류 조절부(250)가 상기 하강 기류가 형성되는 상기 스테이지(200)의 두 측면에 추가로 구비될 수도 있다.
도 5는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 감압 건조 장비의 단면도로서, 이는 기류 안내부(400)가 추가로 구비된 것을 제외하고 전술한 도 2a 내지 도 2c에 따른 감압 건조 장비와 동일하다.
상기 기류 안내부(400)는 감압 챔버(100) 내에 구비되며 특히 상기 스테이지(200)의 상측에 구비된다. 상기 기류 안내부(400)는 상기 스테이지(200)에 대응하는 구조로 형성될 수 있다. 따라서, 기류가 상기 기류 안내부(400)의 하부에서 상기 스테이지(200)의 측면 방향으로 원활하게 이동할 수 있다.
상기 기류 안내부(400)는 상기 감압 챔버(100) 내에서 승강하도록 구성될 수 있으며, 그에 따라서, 상기 기류 안내부(400)와 상기 기판(10) 사이의 간격(D)을 조절할 수 있어 상기 기류의 이동을 원활하게 제어할 수 있다.
도 5에서 상기 기류 조절부(250)는 전술한 도 2a와 같은 구조로 이루어질 수도 있지만 전술한 도 3과 같은 구조로 이루어질 수도 있다. 또한, 도 5에서 상기 스테이지(200)가 전술한 도 4a 내지 도 4c와 같은 구조로 이루어질 수도 있다.
도 6은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 감압 건조 장비의 단면도이다.
도 6에서 알 수 있듯이, 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 감압 건조 장비는 감압 챔버(100), 기판(10)이 안착되는 스테이지(200), 상기 감압 챔버(100)의 하측에 구비된 가스 배기부(300), 및 가스 분사 장치(500)를 포함하여 이루어진다.
상기 가스 분사 장치(500)는 제1 및 제2 가스 분사판(510, 520), 제1 및 제2 가스 분사 배관(511, 521), 제1 및 제2 가스 저장부(512, 522), 및 제1 및 제2 온도 조절부(513, 523)를 포함하여 이루어진다.
상기 제1 및 제2 가스 분사판(510, 520)은 상기 감압 챔버(100)의 내부에 구비되어 상기 감압 챔버(100) 내부로 불활성 가스, 예로서 질소 가스를 분사한다.
상기 제1 가스 분사판(510)은 상기 감압 챔버(100)의 측면에 구비되며 특히 상기 스테이지(200) 보다 하측에 위치하는 것이 바람직하다. 이와 같이, 상기 스테이지(200) 보다 하측에서 상기 제1 가스 분사판(510)을 통해 불활성 가스를 감압 챔버(100) 내부로 분사하면 상기 스테이지(200)의 측면에서 기류의 양이 증가되어 기류 속도가 저하되면서 기류를 조절할 수 있다.
상기 제2 가스 분사판(520)은 상기 감압 챔버(100)의 상면에 구비된다. 따라서, 상기 제2 가스 분사판(520)을 통해 불활성 가스를 감압 챔버(100) 내부로 분사하면 상기 스테이지(200)의 상면 방향으로 이동하는 잔류 용매나 유기물을 상기 스테이지(200)의 하면 방향으로 배출할 수 있다.
상기 제1 가스 분사 배관(511)은 상기 제1 가스 분사판(510)과 상기 제1 가스 저장부(512) 사이를 연결하고, 상기 제2 가스 분사 배관(521)은 상기 제2 가스 분사판(520)과 상기 제2 가스 저장부(522) 사이를 연결한다.
상기 제1 온도 조절부(513)는 상기 제1 가스 분사 배관(511)에 연결되어 상기 제1 가스 분사 배관(511)을 통해 이동하는 불활성 가스의 온도를 상승시킨다. 상기 제2 온도 조절부(523)는 상기 제2 가스 분사 배관(521)에 연결되어 상기 제2 가스 분사 배관(521)을 통해 이동하는 불활성 가스의 온도를 상승시킨다. 이와 같이 상기 제1 온도 조절부(513) 및 상기 제2 온도 조절부(523)에 의해서 상기 감압 챔버(100) 내부의 잔류 용매나 유기물을 보다 용이하게 제거할 수 있다. 상기 제1 온도 조절부(513) 및 상기 제2 온도 조절부(523)는 당업계에 공지된 다양한 히터(heater)로 이루어질 수 있다.
한편, 도 6에서 전술한 도 2a 또는 도 3과 같은 기류 조절부(250)가 추가로 구비될 수 있고, 상기 스테이지(200)가 전술한 도 4a 내지 도 4c와 같은 구조로 이루어질 수도 있다.
도 7은 본 발명의 일 실시예에 따른 감압 챔버(100)의 일 부분을 도시한 것이다. 도 7에서 알 수 있듯이, 본 발명의 일 실시예에 따른 감압 챔버(100)는 챔버벽(100a) 내부에 내장된 히터(600)를 포함할 수 있다. 상기 히터(600)가 내장된 챔버벽(100a)은 상기 감압 챔버(100)의 하면, 측면, 및 상면 중 적어도 하나의 면을 구성할 수 있으며, 바람직하게는 상기 감압 챔버(100)의 하면, 측면, 및 상면 모두를 구성하는 것이다.
이와 같이, 상기 챔버벽(100a) 내부에 히터(600)가 내장되어 있을 경우 상기 감압 챔버(100) 내부의 잔류 용매나 유기물을 보다 용이하게 제거할 수 있다.
도 8a 내지 도 8c는 본 발명의 일 실시예에 따른 표시 장치의 제조 공정을 도시한 것으로서, 특히, 유기 발광 표시 장치의 제조 공정을 도시한 것이다.
우선, 도 8a에서 알 수 있듯이, 기판(10) 상에 회로 소자층(20)을 형성하고, 상기 회로 소자층(20) 상에 화소 별로 제1 전극(31)을 형성하고, 상기 제1 전극(31) 상에 뱅크층(32)을 형성하고, 그 후 잉크젯 인쇄 장비(40)를 이용하여 상기 화소 별로 유기층용 잉크(33a)를 도포한다.
상기 회로 소자층(20)은 화소 별로 구비되는 박막 트랜지스터(TFT)를 포함하며, 상기 박막 트랜지스터(TFT)는 상기 제1 전극(31)과 연결되어 있다. 상기 회로 소자층(20)은 스위칭 박막 트랜지스터, 구동 박막 트랜지스터, 센싱 박막 트랜지스터, 및 커패시터를 포함하여 이루어질 수 있으며, 이와 같은 회로 소자층(20)의 구성은 당업계에 공지된 다양한 형태로 변경될 수 있다.
상기 제1 전극(31)은 유기 발광 표시 장치의 양극(Anode)으로 기능할 수 있다.
상기 뱅크층(32)은 상기 화소 별로 형성된 제1 전극(31)의 끝단과 오버랩되면서 매트릭스 구조로 형성되며, 상기 뱅크층(32)에 의해서 복수의 화소 영역이 정의된다.
상기 유기층용 잉크(33a)는 상기 뱅크층(32)에 의해서 정의된 복수의 화소 영역 각각에서 상기 제1 전극(31) 상에 도포된다.
상기 유기 발광 표시 장치의 유기층은 정공 주입층(Hole Injecting Layer), 정공 수송층(Hole Transporting Layer), 발광층(Emitting Layer), 전자 수송층(Electron Transporting Layer), 및 전자 주입층(Electron Injecting Layer)을 포함하여 이루어질 수 있다. 이때, 상기 정공 주입층(Hole Injecting Layer), 정공 수송층(Hole Transporting Layer), 및 발광층(Emitting Layer)은 잉크젯 인쇄 공정으로 형성하고, 상기 전자 수송층(Electron Transporting Layer) 및 전자 주입층(Electron Injecting Layer)은 증발법(Evaporation)으로 형성할 수 있다.
따라서, 상기 유기층용 잉크(33a)는 정공 주입층(Hole Injecting Layer), 정공 수송층(Hole Transporting Layer), 및 발광층(Emitting Layer) 중 적어도 하나의 유기층을 구성하는 유기물을 용매에 용해시켜 제조될 수 있다.
다음, 도 8b에서 알 수 있듯이, 상기 유기층용 잉크(33a)가 도포된 기판(10)을 감압 챔버(100) 내의 스테이지(200) 상에 안착시킨 후, 상기 감압 챔버(100) 내부를 감압하여 상기 유기층용 잉크(33a)를 건조시켜 화소 별로 유기층(33)을 얻는다.
상기 유기층용 잉크(33a)를 건조시키는 공정은 전술한 다양한 실시예에 따른 감압 건조 장비를 이용하여 수행한다.
다음, 도 8c에서 알 수 있듯이, 상기 유기층(33) 상에 제2 전극(34)을 형성하고, 상기 제2 전극(34) 상에 봉지층(35)을 형성한다.
상기 제2 전극(34)은 유기 발광 표시 장치의 음극(Cathode)으로 기능할 수 있다.
상기 봉지층(35)은 상기 유기층(33)으로 수분이 침투하는 것을 방지하는 역할을 하는 것으로서, 당업계에 공지된 다양한 물질로 형성될 수 있다.
도 9는 본 발명의 일 실시예에 따른 건조 장비 시스템을 도시한 개념도이다. 전술한 도 8b 공정은 도 9에 따른 건조 장비 시스템을 이용하여 수행할 수 있다.
도 9에서 알 수 있듯이, 본 발명의 일 실시예에 따른 건조 장비 시스템은 감압 건조 영역(Vaccuum Drying Zone), 반송 영역(Transferring Zone), 및 베이킹 영역(Baking Zone)을 포함하여 이루어진다.
상기 감압 건조 영역(Vaccuum Drying Zone)은 도포된 유기층용 잉크를 감압 건조하는 영역으로서 전술한 다양한 실시예에 따른 감압 건조 장비가 구비되어 있다. 특히, 상기 감압 건조 장비는 전술한 도 6과 같이 감압 챔버(100)에 가스 분사 장치(500)가 구비되어 있어 상기 가스 분사 장치(500)에서 분사한 가스가 상기 감압 챔버(100)의 하부에 마련된 가스 배기부(300)를 통해 배기되는 구조로 이루어질 수 있다. 상기 가스 분사 장치(500)는 편의상 감압 챔버(100)의 상측에 도시한 것일 뿐, 전술한 도 6과 같이 제1 및 제2 가스 분사판(510, 520), 제1 및 제2 가스 분사 배관(511, 521), 제1 및 제2 가스 저장부(512, 522), 및 제1 및 제2 온도 조절부(513, 523)를 포함하여 이루어진다.
상기 반송 영역(Transferring Zone)은 상기 감압 건조 영역(Vaccuum Drying Zone)과 상기 베이킹 영역(Baking Zone) 사이에 구비되어, 상기 감압 건조 영역(Vaccuum Drying Zone)에서 감압 건조 공정이 완료된 기판을 받아서 상기 베이킹 영역(Baking Zone)으로 이송하는 역할을 한다. 상기 반송 영역(Transferring Zone)에는 반송 챔버(700)가 마련되어 있고 상기 반송 챔버(700) 내에는 기판 이송을 위한 로봇암이 설치되어 있다. 또한, 상기 반송 챔버(700)에도 상측에 가스 분사 장치(720)가 구비되어 있고 하측에 가스 배기부(730)가 구비되어 있어, 상기 가스 분사 장치(720)를 통해 질소와 같은 불활성 가스를 분사한 후 상기 가스 배기부(730)를 통해 배기할 수 있다. 이와 같이, 상기 반송 챔버(700) 내에 질소와 같은 불활성 가스를 분사함으로써 상기 감압 건조 공정을 통해 얻어진 유기층에 수분이 침투하는 것을 방지할 수 있다.
상기 베이킹 영역(Baking Zone)은 상기 감압 건조된 유기층을 가열하여 유기층을 견고하게 만드는 역할을 한다. 상기 베이킹 영역(Baking Zone)에는 베이킹 챔버(800)가 마련되어 있다. 또한, 상기 베이킹 챔버(800)에도 상측에 가스 분사 장치(820)가 구비되어 있고 하측에 가스 배기부(830)가 구비되어 있어, 상기 가스 분사 장치(820)를 통해 아르곤과 같은 불활성 가스를 분사하여 상기 베이킹 공정을 보다 원활히 이루어지게 한다. 즉, 베이킹 공정시 고온으로 가열된 상기 불활성 가스에 의해서 상기 베이킹 챔버(800) 내부가 전체적으로 균일하게 가열될 수 있다.
상기 감압 챔버(100)와 상기 반송 챔버(700) 사이 및 상기 반송 챔버(700)와 상기 베이킹 챔버(800) 사이에는 각각 개폐부(110,, 710)가 마련되어 있어, 상기 개폐부(110,, 710)를 통해서 기판이 이동할 수 있다.
이상은 본 발명의 다양한 감압 건조 장비, 건조 장비 시스템 및 그를 이용하여 유기층을 건조하는 공정을 포함하는 유기 발광 표시 장치의 제조 방법에 대해서 설명하였는데, 본 발명은 유기 발광 표시 장치 이외에도 상기 감압 건조 장비와 건조 장비 시스템을 이용하여 액상의 패턴 물질을 건조할 수 있는 다양한 표시 장치의 제조 방법을 포함한다. 예로서, 본 발명은 잉크젯 인쇄 공정으로 컬러 필터를 화소별로 도포한 후 건조하여 제조할 수 있는 유기 발광 표시 장치 및 액정 표시 장치의 제조 방법을 포함할 수 있다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예들을 더욱 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 반드시 이러한 실시예로 국한되는 것은 아니고, 본 발명의 기술사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양하게 변형 실시될 수 있다. 따라서, 본 발명에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술 사상을 한정하기 위한 것이 아니라 설명하기 위한 것이고, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술 사상의 범위가 한정되는 것은 아니다. 그러므로, 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다. 본 발명의 보호 범위는 청구 범위에 의하여 해석되어야 하며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 기술 사상은 본 발명의 권리 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.
10: 기판 100: 감압 챔버
200: 스테이지 250: 기류 조절부
300: 가스 배기부 400: 기류 안내부
500: 가스 분사 장치 600: 히터
200: 스테이지 250: 기류 조절부
300: 가스 배기부 400: 기류 안내부
500: 가스 분사 장치 600: 히터
Claims (16)
- 감압 챔버;
상기 감압 챔버 내부에 설치되어 기판을 지지하는 스테이지;
상기 감압 챔버 내부의 가스를 배기하기 위해서 상기 감압 챔버에 구비되어 있는 가스 배기부; 및
상기 스테이지의 측면에 연결되어 상기 감압 챔버 내부의 기류를 조절하는 기류 조절부를 포함하여 이루어지고,
상기 기류 조절부는 상기 감압 챔버 내부면에서 이격되어 있으며, 상기 기류 조절부의 상측 끝단은 상기 스테이지의 상면보다는 높은 위치까지 연장되며,
상기 기류 중 일부가 상기 기류 조절부 위를 통해서 지나가는 건조 장비. - 삭제
- 제1항에 있어서,
상기 기류 조절부는 상기 스테이지의 모서리에 구비되어 있는 건조 장비. - 제3항에 있어서,
상기 감압 챔버에는 상기 기판의 로딩 및 언로딩을 위한 개폐부가 구비되어 있고, 상기 기류 조절부는 상기 개폐부와 중첩되지 않도록 구비되어 있는 건조 장비. - 제1항에 있어서,
상기 기류 조절부는 상기 스테이지의 측면에 승강 가능하도록 구비되어 있는 건조 장비. - 제1항에 있어서,
상기 기류 조절부의 상측 끝단은 상기 기판의 상면보다 높은 위치까지 연장되는 건조 장비. - 제1항에 있어서,
상기 기류 조절부는 상기 스테이지의 측면을 둘러싸고 있는 건조 장비. - 제1항에 있어서,
상기 스테이지는 상기 감압 챔버의 내부면에서 이격되어 있는 측면 및 상기 감압 챔버의 내부면과 접하고 있는 측면을 구비하고,
상기 기류 조절부는 상기 감압 챔버의 내부면과 접하도록 연장된 상기 스테이지의 부분으로 이루어진 건조 장비. - 제1항에 있어서,
상기 가스 배기부는,
상기 감압 챔버의 하부에 마련된 복수 개의 제1 가스 배기홀, 상기 복수 개의 제1 가스 배기홀에 연결된 복수 개의 제1 진공 펌프, 상기 복수 개의 제1 진공 펌프를 연결하는 제1 가스 배기 배관; 및
상기 감압 챔버의 하부에서 상기 복수 개의 제1 가스 배기홀의 일측에 마련된 복수 개의 제2 가스 배기홀, 상기 복수 개의 제2 가스 배기홀에 연결된 복수 개의 제2 진공 펌프, 상기 복수 개의 제2 진공 펌프를 연결하는 제2 가스 배기 배관을 포함하여 이루어지고,
상기 복수 개의 제1 진공 펌프는 상기 복수 개의 제2 진공 펌프보다 저진공 펌프로 이루어지고, 상기 복수 개의 제1 진공 펌프는 상기 복수 개의 제2 진공 펌프와 독립적으로 동작하는 건조 장비. - 제1항에 있어서,
상기 스테이지의 상측에 구비되어 상기 기류를 상기 스테이지의 측면 방향으로 안내하며, 승강 가능하도록 구비되어 있는 기류 안내부를 추가로 포함하는 건조 장비. - 제1항에 있어서,
상기 감압 챔버 내부로 불활성 가스를 분사하기 위한 가스 분사 장치를 추가로 포함하는 건조 장비. - 제11항에 있어서,
상기 가스 분사 장치는 상기 감압 챔버 내부에 구비되며 상기 스테이지보다 낮은 위치에 설치되는 제1 가스 분사판 및 상기 감압 챔버 내부에 구비되며 상기 감압 챔버의 상면에 설치되는 제2 가스 분사판 중 적어도 하나의 가스 분사판을 포함하는 건조 장비. - 제12항에 있어서,
상기 가스 분사 장치는 상기 적어도 하나의 가스 분사판을 가스 저장부와 연결하는 가스 분사 배관을 추가로 포함하고, 상기 가스 분사 배관에는 온도 조절부가 연결되어 있는 건조 장비. - 제1항에 있어서,
상기 감압 챔버에는 히터가 내장되어 있는 건조 장비. - 제1항에 있어서,
상기 감압 챔버에서 건조처리된 기판을 베이킹 하기 위한 베이킹 챔버, 및 상기 감압 챔버와 상기 베이킹 챔버 사이에 구비되어 상기 기판을 이송하기 위한 반송 챔버를 추가로 포함하고,
상기 반송 챔버에는 불활성 가스를 분사하기 위한 가스 분사 장치 및 분사된 가스를 배기하기 위한 가스 배기부가 구비되어 있는 건조 장비. - 기판 상에 액상의 패턴 물질을 도포하는 공정; 및
상기 액상의 패턴 물질을 건조하는 공정을 포함하고,
상기 액상의 패턴 물질을 건조하는 공정은 감압 챔버 내에서 기류를 조절하면서 감압 건조하는 공정을 포함하고,
상기 기류를 조절하면서 감압 건조하는 공정은 전술한 제1항 및 제3항 내지 제15항 중 어느 한 항에 따른 건조 장비를 이용하여 수행하는 표시 장치의 제조방법.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020160095176A KR102625727B1 (ko) | 2016-07-27 | 2016-07-27 | 건조 장비 및 그를 이용한 표시 장치의 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020160095176A KR102625727B1 (ko) | 2016-07-27 | 2016-07-27 | 건조 장비 및 그를 이용한 표시 장치의 제조 방법 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20180012416A KR20180012416A (ko) | 2018-02-06 |
KR102625727B1 true KR102625727B1 (ko) | 2024-01-15 |
Family
ID=61227829
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020160095176A KR102625727B1 (ko) | 2016-07-27 | 2016-07-27 | 건조 장비 및 그를 이용한 표시 장치의 제조 방법 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR102625727B1 (ko) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN110094935B (zh) * | 2019-05-17 | 2024-09-24 | 京东方科技集团股份有限公司 | 真空干燥装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003168643A (ja) * | 2001-09-19 | 2003-06-13 | Tokyo Electron Ltd | 減圧乾燥装置及び塗布膜形成方法 |
JP2007040559A (ja) * | 2005-08-01 | 2007-02-15 | Seiko Epson Corp | 減圧乾燥装置 |
JP2011064400A (ja) * | 2009-09-17 | 2011-03-31 | Tokyo Electron Ltd | 減圧乾燥装置及び減圧乾燥方法 |
KR101344920B1 (ko) * | 2011-10-31 | 2013-12-27 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
-
2016
- 2016-07-27 KR KR1020160095176A patent/KR102625727B1/ko active IP Right Grant
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003168643A (ja) * | 2001-09-19 | 2003-06-13 | Tokyo Electron Ltd | 減圧乾燥装置及び塗布膜形成方法 |
JP2007040559A (ja) * | 2005-08-01 | 2007-02-15 | Seiko Epson Corp | 減圧乾燥装置 |
JP2011064400A (ja) * | 2009-09-17 | 2011-03-31 | Tokyo Electron Ltd | 減圧乾燥装置及び減圧乾燥方法 |
KR101344920B1 (ko) * | 2011-10-31 | 2013-12-27 | 세메스 주식회사 | 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20180012416A (ko) | 2018-02-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102640367B1 (ko) | 기판 처리 방법 및 열처리 장치 | |
KR102404507B1 (ko) | 기판 처리 방법, 프로그램, 컴퓨터 기억 매체 및 기판 처리 시스템 | |
KR102377344B1 (ko) | 감압 건조 장치 및 감압 건조 방법 | |
KR101788908B1 (ko) | 기판 처리 방법, 컴퓨터 기억 매체 및 기판 처리 시스템 | |
CN108022860A (zh) | 用于处理基板的装置和方法 | |
KR20150038252A (ko) | 베이크 처리 시스템 | |
KR102698634B1 (ko) | 감압 건조 장치 | |
KR20080068590A (ko) | 리플로우 처리 방법 및 tft의 제조 방법 | |
JP2006060228A (ja) | ウェハベーキング装置 | |
CN216605955U (zh) | 减压干燥装置 | |
TW202004847A (zh) | 減壓乾燥裝置及減壓乾燥方法 | |
KR101853141B1 (ko) | 기판 처리 방법, 기판 처리 장치 및 기억 매체 | |
KR102625727B1 (ko) | 건조 장비 및 그를 이용한 표시 장치의 제조 방법 | |
KR20090083329A (ko) | 리플로우 방법, 패턴 형성 방법 및 tft의 제조 방법 | |
JP2007073833A (ja) | 減圧乾燥装置及び基板乾燥方法 | |
KR20110026376A (ko) | 감압건조장치 및 감압건조방법 | |
KR20210079890A (ko) | 성막 장치, 이를 사용한 성막 방법, 및 전자 디바이스의 제조방법 | |
JP2001267236A (ja) | 処理装置および処理方法 | |
KR102675018B1 (ko) | 잉크젯 인쇄 장비 및 그를 이용한 표시 장치의 제조 방법 | |
JP2011058656A (ja) | 減圧乾燥装置及び減圧乾燥方法 | |
JP2021096961A (ja) | 減圧乾燥装置および減圧乾燥方法 | |
TW201447208A (zh) | 乾燥裝置及乾燥處理方法(二) | |
US20240213059A1 (en) | Substrate processing apparatus and method | |
KR101225212B1 (ko) | Oled제조장치 및 방법 | |
KR20120136878A (ko) | 유기발광소자 제조장비 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |