KR102698634B1 - 감압 건조 장치 - Google Patents

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유키히로 다카무라
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가부시키가이샤 스크린 홀딩스
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Abstract

[과제] 기판의 상면에 형성된 도포층을, 균일하게 건조시킬 수 있는 감압 건조 장치를 제공한다.
[해결 수단] 감압 건조 장치(1)는, 챔버(10), 스테이지(20), 감압 기구(30), 및 저면 정류판(40)을 구비한다. 저면 정류판(40)은, 스테이지(20)에 지지되는 기판(9)과 챔버(10)의 저판부(11) 사이에 위치한다. 저면 정류판(40)은, 저판부(11)의 상면을 따라 펼쳐진다. 챔버(10) 내의 감압 시에는, 기판(9)의 상면측의 기체가 저면 정류판(40)의 측방을 지나, 저면 정류판(40)의 하방으로 흐른다. 이에 의해, 기판(9)의 주연부에 기류가 집중하는 것을 억제할 수 있다. 또, 기판(9)의 방향에 관계없이, 상면에서 봤을 때, 저면 정류판(40)이 기판(9)보다 크다. 이 때문에, 감압 시에 있어서의 기체의 흐름이 스테이지(20)에 지지되는 기판(9)의 방향에 의해 변화하는 것을 억제할 수 있다. 따라서, 기판(9)의 상면에 형성된 도포층을, 균일하게 건조시킬 수 있다.

Description

감압 건조 장치{REDUCED PRESSURE DRYING APPARATUS}
본 발명은, 기판의 상면에 형성된 도포층을, 감압에 의해 건조시키는 감압 건조 장치에 관한 것이다.
종래, 유기 EL 디스플레이의 제조 공정에서는, 기판의 상면에, 정공 주입층, 정공 수송층, 또는 발광층이 되는 도포층을 형성한다. 도포층은, 잉크젯 장치에 의해, 기판의 상면에 부분적으로 도포된다. 그리고, 도포층이 형성된 기판은, 감압 건조 장치의 챔버 내로 반송되고, 감압 건조 처리를 받는다. 이에 의해, 도포층에 포함되는 용제가 기화되어, 도포층이 건조된다.
감압 건조 장치는, 기판을 수용하는 챔버와, 챔버로부터 기체를 흡인하는 감압 기구를 구비한다. 종래의 감압 건조 장치에 대해서는, 예를 들면, 특허문헌 1에 기재되어 있다.
일본국 특허공개 2018-49806호 공보
종래의 감압 건조 장치는, 챔버 내의 기체를 배출하는 배기구가 챔버의 저면에 형성되어 있다. 이는, 챔버의 감압 시에, 기판의 상면측에, 균일한 기류를 형성하기 위함이다. 그러나, 챔버의 저면에 배기구가 있으면, 기판의 상면측의 기체는, 기판의 측방을 지나, 배기구를 향한다. 이 때문에, 기판의 주연부에 있어서 기류가 집중한다. 그러면, 기판의 중앙 부근과 기판의 주연부 부근에서, 건조의 진행 정도에 차가 발생한다. 그 결과, 도포층에 건조 불균일이 생기는 경우가 있다.
본 발명은, 이러한 사정을 감안한 것이며, 기판의 상면에 형성된 도포층을, 균일하게 건조시킬 수 있는 감압 건조 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 과제를 해결하기 위해서, 본원의 제1 발명은, 기판의 상면에 형성된 도포층을, 감압에 의해 건조시키는 감압 건조 장치로서, 기판을 수용하는 챔버와, 상기 챔버의 내부에 있어서, 기판을 하방으로부터 지지하는 스테이지와, 상기 스테이지에 지지되는 기판과 상기 챔버의 저판부 사이에 위치하고, 상기 저판부의 상면을 따라 펼쳐지는 저면 정류판과, 상기 저면 정류판의 하방에 위치하는 복수의 배기구와, 상기 복수의 배기구를 통해 상기 챔버 내의 기체를 흡인하는 감압 기구를 구비하고, 스테이지에 지지되는 기판의 방향에 관계없이, 상면에서 봤을 때, 상기 저면 정류판이 기판보다 크다.
본원의 제2 발명은, 제1 발명의 감압 건조 장치로서, 상기 저면 정류판은, 상면에서 봤을 때 정사각형이며, 상기 복수의 배기구는, 상면에서 봤을 때, 상기 저면 정류판의 대각선 상에 위치한다.
본원의 제3 발명은, 제1 발명 또는 제2 발명의 감압 건조 장치로서, 상기 스테이지에 지지되는 기판과 상기 챔버의 측벽부 사이에 위치하고, 상기 측벽부의 내면을 따라 펼쳐지는 측면 정류판을 추가로 구비한다.
본원의 제4 발명은, 제3 발명의 감압 건조 장치로서, 상기 스테이지는, 하강 위치와, 상기 하강 위치보다 높은 상승 위치 사이에서, 승강 가능하고, 상기 측면 정류판의 상단부는, 상기 하강 위치의 상기 스테이지에 지지되는 기판의 높이보다 높고, 또한, 상기 상승 위치의 상기 스테이지에 지지되는 기판의 높이보다 낮다.
본원의 제5 발명은, 제3 발명의 감압 건조 장치로서, 상기 측면 정류판의 적어도 일부는, 상기 저면 정류판에 대해 이동 가능하다.
본원의 제6 발명은, 제5 발명의 감압 건조 장치로서, 상기 저면 정류판과, 상기 저면 정류판에 대해 이동 가능한 상기 측면 정류판은, 서로 비접촉이다.
본원의 제7 발명은, 제3 발명의 감압 건조 장치로서, 상기 스테이지에 지지되는 기판과, 상기 챔버의 천판부 사이에 위치하고, 상기 천판부의 하면을 따라 펼쳐지는 상면 정류판을 추가로 구비하고, 상기 천면 정류판은, 기체를 통과시키는 개구를 가진다.
본원의 제1 발명 내지 제7 발명에 의하면, 챔버 내의 감압 시에, 기판의 상면측의 기체가 저면 정류판의 측방을 지나, 저면 정류판의 하방으로 흐른다. 이에 의해, 기판의 주연부에 기류가 집중하는 것을 억제할 수 있다. 또, 기판의 방향에 관계없이, 상면에서 봤을 때, 저면 정류판이 기판보다 크다. 이 때문에, 감압 시에 있어서의 기체의 흐름이 스테이지에 지지되는 기판의 방향에 의해 변화되는 것을 억제할 수 있다. 따라서, 기판의 상면에 형성된 도포층을, 균일하게 건조시킬 수 있다.
특히, 본원의 제2 발명에 의하면, 챔버 내의 감압 시에, 보다 균일한 기류를 형성할 수 있다.
특히, 본원의 제3 발명에 의하면, 챔버 내의 감압 시에, 기판의 상면측의 기체가 측면 정류판의 외측을 지나, 저면 정류판의 하방으로 흐른다. 이에 의해, 기판의 주연부에 기류가 집중하는 것을, 보다 억제할 수 있다.
특히, 본원의 제4 발명에 의하면, 스테이지가 하강 위치일 때에는, 기판의 상면측으로부터, 측면 정류판의 외측 및 저면 정류판의 하측을 지나, 배기구를 향하는 기류를 형성할 수 있다. 이에 의해, 기판의 상면을 따라 균일한 기류를 형성할 수 있다. 한편, 스테이지가 상승 위치일 때에는, 기판의 하면측으로부터, 측면 정류판의 외측 및 저면 정류판의 하측을 지나, 배기구를 향하는 기류를 형성할 수 있다. 이에 의해, 기판의 상면측에 기류가 형성되는 것을 억제할 수 있다.
특히, 본원의 제5 발명에 의하면, 측면 정류판의 적어도 일부를 이동 가능하게 함으로써, 기판의 반입 및 반출의 경로를 확보할 수 있다.
특히, 본원의 제6 발명에 의하면, 저면 정류판과 상기 측면 정류판의 슬라이딩에 의해, 분진이 발생하는 것을 억제할 수 있다.
특히, 본원의 제7 발명에 의하면, 기판의 상면측으로부터, 천면 정류판의 상측, 측면 정류판의 외측, 및 저면 정류판의 하측을 지나, 배기구를 향하는 기류를 형성할 수 있다.
도 1은, 감압 건조 장치의 종단면도이다.
도 2는, 감압 건조 장치의 횡단면도이다.
도 3은, 기판의 사시도이다.
도 4는, 제어부에 있어서 실현되는 기능을 개념적으로 나타낸 블록도이다.
도 5는, 감압 건조 처리의 흐름을 나타내는 플로차트이다.
도 6은, 챔버 내의 기압의 변화를 나타내는 그래프이다.
도 7은, 스테이지가 상승 위치에 배치되었을 때의 챔버 내의 모습을 나타낸 도면이다.
도 8은, 4개의 개별 밸브의 개폐 상태의 변화를 나타내는 타이밍 차트이다.
도 9는, 기판의 부분 종단면도이다.
도 10은, 스테이지가 하강 위치에 배치되었을 때의 챔버 내의 모습을 나타낸 도면이다.
도 11은, 변형예 따른 4개의 개별 밸브의 개폐 상태의 변화를 나타내는 타이밍 차트이다.
도 12는, 변형예에 따른 감압 건조 장치의 종단면도이다.
도 13은, 변형예에 따른 감압 건조 장치의 종단면도이다.
이하, 본 발명의 실시 형태에 대해, 도면을 참조하면서 설명한다.
＜1. 감압 건조 장치의 구성에 대해＞
도 1은, 본 발명의 일실시 형태에 따른 감압 건조 장치(1)의 종단면도이다. 도 2는, 감압 건조 장치(1)의 횡단면도이다. 이 감압 건조 장치(1)는, 유기 EL 디스플레이의 제조 공정에 있어서, 기판(9)에 대해, 감압 건조 처리를 행하는 장치이다. 기판(9)에는, 직사각형의 유리 기판이 사용된다. 기판(9)의 상면에는, 미리 유기 재료 및 용제를 포함하는 도포층(90)(도 9 참조)이 부분적으로 형성되어 있다. 도포층(90)은, 감압 건조 장치(1)로 건조됨으로써, 유기 EL 디스플레이의 정공 주입층, 정공 수송층, 또는 발광층이 된다.
도 3은, 기판(9)의 사시도이다. 기판(9)은, 상면에서 봤을 때, 종횡의 길이가 상이한 직사각형상이다. 도 2에 나타내는 바와 같이, 기판(9)의 상면에는, 유기 EL 디스플레이의 회로 패턴을 형성하는 회로 영역(A1)이 복수 배열되어 있다. 도 2의 예에서는, 기판(9)의 상면에, 4개의 직사각형의 회로 영역(A1)이 2행 2열의 매트릭스형상으로 배열되어 있다. 단, 회로 영역(A1)의 형상, 수, 배치는, 이 예로 한정되는 것은 아니다. 도포층(90)은, 감압 건조 공정보다 전의 도포 공정에 있어서, 잉크젯 장치에 의해, 각 회로 영역(A1) 내에, 회로 패턴에 따라 형성된다. 따라서, 각 회로 영역(A1)은, 도포층(90)에 덮인 부분과, 도포층(90)으로부터 노출된 부분을 가진다. 또, 서로 이웃하는 회로 영역(A1) 사이의 경계 영역(A2)은, 도포층(90)으로부터 노출된 부분이 된다.
도 1 및 도 2에 나타내는 바와 같이, 감압 건조 장치(1)는, 챔버(10), 스테이지(20), 감압 기구(30), 저면 정류판(40), 측면 정류판(50), 급기 기구(60), 압력계(70), 및 제어부(80)를 구비하고 있다.
챔버(10)는, 기판(9)이 수용되는 내부 공간을 가지는 내압 용기이다. 챔버(10)는, 도시를 생략한 장치 프레임 상에 고정된다. 챔버(10)의 형상은, 편평한 직육면체형상이다. 챔버(10)는, 대략 정사각형상의 저판부(11), 4개의 측벽부(12), 및 대략 정사각형상의 천면부(13)를 가진다. 4개의 측벽부(12)는, 저판부(11)의 4개의 끝변과, 천면부(13)의 4개의 끝변을, 상하 방향으로 접속한다.
4개의 측벽부(12) 중 1개에는, 반입출구(14)와, 반입출구(14)를 개폐하는 셔터(15)가 설치되어 있다. 셔터(15)는, 에어 실린더 등에 의해 구성되는 셔터 구동 기구(16)와 접속되어 있다. 셔터 구동 기구(16)를 동작시키면, 셔터(15)는, 반입출구(14)를 폐쇄하는 폐쇄 위치와, 반입출구(14)를 개방하는 개방 위치 사이에서 이동한다. 셔터(15)가 폐쇄 위치에 배치된 상태에서는, 챔버(10)의 내부 공간이 밀폐된다. 셔터(15)가 개방 위치에 배치된 상태에서는, 반입출구(14)를 통해, 챔버(10)로의 기판(9)의 반입 및 챔버(10)로부터의 기판(9)의 반출을 행할 수 있다.
스테이지(20)는, 챔버(10)의 내부에 있어서, 기판(9)을 지지하는 지지부이다. 스테이지(20)는, 복수의 지지 플레이트(21)를 가진다. 복수의 지지 플레이트(21)는, 수평 방향으로 간격을 두고 배열되어 있다. 각 플레이트(21)의 상면에는, 복수의 지지 핀(22)이 세워져 설치되어 있다. 기판(9)은, 복수의 플레이트(21)의 상부에 배치된다. 그리고, 복수의 지지 핀(22)의 상단부가 기판(9)의 하면에 접촉함으로써, 기판(9)이 수평 자세로 지지된다.
스테이지(20)의 복수의 지지 플레이트(21)는, 승강 기구(23)에 접속되어 있다. 도면의 번잡화를 피하기 위해, 승강 기구(23)는, 도 1에 있어서 개념적으로 나타내어져 있는데, 실제로는, 승강 기구(23)는, 에어 실린더 등의 액추에이터에 의해 구성된다. 승강 기구(23)를 동작시키면, 스테이지(20)는, 하강 위치(H1)(도 1에 있어서 실선으로 나타낸 위치)와, 하강 위치(H1)보다 높은 상승 위치(H2)(도 1에 있어서 2점 쇄선으로 나타낸 위치) 사이에서 상하 방향으로 승강 이동한다. 이때, 복수의 플레이트(21)는, 일체로서 승강 이동한다.
감압 기구(30)는, 챔버(10)의 내부 공간으로부터 기체를 흡인하여, 챔버(10) 내의 압력을 저하시키는 기구이다. 도 1 및 도 2에 나타내는 바와 같이, 챔버(10)의 저판부(11)에는, 4개의 배기구(16a~16d)가 형성되어 있다. 4개의 배기구(16a~16d)는, 스테이지(20)에 지지된 기판(9)의 하방, 또한, 후술하는 저면 정류판(40)의 하방에 위치한다. 감압 기구(30)는, 4개의 배기구(16a~16d)에 접속된 배기 배관(31)과, 4개의 개별 밸브(Va~Vd)와, 주밸브(Ve)와, 진공 펌프(32)를 가진다.
배기 배관(31)은, 4개의 개별 배관(31a~31d)과, 1개의 주배관(31e)을 가진다. 4개의 개별 배관(31a~31d)의 일단은, 4개의 배기구(16a~16d)에, 각각 접속되어 있다. 4개의 개별 배관(31a)의 타단은, 1개에 합류되어, 주배관(31e)의 일단에 접속되어 있다. 주배관(31e)의 타단은, 진공 펌프(32)에 접속되어 있다. 4개의 개별 밸브(Va~Vd)는, 4개의 개별 배관(31a)의 경로 상에, 각각 설치되어 있다. 주밸브(Ve)는, 주배관(31e)의 경로 상에 설치되어 있다.
셔터(15)에 의해 반입출구(14)를 폐쇄한 상태에서, 4개의 개별 밸브(Va~Vd) 중 적어도 일부와, 1개의 주밸브(Ve)를 개방하고, 진공 펌프(32)를 동작시키면, 챔버(10) 내의 기체가 배기 배관(31)을 지나, 챔버(10)의 외부로 배출된다. 이에 의해, 챔버(10)의 내부 공간의 압력을 저하시킬 수 있다.
4개의 개별 밸브(Va~Vd)는, 4개의 배기구(16a~16d)로부터의 배기량을, 개별적으로 조절하기 위한 밸브이다. 본 실시 형태의 개별 밸브(Va~Vd)는, 제어부(80)로부터의 지령에 의거하여, 개방 상태와 폐쇄 상태를 전환하는 개폐 밸브이다. 주밸브(Ve)는, 4개의 배기구(16a~16d)로부터의 합계의 배기량을 조정하기 위한 밸브이다. 본 실시 형태의 주밸브(Ve)는, 제어부(80)로부터의 지령에 의거하여, 개도를 조절 가능한 개도 제어 밸브이다.
이 감압 건조 장치(1)에서는, 4개의 배기구(16a~16d)가 스테이지(20)에 지지된 기판(9)의 하방에 위치한다. 이 때문에, 기판(9)의 상방에 배기구가 있는 경우에 비해, 기판(9)의 상면측에 있어서의 기체의 흐름을 균일화할 수 있다. 따라서, 기판(9)의 상면에 형성된 도포층(90)의 건조 불균일을 억제할 수 있다.
저면 정류판(40)은, 챔버(10) 내의 감압 시에 있어서의 기체의 흐름을 규제하기 위한 플레이트이다. 저면 정류판(40)은, 스테이지(20)에 지지되는 기판(9)과, 챔버(10)의 저판부(11) 사이에 위치한다. 보다 구체적으로는, 저면 정류판(40)은, 하강 위치(H1)의 스테이지(20)로부터 간격을 두고 하측, 또한, 저판부(11)의 상면으로부터 간격을 두고 상측에 위치한다. 또, 저면 정류판(40)은, 저판부(11)의 상면을 따라, 수평으로 펼쳐진다. 저면 정류판(40)은, 챔버(10)의 저판부(11)에, 복수의 지주(도시 생략)를 통해 고정되어 있다.
도 2에 나타내는 바와 같이, 저면 정류판(40)의 형상은, 상면에서 봤을 때 정사각형이다. 그리고, 저면 정류판(40)의 상면에서 봤을 때의 각 변의 길이는, 직사각형상의 기판(9)의 긴 변 및 짧은 변의 어느 것보다도 길다. 이 때문에, 스테이지(20) 상에 배치되는 기판(9)의 방향에 관계없이, 상면에서 봤을 때, 저면 정류판(40)은, 기판(9)보다 크다.
측면 정류판(50)은, 저면 정류판(40)과 더불어, 챔버(10) 내의 감압 시에 있어서의 기체의 흐름을 규제하기 위한 플레이트이다. 측면 정류판(50)은, 하강 위치(H1)의 스테이지(20)에 지지되는 기판(9)과, 챔버(10)의 측벽부(12) 사이에 위치한다. 보다 구체적으로는, 측면 정류판(50)은, 하강 위치(H1)의 스테이지(20)에 지지되는 기판(9)의 단부로부터 간격을 두고 외측, 또한, 측벽부(12)의 내면으로부터 간격을 두고 내측에 위치한다. 본 실시 형태에서는, 스테이지(20)에 지지되는 기판(9) 주위에, 4개의 측면 정류판(50)이 배치되어 있다. 각 측면 정류판(50)은, 측벽부(12)의 내면을 따라 펼쳐진다. 따라서, 4개의 측면 정류판(50)은, 전체적으로, 기판(9)을 포위하는 사각통형상의 정류판을 형성하고 있다. 또, 저면 정류판(40) 및 4개의 측면 정류판(50)은, 전체적으로, 바닥이 있는 통형상의 상자형상 정류판을 형성하고 있다.
챔버(10)의 내부 공간을 감압할 때에는, 챔버(10) 내의 기체는, 측면 정류판(50)과 측벽부(12) 사이의 공간, 저면 정류판(40)과 저판부(11) 사이의 공간, 및 배기구(16a~16d)를 지나, 챔버(10)의 외부로 배출된다. 이와 같이, 기체가 기판(9)으로부터 멀어진 공간을 흐름으로써, 기판(9)의 근방에 형성되는 기류를 저감할 수 있다. 특히, 기판(9)의 주연부에 있어서 기류가 집중하는 것을 억제할 수 있다. 그 결과, 기판(9)의 상면에 형성된 도포층(90)의 건조 불균일을 억제할 수 있다.
도 2에 나타내는 바와 같이, 저면 정류판(40) 및 4개의 측면 정류판(50)에 의해 형성되는 상자형상 정류판은, 상면에서 봤을 때 정사각형이다. 그리고, 당해 상자형상 정류판의 상면에서 봤을 때의 각 변의 길이는, 직사각형상의 기판(9)의 긴 변 및 짧은 변의 어느 것보다도 길다. 이 때문에, 스테이지(20) 상에 배치되는 기판(9)의 방향에 관계없이, 감압 시에 있어서의 챔버(10) 내의 기체의 흐름을, 균일하게 할 수 있다. 즉, 기판(9)의 방향에 의해, 챔버(10) 내의 기체의 흐름이 변화하는 것을 억제할 수 있다.
또, 도 2에 나타내는 바와 같이, 4개의 배기구(16a~16d)는, 모두, 상면에서 봤을 때, 정사각형상의 저면 정류판(40)의 대각선(41) 상에 위치한다. 이와 같이 하면, 각 배기구(16a~16d)에 의해, 저면 정류판(40)의 중앙(2개의 대각선(41)의 교점)에 대해 대칭인 기류를 형성할 수 있다. 이에 의해, 챔버(10)의 내부에, 보다 균일한 기류를 형성할 수 있다.
3개의 측면 정류판(50)은, 챔버(10)의 측벽부(12)에 고정되어 있다. 단, 나머지 1개의 측면 정류판(50)은, 기판(9)의 반입 및 반출의 경로를 확보하기 위해서, 측벽부(12) 및 저면 정류판(40)에 대해 이동 가능하게 되어 있다. 당해 1개의 측면 정류판(50)은, 예를 들면, 셔터(15)와 함께 이동하도록 구성된다. 그렇게 하면, 셔터(15)가 폐쇄 위치로부터 개방 위치로 이동하면, 당해 측면 정류판(50)도 이동하여, 기판(9)의 반입 및 반출의 경로를 확보할 수 있다.
단, 이동 가능한 측면 정류판(50)이 다른 측면 정류판(50) 또는 저면 정류판(50)에 접촉하면, 정류판끼리의 슬라이딩에 의해, 분진이 발생할 가능성이 있다. 이 때문에, 이동 가능한 측면 정류판(50)은, 정규의 위치(상술한 상자형상 정류판을 구성하는 위치)에 배치되었을 때에도, 다른 측면 정류판(50) 및 저면 정류판(40)과는 비접촉인 것이 바람직하다. 단, 기류를 규제하는 효과를 보다 높이는 것을 중시하는 경우에는, 이동 가능한 측면 정류판(50)과, 다른 측면 정류판(50) 및 저면 정류판(40)을 서로 접촉시켜, 이들 정류판의 간극을 닫아도 된다.
급기 기구(60)는, 감압 건조 처리의 최후에, 챔버(10) 내를 대기압으로 되돌리기 위한 기구이다. 도 1에 나타내는 바와 같이, 챔버(10)의 저판부(11)에는, 급기구(16f)가 형성되어 있다. 급기구(16f)는, 저면 정류판(40)의 하방에 위치한다. 급기 기구(60)는, 급기구(16e)에 접속된 급기 배관(61)과, 급기 밸브(Vf)와, 급기원(62)을 가진다. 급기 배관(61)의 일단은, 급기구(16f)에 접속되어 있다. 급기 배관(61)의 타단은, 급기원(62)에 접속되어 있다. 급기 밸브(Vf)는, 급기 배관(61)의 경로 상에 설치되어 있다.
급기 밸브(Vf)를 개방하면, 급기원(62)으로부터 급기 배관(61) 및 급기구(16f)를 지나 챔버(10)의 내부 공간으로 기체가 공급된다. 이에 의해, 챔버(10) 내의 기압을 상승시킬 수 있다. 또한, 급기원(62)으로부터 공급되는 기체는, 질소 가스 등의 불활성 가스여도 되고, 혹은, 클린 드라이 에어여도 된다.
압력계(70)는, 챔버(10) 내의 기압을 계측하는 센서이다. 도 1에 나타내는 바와 같이, 압력계(70)는, 챔버(10)의 일부분에 장착되어 있다. 압력계(70)는, 챔버(10) 내의 기압을 계측하고, 그 계측 결과를, 제어부(70)로 출력한다.
제어부(80)는, 감압 건조 장치(1)의 각 부를 동작 제어하기 위한 유닛이다. 제어부(80)는, CPU 등의 프로세서(801), RAM 등의 메모리(802), 및 하드 디스크 드라이브 등의 기억부(803)를 가지는 컴퓨터에 의해 구성된다. 기억부(803)에는, 감압 건조 처리를 실행하기 위한 컴퓨터 프로그램 및 각종 데이터가 기억되어 있다. 제어부(80)는, 기억부(803)로부터 메모리(802)로 컴퓨터 프로그램 및 각종 데이터를 독출하고, 당해 컴퓨터 프로그램 및 데이터에 따라 프로세서(801)가 연산 처리를 행함으로써, 감압 건조 장치(1) 내의 각 부를 동작 제어한다.
도 4는, 제어부(80)에 있어서 실현되는 기능을 개념적으로 나타낸 블록도이다. 도 4에 나타내는 바와 같이, 제어부(80)는, 셔터 구동 기구(16), 승강 기구(23), 4개의 개별 밸브(Va~Vd), 주밸브(Ve), 진공 펌프(32), 급기 밸브(Vf), 및 압력계(70)와, 각각 전기적으로 접속되어 있다. 제어부(80)는, 압력계(70)로부터 출력되는 계측값을 참조하면서, 상기 각 부의 동작을 제어한다.
도 4에 개념적으로 나타낸 바와 같이, 제어부(80)는, 셔터 제어부(81), 승강 제어부(82), 전환 제어부(83), 배기 제어부(84), 펌프 제어부(85), 및 급기 제어부(86)를 가진다. 셔터 제어부(81)는, 셔터 구동 기구(16)의 동작을 제어한다. 승강 제어부(82)는, 승강 기구(23)의 동작을 제어한다. 전환 제어부(83)는, 4개의 개별 밸브(Va~Vd)의 개폐 상태를 개별적으로 제어한다. 배기 제어부(84)는, 주밸브(Ve)의 개폐 상태 및 개도를 제어한다. 펌프 제어부(85)는, 진공 펌프(32)의 동작을 제어한다. 급기 제어부(86)는, 급기 밸브(Vf)의 개폐 상태를 제어한다. 이들 각 부의 기능은, 상술한 컴퓨터 프로그램 및 각종 데이터에 의거하여, 프로세서(801)가 동작함으로써 실현된다.
＜2. 감압 건조 처리에 대하여＞
계속해서, 상기의 감압 건조 장치(1)를 이용한 기판(9)의 감압 건조 처리에 대해 설명한다. 도 5는, 감압 건조 처리의 흐름을 나타내는 플로차트이다. 도 6은, 챔버(10) 내의 기압의 변화를 나타내는 그래프이다.
감압 건조 처리를 행할 때에는, 우선, 기판(9)을 챔버(10) 내에 반입한다(단계 S1). 기판(9)의 상면에는, 미건조의 도포층(90)이 형성되어 있다. 단계 S1에서는, 우선, 셔터 제어부(81)가 셔터 구동 기구(16)를 동작시킨다. 이에 의해, 셔터(15)를 폐쇄 위치로부터 개방 위치로 이동시켜, 반입출구(14)를 개방한다. 그리고, 도시를 생략한 반송 로봇이 포크형상의 핸드에 기판(9)을 재치하면서, 챔버(10)의 반입출구(14)를 통해, 챔버(10)의 내부로, 기판(9)을 반입한다.
이 시점에서는, 스테이지(20)는, 하강 위치(H1)에 배치되어 있다. 반송 로봇은, 스테이지(20)의 복수의 플레이트(21) 사이로 포크형상의 핸드를 삽입하면서, 스테이지(20)의 상면에 기판(9)을 재치한다. 스테이지(20) 상에 기판(9)이 재치되면, 반송 로봇은, 챔버(10)의 외부로 퇴피한다. 그리고, 셔터 제어부(81)가 다시 셔터 구동 기구(16)를 동작시켜, 셔터(15)를 개방 위치로부터 폐쇄 위치로 이동시킴으로써, 반입출구(14)를 폐쇄한다. 이에 의해, 챔버(10)의 내부 공간에 기판(9)이 수용된다.
다음에, 감압 건조 장치(1)는, 스테이지(20)를 상승시킨다(단계 S2). 구체적으로는, 승강 제어부(82)가 승강 기구(23)를 동작시킴으로써, 스테이지(20)를, 하강 위치(H1)로부터 상승 위치(H2)로 이동시킨다. 도 7은, 스테이지(20)가 상승 위치(H2)에 배치되었을 때의 챔버(10) 내의 모습을 나타낸 도면이다. 도 7에 나타내는 바와 같이, 측면 정류판(50)의 상단부는, 상승 위치(H2)의 스테이지(20)에 지지되는 기판(9)의 높이보다 낮다. 따라서, 단계 S2에 있어서, 스테이지(20)에 지지된 기판(9)은, 측면 정류판(50)의 상단부보다 상방의 위치까지 상승한다. 기판(9)의 상면은, 챔버(10)의 천면부(13)와, 미소한 간극을 통해 대향한다.
계속해서, 감압 건조 장치(1)는, 챔버(10) 내의 감압을 개시한다. 즉, 펌프 제어부(85)가 진공 펌프(32)의 동작을 개시한다. 또, 전환 제어부(83)가 개별 밸브(Va~Vd)의 일부를 개방하고, 배기 제어부(84)가 주밸브(Ve)를 개방한다. 이에 의해, 챔버(10)로부터 배기 배관(61)으로의 기체의 배출을 개시한다. 감압 건조 장치(1)는, 우선, 챔버(10)의 내부 공간을 완만하게 감압하는, 제1 처리를 행한다(단계 S3). 이 제1 처리에서는, 배기 제어부(84)가 주밸브(Ve)의 개도를, 후술하는 제2 처리~제4 처리보다 작은 개도로 조정한다. 이에 의해, 도 6의 시각 t1~t2와 같이, 챔버(10) 내의 기압이 대기압 P0로부터 완만하게 저하된다.
단계 S3에서는, 상술한 바와 같이, 스테이지(20)가 상승 위치(H2)에 배치되어 있다. 이 때문에, 챔버(10) 내의 기체는, 도 7 안의 파선 화살표와 같이, 기판(9)의 하방의 공간으로부터, 측면 정류판(50)과 측벽부(12) 사이의 공간, 저면 정류판(40)과 저판부(11) 사이의 공간, 및 배기구(16a~16d)를 지나, 배기 배관(61)으로 흐른다. 이 때문에, 챔버(10) 내에 형성되는 기류는, 기판(9)의 상면에 영향을 미치기 어렵다.
단, 이 단계 S3에서도, 기판(9)의 상면과 천면부(13) 사이의 공간에 있어서, 미소한 기류가 생긴다. 또, 감압에 의해, 도포층(90)으로부터의 용제의 기화가 시작되고 있다. 이에, 전환 제어부(83)는, 기판(9)의 상면과 천면부(13) 사이의 기류에 의해, 도포층(90)의 건조 불균일이 생기는 것을 억제하기 위해서, 4개의 개별 밸브(Va~Vd)의 개폐 상태를, 순차적으로 전환한다.
도 8은, 4개의 개별 밸브(Va~Vd)의 개폐 상태의 변화를 나타내는 타이밍 차트이다. 도 8에 나타내는 바와 같이, 전환 제어부(83)는, 4개의 개별 밸브(Va~Vd) 중 1개의 개별 밸브를 폐쇄함과 더불어, 다른 개별 밸브를 개방한다. 그리고, 전환 제어부(83)는, 폐쇄하는 1개의 개별 밸브를 순차적으로 변경한다. 구체적으로는, 1개의 개별 밸브(Va)를 폐쇄하고 다른 3개의 개별 밸브(Vb, Vc, Vd)를 개방하는 제1 상태(시간 ta), 1개의 개별 밸브(Vb)를 폐쇄하고 다른 3개의 개별 밸브(Va, Vc, Vd)를 개방하는 제2 상태(시간 tb), 1개의 개별 밸브(Vc)를 폐쇄하고 다른 3개의 개별 밸브(Va, Vb, Vd)를 개방하는 제3 상태(시간 tc), 및 1개의 개별 밸브(Vd)를 폐쇄하고 다른 3개의 개별 밸브(Va, Vb, Vc)를 개방하는 제4 상태(시간 td)를 순차적으로 전환한다.
이와 같이 하면, 제1 처리 동안에, 기판(9)의 상면과 천면부(13) 사이의 공간에 형성되는 기류의 방향이 개별 밸브(Va~Vd)의 전환에 따라 변화된다. 따라서, 기판(9)의 상면의 도포층(90)을, 균일하게 건조시킬 수 있다.
특히, 본 실시 형태에서는, 도 9와 같이, 기판(9)의 상면이 도포층(90)에 덮인 도포 영역(A3)과, 도포층(90)으로부터 노출된 비도포 영역(A4)을 가진다. 도포 영역(A3)으로부터는 용제가 기화되는데 반해, 비도포 영역(A4)으로부터는 용제가 기화되지 않는다. 이 때문에, 만일, 기류의 방향이 일정했다고 하면, 도포 영역(A3)으로부터 비도포 영역(A4)을 향해 기체가 흐르는 부분과, 비도포 영역(A4)으로부터 도포 영역(A3)을 향해 기체가 흐르는 부분에서, 용제의 증기의 영향으로, 도포 영역(A3)의 단연부에 있어서의 건조의 진행 정도에 차가 발생한다. 그러나, 상술한 바와 같이, 4개의 개별 밸브(Va~Vd)의 개폐 상태를 순차적으로 전환하여, 기류의 방향을 변화시키면, 그러한 건조의 진행 정도의 차를 저감할 수 있다. 따라서, 용제의 증기에 기인하는 도포층(90)의 건조 불균일을 억제할 수 있다.
다음에, 감압 건조 장치(1)는, 스테이지(20)를 하강시킨다(단계 S4). 구체적으로는, 승강 제어부(82)가 승강 기구(23)를 동작시킴으로써, 스테이지(20)를, 상승 위치(H2)로부터 하강 위치(H1)로 이동시킨다. 도 10은, 스테이지(20)가 하강 위치(H1)에 배치되었을 때의 챔버(10) 내의 모습을 나타낸 도면이다. 도 10에 나타내는 바와 같이, 측면 정류판(50)의 상단부는, 하강 위치(H1)의 스테이지(20)에 지지되는 기판(9)의 높이보다 높다. 따라서, 단계 S4에 있어서, 스테이지(20)에 지지된 기판(9)은, 측면 정류판(50)의 상단부보다 하방의 위치까지 하강한다.
계속해서, 감압 건조 장치(1)는, 챔버(10)의 내부 공간을 급속히 감압하는, 제2 처리를 행한다(단계 S5). 이 제2 처리에서는, 배기 제어부(84)가 주밸브(Ve)의 개도를, 제1 처리보다 큰 개도로 변경한다. 이에 의해, 도 6의 시각 t2~t3과 같이, 챔버(10) 내의 기압이 급속히 저하된다.
제2 처리에서는, 상술한 바와 같이, 스테이지(20)가 하강 위치(H1)에 배치되어 있다. 이 때문에, 기판(9)의 상면측의 공간에 존재하는 기체는, 도 8 안의 파선 화살표와 같이, 측면 정류판(50)과 측벽부(12) 사이의 공간, 저면 정류판(40)과 저판부(11) 사이의 공간, 및 배기구(16a~16d)를 지나, 배기 배관(61)으로 흐른다. 이에 의해, 기판(9)의 근방에 강한 기류가 발생하는 것을 억제할 수 있다. 특히, 기판(9)의 주연부에 있어서 기류가 집중하는 것을 억제할 수 있다. 따라서, 기류에 의한 도포층(90)의 건조 불균일을 억제할 수 있다.
또, 이 제2 처리에서는, 도포층(90)으로부터 용제가 활발하게 기화된다. 이에, 전환 제어부(83)는, 도포층(90)의 건조 불균일을 억제하기 위해서, 상술한 제1 처리와 마찬가지로, 4개의 개별 밸브(Va~Vd)의 개폐 상태를 순차적으로 전환한다. 즉, 전환 제어부(83)는, 도 8과 같이, 4개의 개별 밸브(Va~Vd) 중 1개의 개별 밸브를 폐쇄함과 더불어, 다른 개별 밸브를 개방한다. 그리고, 전환 제어부(83)는, 폐쇄하는 1개의 개별 밸브를 순차적으로 변경한다. 이와 같이 하면, 제2 처리 동안에, 기판(9)의 상면을 따라 형성되는 기류의 방향이 개별 밸브(Va~Vd)의 전환에 따라 변화한다. 따라서, 기판(9)의 상면의 도포층(90)을, 균일하게 건조시킬 수 있다.
챔버(10)의 내부 공간의 기압이 소정의 압력(P1)까지 저하되면, 도포층(90)이 비등한다. 그리고, 비등이 시작되면, 도 6의 시각 t3~t4와 같이, 챔버(10) 내의 기압이 거의 일정해진다. 이와 같이, 감압 건조 장치(1)는, 도포층(90)을 비등시키면서, 챔버(10)로부터의 배기를 계속하는, 제3 처리를 행한다(단계 S6).
이 제3 처리에서는, 도포층(90)으로부터 용제의 기화가 제2 처리보다 더욱 활발해진다. 이에, 전환 제어부(83)는, 도포층(90)의 건조 불균일을 억제하기 위해서, 상술한 제1 처리 및 제2 처리와 마찬가지로, 4개의 개별 밸브(Va~Vd)의 개폐 상태를 순차적으로 전환한다. 즉, 전환 제어부(83)는, 도 8과 같이, 4개의 개별 밸브(Va~Vd) 중 1개의 개별 밸브를 폐쇄함과 더불어, 다른 개별 밸브를 개방한다. 그리고, 전환 제어부(83)는, 폐쇄하는 1개의 개별 밸브를 순차적으로 변경한다. 이와 같이 하면, 제3 처리 동안에, 기판(9)의 상면을 따라 형성되는 기류의 방향이 개별 밸브(Va~Vd)의 전환에 따라 변화된다. 따라서, 기판(9)의 상면의 도포층(90)을, 균일하게 건조시킬 수 있다.
이윽고, 도포층(90)의 용매 성분이 충분히 기화되면, 도포층(90)의 비등이 종료된다. 그러면, 도 6의 시각 t4~t5와 같이, 챔버(10) 내의 기압이 다시 급속히 저하된다. 이와 같이, 감압 건조 장치(1)는, 도포층(90)의 비등 후에, 챔버(10)의 내부 공간을 추가로 감압하는, 제4 처리를 행한다(단계 S7).
이 제4 처리에서는, 도포층(90)에 잔존하는 미소한 용매 성분이 기화되지만, 상술한 제1 처리~제3 처리와 비교하면, 용매 성분의 기화는 활발하지 않다. 이 때문에, 전환 제어부(83)는, 4개의 개별 밸브(Va~Vd)를 모두 개방한다. 이에 의해, 챔버(10)로부터의 배기를 촉진하여, 챔버(10)의 내부 공간을 목표 압력 P2까지 급속히 감압한다.
챔버(10) 내의 기압이 목표 압력 P2에 도달하면, 배기 제어부(84)는, 주밸브(Ve)를 폐쇄한다. 이에 의해, 챔버(10)로부터의 기체의 흡인이 종료되고, 도포층(90)의 건조가 완료된다.
그 후, 급기 제어부(86)가 급기 밸브(Vf)를 개방한다. 그러면, 급기원(62)으로부터 급기 배관(61) 및 급기구(16f)를 지나 챔버(10)의 내부로 기체가 공급된다(단계 S8). 이에 의해, 챔버(10) 내의 기압이 다시 대기압 P0까지 상승한다. 이때, 챔버(10) 내에는, 비교적 강한 기류가 발생하는데, 도포층(90)은 충분히 건조가 완료되었기 때문에, 기류에 의한 건조 불균일은 생기기 어렵다. 또, 급기구(16f)로부터 공급되는 기체는, 저면 정류판(40)과 저판부(11) 사이, 및, 측면 정류판(50)과 측벽부(12) 사이를 지나, 챔버(10)의 내측으로 흐른다. 이에 의해, 기판(9)의 근방에 강한 기류가 발생하는 것을 억제할 수 있다.
챔버(10) 내의 기압이 대기압에 도달하면, 급기 제어부(86)는, 급기 밸브(Vf)를 폐쇄한다. 그리고, 셔터 제어부(81)가 셔터 구동 기구(16)를 동작시킨다. 이에 의해, 셔터(15)를 폐쇄 위치로부터 개방 위치로 이동시켜, 반입출구(14)를 개방한다. 그리고, 도시를 생략한 반송 로봇이 스테이지(20)에 지지된 건조 완료 기판(9)을, 챔버(10)의 외부로 반출한다(단계 S9). 이상으로, 1장의 기판(9)에 대한 감압 건조 처리를 종료한다.
이상과 같이, 이 감압 건조 장치(1)에서는, 제1 처리~제3 처리에 있어서, 4개의 개별 밸브(Va~Vd)의 개폐 상태를 순차적으로 전환하는 전환 처리를 행한다. 이 때문에, 제1 처리~제3 처리의 각 처리 동안에, 4개의 배기구(16a~16d)로부터의 배기량이 순차적으로 전환된다. 이에 의해, 기판(9)의 상면을 따라 형성되는 기류의 방향이 변화된다. 따라서, 기판(9)의 상면의 도포층(90)을, 균일하게 건조시킬 수 있다.
＜3. 변형예＞
이상, 본 발명의 일실시 형태에 대해 설명했는데, 본 발명은, 상기의 실시 형태로 한정되는 것은 아니다. 이하에서는, 다양한 변형예에 대해, 상기 실시 형태와의 차이점을 중심으로 설명한다.
＜3-1. 제1 변형예＞
상기의 실시 형태에서는, 제1 처리~제3 처리 동안에, 4개의 개별 밸브(Va~Vd)의 개폐 상태를 순차적으로 전환하는 전환 처리를 행하고 있었다. 그러나, 제1 처리~제3 처리 중 일부의 처리 시에만, 전환 처리를 행해도 된다. 예를 들면, 도포층(90)이 비등하는 제3 처리 시에는, 용제 성분의 기화가 가장 활발해진다. 이 때문에, 제3 처리 시에만, 전환 처리를 행해도 된다.
＜3-2. 제2 변형예＞
상기의 실시 형태에서는, 전환 처리에 있어서, 4개의 개별 밸브(Va~Vd) 중, 1개의 개별 밸브를 폐쇄함과 더불어, 다른 3개의 개별 밸브를 개방하고, 폐쇄하는 1개의 개별 밸브를 순차적으로 변경하고 있었다. 그러나, 4개의 개별 밸브(Va~Vd) 중, 2개의 개별 밸브를 폐쇄함과 더불어, 다른 2개의 개별 밸브를 개방하고, 폐쇄하는 2개의 개별 밸브를 순차적으로 변경해도 된다. 혹은, 4개의 개별 밸브(Va~Vd) 중, 3개의 개별 밸브를 폐쇄함과 더불어, 다른 1개의 개별 밸브를 개방하고, 폐쇄하는 3개의 개별 밸브를 순차적으로 변경해도 된다. 즉, 전환 제어부(83)는, 복수의 개별 밸브 중, 일부의 개별 밸브의 개폐 상태를 변경하고, 당해 일부의 개별 밸브를 순차적으로 변경하면 된다. 단, 상기의 실시 형태와 같이, 개별 밸브(Va~Vd)를 1개씩 폐쇄하는 것이 배기 배관(61) 전체적으로 배기량을 확보하기 쉽다.
＜3-3. 제3 변형예＞
상기의 실시 형태에서는, 전환 처리를 행하는 동안은, 항상, 4개의 개별 밸브(Va~Vd) 중 어느 1개를 폐쇄하고 있었다. 그러나, 전환 처리에 있어서, 4개의 개별 밸브(Va~Vd)를 모두 개방하는 시간이 포함되어 있어도 된다. 그 경우, 배기 제어부(84)는, 개방 상태의 개별 밸브의 수에 따라, 주밸브(Ve)의 개도를 제어해도 된다. 예를 들면, 4개의 개별 밸브(Va~Vd)를 모두 개방할 때에는, 1개의 개별 밸브를 폐쇄할 때보다, 주밸브(Ve)의 개도를 작게 해도 된다. 이와 같이 하면, 배기 배관(61) 전체의 배기량의 변화를 억제할 수 있다.
＜3-4. 제4 변형예＞
상기의 실시 형태에서는, 4개의 개별 밸브(Va~Vd)를, 순차적으로 같은 시간만큼 폐쇄하고 있었다. 즉, 도 8의 시간 ta, tb, tc, td가 모두 같은 시간이었다. 그러나, 이 전환 처리 동안에도, 도포층(90)의 건조는 진행된다. 이 때문에, 전환 처리 동안에, 도포층(90)으로부터 기화되는 용제의 양이 서서히 감소하는 경우가 있다. 이 점을 고려하여, 시간 ta, tb, tc, td에 변화를 주어도 된다. 구체적으로는, 도 11과 같이, 시간 ta, tb, tc, td를, 서서히 길게 해도 된다(ta＜tb＜tc＜td). 이와 같이 하면, 각 시간에 있어서의 용제의 기화량을 균일하게 할 수 있다.
＜3-5. 제5 변형예＞
상기의 실시 형태에서는, 4개의 개별 밸브(Va~Vd)가 개방 상태와 폐쇄 상태의 전환만을 행하는 개폐 밸브였다. 그러나, 4개의 개별 밸브(Va~Vd)는, 개도를 조절 가능한 개도 제어 밸브여도 된다. 그리고, 전환 처리에 있어서, 일부의 개별 밸브를 완전히 폐쇄하는 것이 아니라, 일부의 개별 밸브의 개도를 다른 개별 밸브의 개도보다 작게 해도 된다. 즉, 전환 처리는, 복수의 개별 밸브 중, 일부(예를 들면 1개)의 개별 밸브의 개도를 변경함과 더불어, 당해 일부의 개별 밸브를 순차적으로 변경하는 처리여도 된다. 이와 같이 하면, 개폐 밸브를 사용하는 경우보다, 챔버(10) 내의 기류를, 완만하게 변화시킬 수 있다.
＜3-6. 제6 변형예＞
상기의 실시 형태의 감압 건조 장치(1)는, 챔버(10) 내에, 저면 정류판(40)과, 4개의 측면 정류판(50)을 구비하고 있었다. 그러나, 도 12와 같이, 감압 건조 장치(1)는, 측면 정류판(50)을 구비하고 있지 않아도 된다. 이 경우에서도, 저면 정류판(40)의 상면에서 봤을 때의 각 변의 길이는, 직사각형상의 기판(9)의 긴 변 및 짧은 변의 어느 것보다도 길다. 이 때문에, 스테이지(20) 상에 배치되는 기판(9)의 방향에 관계없이, 챔버(10) 내의 감압 시에, 도 12의 파선 화살표와 같이, 기판(9)의 상면측의 기체를, 저면 정류판(40)의 측방을 지나, 저면 정류판(40)의 하방으로 흐르게 할 수 있다. 이에 의해, 기판(9)의 주연부에 기류가 집중하는 것을 억제할 수 있다. 따라서, 기판(9)의 상면에 형성된 도포층(90)의 건조 불균일을 억제할 수 있다.
＜3-7. 제7 변형예＞
상기의 실시 형태의 감압 건조 장치(1)는, 챔버(10) 내에, 저면 정류판(40)과, 4개의 측면 정류판(50)을 구비하고 있었다. 그러나, 감압 건조 장치(1)는, 저면 정류판(40) 및 4개의 측면 정류판(50)에 더하여, 도 13과 같이, 천면 정류판(51)을 구비하고 있어도 된다. 천면 정류판(51)은, 스테이지(20)에 지지되는 기판(9)의 상면과, 챔버(10)의 천판부(13)의 하면 사이에 위치한다. 또, 천면 정류판(51)은, 챔버(10)의 천판부(13)의 하면을 따라, 수평으로 펼쳐진다. 천면 정류판(51)은, 챔버(10)의 천판부(13)에, 복수의 지주(도시 생략)를 통해 고정되어 있다.
천면 정류판(51)은, 기체를 지나는 복수의 개구(52)를 가진다. 이와 같이 하면, 챔버(10) 내의 감압 시에, 기판(9)의 상면측의 기체는, 복수의 개구(52)를 지나, 천면 정류판(51)의 상측으로 유입된다. 그리고, 도 13의 파선 화살표와 같이, 천면 정류판(51)과 천판부(13) 사이의 공간, 측면 정류판(50)과 측벽부(12) 사이의 공간, 및 저면 정류판(40)과 저판부(11) 사이의 공간을 지나, 배기구(16a~16d)를 향하는 기류가 형성된다. 이러한 구성에서도, 기체가 기판(9)으로부터 멀어진 공간을 흐름으로써, 기판(9)의 근방에 형성되는 기류를 저감할 수 있다. 또, 기판(9)의 주연부에 있어서 기류가 집중하는 것을 억제할 수 있다. 따라서, 기판(9)의 상면에 형성된 도포층(90)의 건조 불균일을 억제할 수 있다.
＜3-8. 다른 변형예＞
상기의 실시 형태에서는, 챔버(10)가 4개의 배기구(16a~16d)를 가지고 있었다. 그러나, 챔버(10)가 가지는 배기구의 수는, 2개, 3개, 또는 5개 이상이어도 된다.
감압 건조 처리를 행할 때의 챔버(10) 내의 기압의 변화는, 반드시 도 6과 같지 않아도 된다. 감압 건조 장치(1)는, 상술한 제1 처리~제4 처리와는 상이한 순서로, 챔버(10) 내를 감압하는 것이어도 된다.
상기의 실시 형태의 감압 건조 장치(1)는, 기판(9) 상의 도포층(90)을, 감압에 의해서만 건조시키는 것이었다. 그러나, 감압 건조 장치(1)는, 감압 및 가열에 의해, 기판(9) 상의 도포층(90)을 건조시키는 것이어도 된다.
상기의 실시 형태에서는, 챔버(10)의 측벽부(12)에, 기판(9)의 반입출구(14)가 형성되어 있었다. 그러나, 챔버(10)의 4개의 측벽부(12) 및 천판부(13)가 일체의 덮개부를 구성하고, 당해 덮개부를 저판부(11)로부터 분리하여 상방으로 퇴피할 수 있는 구조여도 된다. 이 경우, 4개의 측면 정류판(50)은, 덮개부에 고정되고, 덮개부와 함께 상방으로 이동 가능하게 해도 된다.
또, 상기의 실시 형태의 감압 건조 장치(1)는, 유기 EL 디스플레이용의 기판을 처리하는 것이었다. 그러나, 본 발명의 감압 건조 장치는, 액정 디스플레이나 반도체 웨이퍼 등의 다른 정밀 전자 부품용의 기판을 처리하는 것이어도 된다.
또, 상기의 실시 형태 및 변형예에 등장한 각 요소를, 모순이 생기지 않는 범위에서 적당히 조합해도 된다.
1: 감압 건조 장치 9: 기판
10: 챔버 11: 저판부
12: 측벽부 13: 천판부
16a: 배기구 16b: 배기구
16c: 배기구 16d: 배기구
16f: 급기구 20: 스테이지
21: 지지 플레이트 22: 지지 핀
23: 승강 기구 30: 감압 기구
31: 배기 배관 32: 진공 펌프
40: 저면 정류판 50: 측면 정류판
51: 천면 정류판 60: 급기 기구
61: 급기 배관 70: 기압 센서
80: 제어부 90: 도포층
Va: 개별 밸브 Vb: 개별 밸브
Vc: 개별 밸브 Vd: 개별 밸브
Ve: 주밸브 Vf: 급기 밸브

Claims (7)

  1. 기판의 상면에 형성된 도포층을, 감압에 의해 건조시키는 감압 건조 장치로서,
    기판을 수용하는 챔버와,
    상기 챔버의 내부에 있어서, 기판을 하방으로부터 지지하는 스테이지와,
    상기 스테이지와 상기 챔버의 저판부 사이에 위치하고, 상기 저판부의 상면을 따라 펼쳐지는 저면 정류판과,
    상기 저면 정류판의 하방에 위치하는 복수의 배기구와,
    상기 복수의 배기구를 통해 상기 챔버 내의 기체를 흡인하는 감압 기구
    를 구비하고,
    스테이지에 지지되는 기판의 방향에 관계없이, 상면에서 봤을 때, 상기 저면 정류판이 기판보다 크고,
    상기 스테이지는,
    지지 플레이트와,
    상기 지지 플레이트의 상면에 세워져 설치되어, 기판의 하면에 접촉하는 복수의 지지 핀
    을 갖고,
    상기 저면 정류판은, 상기 지지 플레이트로부터 간격을 두고 하측에 위치하는, 감압 건조 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 저면 정류판은, 상면에서 봤을 때 정사각형이며,
    상기 복수의 배기구는, 상면에서 봤을 때, 상기 저면 정류판의 대각선 상에 위치하는, 감압 건조 장치.
  3. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 스테이지에 지지되는 기판과 상기 챔버의 측벽부 사이에 위치하고, 상기 측벽부의 내면을 따라 펼쳐지는 측면 정류판을 추가로 구비하는, 감압 건조 장치.
  4. 청구항 3에 있어서,
    상기 스테이지는, 하강 위치와, 상기 하강 위치보다 높은 상승 위치 사이에서 승강 가능하고,
    상기 측면 정류판의 상단부는, 상기 하강 위치의 상기 스테이지에 지지되는 기판의 높이보다 높고, 또한, 상기 상승 위치의 상기 스테이지에 지지되는 기판의 높이보다 낮은, 감압 건조 장치.
  5. 청구항 3에 있어서,
    상기 측면 정류판의 적어도 일부는, 상기 저면 정류판에 대해 이동 가능한, 감압 건조 장치.
  6. 청구항 5에 있어서,
    상기 저면 정류판과, 상기 저면 정류판에 대해 이동 가능한 상기 측면 정류판은, 서로 비접촉인, 감압 건조 장치.
  7. 청구항 3에 있어서,
    상기 스테이지에 지지되는 기판과 상기 챔버의 천판부 사이에 위치하고, 상기 천판부의 하면을 따라 펼쳐지는 천면 정류판을 추가로 구비하고,
    상기 천면 정류판은, 기체를 통과시키는 개구를 가지는, 감압 건조 장치.
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