KR101586090B1 - 액정 배향제, 액정 배향막, 액정 배향막의 형성 방법, 액정 표시 소자 및 감방사선성 폴리오르가노실록산 - Google Patents

Abstract

본 발명은 광배향법에 의해 프리틸트각을 부여할 수 있으며, 부여된 프리틸트각의 시간 경과에 따른 안정성이 우수한 액정 배향막을 제공하는 액정 배향제를 제공하는 것이다.

상기 액정 배향제는 에폭시기를 갖는 특정한 폴리오르가노실록산과, (A) 신남산 유도체 및 (B) 바람직하게는 아세토페논 구조, 벤조페논 구조, 안트라퀴논 구조, 비페닐 구조, 카르바졸 구조, 니트로아릴 구조, 플루오렌 구조, 나프탈렌 구조, 안트라센 구조, 아크리딘 구조 및 인돌 구조로부터 선택되는 광증감성 구조를 갖는 특정한 화합물을 반응시켜 얻어지는 감방사선성 폴리오르가노실록산을 함유한다.

액정 배향제, 액정 배향막, 액정 표시 소자, 감방사선성 폴리오르가노실록산

Description

액정 배향제, 액정 배향막, 액정 배향막의 형성 방법, 액정 표시 소자 및 감방사선성 폴리오르가노실록산{LIQUID CRYSTAL ALIGNING AGENT, LIQUID CRYSTAL ALIGNING FILM, PROCESS FOR FORMING THE LIQUID CRYSTAL ALIGNING FILM, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE AND RADIATION-SENSITIVE POLYORGANOSILOXANE}

본 발명은 액정 배향제, 액정 배향막, 그의 형성 방법 및 액정 표시 소자에 관한 것이다.

종래, 양의 유전 이방성을 갖는 네마틱형 액정을 액정 배향막을 갖는 투명 전극 부착 기판에서 샌드위치 구조로 하고, 필요에 따라 액정 분자의 장축이 기판 사이에서 0 내지 360° 연속적으로 비틀어지도록 하여 이루어지는 TN(Twisted Nematic)형 및 STN(Super Twisted Nematic)형, 액정 분자의 장축을 기판에 대하여 수평 방향으로 배향하여 이루어지는 IPS(In Plane Switching)형 등의 각종 액정 셀을 갖는 액정 표시 소자가 알려져 있다(특허 문헌 1 내지 4 참조).

이러한 액정 셀에서 액정을 배향하는 수단으로서는, 기판 표면에 유기막을 형성하고, 이어서 그 유기막 표면을 레이온 등의 천 부재로 한 방향으로 문지름으로써 액정 배향능을 부여하여, 이것을 액정 배향막으로 하는 방법(러빙 처리를 실 시하는 방법), 기판 표면에 산화규소를 사방 증착하는 방법 또는 랭뮤어(Langmuir)ㆍ블로젯(Blodgett)법(LB법)을 이용하여 장쇄 알킬기를 갖는 단분자막을 형성하는 방법 등이 있다. 이 중, 기판 크기, 액정의 배향 균일성, 처리 시간 및 처리 비용의 관점에서 러빙 처리에 의한 액정 배향능의 부여가 일반적이다.

그러나, 액정의 배향을 러빙 처리에 의해 행하면 공정 내에서 먼지가 발생하거나 정전기가 발생하기 쉽기 때문에, 배향막 표면에 먼지가 부착되어 표시 불량 발생의 원인이 된다는 문제점이 있었다. 특히 TFT(Thin Film Transistor) 소자를 갖는 기판의 경우에는, 발생한 정전기에 의해 TFT 소자의 회로 파괴가 발생하여 수율 저하의 원인이 된다는 문제점도 있었다. 또한, 향후 더욱 고정밀화될 액정 표시 소자에서는, 화소의 고밀도화에 따라 기판 표면에 불가피하게 요철이 발생하기 때문에, 균일하게 러빙 처리를 행하는 것이 서서히 곤란해지고 있다.

액정 셀에서의 액정 배향막에 액정 배향능을 부여하는 별도의 수단으로서, 기판 표면에 형성한 폴리비닐신나메이트, 폴리이미드 등의 감광성 박막에 편광 또는 비편광의 방사선을 조사함으로써, 액정 배향능을 부여하는 광배향법이 알려져 있다. 이 방법에 따르면 정전기나 먼지를 발생하지 않고, 균일한 액정 배향을 실현할 수 있다(특허 문헌 6 내지 16 및 19 내지 21 참조).

그러나, TN(Twisted Nematic)형, STN(Super Twisted Nematic)형 등의 액정 셀에서는, 액정 배향막은 액정 분자를 기판면에 대하여 소정의 각도(프리틸트각)로 경사 배향시킬 필요가 있다(특허 문헌 2 참조). 광배향법에 의해 액정 배향막을 형성하는 경우, 프리틸트각은 통상적으로 기판면으로의 입사 방향이 기판 법선으로 부터 경사진 방사선의 조사에 의해 부여된다(특허 문헌 6 참조).

한편, 상기와는 별도의 액정 표시 소자의 동작 모드로서, 음의 유전 이방성을 갖는 액정 분자를 기판에 수직으로 배향시키는 수직(호메오트로픽) 배향 모드도 알려져 있다. 이 동작 모드에서는, 기판 사이에 전압을 인가하여 액정 분자가 기판에 평행한 방향을 향해 기울 때, 액정 분자가 기판 법선 방향으로부터 기판 면내의 한 방향을 향해 기울도록 할 필요가 있다. 이를 위한 수단으로서, 예를 들면 기판 표면에 돌기를 설치하는 방법, 투명 전극에 스트라이프를 설치하는 방법, 러빙 배향막을 사용함으로써 액정 분자를 기판 법선 방향으로부터 기판 면내의 한 방향을 향해 다소 기울이는(프리틸트시키는) 방법 등이 제안되어 있다(특허 문헌 5 및 비특허 문헌 참조 1 내지 3 참조).

상기 광배향법은, 수직 배향 모드의 액정 표시 소자에서 액정 분자의 기울기 방향을 제어하는 방법으로서도 유용하다고 알려져 있다(특허 문헌 15 내지 21 참조).

이와 같이, 상기 광배향법에 의해 제조한 액정 배향막은 액정 표시 소자에 유효하게 적용될 수 있는 것이다. 그러나, 종래의 광배향법에 의해 제조한 액정 배향막은 프리틸트각이 불안정하다는, 즉 액정 배향막의 형성 직후에는 양호한 프리틸트각 특성을 나타내어도, 시간 경과에 따라 프리틸트성이 감소한다는 문제점이 있었다.

<선행 기술 문헌>

[특허 문헌 1] 일본 특허 공개 (평)4-153622호 공보

[특허 문헌 2] 일본 특허 공개 (소)60-107020호 공보

[특허 문헌 3] 일본 특허 공개 (소)56-91277호 공보

[특허 문헌 4] 미국 특허 제5,928,733호 명세서

[특허 문헌 5] 일본 특허 공개 (평)11-258605호 공보

[특허 문헌 6] 일본 특허 공개 (평)9-222605호 공보

[특허 문헌 7] 일본 특허 공개 (평)6-287453호 공보

[특허 문헌 8] 일본 특허 공개 (평)10-251646호 공보

[특허 문헌 9] 일본 특허 공개 (평)11-2815호 공보

[특허 문헌 10] 일본 특허 공개 (평)11-152475호 공보

[특허 문헌 11] 일본 특허 공개 제2000-144136호 공보

[특허 문헌 12] 일본 특허 공개 제2000-319510호 공보

[특허 문헌 13] 일본 특허 공개 제2000-281724호 공보

[특허 문헌 14] 일본 특허 공개 (평)9-297313호 공보

[특허 문헌 15] 일본 특허 공개 제2003-307736호 공보

[특허 문헌 16] 일본 특허 공개 제2004-163646호 공보

[특허 문헌 17] 일본 특허 공개 (평)9-211468호 공보

[특허 문헌 18] 일본 특허 공개 제2003-114437호 공보

[특허 문헌 19] 일본 특허 공개 제2006-171304호 공보

[특허 문헌 20] 일본 특허 공개 제2007-224273호 공보

[특허 문헌 21] 일본 특허 공개 제2007-256484호 공보

[특허 문헌 22] 일본 특허 공개 제2007-191447호 공보

[특허 문헌 23] 일본 특허 공개 (소)63-291922호 공보

[비특허 문헌 1] 액정, vol.3, No.2, p.117(1999년)

[비특허 문헌 2] 액정, vol.3, No.4, p.272(1999년)

[비특허 문헌 3] Jpn Appl. phys., Vol.36, p.428(1997년)

[비특허 문헌 4] Chemical Reviews, 95권, p.1409(1995년)

[비특허 문헌 5] T. J. Scheffer et. al. J. Appl. Phys. vol. 19, p.2013(1980년)

본 발명은 상기한 사정을 감안하여 이루어진 것이며, 그 목적은 광배향법에 의해 프리틸트각을 부여할 수 있고, 부여된 프리틸트각의 시간 경과에 따른 안정성이 우수한 액정 배향막을 제공하는 액정 배향제를 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명의 별도의 목적은 상기 액정 배향제로 액정 배향막을 형성하는 방법을 제공하는 것에 있다.

본 발명의 또 다른 목적은 장기간 신뢰성이 우수한 액정 배향막 및 액정 표시 소자를 제공하는 것에 있다.

본 발명의 또 다른 목적 및 이점은 이하의 설명으로부터 명백해진다.

본 발명에 따르면, 본 발명의 상기 목적 및 이점은 첫째로,

하기 화학식 1로 표시되는 반복 단위를 갖는 폴리오르가노실록산, 그의 가수분해물 및 가수분해물의 축합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상과,

(A) 카르복실기, 수산기, -SH, -NCO, -NHR(단, R은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기임), -CH=CH₂ 및 -SO₂Cl로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 기를 갖는 신남산 유도체 및

(B) 카르복실기, 수산기, -SH, -NCO, -NHR(단, R은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기임), -CH=CH₂ 및 -SO₂Cl로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이 상의 기 및 광증감성 구조를 갖는 화합물

을 반응시켜 얻어지는 감방사선성 폴리오르가노실록산을 함유하는 액정 배향제에 의해 달성된다.

(화학식 1 중, X¹은 에폭시기를 갖는 1가의 유기기이고, Y¹은 수산기, 탄소수 1 내지 10의 알콕실기, 탄소수 1 내지 20의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 20의 아릴기임)

본 발명의 상기 목적 및 이점은 둘째로,

기판 위에 상기한 액정 배향제를 도포하여 도막을 형성하고, 상기 도막에 편광 또는 비편광의 방사선을 조사하는 액정 배향막의 형성 방법에 의해 달성된다.

본 발명의 상기 목적 및 이점은 셋째로,

상기한 액정 배향제로 형성된 액정 배향막에 의해 달성되며,

본 발명의 상기 목적 및 이점은 넷째로,

상기한 액정 배향막을 구비하는 액정 표시 소자에 의해 달성된다.

본 발명의 액정 배향제를 사용하면, 광배향법에 의해 프리틸트각의 시간 경과에 따른 안정성이 우수한 액정 배향막을 형성할 수 있다. 본 발명의 액정 배향 제로 형성된 본 발명의 액정 배향막은 각종 액정 표시 소자에 바람직하게 적용할 수 있다. 이러한 액정 배향막을 구비하는 본 발명의 액정 표시 소자는 장기간에 걸쳐서 사용한 경우에도 표시 성능이 열화되지 않는다. 따라서, 본 발명의 액정 표시 소자는 다양한 장치에 유효하게 적용할 수 있으며, 예를 들면 시계, 휴대형 게임, 워드 프로세서, 노트북 컴퓨터, 카 내비게이션 시스템, 캠코더, 휴대 정보 단말, 디지털 카메라, 휴대 전화, 각종 모니터, 액정 텔레비전 등의 표시 장치에 바람직하게 사용할 수 있다.

이하, 본 발명에 대하여 상세히 설명한다.

본 발명의 액정 배향제는, 상기 화학식 1로 표시되는 반복 단위를 갖는 폴리오르가노실록산, 그의 가수분해물 및 가수분해물의 축합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상(이하, "에폭시기를 갖는 폴리오르가노실록산"이라고 함)과,

(A) 카르복실기, 수산기, -SH, -NCO, -NHR(단, R은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기임), -CH=CH₂ 및 -SO₂Cl로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 기를 갖는 신남산 유도체(이하, "신남산 유도체 (A)"라고 함) 및

(B) 카르복실기, 수산기, -SH, -NCO, -NHR(단, R은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기임), -CH=CH₂ 및 -SO₂Cl로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 기 및 광증감성 구조를 갖는 화합물(이하, "광증감성 화합물 (B)"라고 함)

을 반응시켜 얻어지는 감방사선성 폴리오르가노실록산을 함유한다. 여기서, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서 상기 신남산 유도체 (A)의 일부를 하기 화학식 5로 표시되는 화합물로 치환하여 사용할 수도 있다.

R¹⁵-R¹⁶-R¹⁷

(화학식 5 중, R¹⁵는 지환식기를 포함하는 탄소수 3 내지 40의 1가의 유기기이거나, 또는 탄소수 4 내지 20의 알킬기 또는 알콕실기이되, 단, 상기 알킬기 또는 알콕실기의 수소 원자의 일부 또는 전부는 불소 원자로 치환될 수도 있고, R¹⁶은 단결합 또는 페닐렌기이되, 단, R¹⁵가 알콕실기일 때 R¹⁶은 페닐렌기이고, R¹⁷은 카르복실기, 수산기, -SH, -NCO, -NHR(단, R은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기임), -CH=CH₂ 및 -SO₂Cl로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 기임)

<감방사선성 폴리오르가노실록산>

[에폭시기를 갖는 폴리오르가노실록산]

상기 화학식 1에서의 X¹로서는, 하기 화학식 (X¹-1) 또는 (X¹-2)로 표시되는 기인 것이 바람직하다.

(상기 화학식 중, "*"는 결합손인 것을 나타냄)

Y¹의 탄소수 1 내지 10의 알콕실기로서는, 예를 들면 메톡실기, 에톡실기 등; 탄소수 1 내지 20의 알킬기로서는, 예를 들면 메틸기, 에틸기, n-프로필기, n-부틸기, n-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, n-노닐기, n-데실기, n-라우릴기, n-도데실기, n-트리데실기, n-테트라데실기, n-펜타데실기, n-헥사데실기, n-헵타데실기, n-옥타데실기, n-노나데실기, n-에이코실기 등; 탄소수 6 내지 20의 아릴기로서는, 예를 들면 페닐기 등을 각각 들 수 있다.

에폭시기를 갖는 폴리오르가노실록산은, 겔 투과 크로마토그래피(GPC)에 의해 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량이 500 내지 100,000인 것이 바람직하고, 1,000 내지 10,000인 것이 보다 바람직하고, 1,000 내지 5,000인 것이 더욱 바람직하다.

이러한 에폭시기를 갖는 폴리오르가노실록산은, 바람직하게는 에폭시기를 갖는 실란 화합물, 또는 에폭시기를 갖는 실란 화합물과 다른 실란 화합물의 혼합물을 바람직하게는 적당한 유기 용매, 물 및 촉매의 존재하에 가수분해 또는 가수분해ㆍ축합함으로써 합성할 수 있다.

상기 에폭시기를 갖는 실란 화합물로서는, 예를 들면 3-글리시딜옥시프로필트리메톡시실란, 3-글리시딜옥시프로필트리에톡시실란, 3-글리시딜옥시프로필메틸디메톡시실란, 3-글리시딜옥시프로필메틸디에톡시실란, 3-글리시딜옥시프로필디메틸메톡시실란, 3-글리시딜옥시프로필디메틸에톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실) 에틸트리메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리에톡시실란 등을 들 수 있다.

상기 다른 실란 화합물로서는, 예를 들면 테트라클로로실란, 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 테트라-n-프로폭시실란, 테트라-i-프로폭시실란, 테트라-n-부톡시실란, 테트라-sec-부톡시실란, 트리클로로실란, 트리메톡시실란, 트리에톡시실란, 트리-n-프로폭시실란, 트리-i-프로폭시실란, 트리-n-부톡시실란, 트리-sec-부톡시실란, 플루오로트리클로로실란, 플루오로트리메톡시실란, 플루오로트리에톡시실란, 플루오로트리-n-프로폭시실란, 플루오로트리-i-프로폭시실란, 플루오로트리-n-부톡시실란, 플루오로트리-sec-부톡시실란, 메틸트리클로로실란, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 메틸트리-n-프로폭시실란, 메틸트리-i-프로폭시실란, 메틸트리-n-부톡시실란, 메틸트리-sec-부톡시실란, 2-(트리플루오로메틸)에틸트리클로로시실란, 2-(트리플루오로메틸)에틸트리메톡시실란, 2-(트리플루오로메틸)에틸트리에톡시실란, 2-(트리플루오로메틸)에틸트리-n-프로폭시실란, 2-(트리플루오로메틸)에틸트리-i-프로폭시실란, 2-(트리플루오로메틸)에틸트리-n-부톡시실란, 2-(트리플루오로메틸)에틸트리-sec-부톡시실란, 2-(퍼플루오로-n-헥실)에틸트리클로로실란, 2-(퍼플루오로-n-헥실)에틸트리메톡시실란, 2-(퍼플루오로-n-헥실)에틸트리에톡시실란, 2-(퍼플루오로-n-헥실)에틸트리-n-프로폭시실란, 2-(퍼플루오로-n-헥실)에틸트리-i-프로폭시실란, 2-(퍼플루오로-n-헥실)에틸트리-n-부톡시실란, 2-(퍼플루오로-n-헥실)에틸트리-sec-부톡시실란, 2-(퍼플루오로-n-옥틸)에틸트리클로로실란, 2-(퍼플루오로-n-옥틸)에틸트리메톡시실란, 2-(퍼플루오로-n-옥틸) 에틸트리에톡시실란, 2-(퍼플루오로-n-옥틸)에틸트리-n-프로폭시실란, 2-(퍼플루오로-n-옥틸)에틸트리-i-프로폭시실란, 2-(퍼플루오로-n-옥틸)에틸트리-n-부톡시실란, 2-(퍼플루오로-n-옥틸)에틸트리-sec-부톡시실란, 히드록시메틸트리클로로실란, 히드록시메틸트리메톡시실란, 히드록시에틸트리메톡시실란, 히드록시메틸트리-n-프로폭시실란, 히드록시메틸트리-i-프로폭시실란, 히드록시메틸트리-n-부톡시실란, 히드록시메틸트리-sec-부톡시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필트리클로로실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필트리에톡시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필트리-n-프로폭시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필트리-i-프로폭시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필트리-n-부톡시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필트리-sec-부톡시실란, 3-머캅토프로필트리클로로실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리에톡시실란, 3-머캅토프로필트리-n-프로폭시실란, 3-머캅토프로필트리-i-프로폭시실란, 3-머캅토프로필트리-n-부톡시실란, 3-머캅토프로필트리-sec-부톡시실란, 머캅토메틸트리메톡시실란, 머캅토메틸트리에톡시실란, 비닐트리클로로실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 비닐트리-n-프로폭시실란, 비닐트리-i-프로폭시실란, 비닐트리-n-부톡시실란, 비닐트리-sec-부톡시실란, 알릴트리클로로실란, 알릴트리메톡시실란, 알릴트리에톡시실란, 알릴트리-n-프로폭시실란, 알릴트리-i-프로폭시실란, 알릴트리-n-부톡시실란, 알릴트리-sec-부톡시실란, 페닐트리클로로실란, 페닐트리메톡시실란, 페닐트리에톡시실란, 페닐트리-n-프로폭시실란, 페닐트리-i-프로폭시실란, 페닐트리-n-부톡시실란, 페닐트리-sec-부톡시실란, 메틸디클로로실란, 메틸디메톡시실란, 메틸디에톡시실란, 메틸디-n-프 로폭시실란, 메틸디-i-프로폭시실란, 메틸디-n-부톡시실란, 메틸디-sec-부톡시실란, 디메틸디클로로실란, 디메틸디메톡시실란, 디메틸디에톡시실란, 디메틸디-n-프로폭시실란, 디메틸디-i-프로폭시실란, 디메틸디-n-부톡시실란, 디메틸디-sec-부톡시실란,

(메틸)〔2-(퍼플루오로-n-옥틸)에틸〕디클로로실란, (메틸)〔2-(퍼플루오로-n-옥틸)에틸〕디메톡시실란, (메틸)〔2-(퍼플루오로-n-옥틸)에틸〕디에톡시실란, (메틸)〔2-(퍼플루오로-n-옥틸)에틸〕디-n-프로폭시실란, (메틸)〔2-(퍼플루오로-n-옥틸)에틸〕디-i-프로폭시실란, (메틸)〔2-(퍼플루오로-n-옥틸)에틸〕디-n-부톡시실란, (메틸)〔2-(퍼플루오로-n-옥틸)에틸〕디-sec-부톡시실란, (메틸)(3-머캅토프로필)디클로로실란, (메틸)(3-머캅토프로필)디메톡시실란, (메틸)(3-머캅토프로필)디에톡시실란, (메틸)(3-머캅토프로필)디-n-프로폭시실란, (메틸)(3-머캅토프로필)디-i-프로폭시실란, (메틸)(3-머캅토프로필)디-n-부톡시실란, (메틸)(3-머캅토프로필)디-sec-부톡시실란, (메틸)(비닐)디클로로실란, (메틸)(비닐)디메톡시실란, (메틸)(비닐)디에톡시실란, (메틸)(비닐)디-n-프로폭시실란, (메틸)(비닐)디-i-프로폭시실란, (메틸)(비닐)디-n-부톡시실란, (메틸)(비닐)디-sec-부톡시실란, 디비닐디클로로실란, 디비닐디메톡시실란, 디비닐디에톡시실란, 디비닐디-n-프로폭시실란, 디비닐디-i-프로폭시실란, 디비닐디-n-부톡시실란, 디비닐디-sec-부톡시실란, 디페닐디클로로실란, 디페닐디메톡시실란, 디페닐디에톡시실란, 디페닐디-n-프로폭시실란, 디페닐디-i-프로폭시실란, 디페닐디-n-부톡시실란, 디페닐디-sec-부톡시실란, 클로로디메틸실란, 메톡시디메틸실란, 에톡시디메틸실란, 클로로트리메틸실란, 브로모트리메틸실란, 요오도트리메틸실란, 메톡시트리메틸실란, 에톡시트리메틸실란, n-프로폭시트리메틸실란, i-프로폭시트리메틸실란, n-부톡시트리메틸실란, sec-부톡시트리메틸실란, t-부톡시트리메틸실란, (클로로)(비닐)디메틸실란, (메톡시)(비닐)디메틸실란, (에톡시)(비닐)디메틸실란, (클로로)(메틸)디페닐실란, (메톡시)(메틸)디페닐실란, (에톡시)(메틸)디페닐실란 등의 규소 원자를 1개 갖는 실란 화합물 이외에,

상품명으로, 예를 들면 KC-89, KC-89S, X-21-3153, X-21-5841, X-21-5842, X-21-5843, X-21-5844, X-21-5845, X-21-5846, X-21-5847, X-21-5848, X-22-160AS, X-22-170B, X-22-170BX, X-22-170D, X-22-170DX, X-22-176B, X-22-176D, X-22-176DX, X-22-176F, X-40-2308, X-40-2651, X-40-2655A, X-40-2671, X-40-2672, X-40-9220, X-40-9225, X-40-9227, X-40-9246, X-40-9247, X-40-9250, X-40-9323, X-41-1053, X-41-1056, X-41-1805, X-41-1810, KF6001, KF6002, KF6003, KR212, KR-213, KR-217, KR220L, KR242A, KR271, KR282, KR300, KR311, KR401N, KR500, KR510, KR5206, KR5230, KR5235, KR9218, KR9706(이상, 신에쯔 가가꾸 고교(주) 제조); 글라스 레진(쇼와 덴꼬(주) 제조); SH804, SH805, SH806A, SH840, SR2400, SR2402, SR2405, SR2406, SR2410, SR2411, SR2416, SR2420(이상, 도레이ㆍ다우코닝(주) 제조); FZ3711, FZ3722(이상, 닛본 유니카(주) 제조); DMS-S12, DMS-S15, DMS-S21, DMS-S27, DMS-S31, DMS-S32, DMS-S33, DMS-S35, DMS-S38, DMS-S42, DMS-S45, DMS-S51, DMS-227, PSD-0332, PDS-1615, PDS-9931, XMS-5025(이상, 칫소(주) 제조); 메틸실리케이트 MS51, 메틸실리케이트 MS56(이상, 미쯔비시 가가꾸(주) 제 조); 에틸실리케이트 28, 에틸실리케이트 40, 에틸실리케이트 48(이상, 콜코트(주) 제조); GR100, GR650, GR908, GR950(이상, 쇼와 덴꼬(주) 제조) 등의 부분 축합물을 들 수 있다.

이들 다른 실란 화합물 중, 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필트리메톡시실란, 3-(메트)아크릴옥시프로필트리에톡시실란, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란, 알릴트리메톡시실란, 알릴트리에톡시실란, 페닐트리메톡시실란, 페닐트리에톡시실란, 3-머캅토프로필트리메톡시실란, 3-머캅토프로필트리에톡시실란, 머캅토메틸트리메톡시실란, 머캅토메틸트리에톡시실란, 디메틸디메톡시실란 또는 디메틸디에톡시실란이 바람직하다.

본 발명에 사용되는 에폭시기를 갖는 폴리오르가노실록산은 그 에폭시 당량이 100 내지 10,000 g/몰인 것이 바람직하고, 150 내지 1,000 g/몰인 것이 보다 바람직하고, 특히 150 내지 300 g/몰인 것이 바람직하다. 따라서, 에폭시기를 갖는 폴리오르가노실록산을 합성할 때에는, 에폭시기를 갖는 실란 화합물과 다른 실란 화합물의 사용 비율을 얻어지는 폴리오르가노실록산 에폭시 당량이 상기한 범위가 되도록 제조하여 설정하는 것이 바람직하다. 본 발명에서 사용되는 에폭시기를 갖는 폴리오르가노실록산을 합성할 때에는 에폭시기를 갖는 실란 화합물만을 사용하고, 다른 실란 화합물을 사용하지 않는 것이 바람직하다.

에폭시기를 갖는 폴리오르가노실록산을 합성할 때 사용할 수 있는 유기 용매로서는, 예를 들면 탄화수소, 케톤, 에스테르, 에테르, 알코올 등을 들 수 있다.

상기 탄화수소로서는, 예를 들면 톨루엔, 크실렌 등; 상기 케톤으로서는, 예를 들면 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 메틸 n-아밀케톤, 디에틸케톤, 시클로헥사논 등; 상기 에스테르로서는, 예를 들면 아세트산에틸, 아세트산 n-부틸, 아세트산 i-아밀, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 3-메톡시부틸아세테이트, 락트산에틸 등; 상기 에테르로서는, 예를 들면 에틸렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜디에틸에테르, 테트라히드로푸란, 디옥산 등; 상기 알코올로서는, 예를 들면 1-헥산올, 4-메틸-2-펜탄올, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노-n-프로필에테르, 에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노-n-프로필에테르 등을 각각 들 수 있다. 이들 중에서 비수용성인 것이 바람직하다.

이들 유기 용매는 단독으로 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수 있다.

유기 용매의 사용량은, 전체 실란 화합물 100 중량부에 대하여 바람직하게는 10 내지 10,000 중량부, 보다 바람직하게는 50 내지 1,000 중량부이다.

에폭시기를 갖는 폴리오르가노실록산을 제조할 때의 물의 사용량은 전체 실란 화합물에 대하여 바람직하게는 0.5 내지 100배몰, 보다 바람직하게는 1 내지 30배몰이다.

상기 촉매로서는 예를 들면 산, 알칼리 금속 화합물, 유기 염기, 티탄 화합물, 지르코늄 화합물 등을 사용할 수 있다.

상기 알칼리 금속 화합물로서는, 예를 들면 수산화나트륨, 수산화칼륨, 나트륨메톡시드, 칼륨메톡시드, 나트륨에톡시드, 칼륨에톡시드 등을 들 수 있다.

상기 유기 염기로서는, 예를 들면 에틸아민, 디에틸아민, 피페라진, 피페리딘, 피롤리딘, 피롤과 같은 1 내지 2급 유기 아민; 트리에틸아민, 트리-n-프로필아민, 트리-n-부틸아민, 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘, 디아자비시클로운데센과 같은 3급의 유기 아민; 테트라메틸암모늄히드록시드와 같은 4급의 유기 아민 등을 들 수 있다. 이들 유기 염기 중, 트리에틸아민, 트리-n-프로필아민, 트리-n-부틸아민, 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘과 같은 3급의 유기 아민; 테트라메틸암모늄히드록시드와 같은 4급의 유기 아민이 바람직하다.

에폭시기를 갖는 폴리오르가노실록산을 제조할 때의 촉매로서는, 알칼리 금속 화합물 또는 유기 염기가 바람직하다. 알칼리 금속 화합물 또는 유기 염기를 촉매로서 사용함으로써, 에폭시기의 개환 등의 부반응을 발생시키지 않고 높은 가수분해ㆍ축합 속도로 목적으로 하는 폴리오르가노실록산을 얻을 수 있기 때문에, 생산 안정성이 우수해져 바람직하다. 또한, 촉매로서 알칼리 금속 화합물 또는 유기 염기를 사용하여 합성된 에폭시기를 갖는 폴리오르가노실록산과 신남산 유도체의 반응물을 함유하는 본 발명의 액정 배향제는 보존 안정성이 매우 우수하기 때문에 바람직하다. 그 이유는, 비특허 문헌 4(문헌 [Chemical Reviews, 95권, p.1409(1995년)])에 지적되어 있는 바와 같이 가수분해, 축합 반응에서 촉매로서 알칼리 금속 화합물 또는 유기 염기를 사용하면, 랜덤 구조, 사다리형 구조 또는 바구니형 구조가 형성되고, 실라놀기의 함유 비율이 적은 폴리오르가노실록산이 얻어지기 때문이라고 추측된다. 즉, 이러한 폴리오르가노실록산은 실라놀기의 함유 비율이 적기 때문에 실라놀기끼리의 축합 반응이 억제되고, 본 발명의 액정 배향제 가 후술하는 다른 중합체를 함유하는 것인 경우에는 실라놀기와 다른 중합체의 축합 반응이 억제되기 때문에, 보존 안정성이 우수한 결과가 되는 것으로 추측된다.

촉매로서는, 특히 유기 염기가 바람직하다. 유기 염기의 사용량은 유기 염기의 종류, 온도 등의 반응 조건 등에 따라 상이하며, 적절하게 설정되어야 하지만, 예를 들면 전체 실란 화합물에 대하여 바람직하게는 0.01 내지 3배몰이고, 보다 바람직하게는 0.05 내지 1배몰이다.

에폭시기를 갖는 폴리오르가노실록산을 제조할 때의 가수분해 또는 가수분해ㆍ축합 반응은, 에폭시기를 갖는 실란 화합물과 필요에 따라 다른 실란 화합물을 유기 용매에 용해하고, 이 용액을 유기 염기 및 물과 혼합하여, 예를 들면 유욕 등에 의해 가열함으로써 실시하는 것이 바람직하다.

가수분해ㆍ축합 반응시에는 가열 온도를 바람직하게는 130 ℃ 이하, 보다 바람직하게는 40 내지 100 ℃로 하고, 바람직하게는 0.5 내지 12 시간, 보다 바람직하게는 1 내지 8 시간 동안 가열하는 것이 바람직하다. 가열 중에는 혼합액을 교반할 수도 있고, 환류하에 행할 수도 있다.

반응 종료 후, 반응액으로부터 분취한 유기 용매층을 물로 세정하는 것이 바람직하다. 이 세정시에는 소량의 염을 포함하는 물, 예를 들면 0.2 중량％ 정도의 질산암모늄 수용액 등으로 세정함으로써, 세정 조작이 용이해진다는 점에서 바람직하다. 세정은 세정 후의 수층이 중성이 될 때까지 행하고, 그 후 유기 용매층을 필요에 따라 황산칼슘 무수물, 분자체 등의 건조제로 건조한 후, 용매를 제거함으로써 목적으로 하는 에폭시기를 갖는 폴리오르가노실록산을 얻을 수 있다.

본 발명에서는, 에폭시기를 갖는 폴리오르가노실록산으로서 시판되어 있는 것을 사용할 수도 있다. 이러한 시판품으로서는, 예를 들면 DMS-E01, DMS-E12, DMS-E21, EMS-32(이상, 칫소(주) 제조) 등을 들 수 있다.

[신남산 유도체 (A)]

본 발명에서 사용되는 신남산 유도체 (A)는, 카르복실기, 수산기, -SH, -NCO, -NHR(단, R은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기임), -CH=CH₂ 및 -SO₂Cl로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 기를 갖는 신남산 유도체이다.

신남산 유도체 (A)로서는, 하기 화학식 2로 표시되는 화합물 또는 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물인 것이 바람직하다.

(화학식 2 중, R¹은 지환식기를 포함하는 탄소수 3 내지 40의 1가의 유기기 또는 탄소수 1 내지 40의 알킬기이되, 단, 상기 알킬기의 수소 원자의 일부 또는 전부는 불소 원자로 치환될 수도 있고, R²는 단결합, 산소 원자, -COO- 또는 -OCO-이고, R³은 2가의 방향족기, 2가의 지환식기, 2가의 복소환식기 또는 2가의 축합환 식기이고, R⁴는 단결합, 산소 원자, -COO- 또는 -OCO-이고, R⁵는 단결합, 산소 원자, 황 원자, 메틸렌기, 탄소수 2 내지 10의 알킬렌기 또는 2가의 방향족기이고, R⁵가 단결합일 때 t는 1이며 R⁶은 수소 원자이고, R⁵가 메틸렌기, 알킬렌기 또는 2가의 방향족기일 때 t는 0 또는 1이며 R⁶은 카르복실기, 수산기, -SH, -NCO, -NHR, -CH=CH₂ 또는 -SO₂Cl이되, 단, 상기 R은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기이고, R⁷은 불소 원자 또는 시아노기이고, a는 0 내지 3의 정수이고, b는 0 내지 4의 정수임)

(화학식 3 중, R⁸은 지환식기를 포함하는 탄소수 3 내지 40의 1가의 유기기 또는 탄소수 1 내지 40의 알킬기이되, 단, 상기 알킬기의 수소 원자의 일부 또는 전부는 불소 원자로 치환될 수도 있고, R⁹는 산소 원자 또는 2가의 방향족기이고, R¹⁰은 산소 원자, -COO- 또는 -OCO-이고, R¹¹은 2가의 방향족기, 2가의 복소환식기 또는 2가의 축합환식기이고, R¹²는 단결합, -OCO-(CH₂)_e-* 또는 -O-(CH₂)_g-*이되, 단, 상기 e 및 g는 각각 1 내지 10의 정수이고, "*"는 각각 이 표시가 붙은 결합손이 R¹³과 결합하는 것을 나타내고, R¹³은 카르복실기, 수산기, -SH, -NCO, -NHR, -CH=CH₂ 또는 -SO₂Cl이되, 단, 상기 R은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기이고, R¹⁴는 불소 원자 또는 시아노기이고, c는 0 내지 3의 정수이고, d는 0 내지 4의 정수임)

상기 화학식 2에서의 R¹의 지환식기를 포함하는 탄소수 3 내지 40의 1가의 유기기로서는, 예를 들면 콜레스테닐기, 콜레스타닐기, 아다만틸기 등을 들 수 있다. R¹의 탄소수 1 내지 40의 알킬기로서는, 예를 들면 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 단, 이 알킬기의 수소 원자의 일부 또는 전부는 불소 원자에 의해 치환될 수도 있는 것이 바람직하다. 이러한 알킬기의 예로서는, 예를 들면 n-펜틸기, n-헥실기, n-헵틸기, n-옥틸기, n-노닐기, n-데실기, n-라우릴기, n-도데실기, n-트리데실기, n-테트라데실기, n-펜타데실기, n-헥사데실기, n-헵타데실기, n-옥타데실기, n-노나데실기, n-에이코실기, 4,4,4-트리플루오로부틸기, 4,4,5,5,5-펜타플루오로펜틸기, 4,4,5,5,6,6,6-헵타플루오로헥실기, 3,3,4,4,5,5,5-헵타플루오로펜틸기, 2,2,2-트리플루오로에틸기, 2,2,3,3,3-펜타플루오로프로필기, 2-(퍼플루오로부틸)에틸기, 2-(퍼플루오로옥틸)에틸기, 2-(퍼플루오로데실)에틸기 등을 들 수 있다.

R³ 및 R⁵의 2가의 방향족기로서는, 예를 들면 1,4-페닐렌기, 2-플루오로-1,4-페닐렌기, 3-플루오로-1,4-페닐렌기, 2,3,5,6-테트라플루오로-1,4-페닐렌기 등 을; R³의 2가의 복소환식기로서는, 예를 들면 1,4-피리딜렌기, 2,5-피리딜렌기, 1,4-푸라닐렌기 등을; R³의 2가의 축합환식기로서는, 예를 들면 나프틸렌기 등을 각각 들 수 있다.

R³의 2가의 지환식기로서는, 예를 들면 1,4-시클로헥실렌기 등을 들 수 있다.

상기 화학식 2로 표시되는 화합물로서는, 상기 화학식 2에서 R⁵가 단결합, t가 1이고, R⁶이 수소 원자인 화합물이거나, 또는 R⁵가 메틸렌기, 알킬렌기 또는 2가의 방향족기, t가 0 또는 1이고, R⁶이 카르복실기인 화합물인 것이 바람직하다.

상기 화학식 2로 표시되는 화합물의 바람직한 예로서는, 예를 들면 하기 화학식 (2-1) 내지 (2-35) 각각으로 표시되는 화합물을 들 수 있다.

(식 중, R¹은 각각 상기 화학식 2에서의 것과 동일한 의미이고, f는 각각 1 내지 10의 정수임)

상기 화학식 3에서의 R⁸의 지환식기를 포함하는 탄소수 3 내지 40의 1가의 유기기로서는, 예를 들면 콜레스테닐기, 콜레스타닐기, 아다만틸기 등을 들 수 있다. R⁸의 탄소수 1 내지 40의 알킬기로서는, 예를 들면 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 단, 이 알킬기의 수소 원자의 일부 또는 전부는 불소 원자에 의해 치환될 수도 있는 것이 바람직하다. 이러한 알킬기의 예로서는, 예를 들면 상기 화학식 2에서의 R¹의 알킬기로서 예시한 것을 들 수 있다.

R⁹ 및 R¹¹의 2가의 방향족기, 복소환식기 또는 축합환식기로서는, 예를 들면 상기 화학식 2에서의 R³ 및 R⁵의 2가의 방향족기, 복소환식기 또는 축합환식기로서 각각 예시한 것을 들 수 있다.

R¹³으로서는, 카르복실기가 바람직하다.

상기 화학식 3으로 표시되는 화합물의 바람직한 예로서는, 예를 들면 하기 화학식 (3-1) 내지 (3-11) 각각으로 표시되는 화합물을 들 수 있다.

(식 중, R⁸은 각각 상기 화학식 3에서의 것과 동일한 의미이고, u는 각각 1 내지 10의 정수임)

이러한 신남산 유도체 (A)는, 유기 합성의 정보를 적절하게 조합함으로써 합 성할 수 있다. 그의 합성 루트 및 반응 조건은 당업자의 통상적인 지식 및 약간의 예비 실험에 의해 용이하게 설정할 수 있다.

[광증감성 화합물 (B)]

본 발명에서의 광증감성 화합물 (B)는, 카르복실기, 수산기, -SH, -NCO, -NHR(단, R은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기임), -CH=CH₂ 및 -SO₂Cl로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 기 및 광증감성 구조를 갖는 화합물이다. 상기 에폭시기를 갖는 폴리오르가노실록산과, 신남산 유도체 (A) 및 광증감성 화합물 (B)의 혼합물을 반응시킴으로써, 본 발명의 액정 배향제에 함유되는 감방사선성 폴리오르가노실록산은 신남산 유도체 (A)에서 유래하는 감광성 구조(신남산 구조)와 광증감성 화합물 (B)에서 유래하는 광증감성 구조를 병유하게 된다. 이 광증감성 구조는 방사선의 조사에 의해 여기하고, 이 여기 에너지를 중합체 내에서 근접하는 감광성 구조에 제공하는 기능을 갖는다. 이 여기 상태는 일중항일 수도 있고, 삼중항일 수도 있지만, 수명이 길고 효율적으로 에너지 이동이 이루어질 수 있기 때문에 삼중항인 것이 바람직하다. 상기 광증감성 구조가 흡수하는 방사선은 파장 150 내지 600 ㎚의 범위의 자외선 또는 가시광선인 것이 바람직하다. 파장이 이것보다 짧은 방사선은 통상적인 광학계에서 취급할 수 없기 때문에, 광배향법에 바람직하게 사용할 수 없다. 한편, 이것보다 파장이 긴 방사선은 에너지가 작고, 상기 광증감성 구조의 여기 상태를 유발하기 어렵다.

이러한 광증감성 구조로서는, 예를 들면 아세토페논 구조, 벤조페논 구조, 안트라퀴논 구조, 비페닐 구조, 카르바졸 구조, 니트로아릴 구조, 플루오렌 구조, 나프탈렌 구조, 안트라센 구조, 아크리딘 구조, 인돌 구조 등을 들 수 있으며, 이들 중에서 1종 이상일 수 있다. 이들 구조는, 각각 아세토페논, 벤조페논, 안트라퀴논, 비페닐, 카르바졸, 니트로벤젠 또는 디니트로벤젠, 나프탈렌, 플루오렌, 안트라센, 아크리딘 또는 인돌로부터 1 내지 4개의 수소 원자를 제거하여 얻어지는 기를 포함하는 구조를 말한다. 여기서 아세토페논 구조, 카르바졸 구조 및 인돌 구조는, 각각 아세토페논, 카르바졸 또는 인돌의 벤젠환이 갖는 수소 원자 중 1 내지 4개를 제거하여 얻어지는 기를 포함하는 구조인 것이 바람직하다.

광증감성 구조로서는, 이들 중에서 아세토페논 구조, 벤조페논 구조, 안트라퀴논 구조, 비페닐 구조, 카르바졸 구조, 니트로아릴 구조 및 나프탈렌 구조로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것이 바람직하고, 아세토페논 구조, 벤조페논 구조 및 니트로아릴 구조로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인 것이 특히 바람직하다.

광증감성 화합물 (B)로서는, 카르복실기 및 광증감성 구조를 갖는 화합물인 것이 바람직하고, 더욱 바람직한 화합물로서, 예를 들면 하기 화학식 (B-1) 내지 (B-42) 각각으로 표시되는 화합물 등을 들 수 있다.

(상기 화학식 중, p, q, r 및 s는 각각 1 내지 6의 정수임)

본 발명에서 사용되는 감방사선성 폴리오르가노실록산은, 상기한 바와 같은 에폭시기를 갖는 폴리오르가노실록산과, 신남산 유도체 (A) 및 광증감성 화합물 (B)를 바람직하게는 촉매의 존재하에 바람직하게는 유기 용매 중에서 반응시킴으로써 합성할 수 있다.

여기서 신남산 유도체 (A)는, 에폭시기를 갖는 폴리오르가노실록산의 규소 원자 1 몰에 대하여 바람직하게는 0.001 내지 1 몰, 보다 바람직하게는 0.1 내지 1 몰, 더욱 바람직하게는 0.2 내지 0.9 몰의 범위에서 사용된다. 광증감성 화합물 (B)는, 에폭시기를 갖는 폴리오르가노실록산의 규소 원자 1 몰에 대하여 바람직하게는 0.0001 내지 0.5 몰, 보다 바람직하게는 0.0005 내지 0.2 몰, 더욱 바람직하게는 0.001 내지 0.1 몰의 범위에서 사용된다.

본 발명에서는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서 상기 신남산 유도체의 일부를 상기 화학식 5로 표시되는 화합물로 치환하여 사용할 수도 있다. 이 경우, 감방사선성 폴리오르가노실록산의 합성은 에폭시기를 갖는 폴리오르가노실록산과, 신남산 유도체 (A) 및 상기 화학식 5로 표시되는 화합물 및 광증감성 화합물 (B)의 혼합물을 반응시킴으로써 행해진다.

상기 화학식 5에서의 R¹⁵로서는 탄소수 8 내지 20의 알킬기 또는 알콕실기 또는 탄소수 4 내지 21의 플루오로알킬기 또는 플루오로알콕실기인 것이 바람직하고, R¹⁶으로서는 단결합, 1,4-시클로헥실렌기 또는 1,4-페닐렌기인 것이 바람직하고, R¹⁷로서는 카르복실기인 것이 바람직하다.

상기 화학식 5로 표시되는 화합물의 바람직한 예로서, 예를 들면 하기 화학 식 (5-1) 내지 (5-4) 각각으로 표시되는 화합물을 들 수 있으며, 보다 바람직한 예로서는, 상기한 것 중에서 하기 화학식 (5-3-1) 내지 (5-3-3) 각각으로 표시되는 화합물을 들 수 있다.

(상기 화학식 중, h는 1 내지 3의 정수이고, i는 3 내지 18의 정수이고, j는 5 내지 20의 정수이고, k는 1 내지 3의 정수이고, m은 0 내지 18의 정수이고, n은 1 내지 18의 정수임)

상기 화학식 5로 표시되는 화합물은, 상기 신남산 유도체 (A) 및 광증감성 화합물 (B)와 함께 에폭시기를 갖는 폴리오르가노실록산과 반응하고, 얻어지는 액 정 배향막에 프리틸트각 발현성을 부여하는 부위를 도입하는 화합물이다. 본 명세서에서는 상기 화학식 5로 표시되는 화합물을 이하 "다른 프리틸트각 발현성 화합물"이라고 한다.

본 발명에서, 상기 신남산 유도체 (A)의 일부를 다른 프리틸트각 발현성 화합물로 치환하여 사용하는 경우, 신남산 유도체 (A), 광증감성 화합물 (B) 및 다른 프리틸트각 발현성 화합물의 합계의 사용 비율은, 에폭시기를 갖는 폴리오르가노실록산의 규소 원자 1 몰에 대하여 바람직하게는 0.001 내지 1 몰이고, 보다 바람직하게는 0.1 내지 1 몰이고, 더욱 바람직하게는 0.2 내지 0.9 몰이다. 이 경우, 다른 프리틸트각 발현성 화합물은, 신남산 유도체 (A)와의 합계에 대하여 바람직하게는 50 몰％ 이하, 보다 바람직하게는 25 몰％ 이하의 범위에서 사용된다. 다른 프리틸트각 발현성 화합물의 사용 비율이 50 몰％를 초과하면, 액정 표시 소자를 ON으로 했을 때 이상 도메인이 발생한다는 문제점이 발생하는 경우가 있다.

상기 촉매로서는, 유기 염기 또는 에폭시 화합물과 산 무수물의 반응을 촉진시키는 소위 경화 촉진제로서 공지된 화합물을 사용할 수 있다.

상기 유기 염기로서는, 예를 들면 에틸아민, 디에틸아민, 피페라진, 피페리딘, 피롤리딘, 피롤과 같은 1 내지 2급 유기 아민;

트리에틸아민, 트리-n-프로필아민, 트리-n-부틸아민, 피리딘, 4-디메틸아미노피리딘, 디아자비시클로운데센과 같은 3급의 유기 아민;

테트라메틸암모늄히드록시드와 같은 4급의 유기 아민 등을 들 수 있다. 이들 유기 염기 중, 트리에틸아민, 트리-n-프로필아민, 트리-n-부틸아민, 피리딘, 4- 디메틸아미노피리딘과 같은 3급의 유기 아민; 테트라메틸암모늄히드록시드와 같은 4급의 유기 아민이 바람직하다.

상기 경화 촉진제로서는, 예를 들면 벤질디메틸아민, 2,4,6-트리스(디메틸아미노메틸)페놀, 시클로헥실디메틸아민, 트리에탄올아민과 같은 3급 아민;

2-메틸이미다졸, 2-n-헵틸이미다졸, 2-n-운데실이미다졸, 2-페닐이미다졸, 2-페닐-4-메틸이미다졸, 1-벤질-2-메틸이미다졸, 1-벤질-2-페닐이미다졸, 1,2-디메틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 1-(2-시아노에틸)-2-메틸이미다졸, 1-(2-시아노에틸)-2-n-운데실이미다졸, 1-(2-시아노에틸)-2-페닐이미다졸, 1-(2-시아노에틸)-2-에틸-4-메틸이미다졸, 2-페닐-4-메틸-5-히드록시메틸이미다졸, 2-페닐-4,5-디(히드록시메틸)이미다졸, 1-(2-시아노에틸)-2-페닐-4,5-디〔(2'-시아노에톡시)메틸〕이미다졸, 1-(2-시아노에틸)-2-n-운데실이미다졸륨트리멜리테이트, 1-(2-시아노에틸)-2-페닐이미다졸륨트리멜리테이트, 1-(2-시아노에틸)-2-에틸-4-메틸이미다졸륨트리멜리테이트, 2,4-디아미노-6-〔2'-메틸이미다졸릴-(1')〕에틸-s-트리아진, 2,4-디아미노-6-(2'-n-운데실이미다졸릴)에틸-s-트리아진, 2,4-디아미노-6-〔2'-에틸-4'-메틸이미다졸릴-(1')〕에틸-s-트리아진, 2-메틸이미다졸의 이소시아누르산 부가물, 2-페닐이미다졸의 이소시아누르산 부가물, 2,4-디아미노-6-〔2'-메틸이미다졸릴-(1')〕에틸-s-트리아진의 이소시아누르산 부가물과 같은 이미다졸 화합물; 디페닐포스핀, 트리페닐포스핀, 아인산트리페닐과 같은 유기 인 화합물;

벤질트리페닐포스포늄클로라이드, 테트라-n-부틸포스포늄브로마이드, 메틸트리페닐포스포늄브로마이드, 에틸트리페닐포스포늄브로마이드, n-부틸트리페닐포스 포늄브로마이드, 테트라페닐포스포늄브로마이드, 에틸트리페닐포스포늄요오다이드, 에틸트리페닐포스포늄아세테이트, 테트라-n-부틸포스포늄, o,o-디에틸포스포로디티오네이트, 테트라-n-부틸포스포늄벤조트리아졸레이트, 테트라-n-부틸포스포늄테트라플루오로보레이트, 테트라-n-부틸포스포늄테트라페닐보레이트, 테트라페닐포스포늄테트라페닐보레이트와 같은 4급 포스포늄염;

1,8-디아자비시클로[5.4.0]운데센-7, 그의 유기 산염과 같은 디아자비시클로알켄;

옥틸산아연, 옥틸산주석, 알루미늄아세틸아세톤 착체와 같은 유기 금속 화합물;

테트라에틸암모늄브로마이드, 테트라-n-부틸암모늄브로마이드, 테트라에틸암모늄클로라이드, 테트라-n-부틸암모늄클로라이드와 같은 4급 암모늄염;

3불화붕소, 붕산트리페닐과 같은 붕소 화합물;

염화아연, 염화 제2주석과 같은 금속 할로겐 화합물;

디시안디아미드 또는 아민과 에폭시 수지의 부가물 등의 아민 부가형 촉진제 등의 고융점 분산형 잠재성 경화 촉진제;

상기 이미다졸 화합물, 유기 인 화합물, 4급 포스포늄염 등의 경화 촉진제의 표면을 중합체로 피복한 마이크로 캡슐형 잠재성 경화 촉진제; 아민염형 잠재성 경화 촉진제;

루이스산염, 브뢴스테드산염 등의 고온 해리형의 열 양이온 중합형 잠재성 경화 촉진제 등의 잠재성 경화 촉진제 등을 들 수 있다.

이들 중에서, 바람직하게는 테트라에틸암모늄브로마이드, 테트라-n-부틸암모늄브로마이드, 테트라에틸암모늄클로라이드, 테트라-n-부틸암모늄클로라이드와 같은 4급 암모늄염이다.

촉매는, 에폭시기를 갖는 폴리오르가노실록산 100 중량부에 대하여 바람직하게는 100 중량부 이하, 보다 바람직하게는 0.01 내지 100 중량부, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 20 중량부의 비율로 사용된다.

반응 온도는 바람직하게는 0 내지 200 ℃이고, 보다 바람직하게는 50 내지 150 ℃이다. 반응 시간은 바람직하게는 0.1 내지 50 시간, 보다 바람직하게는 0.5 내지 20 시간이다.

감방사선성 폴리오르가노실록산의 합성시에 사용할 수 있는 유기 용매로서는, 예를 들면 탄화수소 화합물, 에테르 화합물, 에스테르 화합물, 케톤 화합물, 아미드 화합물, 알코올 화합물 등을 들 수 있다. 이들 중에서 에테르 화합물, 에스테르 화합물, 케톤 화합물이 원료 및 생성물의 용해성 및 생성물의 정제 용이성의 관점에서 바람직하다. 용매는, 고형분 농도(반응 용액 중 용매 이외의 성분의 합계 중량이 용액 전체 중량에 차지하는 비율)가 바람직하게는 0.1 중량％ 이상, 보다 바람직하게는 5 내지 50 중량％가 되는 양으로 사용된다.

본 발명의 액정 배향제에 포함되는 감방사선성 폴리오르가노실록산은 에폭시기를 갖는 폴리오르가노실록산을 원료로서 사용하고, 그 에폭시의 개환 부가에 의해 신남산 유도체 (A) 및 광증감성 화합물 (B)에서 유래하는 구조를 도입하고 있다. 이 제조 방법은 간편하다. 또한, 특히 신남산 유도체 (A)에서 유래하는 신남 산 구조의 도입율을 높일 수 있다는 점에서 매우 바람직한 방법이다. 또한, 광증감성 화합물 (B)에서 유래하는 광증감성 구조가 감방사선성 폴리오르가노실록산에 화학적으로 결합하고 있으며, 광배향법시의 방사선 조사에 의해 발생하는 여기 에너지를, 감방사선성 폴리오르가노실록산 중에서 근방에 존재하는 신남산 유도체 (A)에서 유래하는 신남산 구조에 높은 효율로 공급할 수 있기 때문에, 적은 방사선 조사량으로도 충분한 액정 배향성 및 프리틸트각을 발현하는 것이 가능해진다. 또한, 광증감성 구조가 베이스 중합체에 화학 결합하고 있기 때문에, 액정 배향막이 되는 도막을 형성할 때의 후베이킹시의 승화를 방지할 수 있다.

<기타 성분>

본 발명의 액정 배향제는 상기한 바와 같은 감방사선성 폴리오르가노실록산을 함유한다.

본 발명의 액정 배향제는 상기한 바와 같은 감방사선성 폴리오르가노실록산 이외에, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 한 또 다른 성분을 함유할 수도 있다. 이러한 다른 성분으로서는, 예를 들면 감방사선성 폴리오르가노실록산 이외의 중합체(이하, "다른 중합체"라고 함), 경화제, 경화 촉매, 경화 촉진제, 분자 내에 1개 이상의 에폭시기를 갖는 화합물(이하, "에폭시 화합물"이라고 함), 관능성 실란 화합물, 계면활성제, 광증감제 등을 들 수 있다.

[다른 중합체]

상기 다른 중합체는, 본 발명의 액정 배향제의 용액 특성 및 얻어지는 액정 배향막의 전기 특성을 보다 개선하기 위해 사용할 수 있다. 이러한 다른 중합체로 서는, 예를 들면 폴리아믹산 및 폴리이미드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 중합체, 하기 화학식 4로 표시되는 폴리오르가노실록산, 그의 가수분해물 및 가수분해물의 축합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상(이하, "다른 폴리오르가노실록산"이라고 함), 폴리아믹산에스테르, 폴리에스테르, 폴리아미드, 셀룰로오스 유도체, 폴리아세탈, 폴리스티렌 유도체, 폴리(스티렌-페닐말레이미드) 유도체, 폴리(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.

(화학식 4 중, X²는 수산기, 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 1 내지 6의 알콕실기 또는 탄소수 6 내지 20의 아릴기이고, Y²는 수산기 또는 탄소수 1 내지 10의 알콕실기임)

[폴리아믹산]

상기 폴리아믹산은 테트라카르복실산 이무수물과 디아민 화합물을 반응시킴으로써 얻을 수 있다.

폴리아믹산의 합성에 사용할 수 있는 테트라카르복실산 이무수물로서는, 예를 들면 2,3,5-트리카르복시시클로펜틸아세트산 이무수물, 부탄테트라카르복실산 이무수물, 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산 이무수물, 1,3-디메틸-1,2,3,4-시 클로부탄테트라카르복실산 이무수물, 1,2,3,4-시클로펜탄테트라카르복실산 이무수물, 3,5,6-트리카르복시노르보르난-2-아세트산 이무수물, 2,3,4,5-테트라히드로푸란테트라카르복실산 이무수물, 1,3,3a,4,5,9b-헥사히드로-5-(테트라히드로-2,5-디옥소-3-푸라닐)-나프토[1,2-c]-푸란-1,3-디온, 1,3,3a,4,5,9b-헥사히드로-5-(테트라히드로-2,5-디옥소-3-푸라닐)-8-메틸-나프토[1,2-c]-푸란-1,3-디온, 5-(2,5-디옥소테트라히드로푸라닐)-3-메틸-3-시클로헥센-1,2-디카르복실산 무수물, 비시클로[2.2.2]-옥트-7-엔-2,3,5,6-테트라카르복실산 이무수물, 하기 화학식 (T-1) 내지 (T-14) 각각으로 표시되는 테트라카르복실산 이무수물 등의 지방족식 테트라카르복실산 이무수물 및 지환식 테트라카르복실산 이무수물;

피로멜리트산 이무수물, 3,3',4,4'-비페닐술폰테트라카르복실산 이무수물, 1,4,5,8-나프탈렌테트라카르복실산 이무수물, 2,3,6,7-나프탈렌테트라카르복실산 이무수물, 3,3',4,4'-비페닐에테르테트라카르복실산 이무수물, 3,3',4,4'-디메틸디 페닐실란테트라카르복실산 이무수물, 3,3',4,4'-테트라페닐실란테트라카르복실산 이무수물, 1,2,3,4-푸란테트라카르복실산 이무수물, 4,4'-비스(3,4-디카르복시페녹시)디페닐술피드 이무수물, 4,4'-비스(3,4-디카르복시페녹시)디페닐술폰 이무수물, 4,4'-비스(3,4-디카르복시페녹시)디페닐프로판 이무수물, 3,3',4,4'-퍼플루오로이소프로필리덴테트라카르복실산 이무수물, 3,3',4,4'-비페닐테트라카르복실산 이무수물, 비스(프탈산)페닐포스핀옥시드 이무수물, p-페닐렌-비스(트리페닐프탈산) 이무수물, m-페닐렌-비스(트리페닐프탈산) 이무수물, 비스(트리페닐프탈산)-4,4'-디페닐에테르 이무수물, 비스(트리페닐프탈산)-4,4'-디페닐메탄 이무수물, 하기 화학식 (T-15) 내지 (T-18) 각각으로 표시되는 테트라카르복실산 이무수물 등의 방향족 테트라카르복실산 이무수물 등을 들 수 있다.

이들 중에서 바람직한 것으로서, 1,3,3a,4,5,9b-헥사히드로-5-(테트라히드로-2,5-디옥소-3-푸라닐)-나프토[1,2-c]-푸란-1,3-디온, 1,3,3a,4,5,9b-헥사히드로-5-(테트라히드로-2,5-디옥소-3-푸라닐)-8-메틸-나프토[1,2-c]-푸란-1,3-디온, 2,3,5-트리카르복시시클로펜틸아세트산 이무수물, 부탄테트라카르복실산 이무수물, 1,3-디메틸-1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산 이무수물, 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산 이무수물, 피로멜리트산 이무수물, 3,3',4,4'-비페닐술폰테트라카르복실산 이무수물, 1,4,5,8-나프탈렌테트라카르복실산 이무수물, 2,3,6,7-나프탈렌테트라카르복실산 이무수물, 3,3',4,4'-비페닐에테르테트라카르복실산 이무수물 또는 상기 화학식 (T-1), (T-2) 및 (T-15) 내지 (T-18) 각각으로 표시되는 테트라카르복실산 이무수물을 들 수 있다.

이들 테트라카르복실산 이무수물은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.

폴리아믹산의 합성에 사용할 수 있는 디아민 화합물로서는, 예를 들면 p-페닐렌디아민, m-페닐렌디아민, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐에탄, 4,4'-디아미노디페닐술피드, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 3,3'-디메틸-4,4'-디아미노비페닐, 4,4'-디아미노벤즈아닐리드, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 1,5-디아미노나프탈렌, 3,3-디메틸-4,4'-디아미노비페닐, 5-아미노-1-(4'-아미노페닐)-1,3,3-트리메틸인단, 6-아미노-1-(4'-아미노페닐)-1,3,3-트리메틸인단, 3,4'-디아미노디페닐에테르, 2,2-비스(4-아미노페녹시)프로판, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]프로판, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]헥사플루오로프로판, 2,2-비스(4-아미노페닐)헥사플루오로프로판, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]술폰, 1,4-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(4-아미노페녹시)벤젠, 1,3-비스(3-아미노페녹시)벤젠, 9,9-비스(4-아미노페닐)-10-히드로안트라센, 2,7-디아미노플루오렌, 9,9-비스(4-아미노페닐)플루오렌,

4,4'-메틸렌-비스(2-클로로아닐린), 2,2',5,5'-테트라클로로-4,4'-디아미노비페닐, 2,2'-디클로로-4,4'-디아미노-5,5'-디메톡시비페닐, 3,3'-디메톡시-4,4'-디아미노비페닐, 4,4'-(p-페닐렌이소프로필리덴)비스아닐린, 4,4'-(m-페닐렌이소프로필리덴)비스아닐린, 2,2-비스[4-(4-아미노-2-트리플루오로메틸페녹시)페닐]헥사 플루오로프로판, 4,4'-디아미노-2,2'-비스(트리플루오로메틸)비페닐, 4,4'-비스[(4-아미노-2-트리플루오로메틸)페녹시]-옥타플루오로비페닐, 6-(4-카르코닐옥시)헥실옥시(2,4-디아미노벤젠), 6-(4'-플루오로-4-카르코닐옥시)헥실옥시(2,4-디아미노벤젠), 8-(4-카르코닐옥시)옥틸옥시(2,4-디아미노벤젠), 8-(4'-플루오로-4-카르코닐옥시)옥틸옥시(2,4-디아미노벤젠), 1-도데실옥시-2,4-디아미노벤젠, 1-테트라데실옥시-2,4-디아미노벤젠, 1-펜타데실옥시-2,4-디아미노벤젠, 1-헥사데실옥시-2,4-디아미노벤젠, 1-옥타데실옥시-2,4-디아미노벤젠, 1-콜레스테릴옥시-2,4-디아미노벤젠, 1-콜레스타닐옥시-2,4-디아미노벤젠, 도데실옥시(3,5-디아미노벤조일), 테트라데실옥시(3,5-디아미노벤조일), 펜타데실옥시(3,5-디아미노벤조일), 헥사데실옥시(3,5-디아미노벤조일), 옥타데실옥시(3,5-디아미노벤조일), 콜레스테릴옥시(3,5-디아미노벤조일), 콜레스타닐옥시(3,5-디아미노벤조일), (2,4-디아미노페녹시)팔미테이트, (2,4-디아미노페녹시)스테아릴레이트, (2,4-디아미노페녹시)-4-트리플루오로메틸벤조에이트, 하기 화학식 (D-1) 내지 (D-5) 각각으로 표시되는 디아민 화합물 등의 방향족 디아민;

디아미노테트라페닐티오펜 등의 헤테로 원자를 갖는 방향족 디아민;

메타크실릴렌디아민, 1,3-프로판디아민, 테트라메틸렌디아민, 펜타메틸렌디아민, 헥사메틸렌디아민, 헵타메틸렌디아민, 옥타메틸렌디아민, 노나메틸렌디아민, 1,4-디아미노시클로헥산, 이소포론디아민, 테트라히드로디시클로펜타디에닐렌디아민, 헥사히드로-4,7-메타노인다닐렌디메틸렌디아민, 트리시클로[6.2.1.0^2,7]-운데실렌디메틸디아민, 4,4'-메틸렌비스(시클로헥실아민) 등의 지방족 디아민 및 지환식 디아민;

디아미노헥사메틸디실록산 등의 디아미노오르가노실록산 등을 들 수 있다.

이들 중에서 바람직한 것으로서, p-페닐렌디아민, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 1,5-디아미노나프탈렌, 2,7-디아미노플루오렌, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-(p-페닐렌이소프로필리덴)비스아닐린, 2,2-비스[4-(4-아미노페녹시)페닐]헥사플루오로프로판, 2,2-비스(4-아미노페닐)헥사플루오로프로판, 2,2-비스[4-(4-아미노-2-트리플루오로메틸페녹시)페닐]헥사플루오로프로판, 4,4'-디아미노-2,2'-비스(트리플루오로메틸)비페닐, 4,4'-비스[(4-아미노-2-트리플루오로메틸)페녹시]-옥타플루오로비페닐, 1-헥사데실옥시-2,4-디아미노벤젠, 1-옥타데실옥시-2,4-디아미노벤젠, 1-콜레스테릴옥시-2,4-디아미노벤젠, 1-콜레스타닐옥시-2,4-디아미노벤젠, 헥사데실옥시(3,5-디아미노벤조일), 옥타데실옥시(3,5-디아미노벤조일), 콜레스테릴옥시(3,5-디아미노벤조일), 콜레스타닐옥시(3,5-디아미노벤조일) 및 상기 화학식 (D-1) 내지 (D-5) 각각으로 표시되는 디아민 화합물을 들 수 있다.

이들 디아민 화합물은 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다.

폴리아믹산의 합성 반응에 사용되는 테트라카르복실산 이무수물과 디아민 화합물의 사용 비율은, 디아민 화합물에 포함되는 아미노기 1 당량에 대하여 테트라카르복실산 이무수물의 산 무수물기가 0.2 내지 2 당량이 되는 비율이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 0.3 내지 1.2 당량이 되는 비율이다.

폴리아믹산의 합성 반응은, 바람직하게는 유기 용매 중에서 바람직하게는 -20 내지 150 ℃, 보다 바람직하게는 0 내지 100 ℃의 온도 조건하에 바람직하게는 0.5 내지 24 시간, 보다 바람직하게는 2 내지 10 시간 동안 행해진다. 여기서, 유기 용매로서는 합성되는 폴리아믹산을 용해할 수 있는 것이면 특별히 제한은 없고, 예를 들면 N-메틸-2-피롤리돈, N,N-디메틸아세트아미드, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸이미다졸리디논, 디메틸술폭시드, γ-부티로락톤, 테트라메틸요소, 헥사메틸포스포르트리아미드 등의 비양성자계 극성 용매; m-크레졸, 크실레놀, 페놀, 할로겐화 페놀 등의 페놀계 용매를 들 수 있다. 유기 용매의 사용량(a)은, 테트라카르복실산 이무수물 및 디아민 화합물의 총량(b)이 반응 용액의 전량(a+b)에 대하여 바람직하게는 0.1 내지 50 중량％, 보다 바람직하게는 5 내지 30 중량％가 되는 양이다.

이상과 같이 하여, 폴리아믹산을 용해하여 이루어지는 반응 용액이 얻어진다. 이 반응 용액은 그대로 액정 배향제의 제조에 사용할 수도 있고, 반응 용액 중에 포함되는 폴리아믹산을 단리한 후 액정 배향제의 제조에 사용할 수도 있고, 또는 단리한 폴리아믹산을 정제한 후 액정 배향제의 제조에 사용할 수도 있다. 폴리아믹산을 탈수 폐환하여 폴리이미드로 하는 경우에는, 상기 반응 용액은 그대로 탈수 폐환 반응에 사용할 수도 있고, 반응 용액 중에 포함되는 폴리아믹산을 단리한 후 탈수 폐환 반응에 사용할 수도 있고, 또는 단리한 폴리아믹산을 정제한 후 탈수 폐환 반응에 사용할 수도 있다.

폴리아믹산의 단리는 상기 반응 용액을 대량의 빈용매 중에 부어 석출물을 얻고, 이 석출물을 감압하에 건조하는 방법, 또는 반응 용액 중의 유기 용매를 증발기로 감압 증류 제거하는 방법에 의해 행할 수 있다. 또한, 이 폴리아믹산을 다시 유기 용매에 용해하고, 이어서 빈용매로 석출시키는 방법, 또는 증발기로 감압 증류 제거하는 공정을 1회 또는 수회 행하는 방법에 의해 폴리아믹산을 정제할 수 있다.

[폴리이미드]

상기 폴리이미드는, 상기한 바와 같이 하여 얻어진 폴리아믹산이 갖는 아믹산 구조를 탈수 폐환하여 이미드화함으로써 제조할 수 있다. 이 때, 아믹산 구조를 전부 탈수 폐환하여 완전히 이미드화할 수도 있고, 또는 아믹산 구조 중의 일부만을 탈수 폐환하여 아믹산 구조와 이미드 구조가 병존하는 부분 이미드화물로 할 수도 있다. 본 발명에서의 폴리이미드의 이미드화율은 30 ％ 이상인 것이 바람직하고, 40 내지 95 ％인 것이 보다 바람직하다.

폴리아믹산의 탈수 폐환은 (i) 폴리아믹산을 가열하는 방법에 의해, 또는 (ii) 폴리아믹산을 유기 용매에 용해하고, 이 용액 중에 탈수제 및 탈수 폐환 촉매를 첨가하여 필요에 따라 가열하는 방법에 의해 행해진다.

상기 (i)의 폴리아믹산을 가열하는 방법에서의 반응 온도는 바람직하게는 50 내지 200 ℃이고, 보다 바람직하게는 60 내지 170 ℃이다. 반응 온도가 50 ℃ 미만이면 탈수 폐환 반응이 충분히 진행되지 않고, 반응 온도가 200 ℃를 초과하면 얻어지는 이미드화 중합체의 분자량이 저하되는 경우가 있다. 폴리아믹산을 가열하는 방법에서의 반응 시간은 바람직하게는 0.5 내지 48 시간이고, 보다 바람직하게는 2 내지 20 시간이다.

한편, 상기 (ii)의 폴리아믹산의 용액 중에 탈수제 및 탈수 폐환 촉매를 첨가하는 방법에서 탈수제로서는, 예를 들면 아세트산 무수물, 프로피온산 무수물, 트리플루오로아세트산 무수물 등의 산 무수물을 사용할 수 있다. 탈수제의 사용 비율로서는, 폴리아믹산 구조 단위의 1 몰에 대하여 0.01 내지 20 몰로 하는 것이 바람직하다. 또한, 탈수 폐환 촉매로서는, 예를 들면 피리딘, 콜리딘, 루티딘, 트리에틸아민 등의 3급 아민을 사용할 수 있다. 그러나, 이것으로 한정되는 것은 아니다. 탈수 폐환 촉매의 사용 비율로서는, 사용하는 탈수제 1 몰에 대하여 0.01 내지 10 몰로 하는 것이 바람직하다. 탈수 폐환 반응에 사용되는 유기 용매로서는, 폴리아믹산의 합성에 사용되는 것으로서 예시한 유기 용매를 들 수 있다. 탈수 폐환 반응의 반응 온도는 바람직하게는 0 내지 180 ℃, 보다 바람직하게는 10 내지 150 ℃이고, 반응 시간은 바람직하게는 0.5 내지 20 시간이고, 보다 바람직하게는 1 내지 8 시간이다.

상기 방법 (i)에서 얻어지는 폴리이미드는 이것을 그대로 액정 배향제의 제조에 사용할 수도 있고, 이것을 정제한 후 액정 배향제의 제조에 사용할 수도 있다. 한편, 상기 방법 (ii)에서는, 폴리이미드를 함유하는 반응 용액이 얻어진다. 이 반응 용액은 이것을 그대로 액정 배향제의 제조에 사용할 수도 있고, 반응 용액으로부터 탈수제 및 탈수 폐환 촉매를 제거한 후 액정 배향제의 제조에 사용할 수도 있고, 폴리이미드를 단리한 후 액정 배향제의 제조에 사용할 수도 있고, 또는 단리한 폴리이미드를 정제한 후 액정 배향제의 제조에 사용할 수도 있다. 반응 용액으로부터 탈수제 및 탈수 폐환 촉매를 제거하기 위해서는, 예를 들면 용매 치환 등의 방법을 적용할 수 있다. 폴리이미드의 단리, 정제는 폴리아믹산의 단리, 정제 방법으로서 상기한 것과 동일한 조작을 행함으로써 행할 수 있다.

[다른 폴리오르가노실록산]

본 발명에서의 다른 폴리오르가노실록산은, 상기 화학식 4로 표시되는 폴리오르가노실록산, 그의 가수분해물 및 가수분해물의 축합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상이다. 다른 폴리오르가노실록산에 대하여 GPC로 측정한 폴리스티렌 환산의 중량 평균 분자량은 500 내지 100,000인 것이 바람직하고, 500 내지 10,000인 것이 보다 바람직하다.

이러한 다른 폴리오르가노실록산은, 예를 들면 알콕시 실란 화합물 및 할로겐화 실란 화합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 실란 화합물(이하, "원료 실란 화합물"이라고도 함)을 바람직하게는 적당한 유기 용매 중에서 물 및 촉매의 존재하에 가수분해 또는 가수분해ㆍ축합함으로써 합성할 수 있다.

여기서 사용할 수 있는 원료 실란 화합물로서는, 예를 들면 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 테트라-n-프로폭시실란, 테트라-iso-프로폭시실란, 테트라-n-부톡시실란, 테트라-sec-부톡시실란, 테트라-tert-부톡시실란, 테트라클로로실란 등;

메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 메틸트리-n-프로폭시실란, 메틸트리-iso-프로폭시실란, 메틸트리-n-부톡시실란, 메틸트리-sec-부톡시실란, 메틸트리-tert-부톡시실란, 메틸트리페녹시실란, 메틸트리클로로실란, 에틸트리메톡시실란, 에틸트리에톡시실란, 에틸트리-n-프로폭시실란, 에틸트리-iso-프로폭시실란, 에틸트리-n-부톡시실란, 에틸트리-sec-부톡시실란, 에틸트리-tert-부톡시실란, 에틸트리클로로실란, 페닐트리메톡시실란, 페닐트리에톡시실란, 페닐트리클로로실란 등;

디메틸디메톡시실란, 디메틸디에톡시실란, 디메틸디클로로실란 등;

트리메틸메톡시실란, 트리메틸에톡시실란, 트리메틸클로로실란 등을 들 수 있다.

이들 중에서 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 페닐트리메톡시실란, 페닐트리에톡시실란, 디메틸디메톡시실란, 디메틸디에톡시실란, 트리메틸메톡시실란 또는 트리메틸에톡시실란이 바람직하다.

다른 폴리오르가노실록산을 합성할 때 임의적으로 사용할 수 있는 유기 용매로서는, 예를 들면 알코올 화합물, 케톤 화합물, 아미드 화합물 또는 에스테르 화합물 또는 기타 비양성자성 화합물을 들 수 있다. 이들은 단독으로 또는 2종 이상조합하여 사용할 수 있다.

상기 알코올 화합물로서는, 예를 들면 메탄올, 에탄올, n-프로판올, i-프로판올, n-부탄올, i-부탄올, sec-부탄올, t-부탄올, n-펜탄올, i-펜탄올, 2-메틸부탄올, sec-펜탄올, t-펜탄올, 3-메톡시부탄올, n-헥산올, 2-메틸펜탄올, sec-헥산올, 2-에틸부탄올, sec-헵탄올, 헵탄올-3, n-옥탄올, 2-에틸헥산올, sec-옥탄올, n-노닐 알코올, 2,6-디메틸헵탄올-4, n-데칸올, sec-운데실 알코올, 트리메틸노닐 알코올, sec-테트라데실 알코올, sec-헵타데실 알코올, 페놀, 시클로헥산올, 메틸시클로헥산올, 3,3,5-트리메틸시클로헥산올, 벤질 알코올, 디아세톤 알코올 등의 모노 알코올 화합물;

에틸렌글리콜, 1,2-프로필렌글리콜, 1,3-부틸렌글리콜, 펜탄디올-2,4, 2-메틸펜탄디올-2,4, 헥산디올-2,5, 헵탄디올-2,4, 2-에틸헥산디올-1,3, 디에틸렌글리콜, 디프로필렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 트리프로필렌글리콜 등의 다가 알코올 화합물;

에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 에틸렌글리콜모노헥실에테르, 에틸렌글리콜모노페닐에테르, 에틸렌글리콜모노-2-에틸부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노프로필에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노헥실에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노프로필에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노프로필에테르 등의 다가 알코올 화합물의 부분 에테르 등을 들 수 있다. 이들 알코올 화합물은 1종으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수도 있다.

상기 케톤 화합물로서는, 예를 들면 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸-n-프로필케톤, 메틸-n-부틸케톤, 디에틸케톤, 메틸-i-부틸케톤, 메틸-n-펜틸케톤, 에틸-n-부틸케톤, 메틸-n-헥실케톤, 디-i-부틸케톤, 트리메틸노나논, 시클로헥사논, 2-헥사논, 메틸시클로헥사논, 2,4-펜탄디온, 아세토닐아세톤, 아세토페논, 펜촌 등의 모노케톤 화합물;

아세틸아세톤, 2,4-헥산디온, 2,4-헵탄디온, 3,5-헵탄디온, 2,4-옥탄디온, 3,5-옥탄디온, 2,4-노난디온, 3,5-노난디온, 5-메틸-2,4-헥산디온, 2,2,6,6-테트라메틸-3,5-헵탄디온, 1,1,1,5,5,5-헥사플루오로-2,4-헵탄디온 등의 β-디케톤 화합물 등을 각각 들 수 있다. 이들 케톤 화합물은 1종으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수도 있다.

상기 아미드 화합물로서는, 예를 들면 포름아미드, N-메틸포름아미드, N,N-디메틸포름아미드, N-에틸포름아미드, N,N-디에틸포름아미드, 아세트아미드, N-메틸아세트아미드, N,N-디메틸아세트아미드, N-에틸아세트아미드, N,N-디에틸아세트아미드, N-메틸프로피온아미드, N-메틸피롤리돈, N-포르밀모르폴린, N-포르밀피페리딘, N-포르밀피롤리딘, N-아세틸모르폴린, N-아세틸피페리딘, N-아세틸피롤리딘 등을 들 수 있다. 이들 아미드 화합물은 1종으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수도 있다.

상기 에스테르 화합물로서는, 예를 들면 디에틸카르보네이트, 탄산에틸렌, 탄산프로필렌, 탄산디에틸, 아세트산메틸, 아세트산에틸, γ-부티로락톤, γ-발레로락톤, 아세트산 n-프로필, 아세트산 i-프로필, 아세트산 n-부틸, 아세트산 i-부틸, 아세트산 sec-부틸, 아세트산 n-펜틸, 아세트산 sec-펜틸, 아세트산 3-메톡시부틸, 아세트산메틸펜틸, 아세트산 2-에틸부틸, 아세트산 2-에틸헥실, 아세트산벤질, 아세트산시클로헥실, 아세트산메틸시클로헥실, 아세트산 n-노닐, 아세토아세트산메틸, 아세토아세트산에틸, 아세트산에틸렌글리콜모노메틸에테르, 아세트산에틸렌글리콜모노에틸에테르, 아세트산디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 아세트산디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 아세트산디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 아세트산프로필렌글리콜모노메틸에테르, 아세트산프로필렌글리콜모노에틸에테르, 아세트산프로필렌글리콜모노프로필에테르, 아세트산프로필렌글리콜모노부틸에테르, 아세트산디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 아세트산디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디아세 트산글리콜, 아세트산메톡시트리글리콜, 프로피온산에틸, 프로피온산 n-부틸, 프로피온산 i-아밀, 옥살산디에틸, 옥살산디-n-부틸, 락트산메틸, 락트산에틸, 락트산 n-부틸, 락트산 n-아밀, 말론산디에틸, 프탈산 디메틸, 프탈산디에틸 등을 들 수 있다. 이들 에스테르 화합물은 1종으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수도 있다.

상기 기타 비양성자성 화합물로서는, 예를 들면 아세토니트릴, 디메틸술폭시드, N,N,N',N'-테트라에틸술파미드, 헥사메틸인산트리아미드, N-메틸모르폴론, N-메틸피롤, N-에틸피롤, N-메틸-Δ3-피롤린, N-메틸피페리딘, N-에틸피페리딘, N,N-디메틸피페라진, N-메틸이미다졸, N-메틸-4-피페리돈, N-메틸-2-피페리돈, N-메틸-2-피롤리돈, 1,3-디메틸-2-이미다졸리디논, 1,3-디메틸테트라히드로-2(1H)-피리미디논 등을 들 수 있다.

이들 용매 중, 다가 알코올 화합물 또는 다가 알코올 화합물의 부분 에테르 또는 에스테르 화합물이 특히 바람직하다.

다른 폴리오르가노실록산의 합성시에 사용하는 물의 양으로서는, 원료 실란 화합물이 갖는 알콕실기 및 할로겐 원자의 합계 1 몰에 대하여 바람직하게는 0.01 내지 100 몰이고, 보다 바람직하게는 0.1 내지 30 몰이고, 1 내지 1.5 몰인 것이 더욱 바람직하다.

다른 폴리오르가노실록산의 합성시에 사용할 수 있는 촉매로서는, 예를 들면 금속 킬레이트 화합물, 유기 산, 무기 산, 유기 염기, 암모니아, 알칼리 금속 화합물, 알칼리 토류 금속 화합물 등을 들 수 있다.

상기 금속 킬레이트 화합물로서는, 예를 들면 트리에톡시ㆍ모노(아세틸아세토네이트)티탄, 트리-n-프로폭시ㆍ모노(아세틸아세토네이트)티탄, 트리-i-프로폭시ㆍ모노(아세틸아세토네이트)티탄, 트리-n-부톡시ㆍ모노(아세틸아세토네이트)티탄, 트리-sec-부톡시ㆍ모노(아세틸아세토네이트)티탄, 트리-t-부톡시ㆍ모노(아세틸아세토네이트)티탄, 디에톡시ㆍ비스(아세틸아세토네이트)티탄, 디-n-프로폭시ㆍ비스(아세틸아세토네이트)티탄, 디-i-프로폭시ㆍ비스(아세틸아세토네이트)티탄, 디-n-부톡시ㆍ비스(아세틸아세토네이트)티탄, 디-sec-부톡시ㆍ비스(아세틸아세토네이트)티탄, 디-t-부톡시ㆍ비스(아세틸아세토네이트)티탄, 모노에톡시ㆍ트리스(아세틸아세토네이트)티탄, 모노-n-프로폭시ㆍ트리스(아세틸아세토네이트)티탄, 모노-i-프로폭시ㆍ트리스(아세틸아세토네이트)티탄, 모노-n-부톡시ㆍ트리스(아세틸아세토네이트)티탄, 모노-sec-부톡시ㆍ트리스(아세틸아세토네이트)티탄, 모노-t-부톡시ㆍ트리스(아세틸아세토네이트)티탄, 테트라키스(아세틸아세토네이트)티탄, 트리에톡시ㆍ모노(에틸아세토아세테이트)티탄, 트리-n-프로폭시ㆍ모노(에틸아세토아세테이트)티탄, 트리-i-프로폭시ㆍ모노(에틸아세토아세테이트)티탄, 트리-n-부톡시ㆍ모노(에틸아세토아세테이트)티탄, 트리-sec-부톡시ㆍ모노(에틸아세토아세테이트)티탄, 트리-t-부톡시ㆍ모노(에틸아세토아세테이트)티탄, 디에톡시ㆍ비스(에틸아세토아세테이트)티탄, 디-n-프로폭시ㆍ비스(에틸아세토아세테이트)티탄, 디-i-프로폭시ㆍ비스(에틸아세토아세테이트)티탄, 디-n-부톡시ㆍ비스(에틸아세토아세테이트)티탄, 디-sec-부톡시ㆍ비스(에틸아세토아세테이트)티탄, 디-t-부톡시ㆍ비스(에틸아세토아세테이트)티탄, 모노에톡시ㆍ트리스(에틸아세토아세테이트)티탄, 모노-n-프로폭시ㆍ 트리스(에틸아세토아세테이트)티탄, 모노-i-프로폭시ㆍ트리스(에틸아세토아세테이트)티탄, 모노-n-부톡시ㆍ트리스(에틸아세토아세테이트)티탄, 모노-sec-부톡시ㆍ트리스(에틸아세토아세테이트)티탄, 모노-t-부톡시ㆍ트리스(에틸아세토아세테이트)티탄, 테트라키스(에틸아세토아세테이트)티탄, 모노(아세틸아세토네이트)트리스(에틸아세토아세테이트)티탄, 비스(아세틸아세토네이트)비스(에틸아세토아세테이트)티탄, 트리스(아세틸아세토네이트)모노(에틸아세토아세테이트)티탄 등의 티탄 킬레이트 화합물;

트리에톡시ㆍ모노(아세틸아세토네이트)지르코늄, 트리-n-프로폭시ㆍ모노(아세틸아세토네이트)지르코늄, 트리-i-프로폭시ㆍ모노(아세틸아세토네이트)지르코늄, 트리-n-부톡시ㆍ모노(아세틸아세토네이트)지르코늄, 트리-sec-부톡시ㆍ모노(아세틸아세토네이트)지르코늄, 트리-t-부톡시ㆍ모노(아세틸아세토네이트)지르코늄, 디에톡시ㆍ비스(아세틸아세토네이트)지르코늄, 디-n-프로폭시ㆍ비스(아세틸아세토네이트)지르코늄, 디-i-프로폭시ㆍ비스(아세틸아세토네이트)지르코늄, 디-n-부톡시ㆍ비스(아세틸아세토네이트)지르코늄, 디-sec-부톡시ㆍ비스(아세틸아세토네이트)지르코늄, 디-t-부톡시ㆍ비스(아세틸아세토네이트)지르코늄, 모노에톡시ㆍ트리스(아세틸아세토네이트)지르코늄, 모노-n-프로폭시ㆍ트리스(아세틸아세토네이트)지르코늄, 모노-i-프로폭시ㆍ트리스(아세틸아세토네이트)지르코늄, 모노-n-부톡시ㆍ트리스(아세틸아세토네이트)지르코늄, 모노-sec-부톡시ㆍ트리스(아세틸아세토네이트)지르코늄, 모노-t-부톡시ㆍ트리스(아세틸아세토네이트)지르코늄, 테트라키스(아세틸아세토네이트)지르코늄, 트리에톡시ㆍ모노(에틸아세토아세테이트)지르코늄, 트리-n-프 로폭시ㆍ모노(에틸아세토아세테이트)지르코늄, 트리-i-프로폭시ㆍ모노(에틸아세토아세테이트)지르코늄, 트리-n-부톡시ㆍ모노(에틸아세토아세테이트)지르코늄, 트리-sec-부톡시ㆍ모노(에틸아세토아세테이트)지르코늄, 트리-t-부톡시ㆍ모노(에틸아세토아세테이트)지르코늄, 디에톡시ㆍ비스(에틸아세토아세테이트)지르코늄, 디-n-프로폭시ㆍ비스(에틸아세토아세테이트)지르코늄, 디-i-프로폭시ㆍ비스(에틸아세토아세테이트)지르코늄, 디-n-부톡시ㆍ비스(에틸아세토아세테이트)지르코늄, 디-sec-부톡시ㆍ비스(에틸아세토아세테이트)지르코늄, 디-t-부톡시ㆍ비스(에틸아세토아세테이트)지르코늄, 모노에톡시ㆍ트리스(에틸아세토아세테이트)지르코늄, 모노-n-프로폭시ㆍ트리스(에틸아세토아세테이트)지르코늄, 모노-i-프로폭시ㆍ트리스(에틸아세토아세테이트)지르코늄, 모노-n-부톡시ㆍ트리스(에틸아세토아세테이트)지르코늄, 모노-sec-부톡시ㆍ트리스(에틸아세토아세테이트)지르코늄, 모노-t-부톡시ㆍ트리스(에틸아세토아세테이트)지르코늄, 테트라키스(에틸아세토아세테이트)지르코늄, 모노(아세틸아세토네이트)트리스(에틸아세토아세테이트)지르코늄, 비스(아세틸아세토네이트)비스(에틸아세토아세테이트)지르코늄, 트리스(아세틸아세토네이트)모노(에틸아세토아세테이트)지르코늄 등의 지르코늄 킬레이트 화합물;

트리스(아세틸아세토네이트)알루미늄, 트리스(에틸아세토아세테이트)알루미늄 등의 알루미늄 킬레이트 화합물 등을 들 수 있다.

상기 유기 산으로서는, 예를 들면 아세트산, 프로피온산, 부탄산, 펜탄산, 헥산산, 헵탄산, 옥탄산, 노난산, 데칸산, 옥살산, 말레산, 메틸말론산, 아디프산, 세박산, 갈산, 부티르산, 멜리트산, 아라키돈산, 시킴산, 2-에틸헥산산, 올레산, 스테아르산, 리놀레산, 리놀렌산, 살리실산, 벤조산, p-아미노벤조산, p-톨루엔술폰산, 벤젠술폰산, 모노클로로아세트산, 디클로로아세트산, 트리클로로아세트산, 트리플루오로아세트산, 포름산, 말론산, 술폰산, 프탈산, 푸마르산, 시트르산, 타르타르산 등을 들 수 있다.

상기 무기 산으로서는, 예를 들면 염산, 질산, 황산, 불산, 인산 등을 들 수 있다.

상기 유기 염기로서는, 예를 들면 피리딘, 피롤, 피페라진, 피롤리딘, 피페리딘, 피콜린, 트리메틸아민, 트리에틸아민, 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 디메틸모노에탄올아민, 모노메틸디에탄올아민, 트리에탄올아민, 디아자비시클로옥탄, 디아자비시클로노난, 디아자비시클로운데센, 테트라메틸암모늄히드록시드 등을 들 수 있다.

상기 알칼리 금속 화합물로서는, 예를 들면 수산화나트륨, 수산화칼륨 등을; 상기 알칼리 토류 금속 화합물로서는, 예를 들면 수산화바륨, 수산화칼슘 등을 각각 들 수 있다.

이들 촉매는 1종을 또는 2종 이상을 함께 사용할 수 있다.

이들 촉매 중, 금속 킬레이트 화합물, 유기 산 또는 무기 산이 바람직하고, 보다 바람직하게는 티탄 킬레이트 화합물 또는 유기 산이다.

촉매의 사용 비율은 원료 실란 화합물 100 중량부에 대하여 바람직하게는 0.001 내지 10 중량부이고, 보다 바람직하게는 0.001 내지 1 중량부이다.

다른 폴리오르가노실록산의 합성시에 첨가되는 물은, 원료인 실란 화합물 중 또는 실란 화합물을 유기 용매에 용해한 용액 중에 단속적 또는 연속적으로 첨가할 수 있다. 촉매는 원료인 실란 화합물 중 또는 실란 화합물을 유기 용매에 용해한 용액 중에 미리 첨가할 수도 있고, 또는 첨가되는 수중에 용해 또는 분산시킬 수도 있다.

다른 폴리오르가노실록산의 합성시의 반응 온도로서는 바람직하게는 0 내지 100 ℃이고, 보다 바람직하게는 15 내지 80 ℃이다. 반응 시간은 바람직하게는 0.5 내지 24 시간이고, 보다 바람직하게는 1 내지 8 시간이다.

[다른 중합체의 사용 비율]

본 발명의 액정 배향제가 상술한 감방사선성 폴리오르가노실록산과 함께 다른 중합체를 함유하는 것인 경우, 다른 중합체의 사용 비율로서는 감방사선성 폴리오르가노실록산 100 중량부에 대하여 10,000 중량부 이하인 것이 바람직하다. 다른 중합체의 보다 바람직한 사용 비율은 다른 중합체의 종류에 따라 상이하다.

본 발명의 액정 배향제가 감방사선성 폴리오르가노실록산, 및 폴리아믹산 및 폴리이미드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 중합체를 함유하는 것인 경우의 양자의 보다 바람직한 사용 비율은, 감방사선성 폴리오르가노실록산 100 중량부에 대한 폴리아믹산 및 폴리이미드의 합계량으로서 100 내지 5,000 중량부이고, 이 값이 200 내지 2,000 중량부인 것이 바람직하다.

한편, 본 발명의 액정 배향제가 감방사선성 폴리오르가노실록산 및 다른 폴리오르가노실록산을 함유하는 것인 경우의 양자의 보다 바람직한 사용 비율은, 감방사선성 폴리오르가노실록산 100 중량부에 대한 다른 폴리오르가노실록산의 양으 로서 100 내지 2,000 중량부이다.

본 발명의 액정 배향제가 감방사선성 폴리오르가노실록산과 함께 다른 중합체를 함유하는 것인 경우, 다른 중합체의 종류로서는 폴리아믹산 및 폴리이미드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 중합체, 또는 다른 폴리오르가노실록산인 것이 바람직하다.

[경화제 및 경화 촉매 및 경화 촉진제]

상기 경화제 및 경화 촉매는, 감방사선성 폴리오르가노실록산의 가교 반응을 보다 강고하게 하는 목적으로 본 발명의 액정 배향제에 함유될 수 있으며, 상기 경화 촉진제는 경화제가 담당하는 경화 반응을 촉진시키는 목적으로 본 발명의 액정 배향제에 함유될 수 있다.

상기 경화제로서는, 에폭시기를 갖는 경화성 화합물 또는 에폭시기를 갖는 화합물을 함유하는 경화성 조성물의 경화용으로서 일반적으로 사용되고 있는 경화제를 사용할 수 있으며, 예를 들면 다가 아민, 다가 카르복실산 무수물, 다가 카르복실산 등을 예시할 수 있다.

상기 다가 카르복실산 무수물로서는, 예를 들면 시클로헥산트리카르복실산의 무수물 및 기타 다가 카르복실산 무수물을 들 수 있다.

시클로헥산트리카르복실산 무수물의 구체예로서는, 예를 들면 시클로헥산-1,3,4-트리카르복실산-3,4-무수물, 시클로헥산-1,3,5-트리카르복실산-3,5-무수물, 시클로헥산-1,2,3-트리카르복실산-2,3-산 무수물 등을 들 수 있고, 기타 다가 카르복실산 무수물로서는, 예를 들면 4-메틸테트라히드로프탈산 무수물, 메틸나딕산 무 수물, 도데세닐숙신산 무수물, 숙신산 무수물, 말레산 무수물, 프탈산 무수물, 트리멜리트산 무수물, 하기 화학식 6으로 표시되는 화합물 및 폴리아믹산의 합성에 일반적으로 사용되는 테트라카르복실산 이무수물 이외에, α-테르피넨, 알로오시멘 등의 공액 이중 결합을 갖는 지환식 화합물과 말레산 무수물의 딜스ㆍ알더 반응 생성물 및 이들의 수소 첨가물 등을 들 수 있다.

(화학식 6 중, p는 1 내지 20의 정수임)

상기 경화 촉매로서는, 예를 들면 6불화안티몬 화합물, 6불화인 화합물, 알루미늄트리스아세틸아세토네이트 등을 사용할 수 있다. 이들 촉매는 가열에 의해 에폭시기의 양이온 중합을 촉매할 수 있다.

상기 경화 촉진제로서는, 예를 들면 이미다졸 화합물;

4급 인 화합물;

4급 아민 화합물;

1,8-디아자비시클로[5.4.0]운데센-7이나 그의 유기 산염와 같은 디아자비시클로알켄;

옥틸산아연, 옥틸산주석, 알루미늄아세틸아세톤 착체와 같은 유기 금속 화합 물;

3불화붕소, 붕산트리페닐과 같은 붕소 화합물; 염화아연, 염화 제2주석과 같은 금속 할로겐 화합물;

디시안디아미드, 아민과 에폭시 수지의 부가물과 같은 아민 부가형 촉진제 등의 고융점 분산형 잠재성 경화 촉진제;

4급 포스포늄염 등의 표면을 중합체로 피복한 마이크로 캡슐형 잠재성 경화 촉진제;

아민염형 잠재성 경화 촉진제;

루이스산염, 브뢴스테드산염과 같은 고온 해리형의 열 양이온 중합형 잠재성 경화 촉진제 등을 들 수 있다.

본 발명에서의 경화제의 사용 비율은, 감방사선성 폴리오르가노실록산 100 중량부에 대하여 바람직하게는 100 중량부 이하이다. 경화 촉매의 사용 비율은, 감방사선성 폴리오르가노실록산 100 중량부에 대하여 바람직하게는 2 중량부 이하이다. 경화 촉진제 사용 비율은, 감방사선성 폴리오르가노실록산 100 중량부에 대하여 바람직하게는 10 중량부 이하이다.

[에폭시 화합물]

상기 에폭시 화합물은, 형성되는 액정 배향막의 기판 표면에 대한 접착성을보다 향상시키는 관점에서 본 발명의 액정 배향제에 함유될 수 있다.

이러한 에폭시 화합물로서는, 예를 들면 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 폴리에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 트리프로필렌 글리콜디글리시딜에테르, 폴리프로필렌글리콜디글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 글리세린디글리시딜에테르, 2,2-디브로모네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 1,3,5,6-테트라글리시딜-2,4-헥산디올, N,N,N',N'-테트라글리시딜-m-크실렌디아민, 1,3-비스(N,N-디글리시딜아미노메틸)시클로헥산, N,N,N',N'-테트라글리시딜-4,4'-디아미노디페닐메탄, N,N-디글리시딜-벤질아민, N,N-디글리시딜-아미노메틸시클로헥산 등을 바람직한 것으로서 들 수 있다.

본 발명의 액정 배향제가 에폭시 화합물을 함유하는 경우, 그 함유 비율로서는 상기한 감방사선성 폴리오르가노실록산과 임의적으로 사용되는 다른 중합체의 합계 100 중량부에 대하여 바람직하게는 40 중량부 이하, 보다 바람직하게는 0.1 내지 30 중량부이다.

또한, 본 발명의 액정 배향제가 에폭시 화합물을 함유하는 경우, 그 가교 반응을 효율적으로 발생시키는 목적으로 1-벤질-2-메틸이미다졸 등의 염기 촉매를 병용할 수도 있다. 이 경우의 염기 촉매의 사용 비율은 에폭시 화합물의 100 중량부에 대하여 바람직하게는 10 중량부 이하이고, 보다 바람직하게는 0 내지 2 중량부이다.

[관능성 실란 화합물]

상기 관능성 실란 화합물은, 얻어지는 액정 배향막의 기판과의 접착성을 향상시키는 목적으로 사용할 수 있다. 관능성 실란 화합물로서는, 예를 들면 3-아미노프로필트리메톡시실란, 3-아미노프로필트리에톡시실란, 2-아미노프로필트리메톡 시실란, 2-아미노프로필트리에톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란, 3-우레이도프로필트리메톡시실란, 3-우레이도프로필트리에톡시실란, N-에톡시카르보닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-에톡시카르보닐-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-트리에톡시실릴프로필트리에틸렌트리아민, N-트리메톡시실릴프로필트리에틸렌트리아민, 10-트리메톡시실릴-1,4,7-트리아자데칸, 10-트리에톡시실릴-1,4,7-트리아자데칸, 9-트리메톡시실릴-3,6-디아자노닐아세테이트, 9-트리에톡시실릴-3,6-디아자노닐아세테이트, N-벤질-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-벤질-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-페닐-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-페닐-3-아미노프로필트리에톡시실란, N-비스(옥시에틸렌)-3-아미노프로필트리메톡시실란, N-비스(옥시에틸렌)-3-아미노프로필트리에톡시실란, 3-글리시딜옥시프로필트리메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란 등을 들 수 있으며, 특허 문헌 23(일본 특허 공개 (소)63-291922호 공보)에 기재되어 있는 바와 같은 테트라카르복실산 이무수물과 아미노기를 갖는 실란 화합물의 반응물 등을 들 수 있다.

본 발명의 액정 배향제가 관능성 실란 화합물을 함유하는 경우, 그 함유 비율로서는 상기한 감방사선성 폴리오르가노실록산과 임의적으로 사용되는 다른 중합 체의 합계 100 중량부에 대하여 바람직하게는 50 중량부 이하이고, 보다 바람직하게는 20 중량부 이하이다.

[계면활성제]

상기 계면활성제로서는, 예를 들면 비이온 계면활성제, 음이온 계면활성제, 양이온 계면활성제, 양쪽성 계면활성제, 실리콘 계면활성제, 폴리알킬렌옥시드 계면활성제, 불소 함유 계면활성제 등을 들 수 있다.

본 발명의 액정 배향제가 계면활성제를 함유하는 경우, 그 함유 비율로서는 액정 배향제의 전체 100 중량부에 대하여 바람직하게는 10 중량부 이하이고, 보다 바람직하게는 1 중량부 이하이다.

[광 증감제]

상기 광 증감제로서는, 예를 들면 듀렌, 벤조니트릴, 부티로페논, 프로피오페논, 아세토페논, 크산톤, 4-메톡시아세토페논, 3-메톡시아세토페논, 안트론, 벤즈알데히드, 4,4'-디메톡시벤조페논, 벤조페논, 플루오렌, 트리페닐렌, 비페닐, 티오크산톤, 안트라퀴논, 4,4'-비스(디에틸아미노)벤조페논, 페난트렌, 나프탈렌, 4-페닐아세토페논, 4-페닐벤조페논, 2-요오도나프탈렌, 아세나프텐, 2-나프토니트릴, 1-요오도나프탈렌, 1-나프토니트릴, 크리센, 코로넨, 벤질, 플루오란텐, 피렌, 1,2-벤조안트라센, 아크리딘, 안트라센, 테트라센, 2-메톡시나프탈렌, 1,4-디시아노나프탈렌, 9-시아노안트라센, 9,10-디시아노안트라센, 2,6,9,10-테트라시아노안트라센 등을 들 수 있다.

본 발명의 액정 배향제가 광 증감제를 함유하는 경우, 그 함유 비율로서는 감방사선성 폴리오르가노실록산의 100 중량부에 대하여 바람직하게는 20 중량부 이하이고, 보다 바람직하게는 10 중량부 이하이다.

<액정 배향제>

본 발명의 액정 배향제는 상술한 바와 같이 감방사선성 폴리오르가노실록산 을 필수 성분으로서 함유하고, 그 이외에 필요에 따라 다른 성분을 함유하는 것이지만, 바람직하게는 각 성분이 유기 용매에 용해된 용액상의 조성물로서 제조된다.

본 발명의 액정 배향제를 제조하기 위해 사용할 수 있는 유기 용매로서는, 감방사선성 폴리오르가노실록산 및 임의적으로 사용되는 다른 성분을 용해하고, 이들과 반응하지 않는 것이 바람직하다.

본 발명의 액정 배향제에 바람직하게 사용할 수 있는 유기 용매는, 임의적으로 첨가되는 다른 중합체의 종류에 따라 상이하다.

본 발명의 액정 배향제가 감방사선성 폴리오르가노실록산, 및 폴리아믹산 및 폴리이미드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 중합체를 함유하는 것인 경우의 바람직한 유기 용제로서는, 폴리아믹산의 합성에 사용되는 것으로서 상기 예시한 유기 용매를 들 수 있다. 이들 유기 용매는 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.

한편, 본 발명의 액정 배향제가 중합체로서 감방사선성 폴리오르가노실록산만을 함유하는 것인 경우, 또는 감방사선성 폴리오르가노실록산 및 다른 폴리오르가노실록산을 함유하는 것인 경우의 바람직한 유기 용제로서는, 예를 들면 1-에톡시-2-프로판올, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노프로필에테르, 프로필렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노아세테이트, 디프로필렌글리콜메틸에테르, 디프로필렌글리콜에틸에테르, 디프로필렌글리콜프로필에테르, 디프로필렌글리콜디메틸에테르, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노프로필에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르(부틸셀로솔브), 에틸렌글리콜모노아밀에테르, 에틸렌글리콜모노헥실에테르, 디에틸렌글리콜, 메틸셀로솔브아세테이트, 에틸셀로솔브아세테이트, 프로필셀로솔브아세테이트, 부틸셀로솔브아세테이트, 메틸카르비톨, 에틸카르비톨, 프로필카르비톨, 부틸카르비톨, 아세트산 n-프로필, 아세트산 i-프로필, 아세트산 n-부틸, 아세트산 i-부틸, 아세트산 sec-부틸, 아세트산 n-펜틸, 아세트산 sec-펜틸, 아세트산 3-메톡시부틸, 아세트산메틸펜틸, 아세트산 2-에틸부틸, 아세트산 2-에틸헥실, 아세트산벤질, 아세트산 n-헥실, 아세트산시클로헥실, 아세트산옥틸, 아세트산아밀, 아세트산이소아밀 등을 들 수 있다. 이 중에서 바람직하게는 아세트산 n-프로필, 아세트산 i-프로필, 아세트산 n-부틸, 아세트산 i-부틸, 아세트산 sec-부틸, 아세트산 n-펜틸, 아세트산 sec-펜틸 등을 들 수 있다.

본 발명의 액정 배향제의 제조에 사용되는 바람직한 용매는, 다른 중합체의 사용 유무 및 그 종류에 따라 상기한 유기 용매 중 1종 또는 2종 이상을 조합하여 얻어지는 것이며, 하기의 바람직한 고형분 농도에 있어서 액정 배향제에 함유되는 각 성분이 석출되지 않고, 액정 배향제의 표면 장력이 25 내지 40 mN/m의 범위가 되는 것이다.

본 발명의 액정 배향제의 고형분 농도, 즉 액정 배향제 중의 용매 이외의 전체 성분의 중량이 액정 배향제의 전체 중량에서 차지하는 비율은 점성, 휘발성 등을 고려하여 선택되지만, 바람직하게는 1 내지 10 중량％의 범위이다. 본 발명의 액정 배향제는 기판 표면에 도포되어 액정 배향막이 되는 도막을 형성하지만, 고형분 농도가 1 중량％ 미만인 경우에는, 이 도막의 막 두께가 지나치게 작아져 양호 한 액정 배향막을 얻기 어려운 경우가 있다. 한편, 고형분 농도가 10 중량％를 초과하는 경우에는, 도막의 막 두께가 지나치게 커져 양호한 액정 배향막을 얻기 어렵고, 액정 배향제의 점성이 증대되어 도포 특성이 부족한 경우가 있다. 특히 바람직한 고형분 농도의 범위는, 기판에 액정 배향제를 도포할 때 이용하는 방법에 따라 상이하다. 예를 들면 스피너법에 의한 경우에는 1.5 내지 4.5 중량％의 범위가 특히 바람직하다. 인쇄법에 의한 경우에는 고형분 농도를 3 내지 9 중량％의 범위로 하고, 그에 따라 용액 점도를 12 내지 50 mPaㆍs의 범위로 하는 것이 특히 바람직하다. 잉크젯법에 의한 경우에는 고형분 농도를 1 내지 5 중량％의 범위로 하고, 그에 따라 용액 점도를 3 내지 15 mPaㆍs의 범위로 하는 것이 특히 바람직하다.

본 발명의 액정 배향제를 제조할 때의 온도는 바람직하게는 0 내지 200 ℃, 보다 바람직하게는 10 내지 60 ℃이다.

<액정 배향막의 형성 방법>

본 발명의 액정 배향제는 광배향법에 의해 액정 배향막을 형성하기 위해 바람직하게 사용할 수 있다.

액정 배향막을 형성하는 방법으로서는, 예를 들면 기판 위에 본 발명의 액정 배향막을 도포하여 도막을 형성하고, 이어서 상기 도막에 편광 또는 비편광의 방사선을 조사하여 보다 액정 배향능을 부여하는 방법을 들 수 있다.

우선, 패턴상의 투명 도전막이 설치된 기판의 투명 도전막측에 본 발명의 액정 배향제를 예를 들면 롤코터법, 스피너법, 인쇄법, 잉크젯법 등의 적절한 도포 방법에 의해 도포한다. 또한, 상기 도포면을 예비 가열(예비 베이킹)하고, 이어서 소성(후베이킹)함으로써 도막을 형성한다. 예비 베이킹 조건은, 예를 들면 40 내지 120 ℃에서 0.1 내지 5분이고, 후베이킹 조건은 바람직하게는 120 내지 300 ℃, 보다 바람직하게는 150 내지 250 ℃에서 바람직하게는 5 내지 200분, 보다 바람직하게는 10 내지 100분이다. 후베이킹 후의 도막의 막 두께는 바람직하게는 0.001 내지 1 ㎛이고, 보다 바람직하게는 0.005 내지 0.5 ㎛이다.

상기 기판으로서는, 예를 들면 플로트 유리, 소다 유리와 같은 유리, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에테르술폰, 폴리카르보네이트와 같은 플라스틱을 포함하는 투명 기판 등을 사용할 수 있다.

상기 투명 도전막으로서는, SnO₂를 포함하는 NESA막, In₂O₃-SnO₂를 포함하는 ITO막 등을 사용할 수 있다. 이들 투명 도전막의 패터닝에는 포토ㆍ에칭법이나 투명 도전막을 형성할 때 마스크를 사용하는 방법 등이 이용된다.

액정 배향제의 도포시에는, 기판 또는 투명 도전막과 도막의 접착성을 더욱 양호하게 하기 위해 기판 및 투명 도전막 위에 미리 관능성 실란 화합물, 티타네이트 화합물 등을 도포할 수도 있다.

이어서, 상기 도막에 직선 편광 또는 부분 편광된 방사선 또는 비편광의 방사선을 조사함으로써, 액정 배향능을 부여한다. 여기서, 방사선으로서는, 예를 들면 150 내지 800 ㎚의 파장의 빛을 포함하는 자외선 및 가시광선을 사용할 수 있지만, 300 내지 400 ㎚의 파장의 빛을 포함하는 자외선이 바람직하다. 사용하는 방 사선이 직선 편광 또는 부분 편광하고 있는 경우에는, 조사는 기판면에 수직 방향에서 행할 수도 있고, 프리틸트각을 부여하기 위해 경사 방향에서 행할 수도 있고, 이들을 조합하여 행할 수도 있다. 비편광의 방사선을 조사하는 경우에는, 조사 방향은 경사 방향일 필요가 있다.

사용하는 광원으로서는, 예를 들면 저압 수은 램프, 고압 수은 램프, 중수소 램프, 메탈 할라이드 램프, 아르곤 공명 램프, 크세논 램프, 엑시머 레이저 등을 사용할 수 있다. 상기 바람직한 파장 영역의 자외선은, 상기 광원을 예를 들면 필터, 회절 격자 등과 병용하는 수단 등에 의해 얻을 수 있다.

방사선의 조사량으로서는 바람직하게는 1 J/㎡ 이상 10,000 J/㎡ 미만이고, 보다 바람직하게는 10 내지 3,000 J/㎡이다. 또한, 종래 알려져 있는 액정 배향제로 형성된 도막에 광배향법에 의해 액정 배향능을 부여하는 경우, 10,000 J/㎡ 이상의 방사선 조사량이 필요하였다. 그러나, 본 발명의 액정 배향제를 사용하면, 광배향법시의 방사선 조사량이 3,000 J/㎡ 이하, 나아가서는 1,000 J/㎡ 이하여도 양호한 액정 배향능을 부여할 수 있어, 액정 표시 소자의 제조 비용의 삭감에 유효하다.

또한, 본 발명에서의 "프리틸트각"이란, 기판면과 평행한 방향으로부터 액정 분자가 기운 각도를 나타낸다.

<액정 배향막>

본 발명의 액정 배향제로 형성된 본 발명의 액정 배향막은 프리틸트각의 시간 경과에 따른 안정성이 우수한 것이다. 이러한 예상외의 우수한 효과가 발현되 는 이유에 대하여 분명히 하기 위해 본원 발명자들이 상세한 검토를 행한 결과, 본 발명의 액정 배향막은 종래 알려져 있는 액정 배향막에 비해 특수한 막 구조를 갖는 것이라는 것이 분명해졌다.

즉, 본 발명의 액정 배향막에 대하여 상기 (A) 신남산 유도체에서 유래하는 기의 막 두께 방향에서의 존재 분포를 조사한 바, 본 발명의 액정 배향막에서는 (A) 신남산 유도체에서 유래하는 기가 놀랍게도 막 표면으로부터 두께의 30 ％의 범위, 나아가서는 25 ％의 범위, 특히 20 ％의 범위에 편재하고 있다는 것이 분명해졌다. 또한, (A) 신남산 유도체에서 유래하는 기의 농도는, 액정 배향막의 표면에서 최대값을 취하고 있다는 것이 분명해졌다. 이러한 막 표면 근방의 좁은 범위에 감광성기가 편재하는 것이 적은 노광량으로도 시간 경과에 따른 안정성이 우수한 프리틸트각을 제공하는 하나의 원인인 것으로 추측된다.

또한, 이러한 특수한 막 구조는, 본 발명의 액정 배향제가 특히 상기 감방사선성 폴리오르가노실록산과 함께 다른 중합체를 상술한 바람직한 함유 비율로 함유하는 것인 경우에 확실하게 얻을 수 있다는 것도 분명해졌다.

액정 배향막 중의 (A) 신남산 유도체에서 유래하는 기의 막 두께 방향에서의 존재 분포는, 예를 들면 ToF-SIMS 분석(비행 시간형 이차 이온 질량 분석)에 의해 알 수 있다.

보다 상세하게는, 투명 도전막을 갖는 기판의 투명 도전막 위에 형성된 액정 배향막에 대하여, ToF-SIMS 측정 장치를 사용하여 일차 이온원으로서 가속 전압 25 kV의 Bi₃ ⁺⁺ 클러스터 이온을 사용하고, 이온 전류 0.05 pA, 측정 시야 100 ㎛, 측정 질량 범위 0 내지 1,850 amu의 조건으로 액정 배향막면에 대하여 C₆₀ 스퍼터와 ToF-SIMS 분석을 반복하여, ITO 유래의 투명 도전막에서 유래하는 원자종(예를 들면 인듐 이온)이 검출될 때까지 측정을 행한다. 투명 도전막에서 유래하는 원자종이 검출된 시점에 막의 최심부에 도달한 것이라고 생각되기 때문에, 측정 개시로부터 이 시점까지를 액정 배향막의 막 두께 범위의 측정인 것으로 하고, (A) 신남산 유도체에서 유래하는 기에 상당하는 단편의 카운트수의 막 두께 방향에서의 분포를 조사한다. 또한, 측정 노이즈의 영향을 소거하기 위해, 막의 각각의 심도(막 표면으로부터의 깊이)에서의 카운트수를 막 두께 범위에서의 카운트수의 최소값(노이즈 레벨)으로 나누어 규격화한 분포에 의해, (A) 신남산 유도체에서 유래하는 기의 막 두께 방향에서의 존재 분포를 알 수 있다.

또한, (A) 신남산 유도체에서 유래하는 기가 막 표면으로부터 두께의 30 ％의 범위에 편재하고 있다는 것은, 상기 규격화된 분포에서 액정 배향막의 표면으로부터 30 ％의 범위에서의 (A) 신남산 유도체에서 유래하는 기의 농도가 막 두께 범위 전부에서의 농도의 95 ％ 이상인 것을 말한다.

<액정 표시 소자의 제조 방법>

본 발명의 액정 표시 소자는 본 발명의 액정 배향제로 형성된 액정 배향막을 구비하는 것이다. 본 발명의 액정 표시 소자는, 예를 들면 이하와 같이 하여 제조할 수 있다.

상기한 바와 같이 하여 액정 배향막이 형성된 기판을 2매 준비하고, 이 2매의 기판 사이에 액정을 배치함으로써 액정 셀을 제조한다. 액정 셀을 제조하기 위해서는, 예를 들면 이하의 2 가지 방법을 들 수 있다.

제1 방법은 종래부터 알려져 있는 방법이다. 우선, 각각의 액정 배향막이 대향하도록 간극(셀 간격)을 통해 2매의 기판을 대향 배치하고, 2매의 기판의 주변부를 밀봉제를 사용하여 접합하고, 기판 표면 및 밀봉제에 의해 구획된 셀 간격 내에 액정을 주입 충전한 후, 주입 구멍을 밀봉함으로써 액정 셀을 제조할 수 있다.

제2 방법은 ODF(One Drop Fill) 방식이라고 불리는 방법이다. 액정 배향막을 형성한 2매의 기판 중 한쪽 기판 위의 소정의 장소에 예를 들면 자외광 경화성의 밀봉재를 도포하고, 액정 배향막면 위에 액정을 적하한 후, 액정 배향막이 대향하도록 다른쪽 기판을 접합하고, 이어서 기판의 전체면에 자외광을 조사하여 밀봉제를 경화시킴으로써 액정 셀을 제조할 수 있다.

어떠한 방법에 의한 경우에도, 이어서 액정 셀을, 사용한 액정이 등방상을 취하는 온도까지 가열한 후, 실온까지 서서히 냉각함으로써 액정 충전시의 유동 배향을 제거하는 것이 바람직하다.

또한, 액정 셀의 외측 표면에 편광판을 접합함으로써, 본 발명의 액정 표시 소자를 얻을 수 있다. 여기서, 액정 배향막이 수평 배향성인 경우, 액정 배향막이 형성된 2매의 기판에서, 조사한 직선 편광 방사선의 편광 방향이 이루는 각도 및 각각의 기판과 편광판의 각도를 조정함으로써, TN형 또는 STN형 액정 셀을 갖는 액정 표시 소자를 얻을 수 있다. 한편, 액정 배향막이 수직 배향성인 경우에는, 액 정 배향막이 형성된 2매의 기판에서의 배향 용이축의 방향이 평행해지도록 셀을 구성하고, 이것에 편광판을 그 편광 방향이 배향 용이축과 45°의 각도를 이루도록 접합함으로써, 수직 배향형 액정 셀을 갖는 액정 표시 소자로 할 수 있다.

상기 밀봉제로서는, 예를 들면 스페이서로서의 산화알루미늄 구 및 경화제를 함유하는 에폭시 수지 등을 사용할 수 있다.

상기 액정으로서는, 예를 들면 네마틱형 액정, 스멕틱형 액정 등을 바람직하게 사용할 수 있다.

TN형 액정 셀 또는 STN형 액정 셀의 경우, 양의 유전 이방성을 갖는 네마틱형 액정이 바람직하고, 예를 들면 비페닐계 액정, 페닐시클로헥산계 액정, 에스테르계 액정, 터페닐계 액정, 비페닐시클로헥산계 액정, 피리미딘계 액정, 디옥산계 액정, 비시클로옥탄계 액정, 쿠반계 액정 등이 사용된다. 또한, 상기 액정에 예를 들면 콜레스테릴클로라이드, 콜레스테릴노나에이트, 콜레스테릴카르보네이트 등의 콜레스테릭 액정; 상품명 "C-15", "CB-15"(머크사 제조)로서 판매되고 있는 키랄제; p-디실록시벤질리덴-p-아미노-2-메틸부틸신나메이트 등의 강유전성 액정 등을 추가로 첨가하여 사용할 수도 있다.

한편, 수직 배향형 액정 셀의 경우에는, 음의 유전 이방성을 갖는 네마틱형 액정이 바람직하고, 예를 들면 디시아노벤젠계 액정, 피리다진계 액정, 쉬프(Schiff) 염기계 액정, 아족시계 액정, 비페닐계 액정, 페닐시클로헥산계 액정 등이 사용된다.

액정 셀의 외측에 사용되는 편광판으로서는, 폴리비닐 알코올을 연신 배향시 키면서 요오드를 흡수시킨 "H막"이라고 불리는 편광막을 아세트산셀룰로오스 보호막 사이에 끼운 편광판, 또는 H막 그 자체로 이루어지는 편광판 등을 들 수 있다.

이렇게 하여 제조된 본 발명의 액정 표시 소자는 표시 특성, 장기간 신뢰성 등의 다양한 성능이 우수한 것이다.

<실시예>

이하, 본 발명을 실시예에 의해 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예로 제한되지 않는다.

이하의 실시예에서 중량 평균 분자량 Mw는, 이하의 조건에서의 겔 투과 크로마토그래피(GPC)에 의해 측정한 폴리스티렌 환산값이다.

칼럼: 도소(주) 제조, TSKgelGRCXLII

용제: 테트라히드로푸란

온도: 40 ℃

압력: 68 kgf/㎠

에폭시 당량은 JIS C2105의 "염산-메틸에틸케톤법"에 준하여 측정하였다.

중합체 용액의 용액 점도는 각 합성예에서 지적한 중합체 용액에 대하여 E형 점도계를 사용하여 25 ℃에서 측정한 값이다.

또한, 이하에서는 원료 화합물 및 중합체의 합성을 하기의 합성 스케일로 필요에 따라 반복함으로써, 이후의 합성에 사용할 필요량을 확보하였다.

<에폭시기를 갖는 폴리오르가노실록산의 합성>

합성예 E-1

교반기, 온도계, 적하 깔때기 및 환류 냉각관을 구비한 반응 용기에 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란 100.0 g, 메틸이소부틸케톤 500 g 및 트리에틸아민 10.0 g을 투입하고, 실온에서 혼합하였다. 이어서, 탈이온수 100 g을 적하 깔때기로부터 30분에 걸쳐서 적하한 후, 환류하에 혼합하면서 80 ℃에서 6 시간 동안 반응시켰다. 반응 종료 후 유기층을 취출하고, 0.2 중량％ 질산암모늄 수용액에 의해 세정 후의 물이 중성이 될 때까지 세정한 후, 감압하에 용매 및 물을 증류 제거함으로써 에폭시기를 갖는 폴리오르가노실록산 (EPS-1)을 점조(粘調)한 투명 액체로서 얻었다.

이 에폭시기를 갖는 폴리오르가노실록산 (EPS-1)에 대하여 ¹H-NMR 분석을 행한 바, 화학적 이동(δ)=3.2 ppm 부근에 에폭시기에 기초하는 피크가 이론 강도대로 얻어졌으며, 반응 중에 에폭시기의 부반응이 발생하지 않은 것이 확인되었다.

이 에폭시기를 갖는 폴리오르가노실록산 (EPS-1)의 중량 평균 분자량 Mw는 2,200이었으며, 에폭시 당량은 186 g/몰이었다.

<신남산 유도체 (A)의 합성>

합성예 C-1

하기 반응식 1에 따라, 신남산 유도체 (2-4-1)을 합성하였다.

1 L의 가지형 플라스크에 4-히드록시벤조산메틸 91.3 g, 탄산칼륨 182.4 g 및 N-메틸-2-피롤리돈 320 mL를 투입하고, 실온에서 1 시간 동안 교반을 행한 후, 1-브로모펜탄 99.7 g을 첨가하여 100 ℃에서 5 시간 동안 교반하였다. 반응 종료 후, 물로 재침전을 행하였다. 이어서, 이 침전에 수산화나트륨 48 g 및 물 400 mL를 첨가하여 3 시간 동안 환류하여 가수분해 반응을 행하였다. 반응 종료 후, 염산으로 중화하고, 생성된 침전을 에탄올로 재결정함으로써 화합물 (2-4-1-1)의 백색 결정을 102 g 얻었다.

이 화합물 (2-4-1-1) 중의 10.41 g을 반응 용기 중에 취하고, 이것에 염화티오닐 100 mL 및 N,N-디메틸포름아미드 77 μL를 첨가하여 80 ℃에서 1 시간 동안 교반하였다. 이어서, 감압하에 염화티오닐을 증류 제거하고, 염화메틸렌을 첨가하여 탄산수소나트륨 수용액으로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조하여 농축을 행한 후, 테트라히드로푸란을 첨가하여 용액으로 하였다.

이어서, 상기와는 별도의 500 mL 삼구 플라스크에 4-히드록시신남산 7.39 g, 탄산칼륨 13.82 g, 테트라부틸암모늄 0.48 g, 테트라히드로푸란 50 mL 및 물 100 mL를 투입하였다. 이 수용액을 빙냉하여 상기 테트라히드로푸란 용액을 천천히 적하하고, 추가로 2 시간 동안 교반하에 반응을 행하였다. 반응 종료 후 염산을 첨가하여 중화하고, 아세트산에틸로 추출한 후 황산마그네슘으로 건조하고, 농축을 행한 후, 에탄올로 재결정함으로써 신남산 유도체 (2-4-1)의 백색 결정을 9.0 g 얻었다.

합성예 C-2

상기 합성예 C-1에서, 1-브로모펜탄 대신에 1-요오드-4,4,4-트리플루오로부탄의 110.9 g을 사용한 것 이외에는, 합성예 4와 동일하게 실시하여 하기 화학식 (2-4-2)로 표시되는 화합물(신남산 유도체 (2-4-2))의 백색 결정을 9.2 g 얻었다.

합성예 C-3

상기 합성예 C-1에서 중간체로서 합성, 사용한 화합물 (2-4-1-1) 대신에 4-펜틸-트랜스시클로헥실카르복실산 9.91 g을 사용한 것 이외에는, 합성예 C-1과 동일하게 하여 하기 화학식 (2-23-1)로 표시되는 화합물(신남산 유도체 (2-23-1))의 백색 결정을 13 g 얻었다.

합성예 C-4

하기 반응식 2에 따라, 신남산 유도체 (2-31-1)을 합성하였다.

환류관, 온도계 및 질소 도입관을 구비한 500 mL의 삼구 플라스크에 화합물 (2-31-1-1) 31 g, 아세트산팔라듐 0.23 g, 트리(o-톨릴)포스핀 1.2 g, 트리에틸아민 56 mL, 아크릴산 8.2 mL 및 N,N-디메틸아세트아미드 200 mL를 투입하여 120 ℃에서 3 시간 동안 교반하에 반응을 행하였다. 반응 종료 후, 반응 혼합물을 여과하여 얻어진 여과액에 아세트산에틸을 1 L 첨가하여 얻은 유기층을 희염산으로 2회 및 물로 3회 순차적으로 세정하고, 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하에 용매를 제거하여 얻어진 고체를 아세트산에틸 및 테트라히드로푸란의 혼합 용제로부터 재결정함으로써, 신남산 유도체 (2-31-1)의 결정을 15 g 얻었다.

합성예 C-5

상기 합성예 C-4에서 화합물 (2-31-1-1) 대신에 하기 화학식 (2-32-1-1)로 표시되는 화합물 36 g을 사용한 것 이외에는, 합성예 C-4와 동일하게 하여 하기 화학식 (2-32-1)로 표시되는 화합물(신남산 유도체 (2-32-1))을 16 g 얻었다.

합성예 C-6

하기 반응식 3에 따라 신남산 유도체 (2-35-1)을 합성하였다.

환류관 및 질소 도입관을 구비한 300 mL의 가지 플라스크에 화합물 (2-35-1-1) 21 g, 염화티오닐 80 mL 및 N,N-디메틸포름아미드 0.1 mL를 투입하여 80 ℃에서 1 시간 동안 교반하에 반응을 행하였다. 반응 종료 후, 반응 혼합물로부터 염화티오닐을 증류 제거하고, 이어서 염화메틸렌을 150 mL 첨가하여 얻은 유기층을 물로 3회 세정하였다. 이 유기층을 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하에 용매를 제거하여 얻은 고체(화합물 (2-35-1-2))에 테트라히드로푸란 400 mL를 첨가하였다(이것을 A액으로 함).

한편, 적하 깔때기 및 온도계를 구비한 1 L의 삼구 플라스크에 p-히드록시신남산 16 g, 탄산칼륨 24 g, 테트라부틸암모늄브로마이드 0.87 g, 물 200 mL 및 테트라히드로푸란 100 mL를 투입하여 5 ℃ 이하로 빙냉하였다. 여기에 상기한 A액을 3 시간에 걸쳐서 적하하고, 1 시간 동안 교반하에 반응을 행하였다. 반응 종료 후, 반응 혼합물에 희염산을 첨가하여 pH를 4 이하로 한 후, 톨루엔 3 L 및 테트라히드로푸란 1 L를 첨가하여 얻은 유기층을 물로 3회 세정하였다. 이 유기층을 황산마그네슘으로 건조한 후, 감압하에 용매를 제거하여 얻은 고체를 에탄올 및 테트라히드로푸란의 혼합 용제로부터 재결정함으로써 신남산 유도체 (2-35-1)을 21 g 얻었다.

<감방사선성 폴리오르가노실록산의 합성>

실시예 S-1

200 mL의 삼구 플라스크에 상기 합성예 E-1에서 얻은 에폭시기를 갖는 폴리오르가노실록산 (EPS-1) 5.0 g, 메틸이소부틸케톤 46.4 g, 신남산 유도체 (A)로서 상기 합성예 C-1에서 얻은 화합물 (2-4-1) 4.76 g(EPS-1이 갖는 규소 원자에 대하여 50 몰％에 상당함), 광증감성 화합물 (B)로서 하기 화학식 (B-1-1)로 표시되는 화합물 1.08 g(EPS-1이 갖는 규소 원자에 대하여 20 몰％에 상당함) 및 테트라부틸암모늄브로마이드 0.10 g을 투입하고, 80 ℃에서 12 시간 동안 교반하에 반응을 행하였다. 반응 종료 후 메탄올로 재침전을 행하고, 침전물을 아세트산에틸에 용해하여 용액을 얻고, 상기 용액을 3회 수세한 후, 용매를 증류 제거함으로써 감방사선성 폴리오르가노실록산 (S-1)을 백색 분말로서 2.8 g 얻었다. 감방사선성 폴리 오르가노실록산 (S-1)의 중량 평균 분자량 Mw는 12,500이었다.

실시예 S-2 내지 S-55

상기 실시예 S-1에서, 신남산 유도체 (A) 및 광증감성 화합물 (B)의 종류 및 사용량을 각각 표 1에 기재된 바와 같이 한 것 이외에는, 실시예 S-1과 동일하게 하여 감방사선성 폴리오르가노실록산 (S-2) 내지 (S-55)를 각각 합성하였다. 얻어진 각 감방사선성 폴리오르가노실록산의 중량 평균 분자량을 표 1에 통합하여 나타내었다.

또한, 실시예 S-49 및 S-54에서는, 신남산 유도체 (A)로서 각각 2종의 화합물을 병용하고, 실시예 S-31, S-48, S-51 및 S-52에서는 각각 신남산 유도체 (A)의 일부를 다른 프리틸트각 발현성 화합물로 치환하여 사용하였다.

표 1에서의 신남산 유도체 (A), 광증감성 화합물 (B) 및 다른 프리틸트각 발현성 화합물의 약칭은 각각 이하의 의미이다.

<신남산 유도체 (A)>

2-4-1: 상기 합성예 C-1에서 얻은 신남산 유도체 (2-4-1)

2-4-2: 상기 합성예 C-2에서 얻은 신남산 유도체 (2-4-2)

2-23-1: 상기 합성예 C-3에서 얻은 신남산 유도체 (2-23-1)

2-31-1: 상기 합성예 C-4에서 얻은 신남산 유도체 (2-31-1)

2-32-1: 상기 합성예 C-5에서 얻은 신남산 유도체 (2-32-1)

2-35-1: 상기 합성예 C-6에서 얻은 신남산 유도체 (2-35-1)

<광증감성 화합물 (B)>

B-1-1: 상기 화학식 (B-1-1)로 표시되는 화합물

B-2: 상기 화학식 (B-2)로 표시되는 화합물

B-3: 상기 화학식 (B-3)으로 표시되는 화합물

B-5: 상기 화학식 (B-5)로 표시되는 화합물

B-11: 상기 화학식 (B-11)로 표시되는 화합물

B-28-1: 하기 화학식 (B-28-1)로 표시되는 화합물

B-39-1: 하기 화학식 (B-39-1)로 표시되는 화합물

B-42-1: 하기 화학식 (B-42-1)로 표시되는 화합물

B-42-2: 하기 화학식 (B-42-2)로 표시되는 화합물

<다른 프리틸트각 발현성 화합물>

5-3-1: 상기 화학식 (5-3-1)로 표시되는 화합물

<다른 중합체의 합성>

[폴리아믹산의 합성]

합성예 PA-1

테트라카르복실산 이무수물로서 피로멜리트산 이무수물 109 g(0.50 몰) 및 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산 이무수물 98 g(0.50 몰), 디아민 화합물로서 4,4-디아미노디페닐에테르 200 g(1.0 몰)을 N-메틸-2-피롤리돈 2,290 g에 용해하고, 40 ℃에서 3 시간 동안 반응시킨 후, N-메틸-2-피롤리돈 1,350 g을 추가함으로써 폴리아믹산 (PA-1)을 10 중량％ 함유하는 용액 약 3,590 g을 얻었다. 이 폴리아믹산 용액의 용액 점도는 210 mPaㆍs였다.

합성예 PA-2

테트라카르복실산 이무수물로서 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산 이무수물 98 g(0.50 몰) 및 피로멜리트산 이무수물 109 g(0.50 몰), 디아민 화합물로서 4,4'-디아미노디페닐메탄 198 g(1.0 몰)을 N-메틸-2-피롤리돈 2,290 g에 용해하고, 40 ℃에서 3 시간 동안 반응시킨 후, N-메틸-2-피롤리돈 1,350 g을 추가함으로써 폴리아믹산 (PA-2)를 10 중량％ 함유하는 용액을 얻었다. 이 폴리아믹산 용액의 용액 점도는 135 mPaㆍs였다.

합성예 PA-3

테트라카르복실산 이무수물로서 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산 이무수물 196 g(1.0 몰) 및 디아민 화합물로서 4,4'-디아미노디페닐에테르 200 g(1.0 몰)을 N-메틸-2-피롤리돈 2,246 g에 용해하고, 40 ℃에서 4 시간 동안 반응시킨 후, N-메틸-2-피롤리돈 1,321 g을 추가함으로써 폴리아믹산 (PA-3)을 10 중량％ 함유하는 용액을 얻었다. 이 폴리아믹산 용액의 용액 점도는 220 mPaㆍs였다.

합성예 PA-4

테트라카르복실산 이무수물로서 1,2,3,4-시클로부탄테트라카르복실산 이무수물 196 g(1.0 몰) 및 디아민 화합물로서 2,2'-디메틸-4,4'-디아미노비페닐 212 g(1.0 몰)을 N-메틸-2-피롤리돈 3,670 g에 용해하고, 40 ℃에서 3 시간 동안 반응시킴으로써 폴리아믹산 (PA-4)를 10 중량％ 함유하는 용액을 얻었다. 이 폴리아믹산 용액의 용액 점도는 170 mPaㆍs였다.

합성예 PA-5

테트라카르복실산 이무수물로서 2,3,5-트리카르복시시클로펜틸아세트산 이무수물 224 g(1.0 몰) 및 디아민 화합물로서 4,4'-디아미노디페닐에테르 200 g(1.0 몰)을 N-메틸-2-피롤리돈 2,404 g에 용해하고, 40 ℃에서 4 시간 동안 반응시킴으로써 폴리아믹산 (PA-5)를 함유하는 용액을 얻었다. 이 폴리아믹산 용액을 소량 취하고, N-메틸-2-피롤리돈을 첨가하여 농도 10 중량％의 용액으로 측정한 용액 점도는 190 mPaㆍs였다.

[폴리이미드의 합성]

합성예 PI-1

테트라카르복실산 이무수물로서 2,3,5-트리카르복시시클로펜틸아세트산 이무수물 112 g(0.50 몰) 및 1,3,3a,4,5,9b-헥사히드로-8-메틸-5-(테트라히드로-2,5-디옥소-3-푸라닐)-나프토[1,2-c]-푸란-1,3-디온 157 g(0.50 몰), 디아민 화합물로서 p-페닐렌디아민 95 g(0.88 몰), 2,2-디트리플루오로메틸-4,4-디아미노비페닐 32 g(0.10 몰), 3,6-비스(4-아미노벤조일옥시)콜레스탄 6.4 g(0.010 몰) 및 옥타데칸옥시-2,5-디아미노벤젠 4.0 g(0.015 몰)을 N-메틸-2-피롤리돈 960 g에 용해하고, 60 ℃에서 9 시간 동안 반응시켰다. 얻어진 폴리아믹산 용액을 소량 분취하고, N-메틸-2-피롤리돈을 첨가하여 농도 10 중량％의 용액으로서 측정한 용액 점도는 58 mPaㆍs였다.

얻어진 폴리아믹산 용액에 N-메틸-2-피롤리돈 2,740 g, 피리딘 396 g 및 아세트산 무수물 409 g을 첨가하여 110 ℃에서 4 시간 동안 탈수 폐환 반응을 행하였다. 탈수 폐환 반응 후, 계 내의 용매를 새로운 N-메틸-2-피롤리돈으로 용매 치환(이 용매 치환 조작에 의해, 탈수 폐환 반응에 사용한 피리딘 및 아세트산 무수물을 계 외로 제거하였으며, 이하 동일함)함으로써, 이미드화율 약 95 ％의 폴리이미드 (PI-1)을 15 중량％ 함유하는 용액 약 2,500 g을 얻었다.

이 폴리이미드 용액을 소량 분취하고, 감압하에 용매를 제거한 후 γ-부티로락톤에 용해하여 중합체 농도 8.0 중량％의 용액으로서 측정한 용액 점도는 33 mPaㆍs였다.

합성예 PI-2

테트라카르복실산 이무수물로서 2,3,5-트리카르복시시클로펜틸아세트산 이무수물 112 g(0.50 몰) 및 1,3,3a,4,5,9b-헥사히드로-8-메틸-5-(테트라히드로-2,5-디옥소-3-푸라닐)나프토[1,2-c]푸란-1,3-디온 157 g(0.50 몰), 디아민 화합물로서 p-페닐렌디아민 96 g(0.89 몰), 비스아미노프로필테트라메틸디실록산 25 g(0.10 몰) 및 3,6-비스(4-아미노벤조일옥시)콜레스탄 13 g(0.020 몰), 모노아민으로서 N-옥타데실아민 8.1 g(0.030 몰)을 N-메틸-2-피롤리돈 960 g에 용해하고, 60 ℃에서 6 시간 동안 반응시켰다. 얻어진 폴리아믹산 용액을 소량 분취하고, N-메틸-2-피롤리돈을 첨가하여 농도 10 중량％의 용액으로서 측정한 용액 점도는 60 mPaㆍs였다.

얻어진 폴리아믹산 용액에 N-메틸-2-피롤리돈 2,700 g을 추가하고, 피리딘 396 g 및 아세트산 무수물 409 g을 첨가하여 110 ℃에서 4 시간 동안 탈수 폐환 반응을 행하였다. 탈수 폐환 반응 후, 계 내의 용매를 새로운 N-메틸-2-피롤리돈으로 용매 치환함으로써, 이미드화율 약 95 ％의 폴리이미드 (PI-2)를 15 중량％ 함유하는 용액을 얻었다. 이 폴리이미드 용액을 소량 분취하고, N-메틸-2-피롤리돈을 첨가하여 희석하여 농도 6.0 중량％의 용액으로서 측정한 용액 점도는 18 mPaㆍs였다.

합성예 PI-3

테트라카르복실산 이무수물로서 2,3,5-트리카르복시시클로펜틸아세트산 이무수물 224 g(1.0 몰), 디아민 화합물로서 p-페닐렌디아민 107 g(0.99 몰) 및 3,6-비스(4-아미노벤조일옥시)콜레스탄 6.43 g(0.010 몰)을 N-메틸-2-피롤리돈 3,039 g에 용해하고, 60 ℃에서 6 시간 동안 반응시킴으로써 용액 점도 약 260 mPaㆍs의 폴리아믹산 용액을 얻었다.

얻어진 폴리아믹산 용액에 N-메틸-2-피롤리돈 2,700 g을 추가하고, 피리딘 396 g 및 아세트산 무수물 306 g을 첨가하여 110 ℃에서 4 시간 동안 탈수 폐환 반응을 행하였다. 탈수 폐환 반응 후, 계 내의 용매를 새로운 N-메틸-2-피롤리돈으로 용매 치환함으로써, 이미드화율 약 89 ％의 폴리이미드 (PI-3)을 9.0 중량％ 함유하는 용액을 얻었다. 이 폴리이미드 용액을 소량 분취하고, N-메틸-2-피롤리돈을 첨가하여 희석하여 농도 5.0 중량％의 용액으로서 측정한 용액 점도는 74 mPaㆍs였다.

합성예 PI-4

테트라카르복실산 이무수물로서 2,3,5-트리카르복시시클로펜틸아세트산 이무수물 112 g(0.50 몰) 및 1,3,3a,4,5,9b-헥사히드로-8-메틸-5(테트라히드로-2,5-디옥소-3-푸라닐)-나프토[1,2-c]-푸란-1,3-디온 157 g(0.50 몰), 디아민 화합물로서 p-페닐렌디아민 89 g(0.82 몰), 2,2'-디트리플루오로메틸-4,4'-디아미노비페닐 32 g(0.10 몰), 1-(3,5-디아미노벤조일옥시)-4-(4-트리플루오로메틸벤조일옥시)-시클로헥산 25 g(0.059 몰) 및 옥타데칸옥시-2,5-디아미노벤젠 4.0 g(0.011 몰)을 N-메틸-2-피롤리돈 2,175 g에 용해하고, 60 ℃에서 6 시간 동안 반응시켰다. 얻어진 폴리아믹산 용액을 소량 분취하고, N-메틸-2-피롤리돈을 첨가하여 농도 10 중량％의 용액으로서 측정한 용액 점도는 110 mPaㆍs였다.

얻어진 폴리아믹산 용액 중의 1,500 g을 취하여 이것에 N-메틸-2-피롤리돈 3,000 g을 추가하고, 피리딘 221 g 및 아세트산 무수물 228 g을 첨가하여 110 ℃에서 4 시간 동안 탈수 폐환 반응을 행하였다. 탈수 폐환 반응 후, 계 내의 용매를 새로운 N-메틸-2-피롤리돈으로 용매 치환함으로써, 이미드화율 약 92 ％의 폴리이미드 (PI-4)를 10 중량％ 함유하는 용액을 얻었다. 이 폴리이미드 용액을 소량 분취하고, N-메틸-2-피롤리돈을 첨가하여 희석하여 농도 4.5 중량％의 용액으로서 측정한 용액 점도는 26 mPaㆍs였다.

합성예 PI-5

테트라카르복실산 이무수물로서 2,3,5-트리카르복시시클로펜틸아세트산 이무수물 19.9 g(0.089 몰), 디아민 화합물로서 p-페닐렌디아민 6.8 g(0.063 몰), 4,4'-디아미노디페닐메탄 3.6 g(0.018 몰) 및 상기 화학식 (D-4)로 표시되는 화합물 4.7 g(0.009 몰)을 N-메틸-2-피롤리돈 140 g에 용해하고, 60 ℃에서 4 시간 동안 반응시켰다. 얻어진 폴리아믹산 용액을 소량 분취하고, N-메틸-2-피롤리돈을 첨가하여 고형분 농도 10 중량％의 용액으로서 측정한 용액 점도는 115 mPaㆍs였다.

얻어진 폴리아믹산 용액에 N-메틸-2-피롤리돈 325 g을 추가하고, 피리딘 14 g 및 아세트산 무수물 18 g을 첨가하여 110 ℃에서 4 시간 동안 탈수 폐환 반응을 행하였다. 탈수 폐환 반응 후, 계 내의 용매를 새로운 N-메틸-2-피롤리돈으로 용매 치환함으로써, 이미드화율 약 77 ％의 폴리이미드 (PI-5)를 15.4 중량％ 함유하는 용액을 얻었다. 이 폴리이미드 용액을 소량 분취하고, N-메틸-2-피롤리돈을 첨가하여 희석하여 농도 10 중량％의 용액으로서 측정한 용액 점도는 84 mPaㆍs였다.

합성예 PI-6

테트라카르복실산 이무수물로서 2,3,5-트리카르복시시클로펜틸아세트산 이무수물 20.9 g(0.093 몰), 디아민 화합물로서 p-페닐렌디아민 9.2 g(0.085 몰) 및 상기 화학식 (D-4)로 표시되는 화합물 4.9 g(0.009 몰)을 N-메틸-2-피롤리돈 140 g에 용해하고, 60 ℃에서 4 시간 동안 반응시켰다. 얻어진 폴리아믹산 용액을 소량 분취하고, N-메틸-2-피롤리돈을 첨가하여 농도 10 중량％의 용액으로서 측정한 용액 점도는 126 mPaㆍs였다.

얻어진 폴리아믹산 용액에 N-메틸-2-피롤리돈 325 g을 추가하고, 피리딘 7.4 g 및 아세트산 무수물 9.5 g을 첨가하여 110 ℃에서 4 시간 동안 탈수 폐환 반응을 행하였다. 탈수 폐환 반응 후, 계 내의 용매를 새로운 N-메틸-2-피롤리돈으로 용매 치환함으로써, 이미드화율 약 54 ％의 폴리이미드 (PI-6)을 16.1 중량％ 함유하는 용액을 얻었다. 이 폴리이미드 용액을 소량 분취하고, N-메틸-2-피롤리돈을 첨가하여 희석하여 농도 10 중량％의 용액으로서 측정한 용액 점도는 75 mPaㆍs였다.

합성예 PI-7

테트라카르복실산 이무수물로서 2,3,5-트리카르복시시클로펜틸아세트산 이무수물 18.8 g(0.084 몰), 디아민 화합물로서 p-페닐렌디아민 7.4 g(0.068 몰) 및 상기 화학식 (D-4)로 표시되는 화합물 8.9 g(0.017 몰)을 N-메틸-2-피롤리돈 140 g에 용해하고, 60 ℃에서 4 시간 동안 반응시켰다. 얻어진 폴리아믹산 용액을 소량 분취하고, N-메틸-2-피롤리돈을 첨가하여 농도 10 중량％의 용액으로서 측정한 용액 점도는 126 mPaㆍs였다.

얻어진 폴리아믹산 용액에 N-메틸-2-피롤리돈 325 g을 추가하고, 피리딘 6.6 g 및 아세트산 무수물 8.5 g을 첨가하여 110 ℃에서 4 시간 동안 탈수 폐환 반응을 행하였다. 탈수 폐환 반응 후, 계 내의 용매를 새로운 N-메틸-2-피롤리돈으로 용매 치환함으로써, 이미드화율 약 55 ％의 폴리이미드 (PI-7)을 15.9 중량％ 함유하는 용액을 얻었다. 이 폴리이미드 용액을 소량 분취하고, N-메틸-2-피롤리돈을 첨가하여 희석하여 농도 10 중량％의 용액으로서 측정한 용액 점도는 75 mPaㆍs였다.

합성예 PI-8

테트라카르복실산 이무수물로서 2,3,5-트리카르복시시클로펜틸아세트산 이무수물 19.1 g(0.085 몰), 디아민 화합물로서 p-페닐렌디아민 7.4 g(0.069 몰) 및 하기 화학식 (D-6)으로 표시되는 화합물 8.5 g(0.017 몰)을 N-메틸-2-피롤리돈 140 g에 용해하고, 60 ℃에서 4 시간 동안 반응시켰다. 얻어진 폴리아믹산 용액을 소량 분취하고, N-메틸-2-피롤리돈을 첨가하여 농도 10 중량％의 용액으로서 측정한 용액 점도는 206 mPaㆍs였다.

얻어진 폴리아믹산 용액에 N-메틸-2-피롤리돈 325 g을 추가하고, 피리딘 6.7 g 및 아세트산 무수물 8.7 g을 첨가하여 110 ℃에서 4 시간 동안 탈수 폐환 반응을 행하였다. 탈수 폐환 반응 후, 계 내의 용매를 새로운 N-메틸-2-피롤리돈으로 용매 치환함으로써, 이미드화율 약 52 ％의 폴리이미드 (PI-8)을 15.8 중량％ 함유하는 용액을 얻었다. 이 폴리이미드 용액을 소량 분취하고, N-메틸-2-피롤리돈을 첨가하여 희석하여 농도 10 중량％의 용액으로서 측정한 용액 점도는 105 mPaㆍs였다.

합성예 PI-9

테트라카르복실산 이무수물로서 2,3,5-트리카르복시시클로펜틸아세트산 이무수물 17.3 g(0.077 몰), 디아민 화합물로서 p-페닐렌디아민 5.9 g(0.054 몰), 상기 화학식 (D-4)로 표시되는 화합물 4.1 g(0.008 몰) 및 상기 화학식 (D-6)으로 표시되는 화합물 7.7 g(0.016 몰)을 N-메틸-2-피롤리돈 140 g에 용해하고, 60 ℃에서 4 시간 동안 반응시켰다. 얻어진 폴리아믹산 용액을 소량 분취하고, N-메틸-2-피롤리돈을 첨가하여 농도 10 중량％의 용액으로서 측정한 용액 점도는 117 mPaㆍs였다.

얻어진 폴리아믹산 용액에 N-메틸-2-피롤리돈 325 g을 추가하고, 피리딘 6.1 g 및 아세트산 무수물 7.9 g을 첨가하여 110 ℃에서 4 시간 동안 탈수 폐환 반응을 행하였다. 탈수 폐환 반응 후, 계 내의 용매를 새로운 N-메틸-2-피롤리돈으로 용매 치환함으로써, 이미드화율 약 55 ％의 폴리이미드 (PI-9)를 15.4 중량％ 함유하는 용액을 얻었다. 이 폴리이미드 용액을 소량 분취하고, N-메틸-2-피롤리돈을 첨가하여 희석하여 농도 10 중량％의 용액으로서 측정한 용액 점도는 109 mPaㆍs였다.

[다른 폴리오르가노실록산의 합성]

합성예 OE-1

냉각관을 구비한 200 mL의 삼구 플라스크에 테트라에톡시실란 20.8 g 및 1-에톡시-2-프로판올 28.2 g을 투입하고, 60 ℃로 가열하여 교반하였다. 여기에, 용량 20 mL의 별도의 플라스크에 제조한 말레산 무수물 0.26 g을 물 10.8 g에 용해한 말레산 무수물 수용액을 첨가하고, 60 ℃에서 추가로 4 시간 동안 가열, 교반하에 반응을 행하였다. 얻어진 반응 용액으로부터 용매를 증류 제거하고, 이어서 1-에톡시-2-프로판올을 첨가하여 재차 농축함으로써 다른 폴리오르가노실록산 (PS-1)을 10 중량％ 함유하는 중합체 용액을 얻었다. 다른 폴리오르가노실록산 (PS-1)의 중량 평균 분자량 Mw를 측정한 바, 5,100이었다.

<액정 배향제의 제조 및 보존 안정성의 평가>

실시예 A-1

[액정 배향제의 제조]

상기 실시예 S-1에서 얻은 감방사선성 폴리오르가노실록산 (S-1)의 100 중량부와, 다른 중합체로서 상기 합성예 PA-1에서 얻은 폴리아믹산 (PA-1)을 함유하는 용액의 폴리아믹산 (PA-1)로 환산하여 2,000 중량부에 상당하는 양을 취하고, 이것에 N-메틸-2-피롤리돈 및 부틸셀로솔브를 첨가하여 용매 조성이 N-메틸-2-피롤리돈:부틸셀로솔브=50:50(중량비), 고형분 농도가 3.0 중량％인 용액으로 하였다. 이 용액을 공경 1 ㎛의 필터로 여과함으로써, 액정 배향제 (A-1)을 제조하였다.

[보존 안정성의 평가]

이 액정 배향제 (A-1)을 -15 ℃에서 6개월간 보관하였다. 보관 전 및 후에 E형 점도계에 의해 25 ℃에서 점도를 측정하였다. 용액 점도의 보관 전후의 변화율이 10 ％ 미만인 경우를 보존 안정성 "양호", 10 ％ 이상인 경우를 보존 안정성 "불량"으로서 평가한 바, 액정 배향제 (A-1)의 보존 안정성은 "양호"하였다.

실시예 A-2 내지 A-16, A-18 내지 A-68, A-70 내지 A-89 및 A-91 내지 A-109

감방사선성 폴리오르가노실록산의 종류 및 다른 중합체의 종류 및 양을 각각 표 2에 기재된 바와 같이 한 것 이외에는, 실시예 A-1과 동일하게 하여 액정 배향제 (A-2) 내지 (A-16), (A-18) 내지 (A-68), (A-70) 내지 (A-89) 및 (A-91) 내지 (A-109)를 각각 제조하였다.

이들 액정 배향제에 대하여, 실시예 A-1과 동일하게 하여 각각 보존 안정성을 평가하였다. 평가 결과를 표 2에 나타내었다.

실시예 A-17

다른 중합체로서 상기 합성예 OE-1에서 얻은 다른 폴리오르가노실록산 (PS-1)을 함유하는 용액의 다른 폴리오르가노실록산 (PS-1)로 환산하여 2,000 중량부에 상당하는 양을 취하고, 이것에 상기 실시예 S-3에서 얻은 감방사선성 폴리오르가노실록산 (S-3)의 100 중량부를 첨가하고, 추가로 1-에톡시-2-프로판올을 첨가하여 고형분 농도 4.0 중량％의 용액으로 하였다. 이 용액을 공경 1 ㎛의 필터로 여과함으로써, 액정 배향제 (A-17)을 제조하였다.

이 액정 배향제 (A-17)에 대하여, 실시예 A-1과 동일하게 하여 보존 안정성을 평가하였다. 평가 결과를 표 2에 나타내었다.

실시예 A-69 및 A-90

사용한 감방사선성 폴리오르가노실록산의 종류를 표 2에 기재된 바와 같이 한 것 이외에는, 실시예 A-17과 동일하게 하여 액정 배향제 (A-69) 및 (A-90)을 각각 제조하였다.

이들 액정 배향제에 대하여, 실시예 A-1과 동일하게 하여 각각 보존 안정성을 평가하였다. 평가 결과를 표 2에 나타내었다.

<액정 표시 소자의 제조 및 평가>

실시예 D-1

[액정 배향막의 형성 및 액정 표시 소자의 제조]

ITO막을 포함하는 투명 전극 부착 유리 기판의 투명 전극면 위에 상기 실시예 A-1에서 제조한 액정 배향제 (A-1)을 스피너에 의해 도포하고, 80 ℃의 핫 플레이트에서 1분간 예비 베이킹을 행한 후, 계 내를 질소 치환한 오븐 중에서 200 ℃에서 1 시간 동안 가열하여 막 두께 0.1 ㎛의 도막을 형성하였다. 이어서, 이 도막 표면에 Hg-Xe 램프 및 글랜 테일러 프리즘을 사용하여 313 ㎚의 휘선을 포함하는 편광 자외선 200 J/㎡를 기판 법선으로부터 40° 경사진 방향으로부터 조사하여 액정 배향막으로 하였다. 동일한 조작을 반복하여, 액정 배향막을 갖는 기판을 1쌍(2매) 제조하였다.

상기 기판 중 1매의 액정 배향막을 갖는 면의 외주에 직경 5.5 ㎛의 산화알루미늄 구 함유 에폭시 수지 접착제를 스크린 인쇄에 의해 도포한 후, 1쌍의 기판의 액정 배향막면을 대향시켜 각 기판의 자외선 광축의 기판면으로의 투영 방향이 역평행해지도록 압착하고, 150 ℃에서 1 시간에 걸쳐서 접착제를 열 경화시켰다. 이어서, 액정 주입구로부터 기판 사이의 간극에 네가티브형 액정(머크사 제조, MLC-6608)을 충전한 후, 에폭시계 접착제로 액정 주입구를 밀봉하였다. 또한, 액정 주입시의 유동 배향을 제거하기 위해, 이것을 150 ℃로 가열한 후 실온까지 서서히 냉각하였다. 이어서, 기판의 외측 양면에 편광판을 그 편광 방향이 서로 직교하고, 액정 배향막의 자외선의 광축의 기판면으로의 사영 방향과 45°의 각도를 이루도록 접합함으로써 액정 표시 소자를 제조하였다.

이 액정 표시 소자에 대하여, 이하의 방법에 의해 평가하였다. 평가 결과는 표 3에 나타내었다.

(1) 액정 배향성의 평가

상기에서 제조한 액정 표시 소자에 대하여, 실온에서 5 V의 전압을 ONㆍOFF(인가ㆍ해제)했을 때의 명암 변화에서의 이상 도메인의 유무를 광학 현미경에 의해 관찰하여, 이상 도메인이 없는 경우를 "양호"로 하였다.

(2) 프리틸트각의 평가

상기에서 제조한 액정 표시 소자에 대하여, 비특허 문헌 5(문헌 [T. J. Scheffer et. al. J. Appl. Phys. vol. 19, p.2013(1980)])에 기재된 방법에 준거하여 He-Ne 레이저광을 사용하는 결정 회전법에 의해 프리틸트각을 측정하였다.

(3) 전압 유지율의 평가

상기에서 제조한 액정 표시 소자에 대하여, 60 ℃의 환경 온도에서 5 V의 전압을 60 마이크로초의 인가 시간, 167 밀리초의 스팬(span)으로 인가한 후, 인가 해제로부터 167 밀리초 후의 전압 유지율을 측정하였다. 측정 장치는 (주)도요 테크니카 제조, 형식 "VHR-1"을 사용하였다.

(4) 프리틸트각 안정성의 평가

상기에서 제조한 액정 표시 소자를 23 ℃에서 30일간 보관한 후, 다시 프리틸트각을 측정하였다. 초기값으로부터의 변화량이 1° 미만인 경우, 프리틸트각 안정성 "양호"로 하였다.

실시예 D-2 내지 D-109

사용한 액정 배향제의 종류를 표 3에 기재된 바와 같이 한 것 이외에는, 실시예 D-1과 동일하게 하여 액정 배향막을 형성하고, 액정 표시 소자를 제조하여 평가하였다.

결과를 표 3에 나타내었다.

실시예 T-1

ITO막을 포함하는 투명 전극 부착 유리 기판의 투명 전극면 위에 상기 실시예 A-46에서 제조한 액정 배향제 (A-46)을 스피너에 의해 도포하고, 80 ℃의 핫 플레이트에서 1분간 예비 베이킹을 행한 후, 계 내를 질소 치환한 오븐 중에서 210 ℃에서 20분간 가열하여 막 두께 80 ㎚의 도막을 형성하였다.

ULVAC-PHI사 제조의 ToF-SIMS 측정 장치를 사용하여, 일차 이온원으로서 가속 전압 25 kV의 Bi₃ ⁺⁺ 클러스터 이온을 사용하고, 이온 전류 0.05 pA, 측정 시야 100 ㎛, 측정 질량 범위 0 내지 1,850 amu의 조건으로 상기에서 형성한 도막면에 대하여 C₆₀ 스퍼터와 ToF-SIMS 분석을 반복하여 ITO에서 유래하는 인듐 이온이 검출될 때까지 측정을 행하고, 인듐 이온이 검출된 시점에 도막 표면으로부터 80 ㎚의 깊이에 도달한 것으로서, 도막의 막 두께 방향에서의 조성 분포를 조사하였다. 이 때의 m/z=231의 단편의 천을 나타내는 그래프를 도 1(존재 분포) 및 도 2(적산값)에 나타내었다. 또한, 이들 도에 나타낸 그래프는 각각의 깊이에서의 해당 단편의 카운트수를 노이즈 레벨로 할당하여 규격화한 것이다.

상기 m/z=231의 단편은 신남산 유도체 (2-4-2)에서 유래하는 하기 화학식으로 표시되는 단편에 상당한다고 생각된다. 따라서 도 1의 결과로부터, 본 실시예에서 형성한 도막 중 (A) 신남산 유도체에서 유래하는 기는 도막 표면에서 가장 높은 농도로 존재하고, 표면으로부터 두께 20 ％ 정도의 범위(많아도 30 ％의 범위)에 편재하고 있는 것으로 강하게 추측된다.

[도 1] 실시예 T-1에서 ToF-SIMS에 의해 관측한 m/z=231의 단편의 막 두께 방향에서의 존재 분포를 나타내는 그래프이다.

[도 2] 실시예 T-1에서 ToF-SIMS에 의해 관측한 m/z=231의 단편의 막 두께 방향에서의 존재의 적산값을 나타내는 그래프이다.

Claims (11)

1. 하기 화학식 1로 표시되는 반복 단위를 갖는 폴리오르가노실록산, 그의 가수분해물 및 가수분해물의 축합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상과,

   (A) 카르복실기, 수산기, -SH, -NCO, -NHR(단, R은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기임), -CH=CH₂ 및 -SO₂Cl로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 기를 갖는 신남산 유도체 및

   (B) 카르복실기, 수산기, -SH, -NCO, -NHR(단, R은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기임), -CH=CH₂ 및 -SO₂Cl로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 기 및 광증감성 구조를 갖는 화합물

   을 반응시켜 얻어지는 감방사선성 폴리오르가노실록산을 함유하는 것을 특징으로 하는 액정 배향제.

   <화학식 1>

   

   (화학식 1 중, X¹은 에폭시기를 갖는 1가의 유기기이고, Y¹은 수산기, 탄소수 1 내지 10의 알콕실기, 탄소수 1 내지 20의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 20의 아릴기임)
2. 제1항에 있어서, 상기 (A) 신남산 유도체가 하기 화학식 2로 표시되는 화합물 또는 하기 화학식 3으로 표시되는 화합물인 액정 배향제.

   <화학식 2>

   

   (화학식 2 중, R¹은 지환식기를 포함하는 탄소수 3 내지 40의 1가의 유기기 또는 탄소수 1 내지 40의 알킬기이되, 단, 상기 알킬기의 수소 원자의 일부 또는 전부는 치환되어 있지 않거나 불소 원자로 치환되어 있고, R²는 단결합, 산소 원자, -COO- 또는 -OCO-이고, R³은 2가의 방향족기, 2가의 지환식기, 2가의 복소환식기 또는 2가의 축합환식기이고, R⁴는 단결합, 산소 원자, -COO- 또는 -OCO-이고, R⁵는 단결합, 산소 원자, 황 원자, 메틸렌기, 탄소수 2 내지 10의 알킬렌기 또는 2가의 방향족기이고, R⁵가 단결합일 때 t는 1이며 R⁶은 수소 원자이고, R⁵가 메틸렌기, 알킬렌기 또는 2가의 방향족기일 때 t는 0 또는 1이며 R⁶은 카르복실기, 수산기, -SH, -NCO, -NHR, -CH=CH₂ 또는 -SO₂Cl이되, 단, 상기 R은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기이고, R⁷은 불소 원자 또는 시아노기이고, a는 0 내지 3의 정수이고, b는 0 내지 4의 정수임)

   <화학식 3>

   

   (화학식 3 중, R⁸은 지환식기를 포함하는 탄소수 3 내지 40의 1가의 유기기 또는 탄소수 1 내지 40의 알킬기이되, 단, 상기 알킬기의 수소 원자의 일부 또는 전부는 치환되어 있지 않거나 불소 원자로 치환되어 있고, R⁹는 산소 원자 또는 2가의 방향족기이고, R¹⁰은 산소 원자, -COO- 또는 -OCO-이고, R¹¹은 2가의 방향족기, 2가의 복소환식기 또는 2가의 축합환식기이고, R¹²는 단결합, -OCO-(CH₂)_e-* 또는 -O-(CH₂)_g-*이되, 단, 상기 e 및 g는 각각 1 내지 10의 정수이고, "*"는 각각 이 표시가 붙은 결합손이 R¹³과 결합하는 것을 나타내고, R¹³은 카르복실기, 수산기, -SH, -NCO, -NHR, -CH=CH₂ 또는 -SO₂Cl이되, 단, 상기 R은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기이고, R¹⁴는 불소 원자 또는 시아노기이고, c는 0 내지 3의 정수이고, d는 0 내지 4의 정수임)
3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 화학식 1에서의 기 X¹이 하기 화학식 (X¹- 1) 또는 (X¹-2)로 표시되는 기인 액정 배향제.

   

   (상기 화학식 중, "*"는 결합손인 것을 나타냄)
4. 제1항 또는 제2항에 있어서, (B) 광증감성 구조를 갖는 화합물에서의 광증감성 구조가 아세토페논 구조, 벤조페논 구조, 안트라퀴논 구조, 비페닐 구조, 카르바졸 구조, 니트로아릴 구조, 플루오렌 구조, 나프탈렌 구조, 안트라센 구조, 아크리딘 구조 및 인돌 구조로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인 액정 배향제.
5. 제1항 또는 제2항에 있어서, 추가로 폴리아믹산 및 폴리이미드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 중합체를 함유하는 액정 배향제.
6. 제1항 또는 제2항에 있어서, 추가로 하기 화학식 4로 표시되는 폴리오르가노실록산, 그의 가수분해물 및 가수분해물의 축합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상을 함유하는 액정 배향제.

   <화학식 4>

   

   (화학식 4 중, X²는 수산기, 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 20의 알킬기, 탄소수 1 내지 6의 알콕실기 또는 탄소수 6 내지 20의 아릴기이고, Y²는 수산기 또는 탄소수 1 내지 10의 알콕실기임)
7. 기판 위에 제1항 또는 제2항에 기재된 액정 배향제를 도포하여 도막을 형성하고, 상기 도막에 방사선을 조사하는 것을 특징으로 하는 액정 배향막의 형성 방법.
8. 제1항 또는 제2항에 기재된 액정 배향제로 형성된 것을 특징으로 하는 액정 배향막.
9. 제8항에 있어서, 상기 (A) 신남산 유도체에서 유래하는 기가 액정 배향막의 표면으로부터 두께 30 ％의 범위에 편재하고 있는 것을 특징으로 하는 액정 배향막.
10. 제1항 또는 제2항에 기재된 액정 배향제로 형성된 액정 배향막을 구비하는 것을 특징으로 하는 액정 표시 소자.
11. 하기 화학식 1로 표시되는 반복 단위를 갖는 폴리오르가노실록산, 그의 가수분해물 및 가수분해물의 축합물로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상과,

    (A) 카르복실기, 수산기, -SH, -NCO, -NHR(단, R은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기임), -CH=CH₂ 및 -SO₂Cl로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 기를 갖는 신남산 유도체 및

    (B) 카르복실기, 수산기, -SH, -NCO, -NHR(단, R은 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 6의 알킬기임), -CH=CH₂ 및 -SO₂Cl로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 기 및 광증감성 구조를 갖는 화합물

    을 반응시켜 얻어지는 것을 특징으로 하는 감방사선성 폴리오르가노실록산.

    <화학식 1>

    

    (화학식 1 중, X¹은 에폭시기를 갖는 1가의 유기기이고, Y¹은 수산기, 탄소수 1 내지 10의 알콕실기, 탄소수 1 내지 20의 알킬기 또는 탄소수 6 내지 20의 아릴기임)

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