KR101581398B1 - 공기 정화 장치 - Google Patents
공기 정화 장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR101581398B1 KR101581398B1 KR1020157005238A KR20157005238A KR101581398B1 KR 101581398 B1 KR101581398 B1 KR 101581398B1 KR 1020157005238 A KR1020157005238 A KR 1020157005238A KR 20157005238 A KR20157005238 A KR 20157005238A KR 101581398 B1 KR101581398 B1 KR 101581398B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- air
- plate
- photocatalyst
- housing
- plates
- Prior art date
Links
- 239000011941 photocatalyst Substances 0.000 claims abstract description 72
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims abstract description 6
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 39
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 34
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 34
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 33
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 27
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 26
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 claims description 17
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 claims description 16
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 claims description 15
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 239000004568 cement Substances 0.000 claims description 8
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 8
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 claims description 6
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims description 6
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims description 3
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims description 2
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 claims description 2
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 abstract description 35
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 abstract description 8
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 32
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 25
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 24
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 17
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 17
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 13
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004887 air purification Methods 0.000 description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 6
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 6
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 6
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 5
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 5
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 230000001699 photocatalysis Effects 0.000 description 4
- 239000005871 repellent Substances 0.000 description 4
- 230000004043 responsiveness Effects 0.000 description 4
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 4
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 229910001562 pearlite Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000002940 repellent Effects 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 239000000741 silica gel Substances 0.000 description 3
- 229910002027 silica gel Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000007751 thermal spraying Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000009471 action Effects 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000004332 deodorization Methods 0.000 description 2
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 2
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000809 Alumel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- 241000080590 Niso Species 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 239000002737 fuel gas Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 239000003350 kerosene Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 239000010893 paper waste Substances 0.000 description 1
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920005672 polyolefin resin Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 230000008569 process Effects 0.000 description 1
- 238000011403 purification operation Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 238000006479 redox reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- DECCZIUVGMLHKQ-UHFFFAOYSA-N rhenium tungsten Chemical compound [W].[Re] DECCZIUVGMLHKQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000010865 sewage Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 titanium alkoxide Chemical class 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
- 239000012780 transparent material Substances 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
- A61L9/00—Disinfection, sterilisation or deodorisation of air
- A61L9/01—Deodorant compositions
- A61L9/014—Deodorant compositions containing sorbent material, e.g. activated carbon
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
- A61L9/00—Disinfection, sterilisation or deodorisation of air
- A61L9/16—Disinfection, sterilisation or deodorisation of air using physical phenomena
-
- A—HUMAN NECESSITIES
- A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
- A61L—METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS IN GENERAL; DISINFECTION, STERILISATION OR DEODORISATION OF AIR; CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS OR SURGICAL ARTICLES
- A61L9/00—Disinfection, sterilisation or deodorisation of air
- A61L9/16—Disinfection, sterilisation or deodorisation of air using physical phenomena
- A61L9/18—Radiation
- A61L9/20—Ultraviolet radiation
- A61L9/205—Ultraviolet radiation using a photocatalyst or photosensitiser
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D35/00—Filtering devices having features not specifically covered by groups B01D24/00 - B01D33/00, or for applications not specifically covered by groups B01D24/00 - B01D33/00; Auxiliary devices for filtration; Filter housing constructions
- B01D35/02—Filters adapted for location in special places, e.g. pipe-lines, pumps, stop-cocks
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/02—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by adsorption, e.g. preparative gas chromatography
- B01D53/04—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols by adsorption, e.g. preparative gas chromatography with stationary adsorbents
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/38—Removing components of undefined structure
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
- B01D53/81—Solid phase processes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
- B01D53/86—Catalytic processes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
- B01D53/86—Catalytic processes
- B01D53/869—Multiple step processes
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D53/00—Separation of gases or vapours; Recovering vapours of volatile solvents from gases; Chemical or biological purification of waste gases, e.g. engine exhaust gases, smoke, fumes, flue gases, aerosols
- B01D53/34—Chemical or biological purification of waste gases
- B01D53/74—General processes for purification of waste gases; Apparatus or devices specially adapted therefor
- B01D53/86—Catalytic processes
- B01D53/88—Handling or mounting catalysts
- B01D53/885—Devices in general for catalytic purification of waste gases
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J21/00—Catalysts comprising the elements, oxides, or hydroxides of magnesium, boron, aluminium, carbon, silicon, titanium, zirconium, or hafnium
- B01J21/06—Silicon, titanium, zirconium or hafnium; Oxides or hydroxides thereof
- B01J21/063—Titanium; Oxides or hydroxides thereof
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
- B01J23/70—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of the iron group metals or copper
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J35/00—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
- B01J35/30—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by their physical properties
- B01J35/39—Photocatalytic properties
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J35/00—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
- B01J35/50—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by their shape or configuration
- B01J35/56—Foraminous structures having flow-through passages or channels, e.g. grids or three-dimensional monoliths
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
- B01J37/02—Impregnation, coating or precipitation
- B01J37/0215—Coating
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2253/00—Adsorbents used in seperation treatment of gases and vapours
- B01D2253/10—Inorganic adsorbents
- B01D2253/106—Silica or silicates
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2253/00—Adsorbents used in seperation treatment of gases and vapours
- B01D2253/10—Inorganic adsorbents
- B01D2253/106—Silica or silicates
- B01D2253/108—Zeolites
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2253/00—Adsorbents used in seperation treatment of gases and vapours
- B01D2253/25—Coated, impregnated or composite adsorbents
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2255/00—Catalysts
- B01D2255/20—Metals or compounds thereof
- B01D2255/207—Transition metals
- B01D2255/20707—Titanium
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2255/00—Catalysts
- B01D2255/20—Metals or compounds thereof
- B01D2255/207—Transition metals
- B01D2255/20776—Tungsten
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2255/00—Catalysts
- B01D2255/20—Metals or compounds thereof
- B01D2255/209—Other metals
- B01D2255/2094—Tin
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2255/00—Catalysts
- B01D2255/80—Type of catalytic reaction
- B01D2255/802—Photocatalytic
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2257/00—Components to be removed
- B01D2257/70—Organic compounds not provided for in groups B01D2257/00 - B01D2257/602
- B01D2257/708—Volatile organic compounds V.O.C.'s
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2257/00—Components to be removed
- B01D2257/90—Odorous compounds not provided for in groups B01D2257/00 - B01D2257/708
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Biomedical Technology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Animal Behavior & Ethology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Public Health (AREA)
- Veterinary Medicine (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
- Disinfection, Sterilisation Or Deodorisation Of Air (AREA)
- Treating Waste Gases (AREA)
Abstract
공기 흡입구(17) 및 공기 배출구(18)를 가지는 함체(函體)(11)와, 함체(11) 내에 설치되고, 흡착제 및 적어도 한쪽 면 측에 부착되는 광 촉매를 가지는 판재(13)를 구비하는 공기 정화 장치(10)에 있어서, 함체(11)가 광 인입창(14)을 가지고, 판재(13)는, 한쪽 면 측이 광 인입창(14)과 대향하고, 또한 공기 흡입구(17)와 공기 배출구(18)의 사이에 형성되는 공기 유통 경로를 따라 설치되어 있다. 이에 따라, 우수한 정화 성능을 가지고, 러닝 코스트를 억제할 수 있는 공기 정화 장치(10)를 제공한다.
Description
본 발명은, 광 촉매의 기능에 의해 공기를 정화하는 공기 정화 장치에 관한 것이다.
산화 티탄을 비롯한 광 촉매는, 광이 조사(照射)되는 것에 의해 유기물의 분해 기능 등을 발현한다. 광 촉매의 이 기능을 이용한 다양한 제품이 많이 제안되어 있다. 이들 제품 중에서도, 특히 공기 중의 취기(臭氣)(유기물) 성분을 광 촉매에 의해 분해하고, 공기를 정화하는 디바이스나 필터의 개발이 활발히 행해지고 있다. 이와 같은 것으로서는, 예를 들면, 광 촉매를 흡착제와 조합함으로써 탈취 속도를 향상시키는 것이나(특허 문헌 1 참조), 광 촉매와 제올라이트를 조합함으로써 에틸렌의 분해 속도를 향상시키는 것(특허 문헌 2 참조)이 제안되어 있다.
그러나, 종래의 공기 정화 장치는, 광 촉매가 부착되어 있는 기재(基材)로 공기를 통과시키는 구조를 가지므로, 많은 촉매를 기재에 부착시킬 수 없으므로, 정화 성능이 불충분하였다. 또한, 블랙라이트 등의 광원을 사용하여 광 촉매의 기능을 발현시키고 있으므로, 러닝 코스트(running cost)의 며에서 개량이 요구되고 있다.
본 발명은 상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위해 이루어진 것이며, 우수한 정화 성능을 가지고, 러닝 코스트를 억제할 수 있는 공기 정화 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적에 따른 본 발명에 관한 공기 정화 장치는, 공기 흡입구 및 공기 배출구를 가지는 함체(函體), 및
상기 함체 내에 설치되고, 흡착제 및 적어도 한쪽 면 측에 부착되는 광 촉매를 가지는 판재
를 구비하는 공기 정화 장치에 있어서,
상기 함체가 광 인입창을 가지고,
상기 판재는, 상기 한쪽 면 측이 상기 광 인입창과 대향하고, 또한 상기 공기 흡입구와 상기 공기 배출구의 사이에 형성되는 공기 유통 경로를 따라 설치되어 있다.
본 발명에 관한 공기 정화 장치에 의하면, 판재가 흡착제 및 광 촉매를 가지므로, 배기 가스 등의 공기에 포함되는 유기물 등을 흡착시키면서, 광 촉매에 의해 분해할 수 있다. 특히, 판재가 공기 유통 경로를 따라 설치되어 있는, 즉 정화되는 공기는 이 판재를 따라 유통하는 구조로 되어 있으므로, 충분한 양의 광 촉매가 부착된 판재를 사용할 수 있어, 정화 성능을 높일 수 있다. 또한, 태양광을 받아들여 광 촉매의 기능을 발현시킬 수 있으므로, 러닝 코스트를 억제할 수 있다. 그리고, 「판재의 한쪽 면 측이 광 인입창과 대향한다」란, 광 인입창의 외측으로부터 판재를 본 경우, 이 판재의 한쪽 면 측이 육안으로 관찰할 수 있도록 배치되는 것을 말하며, 판재의 한쪽 면이 광 인입창에 대하여 평행하게 마주보고 있는 상태로 한정되는 것은 아니다.
본 발명에 관한 공기 정화 장치에 있어서, 상기 판재가 공기 유통 방향에서 볼 때 파형 또는 지그재그형으로 설치되어 있는 것이 바람직하다. 이와 같이 함으로써, 판재로의 광의 조사 면적 및 유통하는 공기와의 접촉 면적을 모두 증가시킬 수 있어, 정화 성능을 더욱 높일 수 있다. 여기서, 「판재가 파형 또는 지그재그형으로 설치되어 있는」이란, 복수 장의 판이 파형 또는 지그재그형으로 설치되어 있는 것으로 한정되지 않고, 그 외에 1장의 파형 판 등이 그대로 설치되어 있는 것도 포함한다.
본 발명에 관한 공기 정화 장치에 있어서, 상기 함체가, 내면 측으로 노출되고, 상기 흡착제보다 비열이 작은 금속 부재를 가지는 것이 바람직하다. 본 발명에 관한 공기 정화 장치는, 통상, 태양광에 의해 작동시키기 때문에 옥외에 설치된다. 그러므로, 밤낮의 온도차 등에 의해 함체 내부에 결로가 생길 가능성이 높고, 이 결로가 흡착제에 흡착되어 흡착제 및 광 촉매의 기능이 저하되는 경우가 있다. 이에, 이와 같이 함체에 비열이 작은 금속 부재를 배치하여 둠으로써, 결로를 이 금속 부재 표면에 우선적으로 발생시켜, 판재로의 결로의 발생을 억제할 수 있다. 또한, 비열이 작은 금속제의 금속 부재를 가짐으로써, 아침 등의 기온의 상승이나 고온의 배기 가스 공급 시, 함체 내부의 온도 상승이 빨라지는 것에 의해 생긴 결로를 비교적 짧은 시간에 증발시킬 수 있다.
본 발명에 관한 공기 정화 장치에 있어서, 상기 금속 부재가, 상기 함체의 측판 및 바닥판 중 어느 한쪽 또는 양쪽인 것이 바람직하다. 이와 같이, 어느 정도의 크기를 가지는 측판 및/또는 바닥판을 금속 부재로 함으로써, 상기 작용을 효과적으로 발현시킬 수 있다.
본 발명에 관한 공기 정화 장치에 있어서, 상기 금속 부재가, 상기 판재를 고정시키는 고정 부재인 것도 바람직하다. 이와 같이 함으로써, 판재의 안정성이 높아지는 동시에, 전술한 작용을 충분히 발현시킬 수 있다.
본 발명에 관한 공기 정화 장치에 있어서, 상기 판재가, 상기 흡착제를 포함하는 기판을 가지고, 상기 광 촉매가 상기 기판의 한쪽 면 측으로의 도포 또는 용사(溶射)에 의해 상기 판재의 상기 한쪽 면 측에 부착되어 있는 것이 바람직하다. 이와 같이 하면, 기판에서의 다른쪽 면 측은, 흡착제는 충분히 존재하는 한편, 광 촉매의 부착이 없거나 또는 적어진다. 따라서, 결로 등이 생긴 경우에도, 기판의 다른쪽 면 측으로 우선적으로 수분이 흡착하여, 한쪽 면 측에 부착되어 있는 광 촉매에 대한 영향을 억제할 수 있다.
본 발명에 관한 공기 정화 장치에 있어서, 상기 흡착제가 소수성(疏水性)을 가지는 것이 바람직하다. 이와 같이 함으로써, 흡착제로의 수분의 흡착이 억제되어, 정화 성능을 높일 수 있다.
본 발명에 관한 공기 정화 장치에 있어서, 상기 함체가 경사지게 배치되는 것이 바람직하다. 이와 같이 함으로써, 태양광의 인입 효율을 높일 수 있다. 또한, 함체의 바닥판도 경사지므로, 바닥판 상에 발생한 결로를 효율적이고 또한 용이하게 함체 밖으로 배출할 수 있다.
본 발명에 관한 공기 정화 장치는, 높은 정화 성능을 가지고, 러닝 코스트를 억제할 수 있다.
도 1은 본 발명의 일 실시예에 관한 공기 정화 장치의 모식적 평면도이다.
도 2는 도 1에서의 A-A 화살표를 따라 보았을 때의 모식적 단면도이다.
도 3은 상기 공기 정화 장치의 설치 상태를 나타낸 모식적 측면도이다.
도 4는 상기 공기 정화 장치의 제조에 사용되는 고속 용사 장치의 모식도이다.
도 2는 도 1에서의 A-A 화살표를 따라 보았을 때의 모식적 단면도이다.
도 3은 상기 공기 정화 장치의 설치 상태를 나타낸 모식적 측면도이다.
도 4는 상기 공기 정화 장치의 제조에 사용되는 고속 용사 장치의 모식도이다.
이어서, 첨부한 도면을 참조하면서 본 발명을 구체화한 실시예에 대하여 설명한다. 도 1 및 도 2에 나타낸 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 관한 공기 정화 장치(10)는, 함체(11), 및 함체(11) 내에 설치되는 3장의 칸막이판(12a∼12c), 및 흡착제와 광 촉매를 가지는 16장의 판재(13)를 주로 구비한다.
함체(11)는 대략 직육면체이며, 천정판이 되는 광 인입창(14), 4장의 측판(15a∼15d) 및 바닥판(16)을 가진다. 또한, 함체(11)는, 하나의 측판(15a)에 설치된 공기 흡입구(17)와 공기 배출구(18)를 가진다.
함체(11)의 사이즈는, 특별히 한정되지 않고, 설치하는 장소나 처리하는 공기(배기 가스 등)의 양 등에 따라 적절하게 설정할 수 있다. 예를 들면, 세로 50 cm∼2 m, 가로 1 m∼10 m, 높이 5 cm∼30 cm로 할 수 있다.
광 인입창(14)은, 투명 재료로 형성되어 있는 직사각형의 판상체이다. 광 인입창(14)의 재질로서는, 투명하며 또한 소정의 강도, 내구성(耐久性)을 가지는 것이면 특별히 한정되지 않으며, 예를 들면, 유리나, 아크릴 수지, PET 수지, 폴리올레핀 수지 등의 합성 수지 등이 있다.
4장의 측판(15a∼15d)은 직사각형의 판상체이며, 광 인입창(14)의 각각의 에지와 바닥판(16)의 각각의 에지를 연결하도록 각각 배치되어 있다. 측판(15a∼15d)의 재질은, 특별히 한정되지 않고, 또한 투명할 수도 있고 불투명할 수도 있다. 측판(15a∼15d)의 구체적인 재질로서는, 예를 들면, 금속, 세라믹스, 유리, 합성 수지, 목재 등이지만, 금속이 바람직하고, 판재(13)가 가지는 흡착제보다 비열이 작은 금속이 더욱 바람직하다. 측판(15a∼15d)에 이와 같은 금속 부재를 사용함으로써, 야간 등에 결로를 이 측판(15a∼15d)의 표면에 우선적으로 발생시켜, 판재(13)로의 결로의 발생을 억제할 수 있다. 또한, 비열이 작은 금속제의 측판(15a∼15d)을 가짐으로써, 아침 등의 기온의 상승이나 고온의 배기 가스의 공급 시에, 함체(11) 내부의 온도 상승이 빨라져서 생긴 결로를 비교적 짧은 시간에 증발시킬 수 있다.
측판(15a∼15d)에 사용되는 금속 부재로서는, 철, 알루미늄, 동, 티탄 또는 이들의 합금(스테인레스강, 갈바륨강 등)을 예로 들 수 있다. 또한, 이 금속 부재는, 부식 방지를 위해 도금이나 수지의 도포 등의 표면 처리가 행해져 있어도 된다.
하나의 측판(15a)의 양단 부분에는, 공기(배기 가스 등)를 함체(11) 내에 흡입하는 공기 흡입구(17)와, 일단 흡입된 이 공기를 함체(11) 밖으로 배출하는 공기 배출구(18)가 설치되어 있다. 공기 흡입구(17)는, 공장의 배기 가스용 덕트(duct)(24)와 연결되어 있다. 이 공기 흡입구(17)는, 흡입하는 공기의 양을 조정하기 위한 유량 조정 밸브가 포함하고 있어도 된다. 공기 배출구(18)는, 바닥판(16) 측(도 1에서의 이면측(裏面側))이 개구되어, 대략 아래 방향으로 공기가 배출되도록 형성되어 있다.
바닥판(16)은, 광 인입창(14)(천정판)과 대향 배치되고, 광 인입창(14)과 동일 형상(직사각형)의 판상체이다. 바닥판(16)의 재질로서는, 예를 들면, 금속, 세라믹스, 유리, 합성 수지, 목재 등이 있지만, 측판(15a∼15d)과 동일한 이유로, 금속이 바람직하고, 판재(13)가 가지는 흡착제보다 비열이 작은 금속이 더욱 바람직하다. 바닥판(16)에 사용되는 금속 부재로서는, 철, 알루미늄, 동, 티탄 또는 이들의 합금(스테인레스강, 갈바륨강 등)을 예로 들 수 있다. 또한, 이 금속 부재는, 부식 방지를 위해 도금이나 수지의 도포 등의 표면 처리가 행해져 있어도 된다.
바닥판(16)의 내측 표면에 있어서 측판(15d)이 적층되어 있는 부분(도 3에 나타낸 바와 같이 경사지게 배치했을 때의 하단 에지 부분 )에는, 대략 등 간격으로 복수의 드레인 홈이 형성되어 있다. 이 드레인 홈과 측판(15d)의 바닥면에서 드레인 구멍이 형성되고, 경사지게 배치했을 때 바닥판(16)의 내측 표면에 생기는 결로를 계외(함체(11)의 밖)로 배출할 수 있다.
바닥판(16)의 내측 표면의 전체면에는, 1 또는 복수의 미세한 홈이 형성되어 있어도 된다. 이 홈은, 결로의 유통로로서 기능할 수 있다. 이 홈은, 전술한 드레인 홈과 일체로 형성되어 있어도 된다. 바닥판(16)이 이와 같이 내측 표면의 전체면에 홈을 가짐으로써, 바닥판(16)의 표면에 생긴 결로를 이 홈을 통해 계외(함체(11)의 밖)로 효율적으로 배출할 수 있다. 이 홈은, 예를 들면, 함체(11)의 경사 방향(폭 방향)과 동일하거나 또는 경사지게 하여 형성할 수 있다.
3장의 칸막이판(12a∼12c)은, 함체(11)의 길이 방향을 따라(하나의 측판(15a)에 대하여 수직인 방향으로) 서로 평행하게 또한 등 간격으로 설치되어 있다. 또한, 칸막이판(12a∼12c)은, 바닥판(16)에 대하여 수직으로 설치되어 있다. 칸막이판(12a∼12c)의 길이는, 바닥판(16)의 길이 방향의 길이보다 약간 짧아져 있다. 칸막이판(12a 및 12c)은, 측판(15a)과 연결되고, 측판(15a)에 대향하는 위치에 있는 측판(15c)과는 연결되지 않도록 설치된다. 또한, 칸막이판(12b)은, 측판(15a)과는 연결되지 않고, 측판(15a)에 대향하는 위치에 있는 측판(15c)과 연결하도록 설치된다. 이와 같이 칸막이판(12a∼12c)이 설치됨으로써, 공기 흡입구(17)로부터 흡입되는 공기가, 함체(11) 내에 있어서, 측판(15a과 15c)의 사이를 왕복하도록 지그재그로 유통하고, 최종적으로 공기 배출구(18)로부터 배출되도록 공기 유통 경로가 형성된다.
칸막이판(12a∼12c)의 두께는 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 3 ㎜ 이상 3 cm 이하 정도로 할 수 있다. 또한, 칸막이판(12a∼12c)의 높이는, 함체(11)의 광 인입창(14)과 바닥판(16)에 함께 접촉될 수 있는 높이로 되어 있다. 즉, 칸막이판(12a∼12c)의 높이는, 함체(11)의 측판(15a∼15d)의 높이와 같다.
칸막이판(12a∼12c)의 재질은, 특별히 제한되지 않고, 금속, 세라믹스, 유리, 합성 수지, 목재 등을 예로 들 수 있다. 그리고, 측판(15a∼15d)과 동일한 이유로, 금속제로 할 수 있다. 또한, 흡착제 및/또는 광 촉매를 가지는 칸막이판으로 해도 된다. 흡착제 및/또는 광 촉매를 가지는 칸막이판으로서는, 후술하는 판재(13)와 동일한 판재 등을 사용할 수 있다.
각 판재(13)는, 흡착제 및 광 촉매를 가지지만, 이 광 촉매는 적어도 한쪽 면 측에 부착되어 있다. 각 판재(13)는, 함체(11)의 길이 방향을 따라, 즉 칸막이판(12a∼12c)과 평행하게 설치되어 있다. 이와 같이 설치됨으로써, 판재(13)는, 각각 함체(11)와 칸막이판(12a∼12c)에 의해 형성되는 공기 유통 경로를 따라(평행하게) 설치된다. 판재(13)는, 측판(15b)과 칸막이판(12a)의 사이, 칸막이판(12a)과 칸막이판(12b)의 사이, 칸막이판(12b)과 칸막이판(12c)의 사이, 및 칸막이판(12c)과 측판(15d)의 사이에 각각 4장씩 배치되어 있다. 각각 4장의 판재(13)는, 2장씩으로 산(능선)을 형성하도록 배치되어 있다. 이와 같이 함으로써, 복수의 판재(13)가 공기 유통 방향에서 볼 때(함체(11)에서의 길이 방향에서 볼 때, 도 2의 단면 형상) 지그재그형으로 설치된다. 또한, 광 촉매가 부착되어 있는 한쪽 면 측이 광 인입창(14)(천정판)과 대향하도록(한쪽 면이 도 1에서의 표면측 및 도 2에서의 상측이 되도록) 배치되어 있다.
측판(15b)과 칸막이판(12a)의 사이에 배치되는 판재(13)의 길이는, 칸막이판(12a∼12c)과 동일하며, 이들은 측판(15a)과 접하고, 또한 측판(15c)과 접하지 않도록 배치되어 있다. 칸막이판(12c)과 측판(15d)의 사이에 배치되는 판재(13)의 길이도, 칸막이판(12a∼12c)과 동일하며, 이들은 측판(15a)과 접하고, 또한 측판(15c)과 접하지 않도록 배치되어 있다. 또한, 칸막이판(12a)과 칸막이판(12b)의 사이, 및 칸막이판(12b)과 칸막이판(12c)의 사이에 배치되는 판재(13)의 길이는, 칸막이판(12a∼12c)보다 짧고, 이들은 측판(15a 및 15c)에 접하지 않도록 배치되어 있다.
판재(13)의 두께는, 특별히 제한되지 않고, 예를 들면, 1 ㎜ 이상 2 cm 이하로 할 수 있다.
판재(13)로서는, 유리, 세라믹스, 금속, 합성 수지 등으로 형성되어 있는 기판 중 적어도 한쪽 면 측에 흡착제 및 광 촉매를 부착시켜 형성한 것, 흡착제를 포함하는 기판 중 적어도 한쪽 면 측에 광 촉매를 부착시켜 형성한 것 등을 사용할 수 있지만, 후자(흡착제를 포함하는 기판을 가지고, 광 촉매가 이 기판의 한쪽 면 측에 부착되어 있는 것)가 바람직하다. 이와 같이 하면, 기판에서의 다른쪽 면 측은 흡착제는 충분히 존재하는 한편 광 촉매의 부착이 없거나 또는 적게 되어 있다. 따라서, 결로 등이 생긴 경우에도, 기판의 다른쪽 면 측에 우선적으로 수분이 흡착하여, 한쪽 면 측에 부착되어 있는 광 촉매에 대한 영향을 억제할 수 있다.
흡착제로서는, 활성탄, 실리카겔, 제올라이트 등의 공지의 것을 사용할 수 있지만, 이들 중에서도 제올라이트가 바람직하다. 제올라이트로서는, 예를 들면, 부피 비중이 0.6∼0.8 g/cm3, 비표면적이 200∼400 m2/g, 세공 직경이 5∼10 Å인 것을 사용할 수 있다.
또한, 흡착제로서는, 소수성을 가지는 것이 바람직하다. 이와 같이 함으로써, 흡착제로의 수분의 흡착이 억제되어, 정화 성능을 높일 수 있다. 소수성을 가지는 흡착제로서는, 실리카/알루미나 비가 높은 소수성 제올라이트(예를 들면, 도소사에서 제조한 HSZ 시리즈 등)나, 제올라이트 등의 흡착제에 대하여 발수제(撥水劑)에 의해 소수화(疏水化) 처리한 것 등을 사용할 수 있다. 발수제로서는, 메틸트리메톡시실란, 페닐트리에톡시실란 등의 알콕시 실란, 헥사메틸디실라잔 등의 실라잔 등을 예로 들 수 있다. 그리고, 흡착제를 포함하는 기판에 대하여, 이 발수제에 의해 소수화 처리를 행할 수도 있다.
흡착제를 포함하는 기판으로서는, 실리카겔이나 제올라이트 등의 흡착제만으로 이루어지는 기판이나, 실리카겔이나 제올라이트 등의 흡착제와 다른 무기 재료(시멘트, 펄라이트(pearlite) 등) 등을 포함하는 기판 등을 예로 들 수 있다. 그리고, 다른 무기 재료로서 시멘트를 포함하는 경우, 이 시멘트가 흡착제의 바인더로서 기능한다. 또한, 펄라이트를 포함하는 경우, 다공질성의 향상 및 경량화를 도모할 수 있다. 기판에서의 제올라이트 등의 흡착제의 함유량으로서는, 50 질량% 이상이 바람직하고, 70 질량% 이상이 더욱 바람직하다. 기판에서의 시멘트의 함유량으로서는, 5 질량% 이상 30 질량% 이하가 바람직하다. 시멘트 함유량이 5 질량% 미만인 경우는, 바인더 기능을 충분히 발휘할 수 없을 우려가 있다. 반대로, 시멘트 함유량이 30 질량%를 초과하는 경우에는, 흡착성 등이 저하될 우려가 있다. 기판에는, 또한 다른 성분, 예를 들면, 폐지 등이 함유되어 있어도 된다.
그리고, 이 기판은, 다공질형인 것이 바람직하다. 이와 같은 다공질형의 기판을 사용하면, 광 촉매가 부착되어 있지 않은 다른쪽 면 측에 흡착된 유기물을, 광 촉매가 부착되어 있는 한쪽 면 측으로부터 방출할 수 있어, 이 유기물의 분해를 효과적으로 행할 수 있다.
광 촉매로서는, 광 촉매 기능을 가지는 화합물인 한 특별히 한정되지 않고, 공지의 것을 사용할 수 있다. 여기서, 광 촉매 기능이란, 광 반도체 물질로서, 가전자대(價電子帶)와 전도대의 사이의 밴드 갭 에너지보다 큰 에너지를 가지는 광이 조사되었을 때, 가전자대의 전자가 여기(勵起)되어 전도대로 천이하여 여기 전자로 되고, 가전자대에 형성되는 정공과 여기 전자의 사이에서 전자-정공 쌍을 생성하여, 산화 환원 반응을 유도하는 기능을 의미한다. 이와 같은 화합물로서는, 예를 들면, 이산화 티탄, 산화 텅스텐, 산화 주석 등이 있지만, 이산화 티탄이 바람직하다. 이산화 티탄으로서는, 루틸형 결정 구조를 가지는 것이나, 아나타제형 결정 구조를 가지는 것 등이 있다.
그리고, 판재(13)로서는, 흡착제로서 제올라이트를 포함하는 다공질형의 기판에 대하여, 광 촉매로서 이산화 티탄을 용사 등에 의해 분산시켜 부착시킨 것이 바람직하다. 다공질형의 제올라이트에 분산 상태로 부착된 이산화 티탄은, 그 국소 구조와 전자 상태가 연속적으로 변화되므로, 광 촉매 활성이 향상된다.
광 촉매로서는, 가시광 응답성을 가지는 광 촉매인 것이 바람직하다. 이와 같이 가시광 응답성을 가지는 광 촉매를 사용함으로써, 정화 작용 시에 태양광을 더욱 효과적으로 활용할 수 있다.
가시광 응답성을 가지는 광 촉매란, 자외광 영역의 광에 뿐만 아니라, 가시광(360 ㎚∼830 ㎚) 영역의 광의 조사에 의해 촉매 활성을 발현하는 광 촉매를 말한다. 이와 같은 가시광 응답성 광 촉매로서는, (1) 이산화 티탄 결정 격자 중에, 질소, 탄소 및 유황 원자 중 어느 하나 이상을 도핑한 것이나, (2) 증감제를 담지한 광 촉매 등을 예로 들 수 있다.
상기 (1)의 가시광 응답성 광 촉매는, 공지의 제조 방법에 의해 얻을 수 있다. 예를 들면, 티오 요소 등의 유황원을 혼합한 티탄 알콕시드를 원료로 한 졸-겔 법에 의해 유황 도핑에 의해 산화 티탄을 얻을 수 있다.
상기 (2)의 가시광 응답성 광 촉매가 담지하는 증감제란, 가시광에 의해 여기 전자를 생성하고, 이산화 티탄 등의 광 촉매에 그 여기 전자를 공급하는 증감 기능을 가지는 것을 말한다. 증감제로서는, 예를 들면, 철, 동, 크롬, 니켈 등의 금속의 수산화물, 옥시 수산화물, 산화물 등이 있으며, 구체적으로는, 예를 들면, CuO, Cu(OH)2, FeO(OH), Fe(OH)3, Ni(OH)2, NiO(OH), Cr(OH)3, Cr2O(OH)4, Cr2O3 등이 있다.
기판에 대하여, 흡착제나 광 촉매를 부착시키는 방법으로서는, 도포나 용사 등의 공지의 방법을 이용할 수 있다. 이들 중에서도 용사에 의해 부착시키는 것이 바람직하다. 용사법을 이용함으로써, 바인더 성분 등의 사용을 억제하고, 또한, 광 촉매가, 용사한 기판 표면으로부터 기판 내부에 침투함으로써 광 촉매의 노출량이나 부착량을 증가시킬 수 있어, 분해 성능이 향상된다. 그리고, 용사법을 이용한 경우의 구체적 수순의 일례는 후술한다.
함체(11)는, 또한 복수의 봉형(棒形)의 상측 고정 부재(19)와 복수의 봉형의 하측 고정 부재(20)를 가지고 있다. 각각의 상측 고정 부재(19) 및 하측 고정 부재(20)는, 함체(11)(즉, 광 인입창(14), 바닥판(16))의 내측면으로 노출되고, 함체(11)에서의 폭 방향에 있어서는, 측판(15b)과 칸막이판(12a)의 사이, 칸막이판(12a)과 칸막이판(12b)의 사이, 칸막이판(12b)과 칸막이판(12c)의 사이, 및 칸막이판(12c)과 측판(15d)의 사이에 각각 4장씩 배치되어 있다. 또한, 각각의 상측 고정 부재(19) 및 하측 고정 부재(20)는, 함체(11)에서의 길이 방향에 있어서는, 4장이 대략 등 간격으로 배치되어 있다. 또한, 각각의 상측 고정 부재(19)는, 평면에서 볼 때 칸막이판(12a∼12c) 및 판재(13)에 대하여 수직인 방향으로, 또한 이 상측 고정 부재(19)의 하측에 설치되는 홈 구조부(22)에 의해 판재(13)를 상측으로부터 고정하도록 설치된다. 또한, 각각의 하측 고정 부재(20)는, 평면에서 볼 때 칸막이판(12a∼12c) 및 판재(13)에 대하여 수직인 방향으로, 또한 이 하측 고정 부재(20)의 상측에 설치되는 홈 구조부(23)에 의해 판재(13)를 하측으로부터 고정하도록 설치된다.
이 상측 고정 부재(19) 및 하측 고정 부재(20)의 재질로서는, 특별히 한정되지 않고, 예를 들면, 금속, 세라믹스, 유리, 합성 수지, 목재 등이 있지만, 금속이 바람직하고, 판재(13)가 가지는 흡착제보다 비열이 작은 금속이 더욱 바람직하다. 상측 고정 부재(19) 및 하측 고정 부재(20)에 이와 같은 금속 부재를 사용함으로써, 야간 등에 결로를 이 상측 고정 부재(19) 및 하측 고정 부재(20)의 표면에 우선적으로 발생시켜, 판재(13)로의 결로의 발생을 억제할 수 있다. 또한, 비열이 작은 금속제의 상측 고정 부재(19) 및 하측 고정 부재(20)를 가짐으로써, 아침 등의 기온의 상승이나 고온의 배기 가스의 공급 시에, 함체(11) 내부의 온도 상승이 빨라지는 것에 의해 생긴 결로를 비교적 짧은 시간에 증발시킬 수 있다.
도 3에 나타낸 바와 같이, 공기 정화 장치(10)는, 사용 시에, 함체(11)가 경사지도록, 경사 테이블(21) 상에 배치된다. 이 때, 공기 흡입구(17)가 상측으로, 공기 배출구(18)가 하측으로 되도록, 함체(11)의 폭 방향으로 경사지게 하여 배치된다. 그리고, 이 경사각 θ는, 사용되는 장소(위도)나, 계절 등에 따라 적절하게 설정하면 되지만, 예를 들면, 10° 이상 50° 이하로 할 수 있다.
공기 정화 장치(10)에 의하면, 판재(13)가 흡착제 및 광 촉매를 가지므로, 공기 흡입구(17)로부터 흡입되는 배기 가스 등의 공기에 포함되는 유기물 등을 흡착시키면서, 광 촉매에 의해 분해할 수 있다. 특히, 판재(13)가 함체(11) 및 칸막이판(12a∼12c)에 의해 형성되는 공기 유통 경로를 따라 설치되어 있는, 즉 정화되는 공기는 이 판재(13)를 따라 유통하는 구조로 되어 있으므로, 충분한 양의 광 촉매가 부착된 판재(13)를 사용할 수 있어, 정화 성능을 높일 수 있다. 또한, 태양광을 인입하여 광 촉매의 기능을 발현시킬 수 있으므로, 러닝 코스트를 억제할 수 있다. 그리고, 태양광은 광 인입창(14)으로부터 인입되어 각 판재(13)에 있어서 광 촉매가 부착되어 있는 한쪽 면 측(도 2에서의 상측의 면측)을 조사한다.
그리고, 함체(11) 내에 흡입되는 공기는, 판재(13)와 바닥판(16)에 의해 둘러싸여 판재(13)에서의 한쪽 면 측과는 반대측의 공간도 유통한다. 다만, 공기 유통 경로 중의 칸막이판(12a∼12c) 및 판재(13)가 존재하지 않는 영역(도 1에서의 함체(11)의 좌우 양단 부분)에 있어서, 공기가 섞이기 때문에, 분해는 충분히 진행된다. 또한, 판재(13)는, 공기 유통 방향에서 볼 때(도 1에서의 좌우 방향에서 볼 때, 도 2의 단면 형상) 지그재그형으로 설치되어 있다. 이에 따라, 판재(13)로의 광의 조사 면적 및 유통하는 공기와의 접촉 면적을 모두 증가시킬 수 있어, 정화 성능을 더욱 높일 수 있다.
여기서, 판재(13)의 형성 방법의 일례로서, 슬러리 조제 공정 및 용사 공정을 포함하는 용사법을 이용한 경우의 구체적 수순을 상세하게 설명한다.
1. 슬러리 조제 공정
본 공정에 있어서는, 광 촉매를 포함하는 입자 및 분산매를 용기(예를 들면, 교반조)에 공급하여 슬러리를 조제한다.
광 촉매를 포함하는 입자로서는, 통상 광 촉매로 이루어지는 입자(광 촉매 입자)를 포함하고, 그 외의 입자(바인더 입자 등)가 포함되어 있어도 된다.
슬러리에서의 광 촉매 입자(이산화 티탄 입자 등)의 함유량으로서는, 통상 1 질량% 이상 30 질량% 이하이며, 3 질량% 이상 15 질량% 이하가 바람직하고, 5 질량% 이상 10 질량% 이하가 더욱 바람직하다. 광 촉매 입자의 함유량이 1 질량% 미만인 경우는, 용사에 의해 얻어지는 막의 두께가 지나치게 작아져 충분한 기능을 발현할 수 없을 우려가 있다. 반대로, 이 함유량이 30 질량%를 초과하는 경우에는, 용사에 의해 얻어지는 막과 기판과의 열팽창율의 상이에 기인하여 용사에 의해 얻어지는 막의 내부에 응력이 발생하여, 균열이 생기기 쉽게 된다.
광 촉매 입자의 직경(2차 입자 직경)으로서는, 예를 들면, 0.5㎛ 이상 10㎛ 이하이며, 1㎛ 이상 5㎛ 이하가 더욱 바람직하다. 광 촉매 입자의 직경이 0.5㎛ 미만인 경우는, 입자의 운동 에너지가 저하하여 제막성이 저하될 우려가 있다. 반대로, 이 직경이 10㎛를 초과하는 경우에는, 분산성이 저하될 우려가 있다. 광 촉매 입자의 1차 입자 직경으로서는, 예를 들면, 10 ㎚ 이상 50 ㎚ 이하가 바람직하다. 이와 같은 범위의 1차 입자 직경으로 이루어지는 광 촉매 입자를 사용함으로써, 제조 비용을 억제하면서, 충분한 제막성 등을 발휘할 수 있다. 그리고, 본 명세서에서의 입자의 직경은, 동적 광 산란법에 의해 측정되는 값을 일컫는다.
광 촉매에 증감제를 담지시킴으로써 가시광 응답성을 발현시키는 경우에는, 철, 동, 크롬, 니켈 등의 수용성 금속 착체나 수용성 금속염을 슬러리에 함유시키면 된다. 이들 수용성 금속 착체나 수용성 금속염은, 용사했을 때 물과 반응하여 전술한 수산화물, 옥시 산화물 또는 산화물이 되고, 광 촉매 입자에 증감제로서 담지된다.
수용성 금속 착체로서는, 구체적으로는[Cu(NH3)4]2+, [Fe(CN)6]4-, [Fe(CN)6]3- 등을 예로 들 수 있고, 수용성 금속염으로서는, 구체적으로는 FeCl3, Fe2(SO4)3, Fe(NO3)3, CuSO4, Cu(NO3)2, CuCl2, Ni(NO3)2, NiCl2, NiSO4, Cr(NO3)3 등을 예로 들 수 있다.
수용성 금속 착체 및 수용성 금속염의 슬러리에서의 함유량으로서는, 광 촉매 입자 중의 금속 성분량(예를 들면, 티탄 성분량) 100 질량부에 대한 금속 성분량으로서, 0.05 질량부 이상 0.5 질량부 이하로 할 수 있다.
슬러리에 사용되는 분산매로서는, 통상 물이 사용되지만, 그 외에 알코올 등의 유기용매나, 물과 유기용매의 혼합물을 사용할 수도 있다.
슬러리에는, 분산성을 높이기 위하여, 계면활성제를 더 함유시킬 수 있다. 계면활성제로서는, 폴리 카르본산계 고분자 계면활성제 등의 음이온계 계면활성제나 비이온계 계면활성제 등을 예로 들 수 있다. 계면활성제의 함유량으로서는, 광 촉매를 포함하는 입자 100 질량부에 대하여 0.5 질량부 이상 3 질량부 이하가 바람직하다.
슬러리의 조제는, 용기에 광 촉매를 포함하는 입자 및 분산매를 공급하고, 교반함으로써 행할 수 있다. 그리고, 교반과 함께 또는 교반 대신 초음파 조사를 행할 수도 있다.
2. 용사 공정
본 공정에 있어서는, 슬러리 조정 공정에서 조제한 광 촉매를 포함하는 입자를 함유하는 슬러리를 기판 표면에 용사한다. 이 용사는 공지의 방법으로 행할 수 있지만, 고속 용사 장치를 사용하여, 낮은 온도의 고속 용사를 행하는 것이 바람직하다. 이와 같은 용사를 행함으로써, 예를 들면, 광 촉매 입자로서 아나타제형의 이산화 티탄 입자를 사용한 경우, 용사 시의 루틸형으로의 변태가 억제되고, 촉매 활성이 높은 용사 피막을 얻을 수 있다. 이하에서, 도 4를 참조하여 고속 용사 장치의 일례를 설명한다.
도 4에 나타낸 고속 용사 장치(30)는, 용사 건(31) 및 이 용사 건(31)의 선단(先端)에 장착된 슬러리 혼합부(32)를 주로 구비한다. 슬러리 혼합부(32)는, 용사 건(31)의 선단으로부터 분출하는 용사 프레임이 통과하는 통형의 프레임 가이드부(33)(배럴)와, 이 프레임 가이드부(33) 내를 통과하는 용사 프레임 중에 상기 슬러리(광 촉매를 포함하는 입자 등)를 분출시키고, 용사 프레임 중에 상기 슬러리를 혼입시키는 슬러리 분출 노즐(34)을 가지고 있다.
고속 용사 장치(30)를 사용하여, 용사 건(31)으로부터 용사 프레임을 분출시키면서, 펌프(35)에 의해 슬러리 탱크(36)에 저류(貯留)되어 있는 슬러리를 슬러리 혼합부(32)에 공급시킨다. 그리고, 용사 프레임은, 용사 건(31) 내의 연소실에서 고압의 연소 지원 가스(예를 들면, 공기+산소)와 연료 가스(예를 들면, 등유)를 혼합하고, 이 혼합 가스에 점화함으로써 형성된다. 또한, 용사 프레임의 분출처에 기판을 배치해 둔다. 이와 같이 함으로써, 프레임 가이드부(33)의 선단으로부터 분출하는 용사 프레임의 흐름을 타고 슬러리(광 촉매를 포함하는 입자 등)를 기판에 대하여 고속으로 충돌시킬 수 있어, 기판에 용사 피막을 형성할 수 있다.
용사의 조건으로서는, 프레임 온도가 700℃ 이상 2,000℃ 이하인 것이 바람직하고, 750℃ 이상 1,500℃ 이하인 것이 더욱 바람직하다. 또한, 프레임 분출 속도가 800 m/초 이상 2,000 m/초 이하인 것이 바람직하다. 용사 프레임의 온도가 700℃ 미만인 경우, 프레임 온도가 지나치게 낮아지기 때문에, 기판 표면에 안정적으로 피막을 형성하는 것이 곤란하게 된다. 한편, 용사 프레임의 온도가 2000℃를 초과하는 경우, 프레임 온도가 지나치게 높아지기 때문에, 예를 들면, 아나타제형 이산화 티탄을 사용한 경우, 아나타제형으로부터 루틸형으로 변태하는 이산화 티탄의 양이 증가하여, 이산화 티탄이 충분한 광 촉매 기능을 발휘할 수 없게 될 우려가 있다. 그리고, 프레임 온도는, 용사 프레임 중심선 상에서, 용사 건(31)의 선단으로부터 200 ㎜의 위치에서 측정한 온도로 한다. 또한, 온도의 측정은, 열전대(熱電對)(예를 들면, 1,000℃까지는 알루멜/크로멜, 1,000℃를 초과하면 텅스텐/텅스텐·레늄)를 사용하고, 열전대의 선단부를 용사 프레임에 삽입하여 행하고 이때 측정한 값을 프레임 온도로 한다.
본 발명은 상기한 실시예로 한정되지 않고, 본 발명의 요지를 변경시키지 않는 범위에서 그 구성을 변경할 수도 있다. 예를 들면, 칸막이판 및 판재의 장수는, 적절하게 변경할 수 있다. 판재로서, 복수 장의 평판을 사용할 수도 있고, 1장의 파형판(corrugated plate) 등을 사용할 수도 있다. 판재의 양면에 광 촉매가 부착되어 있어도 된다. 또한, 광 인입창이 천정판이 아닐 수도 있으며, 또는 천정판과 함께 측판에 형성되어 있을 수도 있다.
[실험예]
이하에서, 실험예에 따라, 본 발명의 내용을 보다 구체적으로 설명한다. 그리고, 본 발명은 이하의 실험예로 한정되는 것은 아니다.
도 1 및 도 2에 나타낸 형상의 공기 정화 장치를 제작하고, 도 3에 나타낸 바와 같이 경사지게 하여 옥외에 설치하였다. 그리고, 경사각 θ는 30°로 하였다. 또한, 판재로서는, 이하의 제올라이트 보드를 처리액(발수제(撥水劑): 신에쓰 실리콘사에서 제조한 KBM-13, 메틸트리메톡시실란)에 침지시켜 소수화 처리한 기판을 사용하였고, 이 기판의 한쪽 면 측에 고속 프레임 용사에 의해 이산화 티탄을 부착시킨 것을 사용하였다.
제올라이트 보드(조성)
·제올라이트(신도호쿠 화학사 제조): 77질량%
·화이트 시멘트(타이헤이요 시멘트사 제조): 15질량%
·펄라이트(pearlite)(미쓰이 금속광업사 제조): 4질량%
·폐지(신문지): 4질량%
제올라이트 물성
·입도: 0.2 ㎜ 이하 80%, 0.1 ㎜ 이하 70%
·부피 비중(bulk specific gravity): 0.65∼0.7 g/cm3
·비표면적(比表面的): 250∼300 m2/g
·세공(細孔) 직경: 6.5∼7 Å
·흡수율: 60∼80 질량%
제올라이트 조성
·SiO2: 72.1 질량%, Al2O3: 12.9 질량%, Fe2O3: 0.7 질량%, CaO: 2.6 질량%, K2O: 2.1 질량%, Na2O: 1.8 질량%, H2O: 7.0 질량%, 기타: 0.8 질량%
공급하는 공기로서, 도장 공정에서 생기는 VOC를 포함하는 배기 가스를 사용하였다. 이 배기 가스의 유량을 유량 조정 밸브에 의해 조정하였고, 6.5 m/s 및 5.6 m/s의 2가지 조건에 의해, 공기 정화 장치로의 공급 시의 VOC 농도(ppm)와 배출 시의 VOC 농도(ppm)를 측정하였다. 측정에는, 피가로 기연(技硏)에서 제조항 핸디 TVOC 모니터 FTVR-02를 사용하였다. 측정 결과를 표 1에 나타내었다.
[표 1]
표 1에 나타낸 바와 같이, 유량이 6.5 m/s 및 5.6 m/s의 어느 경우에도 약 60∼65 %의 VOC를 제거할 수 있는 것을 확인할 수 있었다.
[산업상 이용가능성]
본 발명에 따른 공기 정화 장치는, 탈취, 악취 제거 등을 목적으로 한 공장 배기 가스, 돈사, 하수처리장 등의 공기의 정화 장치로서 바람직하게 사용할 수 있다.
10: 공기 정화 장치, 11: 함체, 12a∼12c: 칸막이판, 13: 판재, 14: 광 인입창, 15a∼15d: 측판, 16: 바닥판, 17: 공기 흡입구, 18: 공기 배출구, 19: 상측 고정 부재, 20: 하측 고정 부재, 21: 경사 테이블, 22: 홈 구조부, 23: 홈 구조부, 24: 덕트, 30: 고속 용사 장치, 31: 용사 건, 32: 슬러리 혼합부, 33: 프레임 가이드부, 34: 슬러리 분출 노즐, 35: 펌프, 36: 슬러리 탱크
Claims (8)
- 공기 흡입구(17) 및 공기 배출구(18)를 측판(15a)에 가지고, 천정판이 투명 판재로 형성되어 있는 광 인입창(14)이 된 함체(函體)(11); 및
상기 공기 흡입구(17)로부터의 공기를 정화하여 상기 공기 배출구(18)로부터 배출하는 판재(13)
를 포함하는 공기 정화 장치(10)에 있어서,
상기 판재(13)는, 소수성(疏水性) 제올라이트를 70 중량 % 이상 95 중량% 이하, 바인더로서 시멘트를 5 중량 % 이상 30 중량 % 이하 포함하는 다공질형의 기판과, 상기 기판의 한쪽 면에 용사(溶射) 처리에 의해 분산 부착된 광촉매로서 기능하는 이산화티탄을 가지고,
직육면체형이 되는 상기 함체(11)는, 바닥판(16), 상기 측판(15a) 및 다른 측판(15b~15d)이, 철, 알루미늄, 동, 티탄 또는 이들의 합금으로 이루어지는 금속 부재로 이루어지고, 또한 상기 함체(11)는, 상기 공기 정화 장치(10)가, 공기 흡입구(17)가 상측으로, 공기 배출구(18)가 하측으로 되도록, 상기 함체(11)의 폭 방향으로 10° 이상 50° 이하의 범위에서 경사지게 배치되어 있고, 또한 상기 함체(11)의 하측 에지 부분에는 드레인 구멍이 형성되고,
4장의 상기 측판(15a∼15d)은 직사각형의 판상체이며, 상기 광 인입창(14)의 에지와 상기 바닥판(16)의 에지를 연결하도록 각각 배치되어 있고, 상기 바닥판(16)에 대하여 칸막이판(12a∼12c)은 수직으로 배치되어 있고, 상기 칸막이판(12a∼12c)은 2장의 상기 측판(15a, 15c)에 대해서는 수직인 방향으로, 나머지 2장의 상기 측판(15b, 15d)에 대해서는 평행하게 배치되어 있고, 상기 칸막이판(12a∼12c)에 의해 상기 함체(11) 내에 상기 측판(15a과 15c)의 사이를 왕복하도록 지그재그형으로 형성된 공기 유통 경로를 따라 상기 판재(13)가 설치되고, 또한 상기 판재(13)는 상기 이산화티탄이 부착되어 있는 한쪽 면을 상기 광 인입창(14)과 대향하도록 하여 공기 유통 방향에서 볼 때 파형으로 배치되고, 또한 파형으로 배치된 상기 판재(13)의 상하는 상측 고정 부재(19) 및 하측 고정 부재(20)로 고정되고, 상기 기판의 다른쪽 면 측에 흡착된 유기물은 상기 한쪽 면 측으로부터 방출되어 상기 이산화티탄에 의해 분해되는, 공기 정화 장치. - 제1항에 있어서,
상기 광촉매는 자외광 영역의 광뿐만 아니라 가시광 영역의 광의 조사에 의해 촉매 활성을 발현하는, 공기 정화 장치. - 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012256517A JP5674749B2 (ja) | 2012-11-22 | 2012-11-22 | 空気浄化装置 |
JPJP-P-2012-256517 | 2012-11-22 | ||
PCT/JP2013/080794 WO2014080830A1 (ja) | 2012-11-22 | 2013-11-14 | 空気浄化装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20150039812A KR20150039812A (ko) | 2015-04-13 |
KR101581398B1 true KR101581398B1 (ko) | 2015-12-30 |
Family
ID=50776013
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020157005238A KR101581398B1 (ko) | 2012-11-22 | 2013-11-14 | 공기 정화 장치 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5674749B2 (ko) |
KR (1) | KR101581398B1 (ko) |
CN (1) | CN104602794B (ko) |
WO (1) | WO2014080830A1 (ko) |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6608205B2 (ja) * | 2015-07-15 | 2019-11-20 | 株式会社フジコー | 脱臭装置 |
JP6581827B2 (ja) * | 2015-07-16 | 2019-09-25 | 株式会社フジコー | 脱臭装置 |
JP6727766B2 (ja) * | 2015-07-16 | 2020-07-22 | 株式会社フジコー | 畜産環境保全設備 |
CN105056704B (zh) * | 2015-08-06 | 2019-03-05 | 李锦翠 | 容器构件、容器、空气净化模块以及空气净化器 |
USD814007S1 (en) * | 2015-09-21 | 2018-03-27 | Stobi GmbH & Co. KG. | Evaporator |
CN105233642B (zh) * | 2015-11-20 | 2017-12-19 | 苏州韵蓝环保科技有限公司 | 一种便捷更换式光氧催化设备 |
CN105233685B (zh) * | 2015-11-20 | 2018-03-02 | 苏州韵蓝环保科技有限公司 | 一种光氧催化设备 |
CN105597526B (zh) * | 2015-11-20 | 2017-12-19 | 苏州韵蓝环保科技有限公司 | 一种多腔室型光氧催化设备 |
CN108472624B (zh) * | 2015-12-18 | 2022-03-18 | 3M创新有限公司 | 用于含氮化合物的含金属吸附剂 |
JP2019069430A (ja) * | 2017-10-11 | 2019-05-09 | 株式会社フジコー | 光触媒シートの製造方法及び光触媒シート |
AU2019391604A1 (en) * | 2018-12-07 | 2021-05-20 | Commonwealth Scientific And Industrial Research Organisation | Adsorption and desorption apparatus |
KR102172490B1 (ko) * | 2019-07-02 | 2020-11-02 | 임보라 | 다층구조의 공기정화용 필터 카트리지 |
KR102576124B1 (ko) * | 2021-11-10 | 2023-09-08 | 한국생산기술연구원 | 광촉매가 코팅된 탄소면상 발열체 열원 공급 삽입판이 적용된 이산화탄소 전환용 광촉매 기상 반응기 시스템 |
CN114992762B (zh) * | 2022-06-14 | 2023-04-18 | 哈尔滨医科大学 | 一种基于太阳能供能的紫外线空气消毒机 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003284926A (ja) | 2002-03-28 | 2003-10-07 | Nippon Shokubai Co Ltd | 光触媒を用いたガス浄化装置 |
JP2006014964A (ja) | 2004-07-02 | 2006-01-19 | Okaya Electric Ind Co Ltd | 浄化装置 |
JP2007209594A (ja) | 2006-02-10 | 2007-08-23 | Taisei Corp | 空気清浄効果を有するダクト型中空構造物および空気清浄方法 |
JP2012077997A (ja) | 2010-09-30 | 2012-04-19 | Taisei Corp | 空気清浄ダクト型中空構造物 |
Family Cites Families (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2574840B2 (ja) | 1988-01-22 | 1997-01-22 | 株式会社日立製作所 | 脱臭装置 |
JP3526592B2 (ja) * | 1993-06-24 | 2004-05-17 | 株式会社デンソー | 脱臭剤の製造方法 |
JP3517257B2 (ja) | 1993-06-30 | 2004-04-12 | 日揮ユニバーサル株式会社 | エチレン分解触媒 |
JPH1133357A (ja) * | 1997-07-17 | 1999-02-09 | Sumitomo Heavy Ind Ltd | 光触媒反応装置 |
JP2000126609A (ja) * | 1998-10-28 | 2000-05-09 | Mitsubishi Paper Mills Ltd | 光触媒コルゲート構造体およびそれを用いた光触媒脱臭部材、光触媒脱臭装置 |
JP2000197824A (ja) * | 1999-01-08 | 2000-07-18 | Kawasaki Steel Corp | 大気浄化用材料 |
JP2001120956A (ja) * | 1999-10-27 | 2001-05-08 | Babcock Hitachi Kk | 有害ガス処理装置 |
CN1208115C (zh) * | 2002-08-29 | 2005-06-29 | 中国科学院过程工程研究所 | 一种两维气-固气-液耦合流化床光催化空气净化系统 |
CN1220524C (zh) * | 2003-06-10 | 2005-09-28 | 侯受树 | 一种空气净化装置 |
JP2005131553A (ja) * | 2003-10-30 | 2005-05-26 | Keio Gijuku | 空気浄化装置及び浄化システム |
JP2005296726A (ja) * | 2004-04-07 | 2005-10-27 | Takenaka Komuten Co Ltd | 光触媒式ガス処理装置 |
JP2005329195A (ja) * | 2004-05-20 | 2005-12-02 | Enviro Medical Kk | 空気清浄機 |
JP2006325866A (ja) * | 2005-05-25 | 2006-12-07 | Central Japan Railway Co | 光触媒式空気清浄機 |
JP2007111143A (ja) * | 2005-10-19 | 2007-05-10 | Toshiaki Oguma | 浄化装置 |
TWI324948B (en) * | 2005-12-22 | 2010-05-21 | Ind Tech Res Inst | Photocatalystic composite material, method for producing the same and application thereof |
JP4806108B2 (ja) * | 2009-03-23 | 2011-11-02 | パナソニック株式会社 | 脱臭デバイス |
WO2011147095A1 (zh) * | 2010-05-28 | 2011-12-01 | Wu Fu-Chi | 空气滤清机的进气结构 |
-
2012
- 2012-11-22 JP JP2012256517A patent/JP5674749B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2013
- 2013-11-14 KR KR1020157005238A patent/KR101581398B1/ko active IP Right Grant
- 2013-11-14 CN CN201380045219.7A patent/CN104602794B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2013-11-14 WO PCT/JP2013/080794 patent/WO2014080830A1/ja active Application Filing
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003284926A (ja) | 2002-03-28 | 2003-10-07 | Nippon Shokubai Co Ltd | 光触媒を用いたガス浄化装置 |
JP2006014964A (ja) | 2004-07-02 | 2006-01-19 | Okaya Electric Ind Co Ltd | 浄化装置 |
JP2007209594A (ja) | 2006-02-10 | 2007-08-23 | Taisei Corp | 空気清浄効果を有するダクト型中空構造物および空気清浄方法 |
JP2012077997A (ja) | 2010-09-30 | 2012-04-19 | Taisei Corp | 空気清浄ダクト型中空構造物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN104602794B (zh) | 2016-03-16 |
JP5674749B2 (ja) | 2015-02-25 |
KR20150039812A (ko) | 2015-04-13 |
WO2014080830A1 (ja) | 2014-05-30 |
JP2014104371A (ja) | 2014-06-09 |
CN104602794A (zh) | 2015-05-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101581398B1 (ko) | 공기 정화 장치 | |
JP2014104371A5 (ko) | ||
Pham et al. | Selective removal of polar VOCs by novel photocatalytic activity of metals co-doped TiO2/PU under visible light | |
US8048391B2 (en) | Purifier comprising a photocatalytic filter | |
EP3088080B1 (en) | Ammonia decomposition catalyst | |
Ohko et al. | Photocatalytic oxidation of nitrogen dioxide with TiO2 thin films under continuous UV-light illumination | |
EP0993859A1 (en) | Three-dimensional, photocatalytic filter apparatus | |
WO2007026387A2 (en) | Photocatalytic filters that are coated with titanium dioxide suspensions and other substances and methods for obtaining such filters | |
Sheikhsamany et al. | Synthesis of novel HKUST-1-based SnO2 porous nanocomposite with the photocatalytic capability for degradation of metronidazole | |
CN109351167B (zh) | 一种空气净化装置 | |
US20160250372A1 (en) | Device for photocatalytic removal of volatile organic and inorganic contamination as well as microorganisms especially from automobile air conditioning systems | |
Di Paola et al. | Preparation and photoactivity of nanocrystalline TiO 2 powders obtained by thermohydrolysis of TiOSO 4 | |
WO2010109796A1 (ja) | 脱臭デバイス | |
JP5762149B2 (ja) | ジオキサン含有排水の処理方法 | |
Nasr-Esfahani et al. | Alumina/TiO 2/hydroxyapatite interface nanostructure composite filters as efficient photocatalysts for the purification of air | |
KR102058629B1 (ko) | 격자 정합에 의하여 기재 상에 촉매 성분이 고정된 광 촉매 구조물 및 이를 제조하는 방법 | |
JP5801121B2 (ja) | 多孔質セラミック、光触媒担持体及び浄化装置 | |
JP5627356B2 (ja) | 吸水材及びこれを利用した冷風扇 | |
JP4316064B2 (ja) | 酸化チタン系光触媒微粒子の製造方法 | |
KR100876031B1 (ko) | 가시광 응답형 광촉매 합성법, 광촉매 재료, 광촉매 도료및 광촉매체 | |
JP2000086497A (ja) | 立体光触媒フィルター及びフィルター装置 | |
JP2006136874A (ja) | 循環型汚水浄化方法 | |
JP2007007588A (ja) | フィルタ構造体および該フィルタ構造体を用いる空気浄化装置 | |
EP4331721A1 (en) | Catalytic system with photocatalyst and gas depollution apparatus containing the same | |
Zhang et al. | Al2O3-enhanced Macro/Mesoporous Fe/TiO2 for Breaking Down Nitric Oxide |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
A302 | Request for accelerated examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20181115 Year of fee payment: 4 |