KR101545389B1 - 3차원 집적 회로 적층을 위한 캐리어 휨 제어 - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 80
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 30
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims abstract description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims abstract description 5
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 4
- 239000012778 molding material Substances 0.000 claims description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 18
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims description 9
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 5
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 5
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 3
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 5
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 2
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 239000012876 carrier material Substances 0.000 description 1
- 230000006870 function Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000001465 metallisation Methods 0.000 description 1
- 238000012536 packaging technology Methods 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
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- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
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- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
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- H01L21/50—Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
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- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
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Abstract
패키지-온-패키지(PoP) 디바이스의 형성 방법의 실시예는, 캐리어 상에 기판을 일시적으로 실장하는 단계, 상기 기판 상에 제1 다이를 적층하는 단계, 및 상기 제1 다이 상에 제2 다이를 적층하는 단계를 포함하고, 상기 제1 다이와 기판 중 적어도 하나는 캐리어에 대해 부정합인 열팽창 계수를 갖는다. 기판은 유기 기판, 세라믹 기판, 실리콘 기판, 유리 기판, 및 라미네이트 기판 중 하나로부터 형성될 수 있다.
Description
본 출원은 2012년 8월 24일자로 출원되었고 발명의 명칭이 "Carrier Warpage Control for 3DIC Stacking"인 미국 가출원 제61/693,083호의 이익을 청구하는데, 상기 출원은 본 명세서에 참조로서 합체된다.
보다 작은 전자 제품에 대한 요구가 증대함에 따라, 전자 산업의 제조업자 등은 전자 제품에 사용되는 집적 회로의 크기를 감소시킬 방법을 계속 찾고 있다. 이와 관련하여, 3차원 타입의 집적 회로 패키징 기술이 개발되어 사용되고 있다.
개발된 한가지 패키징 기술은 패키지-온-패키지(PoP; Package-on-Package)이다. 명칭이 의미하는 바와 같이, PoP는 하나의 패키지를 다른 패키지의 상부에 적층하는 것을 수반하는 반도체 패키징의 기술 혁신이다. PoP 디바이스는 별개의 메모리와 로직 패키지들을 수직 방향으로 결합시킬 수 있다.
불운하게도, PoP 디바이스를 제조하는 데에 사용되는 종래의 프로세스는 패키지가 휘는 것을 충분히 방지할 수 없었다. 비교적 얇은 다이들 또는 집적 회로들이 적층되는 경우에 특히 그러하였다.
패키지-온-패키지(PoP) 디바이스의 형성 방법의 실시예는, 캐리어 상에 기판을 일시적으로 실장하는 단계, 상기 기판 상에 제1 다이를 적층하는 단계, 및 상기 제1 다이 상에 제2 다이를 적층하는 단계를 포함하고, 상기 제1 다이와 기판 중 적어도 하나는 캐리어에 대해 부정합인 열팽창 계수를 갖는다. 기판은 유기 기판, 세라믹 기판, 실리콘 기판, 유리 기판, 및 라미네이트 기판 중 하나로부터 형성될 수 있다.
본 개시 및 그 이점의 보다 완벽한 이해를 위해, 이하, 첨부 도면과 함께 취한 이하의 설명을 참조한다. 도면에서:
도 1a 내지 도 1i는 적층된 다이에서의 휨을 억제 또는 방지하도록 캐리어를 이용하여 PoP 디바이스를 형성하는 방법의 실시예를 집합적으로 예시하고;
도 2는 도 1a 내지 도 1i의 방법을 이용하여 형성된 PoP 디바이스의 실시예의 단면도를 예시하며;
도 3은 임의의 언더필 없이 도 1a 내지 도 1i의 방법을 이용하여 형성된 PoP 디바이스의 실시예의 단면도를 예시하고;
도 4는 기판의 측벽에서의 임의의 몰딩 없이 도 1a 내지 도 1i의 방법을 이용하여 형성되는 PoP 디바이스의 실시예의 단면도를 예시한다.
여러 도면에서 대응하는 번호 및 부호는 달리 지시되지 않는다면 일반적으로 대응하는 부품을 지칭한다. 도면은 실시예의 관련 양태를 명백하게 예시하도록 도시되어 있고 반드시 실척으로 도시되지 않았다.
도 1a 내지 도 1i는 적층된 다이에서의 휨을 억제 또는 방지하도록 캐리어를 이용하여 PoP 디바이스를 형성하는 방법의 실시예를 집합적으로 예시하고;
도 2는 도 1a 내지 도 1i의 방법을 이용하여 형성된 PoP 디바이스의 실시예의 단면도를 예시하며;
도 3은 임의의 언더필 없이 도 1a 내지 도 1i의 방법을 이용하여 형성된 PoP 디바이스의 실시예의 단면도를 예시하고;
도 4는 기판의 측벽에서의 임의의 몰딩 없이 도 1a 내지 도 1i의 방법을 이용하여 형성되는 PoP 디바이스의 실시예의 단면도를 예시한다.
여러 도면에서 대응하는 번호 및 부호는 달리 지시되지 않는다면 일반적으로 대응하는 부품을 지칭한다. 도면은 실시예의 관련 양태를 명백하게 예시하도록 도시되어 있고 반드시 실척으로 도시되지 않았다.
본 실시예의 제조 및 이용이 아래에서 상세하게 논의된다. 그러나, 본 개시는 광범위한 특정한 환경에서 구현될 수 있는 많은 적용 가능한 본 발명의 개념을 제공한다는 것을 알아야 한다. 논의되는 구체적인 실시예는 단지 예시적이고 본 개시의 범위를 제한하지 않는다.
본 개시는 특정한 환경, 즉 패키지-온-패키지(PoP) 반도체 디바이스에서의 본 실시예와 관련하여 설명될 것이다. 그러나, 본 개시의 개념은 또한 다른 반도체 구조나 회로에도 적용될 수 있다.
이하, 도 1a 내지 도 1i를 참조하면, PoP 디바이스(10; 도 2 내지 도 4)를 형성하는 방법의 실시예가 집합적으로 예시되어 있다. 도 1a에 도시된 바와 같이, 접착제(12; glue) 또는 기타 적절한 접합 재료가 캐리어(14) 상에 도포되거나 형성된다. 실시예에서, 캐리어(14)는 유리, 실리콘, 낮은 열팽창 계수를 갖는 재료, 또는 다른 적절한 캐리어 재료로 형성된다. 사실상, 캐리어(14)는 일반적으로 양호한 강성을 갖는 보다 높은 계수의 재료이다.
이하, 도 1b를 참조하면, 접착제(12) 또는 기타 적절한 접합 재료를 이용하여 캐리어(14) 상에 일시적으로 실장된다. 실시예에서, 기판(16)은 유기 기판, 세라믹 기판, 실리콘 기판, 유리 기판, 또는 금속 상호 연결부(18) 또는 금속화 부분을 갖거나 지지하는 라미네이트 기판이다. 실시예에서, 기판(16)은 에폭시, 수지, 또는 다른 재료로 형성된다.
이하, 도 1c를 참조하면, 실시예에서, 도 1b에 도시된 바와 같이 캐리어(14) 상에 기판(16)이 일시적으로 실장된 후에 압력 어닐링이 수행된다. 압력 어닐링은 일반적으로 기판(16)을 캐리어(14)를 향해 바이어스시킨다. 이는 일시적이지만 기판(16)이 캐리어(14) 상에 확실하게 실장되는 것을 보장한다. 실시예에서, 도 1c의 압력 어닐링은 가열과 함께 압력 어닐링 캡(20)을 이용하여 수행된다. 실시예에서, 압력 어닐링은 도 1a 내지 도 1i에 예시된 방법의 실시예에서 나중에 수행될 수 있다. 예컨대, 압력 어닐링은 웨이퍼 상에서, 패널 상에서, 단일 유닛 상에서, 또는 다수의 유닛 상에서 수행될 수 있다. 또한, 실시예에서, 압력 어닐링은 열의 인가 없이 압력만을 포함한다.
이하, 도 1d를 참조하면, 도 1c의 압력 어닐링 캡(20)이 제거된 후에, 제1 다이(22)가 예컨대 솔더 볼 및 대응하는 접촉 패드를 이용하여 기판(16)에 부착된다. 제1 다이(22)는 로직 구성요소(로직 집적 회로, 아날로그 회로 등), 메모리 구성요소 등을 포함할 수 있다. 기판(16) 및/또는 다이(22)는 일반적으로 캐리어(14)에 대해 부정합인 열팽창 재료 계수를 갖는다. 아래에서 더 자세하게 설명되는 바와 같이, 예컨대 기판(16) 상에 또는 위에 적층된 다이들 또는 기타 반도체 구조들의 임의의 휨이 억제 또는 방지된다.
제1 다이(22)를 배치한 후에, 언더필 재료(24)는 제1 다이(22)와 기판(16) 사이에서 유동될 수 있다. 실시예에서, 언더필 재료(24)는 제1 다이(22)와 기판(16) 사이에서 생략된다.
이하, 도 1e를 참조하면, 제1 다이(22)가 실장된 후에, 예컨대 솔더 볼 및 대응하는 접촉 패드를 이용하여 제1 다이(22) 위에 제2 다이(26)가 부착된다. 제2 다이(26)는 로직 구성요소(로직 집적 회로, 아날로그 회로 등), 메모리 구성요소 들을 포함할 수 있다. 특히, 제1 다이(22) 상에서 제2 다이(26)의 적층은 일반적으로 PoP 디바이스(10)를 형성한다.
도 1e에 도시된 바와 같이 제2 다이(26)를 배치한 후에, 제2 다이(26)와 제1 다이(22) 사이에서 언더필 재료(24)가 유동될 수 있다. 실시예에서, 언더필 재료(24)가 생략된다. 아래에서 더 자세하게 설명되는 바와 같이, 실시예에서 제2 다이(26)는 제1 다이(22)에 대해 수평 방향으로 오프셋되어 제2 다이(26)에 오버행(overhang)을 제공할 수 있다.
이하, 도 1f를 참조하면, 제2 다이(26)가 실장된 후에, 예컨대 기판(16), 제1 다이(22), 및 제2 다이(26)의 노출된 부분 위에 몰딩 재료(28)가 형성된다. 실시예에서, 몰딩 재료(28)는 또한 캐리어(14) 상에 배치되고 기판(16)에 인접한 접착제(12) 위에 형성된다. 실시예에서, 몰딩 재료(28)는 제1 다이(22) 및 제2 다이(26)를 전체적으로 봉입한다.
이하, 도 1g를 참조하면, 몰딩 재료(28)가 제1 다이(22) 및 제2 다이(26) 위에 형성된 후에, 몰딩 재료(28)의 상부를 제거하도록 연마 프로세스가 수행된다. 도시된 바와 같이, 연마 프로세스는 제2 다이(26)의 상부면을 노출시킬 수 있다. 그러나, 실시예에서, 연마 프로세스는 제2 다이(26) 위에 배치되는 몰딩 재료(28)의 일부 또는 얇은 층을 남길 수 있다.
이하, 도 1h를 참조하면, 연마 프로세스가 수행된 후에, 조립체가 뒤집히고 캐리어(14)를 기판(16)으로부터 제거하도록 분리 프로세스가 수행된다. 추가로, 기판(16) 및 몰딩 재료(28)로부터 접착제(12)를 제거하도록 세척 프로세스가 수행된다. 일단 분리 및 세척 프로세스가 수행되면, 기판(16)의 금속 상호 연결부(18)로부터의 접촉 패드가 노출된다.
이하, 도 1i를 참조하면, 분리 및 세척 프로세스가 수행된 후에, 기판(16)의 금속 상호 연결부(18)로부터의 접촉 패드 상에 솔더 볼(30)의 어레이를 형성하도록 볼 마운트 프로세스가 수행된다. 추가로, PoP 디바이스(10)를 서로로부터 분리하도록 웨이퍼 절단 프로세스가 수행된다. 도 1i에 도시된 바와 같이, 웨이퍼 절단 프로세스 후에, 몰딩 재료(28)의 일부가 기판(16)의 측벽(32)을 여전히 덮고 있다. 그러나, 실시예에서, 웨이퍼 절단 프로세스는 기판(16)의 측벽(32)으로부터 몰딩 재료(28)를 제거한다.
도 2를 참조하면, 방법 실시예를 이용하여 형성되는 PoP 디바이스(10)의 실시예가 예시되어 있다. 도시된 바와 같이, PoP 디바이스(10)는 기판(16) 상에 적층된 제1 다이(22)와, 제1 다이(22) 상에 적층된 제2 다이(26)를 포함한다. 실시예에서, 제2 다이(26)는 제1 다이(22)에 대해 수평 방향으로 오프셋되어 제2 다이(26)에 전술한 오버행(34; overhang)을 제공한다.
실시예에서, 언더필 재료(24)는 기판(16)과 제1 다이(22) 사이 뿐만 아니라 제1 다이(22)와 제2 다이(26) 사이에 배치된다. 실시예에서, 언더필 재료(24)는 기판(16)과 제1 다이(22) 사이에만 배치된다. 실시예에서, 언더필 재료(24)는 제1 다이(22)와 제2 다이(26) 사이에만 배치된다. 추가로, PoP 디바이스(10)의 몰딩 재료(28)는 기판(16), 제1 다이(22), 및 제2 다이(26)의 부분 둘레에 형성되었다. 실시예에서, 몰딩 재료(28)는 생략되어 있다.
도 2를 여전히 참조하면, PoP 디바이스(10)의 기판(16)은 솔더 볼(30)(즉, 볼 그리드 어레이)을 제1 다이(22)에 전기적으로 연결시키는 데에 사용되는 금속 상호 연결부(18) 및/또는 기타 연결 구조(예컨대, 언더 범프 금속화 부분)을 지지한다. PoP 디바이스(10)는 또한 기타 구조들, 층들, 또는 예컨대 패시베이션층, 관통 실리콘 비아(TSV; through silicon via), 알루미늄 패드, 솔더 등과 같은 재료를 포함할 수 있다.
이하, 도 3을 참조하면, 실시예에서, 도 2의 언더필 재료(24)는 PoP 디바이스(10)로부터 생략되었고 몰딩 재료(28)에 의해 대체되었다. 바꿔 말해서, 몰딩 재료(28)가 도 3의 PoP 디바이스(10)의 실시예에서 언더필로서 기능하거나 수행한다.
이하, 도 4를 참조하면, 실시예에서, 몰딩 재료(28)는 기판(16)의 측벽(32)에서 생략되거나 측벽으로부터 제거되어 있다. 일례로서, 몰딩 재료(28)는 몰딩 재료(28)가 도 1f의 몰딩 프로세스 중에 증착될 때에 측벽(32) 상에 형성되지 않을 수 있다. 바꿔 말해서, 몰딩 재료(28)가 측벽(32) 상에 형성되는 것이 방지된다. 다른 예에서, 몰딩 재료(28)는 도 1i의 웨이퍼 절단 프로세스를 이용하여 기판(16)의 측벽으로부터 제거될 수 있다. 바꿔 말해서, 웨이퍼 절단이 측벽(32)으로부터 몰딩 재료(28)를 제거한다.
방법 및 PoP 디바이스(10)의 실시예가 다수의 이점을 제공한다는 점을 알아야 한다. 사실상, 다이(22, 26)의 적층 중에 캐리어(14)를 이용함으로써, 비교적 얇은 다이들이 적층되더라도 휨이 억제 또는 방지된다. 추가로, 다수의 다이들이 오버행(overhang)이 있거나 없이 적층될 수 있다.
패키지-온-패키지(PoP) 디바이스의 형성 방법의 실시예는, 캐리어 상에 기판을 일시적으로 실장하는 단계, 상기 기판 상에 제1 다이를 적층하는 단계, 및 상기 제1 다이 상에 제2 다이를 적층하는 단계를 포함하고, 상기 제1 다이와 기판 중 적어도 하나는 캐리어에 대해 부정합인 열팽창 계수를 갖는다.
패키지-온-패키지(PoP) 디바이스의 형성 방법의 실시예는, 캐리어 상에 기판을 일시적으로 실장하는 단계, 상기 기판 위에 복수 개의 다이를 적층하는 단계, 및 상기 복수 개의 다이가 적층된 후에 캐리어를 제거하는 단계를 포함하고, 상기 복수 개의 다이와 기판 중 적어도 하나는 캐리어에 대해 부정합인 열팽창 계수를 갖는다.
패키지-온-패키지(PoP) 디바이스의 형성 방법의 실시예는, 캐리어 상에 기판을 일시적으로 실장하는 단계, 상기 기판 상에 제1 다이를 적층하는 단계, 상기 제1 다이 상에 제2 다이를 적층하는 단계, 및 상기 제1 다이와 기판 사이 및 제1 다이와 제2 다이 사이에서 언더필 재료를 유동시키는 단계를 포함하고, 상기 제1 다이와 기판 중 적어도 하나는 캐리어에 대해 부정합인 열팽창 계수를 갖고, 상기 제2 다이는 제1 다이에 대해 수평 방향으로 오프셋되어 제2 다이에 오버행(overhang)이 제공된다.
본 개시는 예시적인 실시예를 참조하여 설명되었지만, 본 설명은 제한의 의미로 해석되도록 의도되지 않는다. 예시적인 실시예들의 다양한 변경 및 결합 뿐만 아니라 본 개시의 다른 실시예들이 상기 설명을 참조하면 당업자에게 명백할 것이다. 따라서, 첨부된 청구범위가 그러한 임의의 변경 또는 실시예를 포괄하도록 의도된다.
Claims (10)
- 패키지-온-패키지(PoP; package-on-package) 디바이스의 형성 방법에 있어서,
캐리어 상에 기판을 일시적으로 실장(mounting)하는 단계;
상기 기판 상에 제1 다이를 적층하는 단계; 및
상기 제1 다이 상에 제2 다이를 적층하는 단계를 포함하고,
상기 제1 다이와 상기 기판 중 적어도 하나는 상기 캐리어에 대해 부정합인 열팽창 계수를 갖는 것인, PoP 디바이스 형성 방법. - 제1항에 있어서, 상기 기판은 유기 기판, 세라믹 기판, 실리콘 기판, 유리 기판, 및 라미네이트 기판 중 하나로부터 형성되는 것인, PoP 디바이스 형성 방법.
- 제1항에 있어서, 접착제를 이용하여 상기 기판을 상기 캐리어 상에 일시적으로 실장하는 단계를 더 포함하는, PoP 디바이스 형성 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제2 다이에 오버행(overhang)을 제공하기 위해 상기 제2 다이를 상기 제1 다이에 대해 수평 방향으로 오프셋시키는 단계를 더 포함하는, PoP 디바이스 형성 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제1 및 제2 다이가 적층되기 전에 압력 어닐링 캡을 이용하여 상기 기판에 대해 압력 어닐링을 수행하는 단계를 더 포함하는, PoP 디바이스 형성 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제1 다이와 상기 기판 사이에서만 또는 상기 제1 다이와 상기 제2 다이 사이에서만 언더필 재료를 유동시키는 단계를 더 포함하는, PoP 디바이스 형성 방법.
- 제1항에 있어서, 상기 기판, 상기 제1 다이, 및 상기 제2 다이의 노출된 부분들 위에 몰딩 재료를 형성하는 단계를 더 포함하는, PoP 디바이스 형성 방법.
- 제1항에 있어서,
상기 기판, 상기 제1 다이, 및 상기 제2 다이의 노출된 부분들을 그 상부에 몰딩 없이 유지하는 단계; 및
몰딩 재료의 일부를 연마 제거하는 단계를 더 포함하는, PoP 디바이스 형성 방법. - 패키지-온-패키지(PoP; package-on-package) 디바이스의 형성 방법에 있어서,
캐리어 상에 기판을 일시적으로 실장하는 단계;
상기 기판 위에 복수 개의 다이들을 적층하는 단계; 및
상기 복수 개의 다이들이 적층된 후에 상기 캐리어를 제거하는 단계를 포함하고,
상기 복수 개의 다이들과 상기 기판 중 적어도 하나는 상기 캐리어에 대해 부정합인 열팽창 계수를 갖는 것인, PoP 디바이스 형성 방법. - 패키지-온-패키지(PoP; package-on-package) 디바이스의 형성 방법에 있어서,
캐리어 상에 기판을 일시적으로 실장하는 단계;
상기 기판 상에 제1 다이를 적층하는 단계;
상기 제1 다이 상에 제2 다이를 적층하는 단계; 및
상기 제1 다이와 상기 기판 사이 및 상기 제1 다이와 상기 제2 다이 사이에서 언더필 재료를 유동시키는 단계를 포함하고,
상기 제1 다이와 상기 기판 중 적어도 하나는 상기 캐리어에 대해 부정합인 열팽창 계수를 갖고, 상기 제2 다이에 오버행(overhang)을 제공하기 위해 상기 제2 다이는 상기 제1 다이에 대해 수평 방향으로 오프셋되는 것인, PoP 디바이스 형성 방법.
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US201261693083P | 2012-08-24 | 2012-08-24 | |
US61/693,083 | 2012-08-24 | ||
US13/779,554 US10153179B2 (en) | 2012-08-24 | 2013-02-27 | Carrier warpage control for three dimensional integrated circuit (3DIC) stacking |
US13/779,554 | 2013-02-27 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20140026241A KR20140026241A (ko) | 2014-03-05 |
KR101545389B1 true KR101545389B1 (ko) | 2015-08-19 |
Family
ID=50148334
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020130072150A KR101545389B1 (ko) | 2012-08-24 | 2013-06-24 | 3차원 집적 회로 적층을 위한 캐리어 휨 제어 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (3) | US10153179B2 (ko) |
KR (1) | KR101545389B1 (ko) |
CN (1) | CN103632987B (ko) |
TW (1) | TWI523189B (ko) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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- 2013-02-27 US US13/779,554 patent/US10153179B2/en active Active
- 2013-05-14 CN CN201310177995.4A patent/CN103632987B/zh active Active
- 2013-06-24 KR KR1020130072150A patent/KR101545389B1/ko active IP Right Grant
- 2013-08-07 TW TW102128215A patent/TWI523189B/zh active
-
2018
- 2018-07-31 US US16/050,954 patent/US10290513B2/en active Active
-
2019
- 2019-05-13 US US16/410,842 patent/US10825693B2/en active Active
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Publication number | Publication date |
---|---|
KR20140026241A (ko) | 2014-03-05 |
TW201409660A (zh) | 2014-03-01 |
CN103632987A (zh) | 2014-03-12 |
CN103632987B (zh) | 2019-06-21 |
US10153179B2 (en) | 2018-12-11 |
TWI523189B (zh) | 2016-02-21 |
US10290513B2 (en) | 2019-05-14 |
US20140057391A1 (en) | 2014-02-27 |
US20180337065A1 (en) | 2018-11-22 |
US20190267255A1 (en) | 2019-08-29 |
US10825693B2 (en) | 2020-11-03 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant |