KR101515458B1 - Pellicle, pellicle container for receiving pellicle, and method of keeping pellicle in pellicle container - Google Patents

Pellicle, pellicle container for receiving pellicle, and method of keeping pellicle in pellicle container Download PDF

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KR101515458B1 KR1020080097089A KR20080097089A KR101515458B1 KR 101515458 B1 KR101515458 B1 KR 101515458B1 KR 1020080097089 A KR1020080097089 A KR 1020080097089A KR 20080097089 A KR20080097089 A KR 20080097089A KR 101515458 B1 KR101515458 B1 KR 101515458B1
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카즈토시 세키하라
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신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
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Abstract

본 발명은 대형 펠리클에 있어서 세퍼레이터를 사용하지 않고 펠리클을 펠리클 수납 용기에 보관하는 것을 과제로 한다.The present invention aims at storing a pellicle in a pellicle storage container without using a separator in a large pellicle.

이를 위해, 펠리클 프레임의 마스크 점착제측 단면의 일부에 마스크 점착제의 미도포 영역을 형성하고, 펠리클 수납 용기의 내부에 설치된 실리콘 겔 등으로 이루어지는 펠리클 프레임 지지부 상에 상기 미도포 영역을 탑재하고, 또한, 펠리클 프레임 측면에 형성된 구멍에 삽입된 핀과 핀의 유지 기구에 의해 펠리클 수납 용기에 펠리클 프레임을 유지 고정한다. 세퍼레이터를 사용하지 않더라도 점착층을 보호할 수 있기 때문에 세퍼레이터가 불필요하게 된다.To this end, an uncoated region of the mask pressure-sensitive adhesive is formed on a part of the cross-section of the pellicle frame on the side of the mask pressure-sensitive adhesive, the uncoated region is mounted on a pellicle frame support portion made of silicone gel or the like provided inside the pellicle storage container, The pellicle frame is held and fixed to the pellicle storage container by the holding mechanism of the pin and pin inserted into the hole formed in the side surface of the pellicle frame. Since the adhesive layer can be protected without using a separator, a separator is not required.

펠리클 Pellicle

Description

펠리클, 펠리클을 수납하는 펠리클 수납 용기 및 펠리클 수납 용기 내에 펠리클을 보관하는 방법{PELLICLE, PELLICLE CONTAINER FOR RECEIVING PELLICLE, AND METHOD OF KEEPING PELLICLE IN PELLICLE CONTAINER}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a pellicle storing container for storing a pellicle and a pellicle, and a method for storing a pellicle in a pellicle storing container.

본 발명은 반도체 디바이스, 프린트 기판 또는 액정 디스플레이 등을 제조할 때의 먼지 막이로서 사용되는 펠리클, 특히는 액정 디스플레이 제조에 사용되는 대형 펠리클에 관한 것이다.The present invention relates to a pellicle used as a dust film when manufacturing a semiconductor device, a printed board or a liquid crystal display or the like, and particularly to a large pellicle used for manufacturing a liquid crystal display.

LSI, 초LSI 등의 반도체 또는 액정 디스플레이 등의 제조에 있어서는 반도체 웨이퍼 또는 액정용 원판에 광을 조사해서 패턴을 제작하지만 이 때에 사용하는 포토마스크 또는 레티클(이하, 짧게 포토마스크로 기술)에 먼지가 부착되어 있으면 이 먼지가 광을 흡수하거나 광을 굴절시켜 버리기 때문에 전사된 패턴이 변형되거나 에지가 거칠어지는 것 외에 하지가 검게 더러워지거나 하는 등, 치수, 품질, 외관 등이 손상된다는 문제가 있었다.In the production of semiconductors or liquid crystal displays such as LSIs and super LSIs, a pattern is produced by irradiating light onto a semiconductor wafer or a liquid crystal original plate. However, when a photomask or a reticle (hereinafter briefly referred to as a photomask) If this is adhered, this dust absorbs light or refracts light, so that the transferred pattern is deformed or the edge is roughened, and besides, the legs become dirty, and the dimensions, quality, appearance and the like are damaged.

이 때문에, 이들 작업은 통상, 클린룸 내에서 행해지고 있지만 그럼에도 불구하고, 포토마스크를 항상 청정하게 유지하는 것이 어렵다. 그래서, 포토마스크 표면에 먼지 막이로서 펠리클을 부착한 후에 노광을 행하고 있다. 이 경우, 이물은 포토마스크의 표면에는 직접 부착되지 않고 펠리클 상에 부착되기 때문에 리소그래피시에 초점을 포토마스크의 패턴 상에 맞춰 두면 펠리클 상의 이물은 전사에 무관계하게 된다.Therefore, although these operations are usually performed in a clean room, it is nevertheless difficult to always keep the photomask clean. Thus, the pellicle is attached to the surface of the photomask as a dust film, followed by exposure. In this case, since the foreign object is not directly attached to the surface of the photomask but attached to the pellicle, if the focus is adjusted on the pattern of the photomask during lithography, the foreign matter on the pellicle becomes irrelevant to the transfer.

일반적으로 펠리클은 광을 잘 투과시키는 니트로셀룰로오스, 초산 셀룰로오스 또는 불소 수지 등으로 이루어지는 사용되는 광선에 대해서 투명한 펠리클막을 알루미늄, 스테인레스, 폴리에틸렌 등으로 이루어지는 펠리클 프레임의 상단면에 부착 내지 접착한다. 또한, 펠리클 프레임의 하단에는 포토마스크에 장착하기 위한 폴리부텐 수지, 폴리초산비닐 수지, 아크릴 수지 등으로 이루어지는 점착층 및 점착층의 보호를 목적으로 한 이형층(세퍼레이터)이 형성된다. 그리고, 펠리클을 보관·이송할 때에는 세퍼레이터를 통해 수납 용기에 탑재된다.Generally, a pellicle is attached to or bonded to the upper surface of a pellicle frame made of aluminum, stainless steel, polyethylene or the like, which is made of nitrocellulose, cellulose acetate, fluorocarbon resin or the like which transmits light well. At the lower end of the pellicle frame, a release layer (separator) for protecting the pressure-sensitive adhesive layer and a pressure-sensitive adhesive layer made of polybutene resin, polyvinyl acetate resin, acrylic resin or the like for mounting to the photomask is formed. When storing and transporting the pellicle, the pellicle is mounted on the storage container through a separator.

세퍼레이터는 통상, PET 수지 등의 100~200㎛ 정도의 얇은 필름 상에 이형제를 도포하고, 소망의 형상으로 절단 가공한 것이 사용된다. 세퍼레이터는 필름의 얇음에 추가해서 또한, 프레임의 외형과 거의 동일한 프레임상의 형상을 하고 있기 때문에 끈과 같이 되어 버려 청정하게 세정하는 것이 곤란한 것 외에 마스크 점착층에의 부착 등의 작업상에 있어서 취급이 매우 불편하다는 문제가 있다.The separator is usually prepared by applying a releasing agent onto a thin film of about 100 to 200 mu m, such as PET resin, and cutting it into a desired shape. In addition to the thinness of the film, the separator also has a frame-like shape almost the same as the outer shape of the frame, so that it becomes like a string and is difficult to clean cleanly. In addition, There is a problem that it is very inconvenient.

또한, 세퍼레이터는 이음매가 없는 1장의 원재료 시트에 의해 제조될 필요가 있다. 이음매 등의 단차가 있으면 부착된 마스크 점착층에 형상이 전사되어 버리고, 부착 후의 마스크의 안정성에 영향을 끼칠 가능성이 있기 때문이다. 이 때문에, 대형 펠리클, 특히는 한 변의 길이가 500㎜를 넘는 대형 펠리클에 대해서는 시트의 제조가 곤란한 것 외에 이형제를 전면에 걸쳐서 결함 없이 도포하는 것도 곤 란하며, 이러한 세퍼레이터를 제조, 입수하는 것은 용이하지는 않았다.Further, the separator needs to be produced by one sheet of raw material without any seams. If there is a step such as a joint, the shape is transferred to the attached mask adhesive layer, and there is a possibility that the stability of the mask after attachment is affected. For this reason, it is difficult to manufacture a sheet for a large pellicle, especially for a large pellicle having a length of more than 500 mm on one side, and it is also difficult to apply the releasing agent over the entire surface without defects. It is easy to manufacture and obtain such a separator I did not.

세퍼레이터는 점착제를 보호하는 기능을 갖는 것이며, 펠리클 사용시에는 박리되어 폐기되는 것이다. 세퍼레이터를 생략할 수 있으면 궁극적으로 이들 문제를 해결할 수 있다. 세퍼레이터를 생략하기 위해서는 예를 들면, 통상, 펠리클은 점착제를 하측(펠리클 수납 용기측)을 향해서 수납하지만 점착제를 상측으로 해서 펠리클막의 접착면측을 하측에 탑재하는 것이 고려된다. 그러나, 이 경우, 펠리클막 내측이 펠리클 수납 용기 내에서 상방을 향하게 되고, 가장 보호하지 않으면 안되는 부분에 이물이 부착될 우려가 있어 바람직하지 않다. 이 때문에 지금까지 보관 중에 세퍼레이터를 필요로 하지 않는 펠리클 및 펠리클 수납 용기는 제안되어 있지 않았다.The separator has a function of protecting the pressure-sensitive adhesive, and is peeled off when the pellicle is used. If the separator can be omitted, these problems can be solved ultimately. In order to omit the separator, for example, it is generally considered that the pellicle accommodates the pressure-sensitive adhesive toward the lower side (toward the pellicle storage container) but mounts the adhesion side of the pellicle film on the lower side with the pressure-sensitive adhesive on the upper side. However, in this case, the inside of the pellicle membrane faces upward in the pellicle storage container, and there is a fear that foreign matter adheres to a portion which should be protected most. For this reason, there has not been proposed a pellicle and pellicle storage container that does not require a separator during storage.

펠리클을 펠리클 수납 용기에 고정하는 것은 통상, 용기 본체와 덮개체에 의해 펠리클을 협지함에 의하고 있지만 펠리클 프레임을 핀에 의해 펠리클 용기에 고정하는 것이 시도되고 있다(특허 문헌 1 참조). 이 시도에 있어서도 핀을 펠리클 프레임에 맞물리기까지는 펠리클을 용기 본체 상에 탑재한다는 점에서 세퍼레이터는 특허 문헌 1에 있어서도 결여시킬 수 없었다.Fixing the pellicle to the pellicle storage container is usually attempted by holding the pellicle between the container body and the cover body, but it has been attempted to fix the pellicle frame to the pellicle container by means of a pin (see Patent Document 1). In this trial, since the pellicle is mounted on the container main body until the pin is engaged with the pellicle frame, the separator can not be also lacked in Patent Document 1.

지금까지는 마스크 점착제층은 펠리클 필름의 전체 폭에 걸쳐서 형성되는 것이 일반적이지만 펠리클 프레임의 하단면에 홈을 형성함으로써 마스크 점착제층을 펠리클 프레임의 폭보다 좁은 폭으로 하는 시도도 이루어져 있지만(특허 문헌 2 참조), 이 홈부에 점착제층(펠리클막용으로 접착제층도)을 형성함으로써 점착제층이 표면 장력에 의해 볼록상이 되는 것을 회피하여 표면의 평탄성 향상을 꾀하는 것이 며, 세퍼레이터를 사용하지 않고 해결되도록 하고자 하는 것은 아니다.Up to now, the mask pressure-sensitive adhesive layer is generally formed over the entire width of the pellicle film. However, attempts have been made to form a groove in the lower end face of the pellicle frame to make the mask pressure-sensitive adhesive layer narrower than the width of the pellicle frame (see Patent Document 2 ), And by forming a pressure-sensitive adhesive layer (also an adhesive layer for a pellicle film) on the groove portion, the pressure-sensitive adhesive layer is prevented from being convex due to surface tension, thereby improving the flatness of the surface. To solve this problem without using a separator no.

펠리클 프레임의 폭보다 좁은 폭의 돌출부를 형성함으로써 펠리클 프레임에 마스크 점착제가 도포되어 있지 않은 부분을 형성하는 것도 시도되고 있다(특허 문헌 3, 특허 문헌 4 참조). 전자는 포토마스크로부터 펠리클을 박리할 때에 펠리클 프레임의 점착제가 도포되어 있지 않은 단차부에 박리구를 맞물리는 것이며, 펠리클에 세퍼레이터를 사용하지 않고 해결되도록 하고자 하는 것은 아니고, 후자는 세퍼레이터에 돌출된 영역을 형성하고, 그 돌출부를 펠리클 수납 용기에 고정함으로써 세퍼레이터를 마스크 점착층으로부터 박리하는 것을 보조하는 것이며, 모두 세퍼레이터를 사용하지 않게 하는 것은 아니다.It has been attempted to form a portion of the pellicle frame not coated with the mask pressure-sensitive adhesive by forming protrusions narrower than the width of the pellicle frame (see Patent Document 3 and Patent Document 4). The former is to fix the peeling sphere to the step portion to which the adhesive of the pellicle frame is not applied at the time of peeling the pellicle from the photomask and does not aim to solve without using the separator in the pellicle, And the protrusions are fixed to the pellicle storage container to assist in separating the separator from the mask adhesive layer, and not all of the separators are used.

[특허 문헌 1] 일본 특허공개 2006-267178호 공보[Patent Document 1] Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2006-267178

[특허 문헌 2] 일본 특허공개 2005-338722호 공보[Patent Document 2] JP-A-2005-338722

[특허 문헌 3] 일본 특허출원 2006-135186 [Patent Document 3] Japanese Patent Application 2006-135186

[특허 문헌 4] 일본 특허출원 2007-286483호 공보[Patent Document 4] Japanese Patent Application No. 2007-286483

본 발명의 목적은 펠리클, 특히는 적어도 하나의 변 길이가 500㎜를 넘는 대형 펠리클에 대해서 세퍼레이터를 사용하지 않더라도 지장이 없는 펠리클 및 펠리클 수납 용기를 제공하는 것에 있다.It is an object of the present invention to provide a pellicle and a pellicle storage container which does not cause a trouble even if a pellicle, in particular, a large pellicle having at least one side length exceeding 500 mm is not used.

본 발명의 펠리클은 펠리클 프레임의 마스크에 점착시키기 위한 점착제층이 형성되는 면 내의 일부에 마스크 점착제의 미도포 영역이 형성되고, 상기 펠리클 프레임의 측면에는 펠리클 프레임의 상하 단면이 펠리클 수납 용기에 접촉됨이 없이 고정할 수 있는 핀을 삽입할 수 있는 비관통 구멍이 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.In the pellicle of the present invention, an uncoated region of the pressure-sensitive adhesive is formed on a part of the surface where the pressure-sensitive adhesive layer for adhering to the mask of the pellicle frame is formed, and the upper and lower end faces of the pellicle frame are contacted to the pellicle storage container on the side of the pellicle frame. And a non-through hole for inserting a pin that can be fixed without a through hole is formed.

또한, 본 발명의 펠리클 수납 용기는 펠리클이 탑재되는 트레이와 상기 트레이의 펠리클 수납면을 밀폐시키기 위한 상부 덮개로 구성되는 펠리클 수납 용기에 있어서 펠리클 프레임에 형성된 마스크 점착제의 미도포 영역에만 접촉됨으로써 펠리클을 지지하는 펠리클 프레임 지지부를 상기 트레이에 갖고, 또한, 펠리클 프레임의 상하 단면이 펠리클 수납 용기에 접촉됨이 없이 고정할 수 있는 핀을 설치할 수 있는 핀 유지 기구를 상기 트레이에 아울러 갖는 것을 특징으로 한다. 상기 펠리클 프레임 지지부의 재질은 수지, 고무 및 실리콘 겔로 이루어지는 군으로부터 선택된 1종일 수 있고, 펠리클 프레임 지지부는 대전 방지 성능을 갖는 것이 바람직하다.Further, the pellicle storage container of the present invention is in contact with only the uncoated area of the mask pressure-sensitive adhesive formed on the pellicle frame in the pellicle storage container composed of the tray on which the pellicle is mounted and the upper cover for sealing the pellicle storage surface of the tray, And a pin holding mechanism that has a pellicle frame support portion supporting the pellicle frame support member and capable of fixing the pellicle frame to the pellicle frame without being in contact with the pellicle container is provided on the tray. The material of the pellicle frame supporting part may be one kind selected from the group consisting of resin, rubber and silicone gel, and the pellicle frame supporting part preferably has antistatic property.

또한, 본 발명의 펠리클 수납 용기 내에 펠리클을 보관하는 방법은 펠리클 프레임에 형성된 마스크 점착제의 미도포 영역을 펠리클 프레임 지지부 상에 탑재 하고, 또한, 펠리클 프레임의 측면에 형성되어 있는 핀 삽입 구멍에 핀 유지 기구에 설치된 핀을 삽입해서 펠리클을 펠리클 수납 용기 내에 고정하는 것을 특징으로 한다.In the method of storing the pellicle in the pellicle storage container of the present invention, the uncoated region of the mask pressure-sensitive adhesive agent formed on the pellicle frame is mounted on the pellicle frame support portion, and the pin insertion hole formed in the side surface of the pellicle frame And the pellicle is fixed in the pellicle storage container by inserting a pin provided in the mechanism.

(발명의 효과)(Effects of the Invention)

본 발명에 의하면 세퍼레이터를 사용하지 않더라도 펠리클을 펠리클 수납 용기에 지장 없이 수납·보관할 수 있기 때문에, 특히 대형 펠리클에 있어서의 세퍼레이터 원재료의 입수난이라는 문제를 해결할 수 있는 것 외에 수송 중이나 세퍼레이터의 박리 작업에 있어서의 세퍼레이터 자체로부터의 발진이 없어지기 때문에 이물 부착 방지의 관점으로부터도 효과가 크다. 또한, 세퍼레이터 자체의 비용 뿐만 아니라 세정 작업, 부착 작업 등의 관련되는 공정을 삭감할 수 있기 때문에 제조 비용을 저감할 수 있다.According to the present invention, even if the separator is not used, the pellicle can be stored and stored in the pellicle storage container without hindrance, so that it is possible to solve the problem that the raw material of the separator in the large pellicle can not be obtained, Since the oscillation from the separator itself is eliminated, the effect is also great from the viewpoint of prevention of foreign matter adhesion. Further, not only the cost of the separator itself, but also the related processes such as the cleaning operation and the attaching operation can be reduced, so that the manufacturing cost can be reduced.

이하, 본 발명을 실시하기 위한 최량의 형태에 대해서 설명하지만 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니다.Best mode for carrying out the present invention will be described below, but the present invention is not limited thereto.

도 1에 본 발명에 의해 펠리클을 펠리클 수납 용기에 수납한 상태의 평면도 및 단면 개략도를 나타낸다. 펠리클 프레임(11)의 마스크 점착제 도포측 단면의 일부에 마스크 점착제(12)의 미도포 영역(a)을 형성하고, 펠리클 수납 용기 트레이(14) 상에 설치된 프레임 지지부(18)에는 상기 점착제 미도포 영역(a)만이 접촉되도록 탑재한다.Fig. 1 is a plan view and a schematic cross-sectional view of a pellicle in a pellicle storage container according to the present invention. The uncoated region a of the mask adhesive 12 is formed on a part of the end face of the pellicle frame 11 to which the mask adhesive is applied and the frame supporting portion 18 provided on the pellicle storage container tray 14 is coated with the non- Only the region (a) is mounted so as to be in contact.

또한, 수송 중에 펠리클 수납 용기 내에서 펠리클이 이동하는 것을 방지하기 위해서 펠리클 프레임(11)의 측면에 형성된 구멍(b)에 삽입된 고무 등의 탄성체를 선단에 갖는(도시하지 않음) 핀(17)과 유지 기구(16)에 의해 펠리클 수납 용기에 펠리클 프레임(11)이 고정되는 것으로 하고 있다. 이 결과, 마스크 점착층(12)은 펠리클 수납 용기 트레이(14)에 접촉되지 않고 펠리클 수납 용기 내에 유지, 고정된다. 따라서, 세퍼레이터에 의해 마스크 점착층(12)을 보호할 필요가 없어져 세퍼레이터의 사용을 생략할 수 있다.In order to prevent the pellicle from moving in the pellicle storage container during transportation, a pin 17 (not shown) having an elastic body such as rubber inserted in the hole b formed in the side surface of the pellicle frame 11 (not shown) And the pellicle frame 11 is fixed to the pellicle storage container by the holding mechanism 16. As a result, the mask adhesive layer 12 is not held in contact with the pellicle storage container tray 14 but held and fixed in the pellicle storage container. Therefore, it is not necessary to protect the mask adhesive layer 12 by the separator, and the use of the separator can be omitted.

여기에서, 펠리클의 고정 방법은 상기한 프레임에 삽입한 핀에 의한 방법이 가장 바람직한 것이지만 예를 들면, 펠리클 프레임의 측면이나 펠리클막 접착층측 단면에 유지구 등을 밀착시켜서 클램프한다는 등의 방법이라도 좋고, 이들에 한정되는 것은 아니다.Here, the method of fixing the pellicle is most preferably a method of inserting the frame into the above-described frame. For example, a method of clamping a side surface of the pellicle frame or a side surface of the pellicle film adhesive layer with a holding sphere , But are not limited thereto.

그리고, 상기 펠리클 수납 용기 트레이(14) 상의 펠리클 프레임의 점착제 도포측 단면을 지지하는 프레임 지지부(18)의 재질은 펠리클 프레임 표면의 손상을 방지하기 위해서 또한, 펠리클 프레임과 마찰된 경우의 발진을 적게 하기 위해서 수지인 것이 바람직하다. 수지의 재질로서는 발진되기 어렵도록 적당한 경도가 있고, 표면을 평활하게 가공할 수 있는 것이면 좋고, 예를 들면, 폴리이미드, 폴리아미드, PEEK, PTFE, POM 등을 사용할 수 있다.The material of the frame supporting portion 18 for supporting the end face of the pellicle frame on the pellicle container tray 14 to be coated with the pressure-sensitive adhesive is preferably made of a material having a low rash when rubbing against the pellicle frame, It is preferably a resin. Polyimide, polyamide, PEEK, PTFE, POM, or the like can be used as the material of the resin, as long as it has an appropriate hardness to prevent oscillation and can smoothly process the surface.

또한, 표면이 평활하면 상기 재질을 고무로 하는 것도 좋고, 예를 들면, NBR, EPR, 우레탄, FKM 등을 사용할 수 있다. 그러나, 더욱 바람직하게는 상기 재질을 실리콘 겔로 하는 것이 좋다. 고무보다 더욱 탄성율이 낮은 것에 추가해서 표면에 약간의 턱(tuck)이 있기 때문에 수송 중의 진동에 의한 펠리클 프레임과의 마 찰이 매우 적어 발진의 우려가 대폭 저하된다.Further, if the surface is smooth, the material may be made of rubber. For example, NBR, EPR, urethane, FKM and the like can be used. However, more preferably, the material is made of silicone gel. Since there is a slight tuck on the surface in addition to a lower elastic modulus than that of rubber, there is little friction with the pellicle frame due to vibration during transportation, and the fear of oscillation is greatly reduced.

또한, 이들 수지나 고무 중에 카본이나 금속(분) 등의 각종 도전성 물질을 혼입함으로써 대전 방지 성능을 갖는 재료로 하면 더욱 바람직하다. 수송 중이나 펠리클 수납 용기로부터의 인출시에 있어서의 펠리클의 대전을 방지할 수 있어 정전기에 의한 이물 부착이나 펠리클 부착시의 마스크 패턴의 정전 파괴 발생의 우려가 저하된다.It is further preferable to use a material having antistatic properties by incorporating various conductive materials such as carbon and metal (powder) in these resins and rubbers. It is possible to prevent the pellicle from being charged during transport or at the time of withdrawal from the pellicle storage container, and there is a fear of the occurrence of electrostatic discharge and the occurrence of electrostatic discharge failure of the mask pattern at the time of attaching the pellicle.

그리고, 펠리클 프레임 지지부(18)의 부착 위치나 개수, 각각의 형상에 대해서는 도 1의 예에서는 8개소 설치하고 있지만, 수납하는 펠리클 프레임이나 수납 용기의 형상에 따라서 적당히 설계할 수 있다. 기본적으로는 수송 중의 진동 등에 의해 펠리클 프레임이 움직여도 마스크 점착층(12)과 펠리클 수납 용기 트레이(14) 및 펠리클 프레임 지지부(18)의 간극이 확실하게 확보되도록 되어 있으면 좋다.In the example shown in Fig. 1, eight pellicle frame support portions 18 are attached, the number of the pellicle frame support portions 18, and the shapes of the pellicle frame support portions 18, but the pellicle frame support portions 18 can be appropriately designed according to the shape of the pellicle frame and the storage container. Basically, even if the pellicle frame moves due to vibrations during transportation, the clearance between the mask adhesive layer 12 and the pellicle storage container tray 14 and the pellicle frame support portion 18 can be securely secured.

(실시예)(Example)

이하, 본 발명의 실시예를 설명하지만 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described, but the present invention is not limited thereto.

도 2에 나타내는 바와 같은 펠리클을 제작했다. 즉, 펠리클 프레임(21)으로서 장변 외부 치수 1600㎜, 단변 외부 치수 1500㎜, 높이 5.8㎜, 폭 13㎜의 5000계 알루미늄 합금을 기계 가공에 의해 절삭하고, 표면에는 흑색 알루마이트 처리를 실시했다. 이 펠리클 프레임을 순수에 의해 세정·건조시킨 후, 마스크 점착제층(22)으로서 실리콘 점착제{신에츠카가쿠코교(주)제, 상품명 KR-3700}를 톨루엔에 의해 희석하고, 직교 3축 디스펜서 로봇에 의해 도포했다. 또한, 마스크 점착제층(22)은 폭 4㎜, 높이 1.5㎜의 반원형의 단면 형상으로 했다. 이 때, 펠리클 프레임의 폭 13㎜에 대해서 4㎜의 마스크 점착제층이 형성되어 있으므로 외측에 폭 9㎜ 폭의 미도포 영역이 있게 된다.A pellicle as shown in Fig. 2 was produced. That is, a 5000-series aluminum alloy having a side length of 1600 mm, a short side outer dimension of 1500 mm, a height of 5.8 mm, and a width of 13 mm was cut as a pellicle frame 21 by machining and the surface was subjected to black alumite treatment. This pellicle frame was cleaned and dried with pure water and then diluted with toluene as a silicone pressure-sensitive adhesive (trade name: KR-3700, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) as a mask pressure-sensitive adhesive layer 22 and subjected to an orthogonal triaxial dispenser robot Respectively. Further, the mask pressure-sensitive adhesive layer 22 had a semicircular cross-sectional shape having a width of 4 mm and a height of 1.5 mm. At this time, since a mask pressure-sensitive adhesive layer having a thickness of 4 mm is formed with a width of 13 mm of the pellicle frame, there is an uncoated area with a width of 9 mm on the outside.

또한, 펠리클막 접착제층(23)으로서 실리콘 점착제{신에츠카가쿠코교(주)제, 상품명 KR-3700)를 톨루엔에 의해 희석해서 건조시킨 후의 두께가 0.1㎜가 되도록 도포한 후, 130℃로 가열해서 이들을 큐어(cure)시켰다. 펠리클막(24)은 1600×1700㎜의 표면을 평활하게 연마한 직사각형 석영 기판 상에 불소 수지(아사히가라스 가부시키가이샤제, 상품명; 사이톱)를 다이 코트법에 의해 도포하고, 용매를 건조시킨 후, 석영 기판으로부터 박리하여 두께 4㎛의 펠리클막을 얻었다. 그리고, 이 펠리클막을 상기 펠리클 프레임에 부착하고, 커터에 의해 외측의 불필요막을 절제하여 펠리클을 완성시켰다.Further, a silicone pressure-sensitive adhesive (trade name: KR-3700, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was diluted with toluene and applied as a pellicle film adhesive layer 23 so as to have a thickness of 0.1 mm. So as to cure them. The pellicle film 24 was prepared by coating a rectangular quartz substrate with a surface of 1600 x 1700 mm smoothly polished on a rectangular quartz substrate by a die coating method and drying the solvent (manufactured by Asahi Kasei Corporation) And then peeled off from the quartz substrate to obtain a pellicle film having a thickness of 4 탆. Then, the pellicle film was attached to the pellicle frame, and the unnecessary film on the outer side was cut off by a cutter to complete the pellicle.

한편, 도 1의 펠리클 수납 용기는 두께 5㎜의 흑색 대전 방지 ABS 수지(도레이 가부시키가이샤제, 상품명: 토요락파렐)를 진공 성형법에 의해 성형하고, 펠리클 수납 용기 트레이(14)를 제작했다. 또한, 마찬가지로 해서 두께 5㎜의 투명 대전 방지 ABS 수지{도레이 가부시키가이샤제, 상품명 토요락파렐)를 사용해서 진공 성형법에 의해 펠리클 수납 용기 커버(15)를 제작했다. 펠리클 수납 용기 트레이(14) 상에는 ABS 수지를 사출 성형해서 제작한 핀(17)과 핀 유지 기구(16)를 펠리클 프레임 외측 측면에 형성한 지그 구멍(b)에 감합되도록 위치 조정한 후에 접착 고정했다. 그리고, 또한, 펠리클 수납 용기 트레이(14) 상에서 펠리클 프레임(11)의 마스크 점착제의 미도포 영역(a)이 접촉되는 위치 8개소에 실리콘 겔{신 에츠카가쿠코교(주)제, 상품명: KE1056)을 직경 8㎜, 두께 4㎜로 성형하고, 프레임 지지부(18)로서 부착했다.On the other hand, a black antistatic ABS resin (manufactured by TORAY KABUSHIKI KOGYO CO., LTD., Trade name: Toy Rock Farell) having a thickness of 5 mm was molded by the vacuum molding method to produce the pellicle storage container tray 14 shown in Fig. In the same manner, a pellicle storage container cover 15 was produced by a vacuum molding method using a transparent antistatic ABS resin (trade name: TOYOCRAPALEL manufactured by Toray Industries, Inc.) having a thickness of 5 mm. On the pellicle storage container tray 14, the pins 17 formed by injection molding of an ABS resin and the pin holding mechanism 16 were aligned and fixed to fit into the jig hole b formed on the outer side of the pellicle frame . (Manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name: KE1056 (trade name) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was placed on the pellicle storage container tray 14 at eight locations where the uncoated area a of the mask- ) Was molded into a shape having a diameter of 8 mm and a thickness of 4 mm, and was attached as a frame supporting portion 18.

이 펠리클 수납 용기를 클린룸 내에서 순수 세정, 건조시킨 후, 상기 펠리클을 수납하고, 핀(17) 및 핀 유지 기구(16)에 의해 펠리클을 고정했다.The pellicle storage container was cleaned and dried in a clean room, and then the pellicle was stored. The pellicle was fixed by the pin 17 and the pin holding mechanism 16.

평가로서 펠리클이 수납된 펠리클 수납 용기를 수직으로 세워 1분간 유지한 후, 수평으로 되돌리는 동작을 3회 행하고, 클린룸 내의 암실에서 펠리클에의 이물의 부착 상황을 검사했다. 그 결과, 펠리클에 부착되어 있는 이물의 증가는 전혀 보여지지 않았다. 또한, 프레임 지지부(18)에 접촉되어 있던 위치에 대해서도 이물의 부착 등의 흔적이 보여지지 않고, 물론, 마스크 점착층에도 접촉 자국 등의 결함은 전혀 보여지지 않았다. As the evaluation, the pellicle storage container in which the pellicle was stored was vertically held and maintained for 1 minute, and then the operation of returning the container horizontally was performed three times, and the attachment state of the foreign object to the pellicle was examined in the dark room in the clean room. As a result, no increase in the foreign matter adhered to the pellicle was observed at all. In addition, no trace of attachment of foreign matter or the like was observed at the position where it was in contact with the frame support portion 18, and of course, no defect such as a contact mark was seen at all in the mask adhesive layer.

본 발명에 의하면 세퍼레이터를 사용하지 않더라도 점착층을 보호할 수 있기 때문에 보관 중에 세퍼레이터를 필요로 하지 않는 펠리클 및 펠리클 수납 용기를 얻을 수 있다, 이 때문에, 특히 대형 펠리클에 있어서의 세퍼레이터 원재료의 입수난이라는 문제를 해결할 수 있는 것 외에 수송 중이나 세퍼레이터의 박리 작업에 있어서의 세퍼레이터 자체로부터의 발진이 없어지기 때문에 이물 부착 방지의 관점으로부터도 효과가 크고, 또한, 세퍼레이터 자체의 비용 뿐만 아니라 세정 작업, 부착 작업 등의 관련되는 공정을 삭감할 수 있기 때문에 제조 비용을 저감할 수 있다라는 등의 효과를 나타내므로 그 산업상의 이용 가치는 매우 높다.According to the present invention, since the pressure-sensitive adhesive layer can be protected without using a separator, it is possible to obtain a pellicle and a pellicle storage container that does not require a separator during storage. Therefore, the raw material for separator in a large pellicle In addition to being able to solve the problem, since the oscillation from the separator itself during the transportation or peeling operation of the separator is eliminated, the effect is also great from the viewpoint of prevention of foreign matter adherence. In addition to the cost of the separator itself, The manufacturing cost can be reduced because the related process of the manufacturing process can be reduced and the value of the industrial use is very high.

도 1은 본 발명에 의해 펠리클을 펠리클 수납 용기에 수납한 상태를 나타내는 평면도 및 단면 개략도이다.BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS Fig. 1 is a plan view and a schematic cross-sectional view showing a state in which a pellicle is housed in a pellicle storage container according to the present invention.

도 2는 본 발명의 펠리클을 나타내는 설명도이다.2 is an explanatory view showing a pellicle of the present invention.

(도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명)DESCRIPTION OF THE REFERENCE NUMERALS (S)

11: 펠리클 프레임 12: 마스크 점착층(마스크 점착제)11: Pellicle frame 12: mask sticking layer (mask sticking agent)

13: 펠리클막 14: 펠리클 수납 용기 트레이13: Pellicle film 14: Pellicle storage container tray

15: 펠리클 수납 용기 커버 16: 핀 유지 기구15: pellet storage container cover 16: pin holding mechanism

17: 핀 18: 프레임 지지부17: pin 18: frame support

21: 펠리클 프레임 22: 마스크 점착제층21: Pellicle frame 22: mask pressure-sensitive adhesive layer

23: 막접착제층 24: 펠리클막23: film adhesive layer 24: pellicle film

a: (마스크 점착제의)미도포 영역a: Uncoated area (of masking adhesive)

b: {펠리클 프레임(11)의 측면에 형성된}구멍b: {hole formed in the side surface of the pellicle frame 11}

Claims (5)

펠리클 프레임의 마스크에 점착시키기 위한 점착제층이 형성되는 면 내의 일부에 마스크 점착제의 미도포 영역이 형성되고, 펠리클 수납 용기의 트레이의 상기 마스크 점착제의 미도포 영역과 대응하는 위치에 형성된 펠리클 프레임 지지부 상에, 상기 점착제층이 형성되는 면 내의 타부에 도포된 점착제가 노출된 상태로 펠리클 프레임을 탑재하고, 또한, 펠리클 프레임의 측면에 형성되어 있는 비관통의 핀 삽입 구멍에 상기 트레이에 형성된 핀 유지 기구에 설치된 핀을 삽입해서 펠리클을 펠리클 수납 용기 내에 고정하는 것을 특징으로 하는 펠리클 수납 용기 내에 펠리클을 보관하는 방법.An uncoated region of the mask adhesive is formed on a part of the surface on which a pressure-sensitive adhesive layer for adhering to the mask of the pellicle frame is formed, and a pellicle frame supporting portion formed on the tray of the pellicle storage container at a position corresponding to the non- The pellicle frame is mounted on the pellicle frame in a state in which the pressure sensitive adhesive applied to the other portion in the surface on which the pressure sensitive adhesive layer is formed is exposed and the pin holding hole Wherein the pellicle is fixed in the pellicle storage container by inserting a pin provided in the pellicle storage container. 삭제delete 제 1 항에 있어서, 상기 펠리클 프레임 지지부의 재질은 수지, 고무, 또는 실리콘 겔 중 어느 하나의 재질로 이루어지는 것을 특징으로 하는 펠리클 수납 용기 내에 펠리클을 보관하는 방법.The method of claim 1, wherein the material of the pellicle frame supporting part is made of one of resin, rubber, and silicone gel. 제 1 항 또는 제 3 항에 있어서, 상기 펠리클 프레임 지지부는 대전 방지 성능을 갖는 것을 특징으로 하는 펠리클 수납 용기 내에 펠리클을 보관하는 방법.The method of claim 1 or 3, wherein the pellicle frame supporting portion has antistatic performance. 삭제delete
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Families Citing this family (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI537674B (en) * 2008-09-12 2016-06-11 Asahi Kasei E Materials Corp Mask mask film, mask mask and mask mask the use of the box
JP2011034020A (en) * 2009-08-06 2011-02-17 Shin-Etsu Chemical Co Ltd Pellicle storage container
JP2011076042A (en) * 2009-10-02 2011-04-14 Shin-Etsu Chemical Co Ltd Pellicle
JP2011164404A (en) * 2010-02-10 2011-08-25 Shin-Etsu Chemical Co Ltd Pellicle storage container
CN108490734A (en) * 2010-03-10 2018-09-04 旭化成株式会社 Frame for large pellicle and large pellicle
JP5528190B2 (en) * 2010-04-23 2014-06-25 信越化学工業株式会社 Pellicle storage container
JP2011240946A (en) * 2010-05-17 2011-12-01 Shin-Etsu Chemical Co Ltd Airtight enclosing method for bag containing pellicle
JP5349519B2 (en) * 2011-03-29 2013-11-20 信越化学工業株式会社 Pellicle storage method
JP5684752B2 (en) * 2012-03-29 2015-03-18 信越化学工業株式会社 Pellicle storage container
CN106233202B (en) * 2014-04-17 2020-07-10 汉阳大学校产学协力团 Pellicle for EUV lithography
JP6308676B2 (en) * 2014-12-18 2018-04-11 信越化学工業株式会社 Pellicle container for lithography.
JP6320309B2 (en) * 2015-01-19 2018-05-09 信越化学工業株式会社 Pellicle storage container
JP6351178B2 (en) * 2015-07-13 2018-07-04 信越化学工業株式会社 Pellicle storage container and pellicle removal method
JP6551837B2 (en) * 2015-08-17 2019-07-31 三井化学株式会社 Pellicle frame and pellicle containing the same
TWI589208B (en) 2015-10-13 2017-06-21 元太科技工業股份有限公司 Waterproof display apparatus and method for assembling the same
CN106571105A (en) * 2015-10-13 2017-04-19 元太科技工业股份有限公司 Waterproof display apparatus and assembling method therefor
JP6604651B2 (en) * 2016-02-22 2019-11-13 信越化学工業株式会社 Pellicle storage container
JP7442291B2 (en) 2019-10-09 2024-03-04 信越化学工業株式会社 Assembly consisting of a pellicle and its dedicated pellicle case

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006267179A (en) 2005-03-22 2006-10-05 Shin Etsu Chem Co Ltd Pellicle storage container
JP2006301525A (en) 2005-04-25 2006-11-02 Shin Etsu Chem Co Ltd Pellicle frame
JP2007047546A (en) * 2005-08-11 2007-02-22 Shin Etsu Polymer Co Ltd Housing container for pellicle
JP2007286483A (en) 2006-04-19 2007-11-01 Shin Etsu Chem Co Ltd Pellicle storage container

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3071348B2 (en) * 1993-10-21 2000-07-31 信越化学工業株式会社 Pellicle and its peeling method
JPH07204039A (en) * 1993-12-01 1995-08-08 Toppan Printing Co Ltd Built-up type floor cabinet for system kitchen
JP3434731B2 (en) * 1999-06-09 2003-08-11 Necエレクトロニクス株式会社 Pellicle and its case
JP4338467B2 (en) * 2003-07-23 2009-10-07 旭化成イーマテリアルズ株式会社 Large pellicle storage container
JP2006146085A (en) * 2004-11-24 2006-06-08 Shin Etsu Chem Co Ltd Large pellicle
JP4478558B2 (en) * 2004-12-08 2010-06-09 大日本印刷株式会社 Large pellicle transport method, transport jig and pellicle case
JP2007052217A (en) * 2005-08-18 2007-03-01 Shin Etsu Polymer Co Ltd Storage container for pellicle
JP4637053B2 (en) * 2006-05-15 2011-02-23 信越化学工業株式会社 Pellicle and pellicle peeling device
JP5052106B2 (en) * 2006-11-22 2012-10-17 旭化成イーマテリアルズ株式会社 How to store the pellicle
CN102681334B (en) * 2007-07-06 2015-09-30 旭化成电子材料株式会社 From the removing method holding container taking-up large pellicle component

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006267179A (en) 2005-03-22 2006-10-05 Shin Etsu Chem Co Ltd Pellicle storage container
JP2006301525A (en) 2005-04-25 2006-11-02 Shin Etsu Chem Co Ltd Pellicle frame
JP2007047546A (en) * 2005-08-11 2007-02-22 Shin Etsu Polymer Co Ltd Housing container for pellicle
JP2007286483A (en) 2006-04-19 2007-11-01 Shin Etsu Chem Co Ltd Pellicle storage container

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Publication number Publication date
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KR20090053680A (en) 2009-05-27
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JP5051840B2 (en) 2012-10-17
TWI384323B (en) 2013-02-01
HK1131444A1 (en) 2010-01-22

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