JP6320309B2 - Pellicle storage container - Google Patents

Pellicle storage container Download PDF

Info

Publication number
JP6320309B2
JP6320309B2 JP2015007461A JP2015007461A JP6320309B2 JP 6320309 B2 JP6320309 B2 JP 6320309B2 JP 2015007461 A JP2015007461 A JP 2015007461A JP 2015007461 A JP2015007461 A JP 2015007461A JP 6320309 B2 JP6320309 B2 JP 6320309B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pellicle
storage container
support means
frame support
pellicle frame
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2015007461A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2016133585A (en
Inventor
一敏 関原
一敏 関原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Original Assignee
Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shin Etsu Chemical Co Ltd filed Critical Shin Etsu Chemical Co Ltd
Priority to JP2015007461A priority Critical patent/JP6320309B2/en
Priority to KR1020160000305A priority patent/KR102544490B1/en
Priority to TW105100860A priority patent/TWI574100B/en
Priority to CN201610022706.7A priority patent/CN105807560A/en
Publication of JP2016133585A publication Critical patent/JP2016133585A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6320309B2 publication Critical patent/JP6320309B2/en
Priority to KR1020230075304A priority patent/KR20230088663A/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/66Containers specially adapted for masks, mask blanks or pellicles; Preparation thereof
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/62Pellicles, e.g. pellicle assemblies, e.g. having membrane on support frame; Preparation thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/6735Closed carriers
    • H01L21/67359Closed carriers specially adapted for containing masks, reticles or pellicles
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/673Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere using specially adapted carriers or holders; Fixing the workpieces on such carriers or holders
    • H01L21/6735Closed carriers
    • H01L21/67383Closed carriers characterised by substrate supports

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Packaging Frangible Articles (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)

Description

本発明は、半導体デバイス、プリント基板、液晶ディスプレイまたは有機ELディスプレイ等を製造する際のゴミよけとして使用されるペリクルの収納容器に関する。   The present invention relates to a container for a pellicle used as a dust guard when manufacturing a semiconductor device, a printed circuit board, a liquid crystal display, an organic EL display, or the like.

LSI、超LSIなどの半導体製造或は液晶ディスプレイ等の製造においては、半導体ウエハーまたは液晶用原板に光を照射してパターンを作製するが、このときに用いるフォトマスクまたはレチクル(以下、単に「フォトマスク」と記述する)にゴミが付着していると、このゴミが光を吸収したり光を曲げてしまうために、転写したパターンが変形したり、エッジががさついたものとなるほか、下地が黒く汚れたりするなど、寸法、品質、外観などが損なわれるという問題があった。   In the manufacture of semiconductors such as LSI and VLSI, or in the manufacture of liquid crystal displays or the like, patterns are produced by irradiating a semiconductor wafer or liquid crystal master plate with light, and a photomask or reticle (hereinafter simply referred to as “photograph”) used at this time. If the dust adheres to the mask), the dust will absorb the light and bend the light, so that the transferred pattern will be deformed, the edges will be sticky, and the ground will There was a problem that dimensions, quality, appearance, and the like were impaired, such as being stained black.

このため、これらの作業は、通常クリーンルームで行われているが、それでもフォトマスクを常に清浄に保つことが難しいので、フォトマスク表面にゴミよけとしてペリクルを貼り付けた後に露光を行っている。この場合、異物は、フォトマスクの表面には直接付着せず、ペリクル上に付着するため、リソグラフィー時に焦点をフォトマスクのパターン上に合わせておけば、ペリクル上の異物は転写に無関係となる。   For this reason, these operations are usually performed in a clean room. However, since it is still difficult to keep the photomask clean, exposure is performed after a pellicle is attached to the surface of the photomask to prevent dust. In this case, the foreign matter does not adhere directly to the surface of the photomask but adheres to the pellicle. Therefore, if the focus is set on the pattern of the photomask during lithography, the foreign matter on the pellicle becomes irrelevant to the transfer.

ペリクルは、一般に、光を良く透過させるニトロセルロース、酢酸セルロースまたはフッ素樹脂などからなる透明なペリクル膜を、アルミニウム、鉄鋼、ステンレス鋼、エンジニアリングプラスチックなどから成るペリクルフレームの上端面に貼り付けないし接着して構成されている。そして、ペリクルフレームの下端には、フォトマスクに装着するためのポリブデン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂等からなる粘着層及び粘着層の保護を目的とした離型層(セパレータ)が設けられている。   A pellicle generally has a transparent pellicle film made of nitrocellulose, cellulose acetate, or fluororesin that transmits light well, and is attached or adhered to the upper end surface of a pellicle frame made of aluminum, steel, stainless steel, engineering plastic, or the like. Configured. At the lower end of the pellicle frame, there is an adhesive layer made of polybutene resin, polyvinyl acetate resin, acrylic resin, silicone resin, etc. for mounting on a photomask and a release layer (separator) for the purpose of protecting the adhesive layer. Is provided.

このセパレータは、通常、PET樹脂などの100〜200μm程度の薄いフィルム上に離型剤を塗布し、所望の形状に切断加工したものが使用される。そして、このセパレータは、厚さが薄い上にフレームの外形とほぼ同じ枠状の形状をしているために、紐のような形状になってしまい、これを清浄にする洗浄作業が困難である他に、マスク粘着層への貼り付け等の作業においても取り扱いが極めて不便であるという問題がある。   As this separator, a separator obtained by applying a release agent on a thin film of about 100 to 200 μm such as PET resin and cutting it into a desired shape is usually used. And since this separator is thin and has a frame shape that is almost the same as the outer shape of the frame, it becomes a string-like shape, which makes it difficult to clean the separator. In addition, there is a problem that handling is extremely inconvenient in operations such as attaching to the mask adhesive layer.

もっとも、このセパレータは、その機能が粘着剤を保護するだけであり、ペリクルの使用時には剥がされて廃棄されるので、セパレータに伴う上記問題を解決するために、本発明者らは、従来から、このようなセパレータを用いないペリクルとこのペリクルを収納する容器を提案してきた(特許文献1及び2参照)。   However, since the function of the separator is only to protect the adhesive, and the pellicle is peeled off and discarded, in order to solve the above-mentioned problems associated with the separator, A pellicle that does not use such a separator and a container that stores the pellicle have been proposed (see Patent Documents 1 and 2).

すなわち、従来の特許文献1及び2に記載のペリクル収納容器は、ペリクルフレームの外側にマスク粘着層が塗布されていない領域を有し、このマスク粘着層の未塗布領域をペリクル収納容器本体上に設けたペリクルフレーム支持手段で支持するとともに、ペリクルフレームの側面に設けた非貫通の孔にピンを挿入することで、ペリクルを固定し収納するものである。したがって、これらのペリクル収納容器では、セパレータを剥離する必要がないために、セパレータを剥離する時に膜に接触するという問題はなく、また、自動機でペリクルを容易に取り出すことができるという多大な利点を有するものである。   That is, the conventional pellicle storage containers described in Patent Documents 1 and 2 have a region where the mask adhesive layer is not applied to the outside of the pellicle frame, and the uncoated region of the mask adhesive layer is placed on the pellicle storage container body. The pellicle is fixed and stored by being supported by the provided pellicle frame support means and by inserting a pin into a non-through hole provided on the side surface of the pellicle frame. Therefore, since there is no need to peel the separator in these pellicle storage containers, there is no problem of contact with the film when the separator is peeled off, and a great advantage is that the pellicle can be easily taken out by an automatic machine. It is what has.

特開2009−128635JP 2009-128635 A 特開2011−34020JP2011-34020

しかしながら、本発明者らのその後の検討によれば、このようなペリクル収納容器でも、これを輸送する等の運用に際して若干の問題が生じることが明らかとなった。例えば、特許文献1に記載のペリクル収納容器では、収納するペリクルは、その垂直方向がペリクルフレーム支持手段に支持されるとともに、その水平方向はピンで規制されて固定されているものの、ペリクル収納容器の輸送中の衝撃等により、ペリクルフレームがペリクルフレーム支持手段上において水平に振動したり、移動したりするために、ペリクルフレームに塗布されたマスク粘着層がペリクルフレーム支持手段に接触して損傷するという問題が生じることが明らかとなった。   However, according to the subsequent examinations by the present inventors, it has been clarified that even in such a pellicle storage container, there are some problems in operation such as transporting it. For example, in the pellicle storage container described in Patent Document 1, the pellicle to be stored is supported by the pellicle frame support means in the vertical direction, and the horizontal direction is regulated and fixed by a pin. The mask adhesive layer applied to the pellicle frame comes into contact with the pellicle frame support means and is damaged because the pellicle frame horizontally vibrates or moves on the pellicle frame support means due to impact during transportation It became clear that this problem would occur.

そこで、本発明は、上記の問題に鑑みてなされたものであり、その目的は、セパレータを使用しないペリクルを輸送する際に、マスク粘着層の損傷等が生じないように改善したペリクル収納容器を提供することである。   Therefore, the present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide an improved pellicle storage container so that the mask adhesive layer is not damaged when a pellicle not using a separator is transported. Is to provide.

すなわち、本発明のペリクル収納容器は、マスク粘着層を保護するセパレータを用いない矩形のペリクルを収納するペリクル収納容器本体と、このペリクル収納容器本体に嵌合して密閉する蓋体とを有するペリクル収納容器であって、ペリクル収納容器本体上には、外側が高くなった階段状を成すペリクルフレーム支持手段が設けられ、このペリクルフレーム支持手段は、収納するペリクルの角部から各辺の全長に対して30%の範囲だけに配置されているとともに、階段状のペリクルフレーム支持手段の低い段には、ペリクルフレームのマスク粘着層未塗布領域が支持されることを特徴とする。 That is, the pellicle storage container of the present invention is a pellicle having a pellicle storage container body that stores a rectangular pellicle that does not use a separator that protects the mask adhesive layer, and a lid that fits and seals the pellicle storage container body. On the pellicle storage container body, a pellicle frame support means having a stepped shape with the outside raised is provided on the main body of the pellicle storage container , and the pellicle frame support means extends from the corner of the stored pellicle to the full length of each side. On the other hand, it is arranged only in the range of 30%, and the mask adhesive layer uncoated region of the pellicle frame is supported on the lower step of the stepped pellicle frame support means.

さらに、ペリクルフレーム支持手段は、収納するペリクルの辺中央部に近いほどペリクルの内側方向に寄せて配置されていることが好ましく、その表面は、収納するペリクルのマスク粘着層に対して離型性を有していることが好ましい。   Further, the pellicle frame support means is preferably arranged closer to the inner side of the pellicle as it is closer to the center of the side of the pellicle to be stored, and its surface is releasable with respect to the mask adhesive layer of the stored pellicle. It is preferable to have.

本発明によれば、ペリクルフレーム支持手段が階段状に形成されているので、ペリクルフレームの水平方向の固定がより確実となる。そのため、ペリクルの輸送中の衝撃等により、ペリクルフレームの位置が移動しても、ペリクルフレーム支持手段とマスク粘着層との間隙が一定距離以上に保たれるから、輸送中のマスク粘着剤の損傷を防止することができる。   According to the present invention, since the pellicle frame support means is formed in a step shape, the pellicle frame is more reliably fixed in the horizontal direction. Therefore, even if the position of the pellicle frame moves due to impact during transportation of the pellicle, the gap between the pellicle frame support means and the mask adhesive layer is maintained at a certain distance or more. Can be prevented.

図1は、本発明のペリクル収納容器の一実施形態を示す平面図である。FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of a pellicle storage container of the present invention. 図2は、本発明のペリクル収納容器の一実施形態を示すAA断面図である。FIG. 2 is an AA sectional view showing an embodiment of the pellicle storage container of the present invention. 図3は、本発明のペリクル収納容器の一実施形態を示すBB断面図である。FIG. 3 is a BB sectional view showing an embodiment of the pellicle storage container of the present invention. 図4は、本発明のペリクル収納容器の一実施形態を示すC部拡大図である。FIG. 4 is an enlarged view of part C showing an embodiment of the pellicle storage container of the present invention. 図5は、本発明のペリクル収納容器の一実施形態を示す斜視図である。FIG. 5 is a perspective view showing an embodiment of the pellicle storage container of the present invention. 図6は、本発明のペリクル収納容器の一実施形態を示す斜視図である。FIG. 6 is a perspective view showing an embodiment of the pellicle storage container of the present invention. 図7は、比較例のペリクル収納容器を示す平面図である。FIG. 7 is a plan view showing a pellicle storage container of a comparative example. 図8は、比較例のペリクル収納容器を示すFF断面図である。FIG. 8 is an FF sectional view showing a pellicle storage container of a comparative example.

以下、本発明を実施するための形態について説明するが、本発明は、これに限定されるものではない。また、本発明は、辺長が500mmを超えるような大型のペリクルに適用した際に特に効果が大きいが、ペリクルの大きさや用途で限定されるものではない。   Hereinafter, although the form for implementing this invention is demonstrated, this invention is not limited to this. The present invention is particularly effective when applied to a large pellicle having a side length exceeding 500 mm, but is not limited by the size or application of the pellicle.

図1〜図6は、本発明のペリクル収納容器の一実施形態を示すものであり、図1〜図4においては、ペリクル収納容器本体11とその周縁部で嵌合係止する蓋体17について、その図示を省略している。   1 to 6 show an embodiment of a pellicle storage container according to the present invention. In FIGS. 1 to 4, a pellicle storage container main body 11 and a lid 17 fitted and locked at the peripheral edge thereof are shown. The illustration is omitted.

ペリクル収納容器本体11上には、ペリクルフレーム支持手段12、ピン14、ピン支持手段15が設けられる。また、図4に示すように、ペリクルフレーム21の下面内側には、マスク粘着層22が設けられるとともに、外周部にはマスク粘着層未塗布領域23が設けられ、その対面側には、ペリクル膜接着層24を介してペリクル膜25が張設される。   A pellicle frame support means 12, a pin 14, and a pin support means 15 are provided on the pellicle storage container main body 11. Further, as shown in FIG. 4, a mask adhesive layer 22 is provided inside the lower surface of the pellicle frame 21, and a mask adhesive layer non-application region 23 is provided on the outer peripheral portion. A pellicle film 25 is stretched through the adhesive layer 24.

本発明のペリクル収納容器10の場合、ペリクルフレーム21のマスク粘着層22が設けられる面の外周にマスク粘着層未塗布領域23が設けられるとともに、このペリクルフレーム21のマスク粘着層未塗布領域23を支持する階段状のペリクルフレーム支持手段12が設けられていれば良く、このほかの仕様に制限はない。   In the case of the pellicle storage container 10 of the present invention, a mask adhesive layer uncoated region 23 is provided on the outer periphery of the surface of the pellicle frame 21 where the mask adhesive layer 22 is provided, and the mask adhesive layer uncoated region 23 of the pellicle frame 21 is It is only necessary to provide the stepped pellicle frame support means 12 to be supported, and other specifications are not limited.

ペリクルフレーム支持手段12は、階段状に形成されており、その低い段にはペリクルフレーム21のマスク粘着層未塗布領域23が載置・支持される。例えば、図5に示すように、低い段のところに段差部12aを設け、この段差部12aにペリクルフレーム21のマスク粘着層未塗布領域23を支持することが好ましい。また、この階段状の形状は、ペリクルフレーム高さの50%以上の高さの垂直面12bを有するから、この垂直面12bによってペリクルフレーム21の水平方向への移動を規制することができる。   The pellicle frame support means 12 is formed in a step shape, and the mask adhesive layer non-application region 23 of the pellicle frame 21 is placed and supported on the lower step. For example, as shown in FIG. 5, it is preferable to provide a step 12a at a lower step and to support the mask adhesive layer uncoated region 23 of the pellicle frame 21 on the step 12a. Further, since this stepped shape has the vertical surface 12b having a height of 50% or more of the height of the pellicle frame, the vertical surface 12b can restrict the movement of the pellicle frame 21 in the horizontal direction.

このペリクルフレーム支持手段12は、外側が高くなった階段状であり、その上部は、5〜45°の角度で外側に開いたテーパ面12cである形状が好ましく、その頂部の高さは、自動機または取り出し治具によるペリクル20の取り出し作業を容易にするために、ペリクル膜25の面よりも低くなっていることが好ましい。   The pellicle frame support means 12 has a stepped shape with the outer side raised, and the upper part thereof is preferably a tapered surface 12c that opens outward at an angle of 5 to 45 °, and the height of the top part is automatic. In order to facilitate the removal operation of the pellicle 20 by a machine or a removal jig, it is preferably lower than the surface of the pellicle film 25.

また、ペリクルフレーム支持手段12は、ペリクル20の各辺に設けられるとともに、収納するペリクル20の角部から各辺の全長に対して30%の範囲(図1に示すDまたはE)にだけ配置されていることが好ましい。何故なら、ペリクルフレーム21には膜張力による内側への撓みが生じており、その撓みの度合いが辺の中央部にいくほど大きくなるために、ペリクルフレーム21の角部から30%の範囲(DまたはE)を超えて、ペリクルフレーム21の辺中央部付近にペリクルフレーム支持手段12が配置されると、ペリクルフレーム支持手段12の段差部12aにマスク粘着層未塗布領域23が適正に載置されずに脱落して、マスク粘着層22がペリクル収納容器本体11に接触する恐れがあるからである。   Further, the pellicle frame support means 12 is provided on each side of the pellicle 20, and is disposed only within a range of 30% (D or E shown in FIG. 1) from the corner of the pellicle 20 to be accommodated to the total length of each side. It is preferable that This is because the pellicle frame 21 is bent inward due to the film tension, and the degree of the bending increases toward the center of the side, so that the range (D) is 30% from the corner of the pellicle frame 21. If the pellicle frame support means 12 is disposed near the center of the side of the pellicle frame 21 beyond E), the mask adhesive layer non-application region 23 is properly placed on the stepped portion 12a of the pellicle frame support means 12. This is because the mask adhesive layer 22 may come into contact with the pellicle storage container body 11 without dropping.

さらに、ペリクルフレーム支持手段12は、これをペリクルフレーム21の角部から30%の範囲(DまたはE)に設けつつも、ペリクルの辺中央部に近いほどペリクルの内側方向に寄せて配置されていることが好ましい。何故なら、輸送中に生じる衝撃等によりペリクルフレーム21が水平方向に移動するという事態がより厳しく規制されることになるため、マスク粘着層22の接触を確実に防止することができるからである。   Further, the pellicle frame support means 12 is arranged in a range of 30% from the corner of the pellicle frame 21 (D or E), and is arranged closer to the inside of the pellicle closer to the center of the pellicle side. Preferably it is. This is because the situation in which the pellicle frame 21 moves in the horizontal direction due to an impact or the like generated during transportation is more strictly regulated, so that contact with the mask adhesive layer 22 can be reliably prevented.

ペリクルフレーム支持手段12の垂直面12bとペリクルフレーム21の外側面との間隙は、マスク粘着層未塗布領域23の幅にもよるが、0.2〜2mmの範囲が好ましい。0.2mm未満では挿入や取り出しが困難であるし、2mmを超えると規制が緩すぎて目的が達せられないからである。   The gap between the vertical surface 12b of the pellicle frame support means 12 and the outer surface of the pellicle frame 21 is preferably in the range of 0.2 to 2 mm, although it depends on the width of the mask adhesive layer uncoated region 23. If it is less than 0.2 mm, insertion and removal are difficult, and if it exceeds 2 mm, the regulation is too loose to achieve its purpose.

また、ペリクルフレーム支持手段12の表面は、収納するペリクル20のマスク粘着層22に対して離型性を有することが好ましい。万が一、何らかの理由でマスク粘着層22が接触した場合にも深刻な損傷を回避することができるため好適である。この離型性の付与は、表面に離型性を有する材料を塗布しても良いし、ペリクルフレーム支持手段12をそのような材質で製作しても良い。この材質は、マスク粘着層22の材質に応じて適したものを選択すればよいが、例えば、ゴム系粘着剤、アクリル系粘着剤のマスク粘着層22に対しては、PTFE等のフッ素系樹脂またはシリコーン樹脂を用いることができる。   The surface of the pellicle frame support means 12 preferably has releasability from the mask adhesive layer 22 of the pellicle 20 to be stored. Even if the mask adhesive layer 22 contacts for some reason, it is preferable because serious damage can be avoided. The release property may be imparted by applying a material having a release property on the surface, or the pellicle frame support means 12 may be manufactured from such a material. This material may be selected according to the material of the mask adhesive layer 22, but for example, a fluorine-based resin such as PTFE for the mask adhesive layer 22 of a rubber adhesive or an acrylic adhesive. Alternatively, a silicone resin can be used.

ペリクルフレーム支持手段12の表面に離型剤を塗布する場合は、スプレー、ディッピング、刷毛塗りなどの公知の方法で塗布することができる。一般的なシリコーン系離型剤を使用する場合には、膜厚が厚いと剥離しやすくなるので、塗布厚みは10μm以下になるようにすることが好ましい。   When the release agent is applied to the surface of the pellicle frame support means 12, it can be applied by a known method such as spraying, dipping, or brushing. When a general silicone release agent is used, it is easy to peel off when the film thickness is thick.

ペリクルフレーム支持手段12の大きさは、ペリクルフレーム21に沿った長さであり、10〜50mm程度とすることが良く、接着など公知の方法でペリクル収納容器本体11に取り付けることができる。好ましくは、図4に示すように、ボルト16によりペリクル収納容器本体11の外側から締結固定することが良い。また、内部に雌ねじを加工した板状ナット13をインサート成形すれば、固定強度を大幅に高めることができるため、より好ましい。   The size of the pellicle frame support means 12 is the length along the pellicle frame 21 and is preferably about 10 to 50 mm, and can be attached to the pellicle storage container body 11 by a known method such as adhesion. Preferably, as shown in FIG. 4, it is preferable to fasten and fix from the outside of the pellicle storage container body 11 with bolts 16. In addition, it is more preferable to insert-mold the plate-like nut 13 having a female thread inside because the fixing strength can be greatly increased.

図5は、ペリクルフレーム支持手段12の実施形態を示す一例である。段差部12aは、ペリクルフレーム支持手段12の全体に渡っては設けられておらず、一部の領域だけに設けられており、その長さw1は、3〜8mm程度とすることが好ましい。この実施形態では、ペリクルフレーム21を載置する段差部12aの領域が小さくなっているため、柔軟性が高くなり、クッション性を向上させることができる。   FIG. 5 is an example showing an embodiment of the pellicle frame support means 12. The step portion 12a is not provided over the entire pellicle frame support means 12, but is provided only in a part of the region, and the length w1 is preferably about 3 to 8 mm. In this embodiment, since the region of the stepped portion 12a on which the pellicle frame 21 is placed is small, the flexibility is increased and the cushioning property can be improved.

また、必要に応じて、段差部12aにカッター等による手作業で内側をカットする加工を加えて、段差部の幅w2を調整することができる。段差部の幅w2は、収納するペリクル20のマスク粘着層未塗布領域23の幅に応じて設定する必要があるが、ペリクルフレーム支持手段12の形態が図5に示す形態であれば、一つの成形型で様々なサイズのペリクル20に対応することができるため、その実用性が高くなる。   Moreover, the width | variety w2 of a level | step-difference part can be adjusted by adding the process which cuts an inner side manually with a cutter etc. to the level | step-difference part 12a as needed. The width w2 of the stepped portion needs to be set according to the width of the mask adhesive layer non-application region 23 of the pellicle 20 to be stored. If the form of the pellicle frame support means 12 is the form shown in FIG. Since the molding die can deal with the pellicle 20 of various sizes, its practicality is enhanced.

ペリクル20は、ペリクルフレーム支持手段12の段差部12aによってその下面が支持されるとともに、垂直面12bによってその水平方向の移動も規制されているが、ペリクル収納容器10の輸送中に生じる振動によってペリクルフレーム支持手段12からペリクル20が飛び出したりしないように、ペリクル収納容器本体11上に固定する必要がある。   The lower surface of the pellicle 20 is supported by the stepped portion 12a of the pellicle frame support means 12 and its horizontal movement is also restricted by the vertical surface 12b. However, the pellicle 20 is subject to vibration generated during transportation of the pellicle storage container 10. It is necessary to fix the pellicle 20 on the pellicle storage container body 11 so that the pellicle 20 does not jump out of the frame support means 12.

図1〜4に示した実施形態では、特許文献1に記載のペリクル収納容器と同様に、ペリクルフレーム21の側面に設けられた非貫通の孔(図示しない)に挿入したピン14とこれを保持するピン保持手段15によって、ペリクル20が固定されている。なお、ペリクル20の固定手段は、この他の公知の方法でも良く、ピン14とこれを保持するピン保持手段15に限定されるものではない。   In the embodiment shown in FIGS. 1 to 4, the pin 14 inserted in a non-through hole (not shown) provided on the side surface of the pellicle frame 21 and the pin 14 are held like the pellicle storage container described in Patent Document 1. The pellicle 20 is fixed by the pin holding means 15 that performs the above operation. The fixing means for the pellicle 20 may be another known method, and is not limited to the pin 14 and the pin holding means 15 for holding the pin 14.

ペリクル収納容器本体11及び蓋体17は、厚さ2〜8mm程度のアクリル、ABS、PVC、PCなどの樹脂板を用いて真空成型または圧空成形によって製作されることが好ましいが、その一辺が200mm以下の小型のものの場合は、射出成型で製作しても良い。また、ペリクル収納容器本体11は、付着異物の視認性の向上のために黒色であることが好ましく、蓋体17は、収納したペリクル20が容易に視認できるように透明または有色半透明であることが好ましい。   The pellicle storage container body 11 and the lid body 17 are preferably manufactured by vacuum molding or pressure molding using a resin plate of acrylic, ABS, PVC, PC or the like having a thickness of about 2 to 8 mm, but each side is 200 mm. In the case of the following small-sized ones, they may be manufactured by injection molding. Further, the pellicle storage container body 11 is preferably black for improving the visibility of adhered foreign matter, and the lid 17 is transparent or colored translucent so that the stored pellicle 20 can be easily visually recognized. Is preferred.

さらに、ペリクル収納容器本体11と蓋体17は、共に樹脂自体に帯電防止性能を付与するか、またはその表面に帯電防止塗装を施すことも異物付着を防止する観点から好適であり、難燃性を付与することも安全性の点からより好ましい。   Furthermore, the pellicle storage container body 11 and the lid body 17 are both suitable for imparting antistatic performance to the resin itself, or applying antistatic coating to the surface thereof from the viewpoint of preventing foreign matter adhesion, and flame retardancy. It is more preferable from the viewpoint of safety.

次に、本発明の実施例について詳細に説明する。   Next, examples of the present invention will be described in detail.

実施例では、先ず、図1〜6に示すようなペリクル収納容器10を製作した。ペリクル収納容器本体11は、厚さ5mmの帯電防止黒色ABS板材を用い、図6に示す蓋体17は厚さ5mmの帯電防止透明ABS板材を用いて真空成型して製作したものであり、その大きさは、外寸1100x1280x120mmとした。   In the example, first, a pellicle storage container 10 as shown in FIGS. The pellicle storage container body 11 is made by using an antistatic black ABS plate material having a thickness of 5 mm, and the lid body 17 shown in FIG. 6 is manufactured by vacuum molding using an antistatic transparent ABS plate material having a thickness of 5 mm. The size was 1100 × 1280 × 120 mm.

ペリクルフレーム支持手段12は、材質にスチレン系エラストマー(クラレプラスチックス(株)製、商品名;セプトン)を用いるとともに、図4に示すように、内部にSUS304で製作した板状ナット13を挿入し、射出成型により製作した。このペリクルフレーム支持手段12をペリクル収納容器本体11に裏面から2本のボルト16で取り付けた。   The pellicle frame support means 12 uses a styrene elastomer (trade name: Septon, manufactured by Kuraray Plastics Co., Ltd.) as a material, and inserts a plate-like nut 13 made of SUS304 as shown in FIG. , Produced by injection molding. The pellicle frame support means 12 was attached to the pellicle storage container main body 11 with two bolts 16 from the back side.

ペリクルフレーム支持手段12の取り付け位置は、図1に示すとおりであり、ペリクルフレーム21の長辺に配置した4か所のa、b、c、dは、ペリクルフレーム角から長辺長の30%の領域であるDの範囲内に取り付けられている。一方、短辺に配置した2か所のe、fは、ペリクルフレーム角から短辺長の30%の領域であるEの範囲内に取り付けられている。また、長辺に配置した4か所のペリクルフレーム支持手段12のうち、2か所のb及びcは、他の2か所のa及びdに対して0.7mm内側に取り付けられている。   The mounting position of the pellicle frame support means 12 is as shown in FIG. 1, and four positions a, b, c, and d arranged on the long side of the pellicle frame 21 are 30% of the long side length from the pellicle frame angle. It is attached within the range of D which is the region of On the other hand, the two e and f arranged on the short side are attached within the range of E which is 30% of the short side length from the pellicle frame angle. Of the four pellicle frame support means 12 arranged on the long side, two b and c are attached to the inside of 0.7 mm relative to the other two a and d.

次に、ペリクル収納容器本体11上には、ABS樹脂を射出成型して製作したピン保持手段15が接着固定されている。そして、この接着固定に先立って、ピン保持手段15に挿入されるピン14は、ペリクルフレーム外側面に設けた非貫通の孔(図示しない)に嵌合するよう位置調整されている。   Next, pin holding means 15 manufactured by injection molding of ABS resin is bonded and fixed on the pellicle storage container main body 11. Prior to this bonding and fixing, the pins 14 inserted into the pin holding means 15 are adjusted in position so as to fit into non-through holes (not shown) provided on the outer surface of the pellicle frame.

一方、このペリクル収納容器10の評価に用いるために、ペリクル20を用意した。このペリクル20は、ペリクルフレーム21の長辺外寸が1120mmに、短辺外寸が900mmに製作され、フレーム幅が12mmに、フレーム高さが5.8mmにそれぞれ作製されている。そして、このペリクル20のペリクルフレーム21には、その幅12mmに対して、マスク粘着層22が高さ1.3mm、幅4mmに塗布されているから、図4に示すように、幅8mmに渡ってマスク粘着層22が塗布されていないマスク粘着層未塗布領域23が形成されることになる。   On the other hand, a pellicle 20 was prepared for use in evaluating the pellicle storage container 10. The pellicle 20 has a pellicle frame 21 with a long side outer dimension of 1120 mm, a short side outer dimension of 900 mm, a frame width of 12 mm, and a frame height of 5.8 mm. The pellicle frame 21 of the pellicle 20 is coated with a mask adhesive layer 22 having a height of 1.3 mm and a width of 4 mm with respect to a width of 12 mm. Therefore, as shown in FIG. Thus, the mask adhesive layer uncoated region 23 where the mask adhesive layer 22 is not applied is formed.

図4に示すペリクルフレーム21の材質は、A6061アルミニウム合金であり、その表面をRa0.6程度にサンドブラスト処理したのち、黒色アルマイト処理を施してペリクルフレーム21を作製した。また、マスク粘着層22の材質は、シリコーン粘着剤(信越化学工業(株)製、商品名KR−3700)であり、ペリクル膜接着層24の材質は、シリコーン粘着剤(信越化学工業(株)製、商品名KR−3700)である。そして、ペリクル膜25としては、材質がフッ素系樹脂(旭硝子(株)製、商品名サイトップ)からなる厚さ4μmのものを用いた。   The material of the pellicle frame 21 shown in FIG. 4 is an A6061 aluminum alloy. The surface of the pellicle frame 21 was sandblasted to about Ra0.6, and then the black alumite treatment was performed to manufacture the pellicle frame 21. The mask adhesive layer 22 is made of silicone adhesive (trade name KR-3700, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), and the pellicle film adhesive layer 24 is made of silicone adhesive (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). Product name KR-3700). The pellicle film 25 is made of a fluororesin (made by Asahi Glass Co., Ltd., trade name Cytop) with a thickness of 4 μm.

このペリクル20は、ペリクル収納容器本体11上のフレーム支持手段12上に載置されるとともに、ピン保持手段15に支持されたピン14をペリクルフレーム21の外側面の孔(図示しない)に挿入して固定された後に、このペリクル20に蓋体17を被せて密閉し、周縁部を粘着テープで密封してペリクル収納容器10を完成させた。   The pellicle 20 is placed on the frame support means 12 on the pellicle storage container main body 11, and the pins 14 supported by the pin holding means 15 are inserted into holes (not shown) on the outer surface of the pellicle frame 21. Then, the pellicle 20 was covered with a lid 17 and sealed, and the periphery was sealed with an adhesive tape to complete the pellicle storage container 10.

最後に、このペリクル収納容器10を評価するために、ペリクル20が収納されたペリクル収納容器10を強化段ボールと発泡クッション材からなる梱包箱に収納し、往復約1000kmの距離に渡ってトラック輸送試験を行った後に、このペリクル収納容器10をクリーンルーム内にて開梱し、暗室においてペリクル20の損傷と異物の付着状況を検査した。   Finally, in order to evaluate the pellicle storage container 10, the pellicle storage container 10 in which the pellicle 20 is stored is stored in a packing box made of reinforced corrugated cardboard and foam cushion material, and a truck transportation test is performed over a distance of about 1000 km in both directions. Then, the pellicle storage container 10 was unpacked in a clean room, and the pellicle 20 was inspected for damage and foreign matter adhesion in a dark room.

その検査の結果では、ペリクル20に付着している異物の増加は全く見られなかった。また、ペリクルフレーム21のフレーム支持手段12に接触していた部分についても、同様に検査したところ、異物付着や擦れなどの痕跡が見られず、マスク粘着層22にも接触跡などの欠陥は全く見られなかった。   As a result of the inspection, no increase in foreign matter adhered to the pellicle 20 was observed. Further, when the portion of the pellicle frame 21 that was in contact with the frame support means 12 was also inspected in the same manner, there was no evidence of foreign matter adhesion or rubbing, and the mask adhesive layer 22 was completely free of defects such as contact marks. I couldn't see it.

比較例Comparative example

比較例では、図7及び図8に示すペリクル収納容器70を製作した。図7は、その平面図であり、図8は、図7中のFF断面図である。ペリクルフレーム支持部72の材質をスチレン系エラストマー(クラレプラスチックス(株)製、商品名;セプトン)として、ペリクルフレーム支持部72を射出成型により作製した。このペリクルフレーム支持部72には、段差がなく天面が平坦となっている。   In the comparative example, the pellicle storage container 70 shown in FIGS. 7 and 8 was manufactured. FIG. 7 is a plan view, and FIG. 8 is a cross-sectional view taken along the line FF in FIG. The material of the pellicle frame support part 72 was made of styrene elastomer (Kuraray Plastics Co., Ltd., trade name: Septon), and the pellicle frame support part 72 was produced by injection molding. The pellicle frame support portion 72 has no step and has a flat top surface.

また、このペリクル収納容器70は、そのペリクルフレーム支持部72の取り付け位置が各長短辺長の中央部分を含む均等配置となっている他は、上記実施例のペリクル収納容器10と寸法を含め同一となるように製作されている。   Further, the pellicle storage container 70 is the same as the pellicle storage container 10 of the above embodiment except that the pellicle frame support portion 72 is mounted at an equal position including the central portion of each long and short side. It is made to become.

次に、このペリクル収納容器70を評価するために、このペリクル収納容器70に上記実施例と同じペリクル20を収納して、同様にトラック輸送による往復約1000kmの距離に渡って輸送試験を行った後に、このペリクル収納容器70をクリーンルームに搬入して評価を行った。   Next, in order to evaluate the pellicle storage container 70, the same pellicle 20 as in the above embodiment was stored in the pellicle storage container 70, and a transportation test was similarly performed over a distance of about 1000 km by truck transportation. Later, the pellicle storage container 70 was carried into a clean room for evaluation.

その評価の結果では、ペリクル20をペリクル収納容器70から取り出そうとしたところ、長辺中央部付近のマスク粘着層22がペリクルフレーム支持手段72に接触して接着している部分が見られた。そこで、ゆっくりと接着している部分を引き剥がして、その部分を目視確認したところ、マスク粘着層22には接触による損傷が生じており、使用できない状態であることが確認された。   As a result of the evaluation, when the pellicle 20 was tried to be taken out from the pellicle storage container 70, a portion where the mask adhesive layer 22 near the center of the long side was in contact with and adhered to the pellicle frame support means 72 was observed. Then, when the part which adhere | attached slowly was peeled and the part was visually confirmed, the damage by contact has arisen in the mask adhesion layer 22, and it was confirmed that it cannot be used.

10 ペリクル収納容器
11 ペリクル収納容器本体
12 ペリクルフレーム支持手段
12a 段差部
12b 垂直面
12c テーパ面
13 板状ナット
14 ピン
15 ピン保持手段
16 ボルト
17 蓋体
20 ペリクル
21 ペリクルフレーム
22 マスク粘着層
23 マスク粘着層未塗布領域
24 ペリクル膜接着層
25 ペリクル膜
70 比較例のペリクル収納容器
71 比較例のペリクル収納容器本体
72 比較例のペリクルフレーム支持手段
a、b、c、d、e、f ペリクルフレーム支持手段
w1 ペリクルフレーム支持手段 段差部の長さ
w2 ペリクルフレーム支持手段 段差部の幅

DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Pellicle storage container 11 Pellicle storage container main body 12 Pellicle frame support means 12a Step part 12b Vertical surface 12c Tapered surface 13 Plate-like nut 14 Pin 15 Pin holding means 16 Bolt 17 Lid 20 Pellicle 21 Pellicle frame 22 Mask adhesion layer 23 Mask adhesion Layer uncoated region 24 Pellicle film adhesive layer 25 Pellicle film 70 Pellicle storage container 71 of comparative example Pellicle storage container body 72 of comparative example Pellicle frame support means a, b, c, d, e, f Pellicle frame support means w1 Pellicle frame support means Step length w2 Pellicle frame support means Step width

Claims (4)

マスク粘着層を保護するセパレータを用いない矩形のペリクルを収納するペリクル収納容器本体と、該ペリクル収納容器本体に嵌合して密閉する蓋体とを有するペリクル収納容器であって、前記ペリクル収納容器本体上には、外側が高くなった階段状を成すペリクルフレーム支持手段が設けられ、該ペリクルフレーム支持手段は、収納するペリクルの角部から各辺の全長に対して30%の範囲だけに配置されているとともに、前記階段状のペリクルフレーム支持手段の低い段には、ペリクルフレームのマスク粘着層未塗布領域が支持されることを特徴とするペリクル収納容器。 A pellicle storage container body having a pellicle storage container main body that stores a rectangular pellicle that does not use a separator that protects the mask adhesive layer, and a lid that fits and seals with the pellicle storage container main body, the pellicle storage container On the main body, a pellicle frame support means having a stepped shape with the outer side raised is provided, and the pellicle frame support means is arranged only within 30% of the total length of each side from the corner of the stored pellicle. together are, the stepped lower stages of the pellicle frame support means, the pellicle container, characterized in that the mask pressure-sensitive layer uncoated region of the pellicle frame is supported. 前記ペリクルフレーム支持手段は、収納するペリクルの辺中央部に近いほどペリクルの内側方向に寄せて配置されていることを特徴とする請求項1に記載のペリクル収納容器。 2. The pellicle storage container according to claim 1 , wherein the pellicle frame support means is arranged closer to the inner side of the pellicle as it is closer to the center of the side of the pellicle to be stored. マスク粘着層を保護するセパレータを用いない矩形のペリクルを収納するペリクル収納容器本体と、該ペリクル収納容器本体に嵌合して密閉する蓋体とを有するペリクル収納容器であって、前記ペリクル収納容器本体上には、外側が高くなった階段状を成すペリクルフレーム支持手段が設けられ、該ペリクルフレーム支持手段は、収納するペリクルの辺中央部に近いほどペリクルの内側方向に寄せて配置されているとともに、前記階段状のペリクルフレーム支持手段の低い段には、ペリクルフレームのマスク粘着層未塗布領域が支持されることを特徴とするペリクル収納容器。 A pellicle storage container body having a pellicle storage container main body that stores a rectangular pellicle that does not use a separator that protects the mask adhesive layer, and a lid that fits and seals with the pellicle storage container main body, the pellicle storage container On the main body, a pellicle frame support means having a stepped shape with the outer side raised is provided, and the pellicle frame support means is arranged closer to the inner side of the pellicle closer to the central part of the side of the pellicle to be stored. together with the lower stage of the stepped pellicle frame supporting means, the pellicle container, characterized in that the mask pressure-sensitive layer uncoated region of the pellicle frame is supported. 前記ペリクルフレーム支持手段は、その表面が収納するペリクルのマスク粘着層に対して離型性を有することを特徴とする請求項1〜3の何れかに記載のペリクル収納容器。   The pellicle storage container according to any one of claims 1 to 3, wherein the pellicle frame support means has releasability from the mask adhesive layer of the pellicle stored on the surface thereof.
JP2015007461A 2015-01-19 2015-01-19 Pellicle storage container Active JP6320309B2 (en)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015007461A JP6320309B2 (en) 2015-01-19 2015-01-19 Pellicle storage container
KR1020160000305A KR102544490B1 (en) 2015-01-19 2016-01-04 Pellicle storage container
TW105100860A TWI574100B (en) 2015-01-19 2016-01-13 Piege film assembly container
CN201610022706.7A CN105807560A (en) 2015-01-19 2016-01-14 Dust-proof thin-film component container
KR1020230075304A KR20230088663A (en) 2015-01-19 2023-06-13 Pellicle storage container

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2015007461A JP6320309B2 (en) 2015-01-19 2015-01-19 Pellicle storage container

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2016133585A JP2016133585A (en) 2016-07-25
JP6320309B2 true JP6320309B2 (en) 2018-05-09

Family

ID=56437828

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2015007461A Active JP6320309B2 (en) 2015-01-19 2015-01-19 Pellicle storage container

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP6320309B2 (en)
KR (2) KR102544490B1 (en)
CN (1) CN105807560A (en)
TW (1) TWI574100B (en)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102172217B1 (en) * 2018-07-31 2020-10-30 주식회사 시엠테크놀로지 Pellicle container and particle removing method using the same
CN213444112U (en) * 2019-10-03 2021-06-15 凸版印刷株式会社 Box for evaporation mask
TWI767515B (en) * 2020-05-14 2022-06-11 家登精密工業股份有限公司 Container for accommodating substrate with effective hermetic sealing
US12087605B2 (en) * 2020-09-30 2024-09-10 Gudeng Precision Industrial Co., Ltd. Reticle pod with antistatic capability

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4697701A (en) * 1986-05-30 1987-10-06 Inko Industrial Corporation Dust free storage container for a membrane assembly such as a pellicle and its method of use
JPH06208221A (en) * 1993-01-12 1994-07-26 Fujitsu Ltd Pellicle case
JP2855044B2 (en) * 1993-04-19 1999-02-10 信越化学工業株式会社 Pellicle storage container
JP4478558B2 (en) * 2004-12-08 2010-06-09 大日本印刷株式会社 Large pellicle transport method, transport jig and pellicle case
JP2007025183A (en) * 2005-07-15 2007-02-01 Shin Etsu Polymer Co Ltd Storage container for pellicle
JP2007047238A (en) * 2005-08-08 2007-02-22 Shin Etsu Polymer Co Ltd Housing container for pellicle
JP4614845B2 (en) * 2005-08-11 2011-01-19 信越ポリマー株式会社 Pellicle storage container
JP4955449B2 (en) 2007-05-10 2012-06-20 信越化学工業株式会社 Pellicle storage container
JP5051840B2 (en) * 2007-11-22 2012-10-17 信越化学工業株式会社 Method for storing a pellicle in a pellicle storage container
JP2011034020A (en) * 2009-08-06 2011-02-17 Shin-Etsu Chemical Co Ltd Pellicle storage container
JP5528190B2 (en) * 2010-04-23 2014-06-25 信越化学工業株式会社 Pellicle storage container
KR200469200Y1 (en) * 2010-05-10 2013-09-26 아사히 가세이 이-매터리얼즈 가부시키가이샤 Container for receiving pellicle
JP5684752B2 (en) * 2012-03-29 2015-03-18 信越化学工業株式会社 Pellicle storage container
JP5864399B2 (en) * 2012-10-22 2016-02-17 信越化学工業株式会社 Pellicle storage container

Also Published As

Publication number Publication date
CN105807560A (en) 2016-07-27
KR102544490B1 (en) 2023-06-16
KR20160089276A (en) 2016-07-27
TWI574100B (en) 2017-03-11
TW201635010A (en) 2016-10-01
KR20230088663A (en) 2023-06-20
JP2016133585A (en) 2016-07-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20230088663A (en) Pellicle storage container
TWI388475B (en) Pellicle container
JP5051840B2 (en) Method for storing a pellicle in a pellicle storage container
JP5854511B2 (en) Pellicle and pellicle attaching method
KR102666696B1 (en) Pellicle and mounting method thereof
JP4796946B2 (en) Pellicle storage container
KR101450683B1 (en) Pellicle container
JP5864399B2 (en) Pellicle storage container
JP2008216846A (en) Pellicle storage container
TWI590999B (en) Pellicle storage container
JP2010060992A (en) Large pellicle structure and large pellicle housing structure
JP2008257208A (en) Protective film for large pellicle and method for storing large pellicle
JP5981122B2 (en) Pellicle storage container
JP6604651B2 (en) Pellicle storage container
JP6156998B2 (en) Pellicle
JP6351178B2 (en) Pellicle storage container and pellicle removal method
TWI474957B (en) Storage container for pellicle
TWI574102B (en) Piege film assembly container
EP4325290A1 (en) Pellicle frame laminate and method for manufacturing pellicle using said laminate
JPWO2006059388A1 (en) Storage method for large pellicle
JP2012106799A (en) Pellicle storage container

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20161221

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20170913

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20171002

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20171106

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20180403

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20180403

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 6320309

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150