KR20230088663A - Pellicle storage container - Google Patents

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KR20230088663A
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pellicle
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adhesive layer
pellicle frame
mask adhesive
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Application number
KR1020230075304A
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Inventor
카즈토시 세키하라
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신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
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Abstract

The purpose of the present invention is to provide an improved pellicle storage container to prevent damage to a mask adhesive layer when transporting a pellicle without a separator. According to the present invention, the pellicle storage container includes a pellicle storage container body (11) for storing a rectangular pellicle (20) using no separator for protecting a mask adhesive layer (22), and a lid (17) for fitting the pellicle storage container body (11) to seal, wherein pellicle frame-supporting means (12) having a form of an outside high step is provided on the pellicle-housing container body (11), and a mask adhesive layer-non-coated region (23) of a pellicle frame (21) is supported on a lower step of the step-like pellicle frame-supporting means.

Description

펠리클 수납 용기{PELLICLE STORAGE CONTAINER}Pellicle storage container {PELLICLE STORAGE CONTAINER}

본 발명은 반도체 디바이스, 프린트 기판, 액정 디스플레이 또는 유기 EL 디스플레이 등을 제조할 때의 먼지막이로서 사용되는 펠리클의 수납 용기에 관한 것이다.The present invention relates to a storage container for a pellicle used as a dust barrier when manufacturing a semiconductor device, a printed circuit board, a liquid crystal display or an organic EL display, and the like.

LSI, 초 LSI 등의 반도체 제조 또는 액정 디스플레이 등의 제조에 있어서는 반도체 웨이퍼 또는 액정용 원판에 광을 조사해서 패턴을 제작하지만, 이때에 사용하는 포토마스크 또는 레티클(이하, 단지 「포토마스크」라고 기술함)에 먼지가 부착되어 있으면, 이 먼지가 광을 흡수하거나 광을 왜곡해 버리기 때문에 전사한 패턴이 변형되거나, 에지가 매끄럽지 못한 것이 되는 것 이외에, 하지가 검게 오염되거나 하는 등, 치수, 품질, 외관 등이 손상된다고 하는 문제가 있었다.In the manufacture of semiconductors such as LSIs and super LSIs, or manufactures of liquid crystal displays, light is irradiated to semiconductor wafers or original plates for liquid crystals to produce patterns, but the photomask or reticle used at this time (hereinafter referred to simply as “photomask”) ), the dust absorbs or distorts the light, so the transferred pattern is deformed, the edges are not smooth, the base is blackened, etc. There was a problem that the appearance and the like were damaged.

이 때문에, 이들 작업은 통상 클린룸에서 행하여지고 있지만, 그래도 포토마스크를 항상 청정하게 유지하는 것이 어려우므로 포토마스크 표면에 먼지막이로서 펠리클을 부착한 후에 노광을 행하고 있다. 이 경우, 이물은 포토마스크의 표면에는 직접 부착되지 않고 펠리클 상에 부착되기 때문에, 리소그래피시에 초점을 포토마스크의 패턴 상에 맞춰 두면 펠리클 상의 이물은 전사에 무관계하게 된다.For this reason, although these operations are usually performed in a clean room, exposure is performed after attaching a pellicle to the surface of the photomask as a dust barrier because it is still difficult to keep the photomask clean at all times. In this case, since the foreign material is not directly attached to the surface of the photomask but is attached to the pellicle, if the focus is set on the pattern of the photomask during lithography, the foreign material on the pellicle becomes irrelevant to transfer.

펠리클은 일반적으로 광을 잘 투과시키는 니트로셀룰로오스, 아세트산 셀룰로오스 또는 불소 수지 등으로 이루어진 투명한 펠리클막을 알루미늄, 철강, 스테인리스강, 엔지니어링 플라스틱 등으로 이루어진 펠리클 프레임의 상단면에 부착 내지 접착해서 구성되어 있다. 그리고, 펠리클 프레임의 하단에는 포토마스크에 장착하기 위한 폴리브덴 수지, 폴리아세트산 비닐 수지, 아크릴 수지, 실리콘 수지 등으로 이루어진 점착층 및 점착층의 보호를 목적으로 한 이형층(세퍼레이터)이 설치되어 있다.A pellicle is generally constructed by attaching or adhering a transparent pellicle film made of nitrocellulose, cellulose acetate, or fluororesin that transmits light well to the upper surface of a pellicle frame made of aluminum, steel, stainless steel, or engineering plastic. In addition, an adhesive layer made of polybdenum resin, polyvinyl acetate resin, acrylic resin, silicone resin, etc. for mounting on a photomask and a release layer (separator) for the purpose of protecting the adhesive layer are installed at the lower end of the pellicle frame. .

이 세퍼레이터는 통상 PET 수지 등의 100~200㎛ 정도의 얇은 필름 상에 이형제를 도포하고, 소망의 형상으로 절단 가공한 것이 사용된다. 그리고, 이 세퍼레이터는 두께가 얇고 또한 프레임의 외형과 거의 같은 프레임상의 형상을 하고 있기 때문에, 끈과 같은 형상이 되어 버려 이것을 청정하게 하는 세정 작업이 곤란한 것 이외에, 마스크 점착층으로의 부착 등의 작업에 있어서도 취급이 매우 불편하다고 하는 문제가 있다.This separator is usually used by coating a release agent on a thin film of about 100 to 200 µm, such as PET resin, and then cutting into a desired shape. And since this separator is thin and has a frame shape almost the same as the outer frame of the frame, it becomes a string-like shape, making cleaning work difficult to clean it, as well as attaching to the mask adhesive layer. Also, there is a problem that handling is very inconvenient.

무엇보다 이 세퍼레이터는 그 기능이 점착제를 보호하는 것뿐이며 펠리클의 사용시에는 박리되어 폐기되므로, 세퍼레이터에 수반하는 상기 문제를 해결하기 위해서 본 발명자들은 종래부터 이와 같은 세퍼레이터를 사용하지 않는 펠리클과 이 펠리클을 수납하는 용기를 제안해 왔다(특허문헌 1 및 2 참조).Above all, the function of this separator is only to protect the adhesive, and when the pellicle is used, it is peeled off and discarded. In order to solve the above problems associated with the separator, the present inventors conventionally developed a pellicle that does not use such a separator and this pellicle. A storage container has been proposed (see Patent Literatures 1 and 2).

즉, 종래의 특허문헌 1 및 2에 기재된 펠리클 수납 용기는 펠리클 프레임의 외측에 마스크 점착층이 도포되어 있지 않은 영역을 갖고, 이 마스크 점착층의 미도포 영역을 펠리클 수납 용기 본체 상에 설치한 펠리클 프레임 지지 수단으로 지지함과 아울러, 펠리클 프레임의 측면에 형성한 비관통의 구멍에 핀을 삽입함으로써 펠리클을 고정해서 수납하는 것이다. 따라서, 이들 펠리클 수납 용기에서는 세퍼레이터를 박리할 필요가 없기 때문에 세퍼레이터를 박리할 때에 막에 접촉한다고 하는 문제는 없고, 또한 자동기로 펠리클을 용이하게 인출할 수 있다고 하는 다대한 이점을 갖는 것이다.That is, the pellicle storage containers disclosed in Patent Documents 1 and 2 of the prior art have a region outside the pellicle frame where the mask adhesive layer is not applied, and the region where the mask adhesive layer is not applied is provided on the pellicle container body. In addition to being supported by the frame support means, the pellicle is fixed and accommodated by inserting a pin into a non-penetrating hole formed on the side surface of the pellicle frame. Therefore, since there is no need to peel the separator in these pellicle storage containers, there is no problem that the separator comes into contact with the film when peeling, and it has a great advantage that the pellicle can be easily taken out with an automatic machine.

일본 특허공개 2009-128635Japanese Patent Publication 2009-128635 일본 특허공개 2011-34020Japanese Patent Publication 2011-34020

그러나, 본 발명자들의 그 후의 검토에 의하면, 이와 같은 펠리클 수납 용기에서도 이것을 수송하는 등의 운용시에 있어서 약간의 문제가 발생하는 것이 명확해졌다. 예를 들면, 특허문헌 1에 기재된 펠리클 수납 용기에서는 수납하는 펠리클은 그 수직 방향이 펠리클 프레임 지지 수단에 지지됨과 아울러 그 수평 방향은 핀에 의해 규제되어서 고정되어 있지만, 펠리클 수납 용기의 수송 중의 충격 등에 의해 펠리클 프레임이 펠리클 프레임 지지 수단 상에 있어서 수평으로 진동하거나, 이동하거나 하기 때문에 펠리클 프레임에 도포된 마스크 점착층이 펠리클 프레임 지지 수단에 접촉해서 손상된다고 하는 문제가 발생하는 것이 명확해졌다.However, according to subsequent examinations by the present inventors, it became clear that even such a pellicle storage container would cause some problems during operation such as transporting the container. For example, in the pellicle storage container described in Patent Literature 1, the pellicle to be housed is supported in the vertical direction by the pellicle frame supporting means, and the horizontal direction is restricted and fixed by pins, but the shock during transportation of the pellicle storage container As a result, it became clear that since the pellicle frame vibrates or moves horizontally on the pellicle frame support means, the mask adhesive layer applied to the pellicle frame comes into contact with the pellicle frame support means and is damaged.

그래서, 본 발명은 상기 문제를 감안하여 이루어진 것으로서, 그 목적은 세퍼레이터를 사용하지 않는 펠리클을 수송할 때에 마스크 점착층의 손상 등이 발생하지 않도록 개선한 펠리클 수납 용기를 제공하는 것이다.Therefore, the present invention has been made in view of the above problems, and its object is to provide a pellicle storage container improved so that damage to the mask adhesive layer does not occur when transporting a pellicle that does not use a separator.

즉, 본 발명의 펠리클 수납 용기는 마스크 점착층을 보호하는 세퍼레이터를 사용하지 않는 직사각형의 펠리클을 수납하는 펠리클 수납 용기 본체와, 이 펠리클 수납 용기 본체에 감합되어 밀폐하는 덮개체를 갖는 펠리클 수납 용기로서, 펠리클 수납 용기 본체 상에는 외측이 높게 된 계단상을 이루는 펠리클 프레임 지지 수단이 설치됨과 아울러, 이 계단상의 펠리클 프레임 지지 수단의 낮은 단에는 펠리클 프레임의 마스크 점착층 미도포 영역이 지지되는 것을 특징으로 한다.That is, the pellicle storage container of the present invention is a pellicle storage container having a pellicle storage container body for storing a rectangular pellicle without using a separator for protecting a mask adhesive layer, and a cover body fitted to the pellicle storage container body and sealed. On the pellicle storage container body, a step-like pellicle frame support means is installed on the outside, and a mask adhesive layer uncoated area of the pellicle frame is supported at the lower end of the step-shaped pellicle frame support means. .

또한, 본 발명의 펠리클 수납 용기는 그 펠리클 프레임 지지 수단이 수납하는 펠리클의 모서리부로부터 각 변의 전체 길이에 대하여 30%의 범위에만 배치되어 있는 것을 특징으로 한다.In addition, the pellicle storage container of the present invention is characterized in that the pellicle frame supporting means is arranged only in a range of 30% of the total length of each side from the corner of the pellicle in which the pellicle frame is accommodated.

또한, 펠리클 프레임 지지 수단은 수납하는 펠리클의 변 중앙부에 가까울수록 펠리클의 내측 방향으로 근접해서 배치되어 있는 것이 바람직하고, 그 표면은 수납하는 펠리클의 마스크 점착층에 대하여 이형성을 갖고 있는 것이 바람직하다.In addition, the pellicle frame supporting means is preferably disposed closer to the center of the side of the pellicle to be accommodated, and closer to the inner side of the pellicle, and the surface thereof preferably has release properties from the mask adhesive layer of the pellicle to be accommodated.

본 발명에 의하면, 펠리클 프레임 지지 수단이 계단상으로 형성되어 있으므로 펠리클 프레임의 수평 방향의 고정이 보다 확실해진다. 그 때문에, 펠리클의 수송 중의 충격 등에 의해 펠리클 프레임의 위치가 이동해도, 펠리클 프레임 지지 수단과 마스크 점착층의 간격이 일정 거리 이상으로 유지되기 때문에 수송 중의 마스크 점착제의 손상을 방지할 수 있다.According to the present invention, since the pellicle frame supporting means is formed stepwise, the fixation of the pellicle frame in the horizontal direction is more reliable. Therefore, even if the position of the pellicle frame is moved due to an impact or the like during transport of the pellicle, since the distance between the pellicle frame support means and the mask adhesive layer is maintained at a certain distance or more, damage to the mask adhesive during transport can be prevented.

도 1은 본 발명의 펠리클 수납 용기의 일실시형태를 나타내는 평면도이다.
도 2는 본 발명의 펠리클 수납 용기의 일실시형태를 나타내는 AA 단면도이다.
도 3은 본 발명의 펠리클 수납 용기의 일실시형태를 나타내는 BB 단면도이다.
도 4는 본 발명의 펠리클 수납 용기의 일실시형태를 나타내는 C부 확대도이다.
도 5는 본 발명의 펠리클 수납 용기의 일실시형태를 나타내는 사시도이다.
도 6은 본 발명의 펠리클 수납 용기의 일실시형태를 나타내는 사시도이다.
도 7은 비교예의 펠리클 수납 용기를 나타내는 평면도이다.
도 8은 비교예의 펠리클 수납 용기를 나타내는 FF 단면도이다.1 is a plan view showing an embodiment of a pellicle storage container of the present invention.
Fig. 2 is an AA sectional view showing one embodiment of the pellicle storage container of the present invention.
3 is a BB cross-sectional view showing an embodiment of the pellicle storage container of the present invention.
4 is an enlarged view of section C showing an embodiment of the pellicle storage container of the present invention.
5 is a perspective view showing one embodiment of the pellicle storage container of the present invention.
6 is a perspective view showing one embodiment of the pellicle storage container of the present invention.
7 is a plan view showing a pellicle storage container of a comparative example.
8 is a FF sectional view showing a pellicle storage container of a comparative example.

이하, 본 발명을 실시하기 위한 형태에 대하여 설명하지만, 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니다. 또한, 본 발명은 변 길이가 500㎜를 초과하는 대형 펠리클에 적용했을 때에 특히 효과가 크지만, 펠리클의 크기나 용도로 한정되는 것은 아니다.Modes for carrying out the present invention will be described below, but the present invention is not limited thereto. In addition, the present invention is particularly effective when applied to a large pellicle having a side length of more than 500 mm, but is not limited to the size or use of the pellicle.

도 1~도 6은 본 발명의 펠리클 수납 용기의 일실시형태를 나타내는 것이며, 도 1~도 4에 있어서는 펠리클 수납 용기 본체(11)와 그 둘레 가장자리부에서 감합 록킹하는 덮개체(17)에 대해서 그 도시를 생략하고 있다.1 to 6 show an embodiment of the pellicle storage container of the present invention, and in FIGS. 1 to 4, the pellicle storage container main body 11 and the lid 17 fitted and locked at the periphery thereof The city is being omitted.

펠리클 수납 용기 본체(11) 상에는 펠리클 프레임 지지 수단(12), 핀(14), 핀 유지 수단(15)이 설치된다. 또한, 도 4에 나타내는 바와 같이 펠리클 프레임(21)의 하면 내측에는 마스크 점착층(22)이 형성됨과 아울러 외주부에는 마스크 점착층 미도포 영역(23)이 형성되고, 그 대면측에는 펠리클막 접착층(24)을 통해서 펠리클막(25)이 장설(張設)된다.A pellicle frame supporting means 12, a pin 14, and a pin retaining means 15 are installed on the pellicle housing container body 11. 4, a mask adhesive layer 22 is formed on the inner side of the lower surface of the pellicle frame 21, and a mask adhesive layer uncoated region 23 is formed on the outer periphery, and a pellicle film adhesive layer 24 is formed on the opposite side. ) Through the pellicle film 25 is elongated (張設).

본 발명의 펠리클 수납 용기(10)의 경우, 펠리클 프레임(21)의 마스크 점착층(22)이 형성되는 면의 외주에 마스크 점착층 미도포 영역(23)이 형성됨과 아울러, 이 펠리클 프레임(21)의 마스크 점착층 미도포 영역(23)을 지지하는 계단상의 펠리클 프레임 지지 수단(12)이 설치되어 있으면 좋고, 이 외의 사양에 제한은 없다.In the case of the pellicle storage container 10 of the present invention, a mask adhesive layer uncoated region 23 is formed on the outer periphery of the surface on which the mask adhesive layer 22 of the pellicle frame 21 is formed, and the pellicle frame 21 ), the step-shaped pellicle frame supporting means 12 for supporting the mask adhesive layer uncoated region 23 may be provided, and there is no limitation on other specifications.

펠리클 프레임 지지 수단(12)은 계단상으로 형성되어 있고, 그 낮은 단에는 펠리클 프레임(21)의 마스크 점착층 미도포 영역(23)이 적재·지지된다. 예를 들면, 도 5에 나타내는 바와 같이 낮은 단의 개소에 단차부(12a)를 형성하고, 이 단차부(12a)에 펠리클 프레임(21)의 마스크 점착층 미도포 영역(23)을 지지하는 것이 바람직하다. 또한, 이 계단상의 형상은 펠리클 프레임 높이의 50% 이상의 높이의 수직면(12b)을 갖기 때문에, 이 수직면(12b)에 의해 펠리클 프레임(21)의 수평 방향으로의 이동을 규제할 수 있다.The pellicle frame support means 12 is formed in a stepped shape, and the mask adhesive layer uncoated area 23 of the pellicle frame 21 is mounted and supported at the lower end. For example, as shown in Fig. 5, it is preferable to form a stepped portion 12a at a lower step and to support the mask adhesive layer uncoated region 23 of the pellicle frame 21 on the stepped portion 12a. desirable. In addition, since this stepped shape has a vertical surface 12b with a height of 50% or more of the pellicle frame height, movement of the pellicle frame 21 in the horizontal direction can be restricted by this vertical surface 12b.

이 펠리클 프레임 지지 수단(12)은 외측이 높게 된 계단상이며, 그 상부는 5~45°의 각도로 외측으로 개방된 테이퍼면(12c)인 형상이 바람직하고, 그 최상부의 높이는 자동기 또는 인출 지그에 의한 펠리클(20)의 인출 작업을 용이하게 하기 위해서 펠리클막(25)의 면보다 낮게 되어 있는 것이 바람직하다.This pellicle frame support means 12 is stepped with a high outer side, and the upper part is preferably a tapered surface 12c open outward at an angle of 5 to 45 °, and the height of the uppermost part is an automatic machine or a pull-out. It is preferable to be lower than the surface of the pellicle film 25 in order to facilitate the drawing-out operation of the pellicle 20 by the jig.

또한, 펠리클 프레임 지지 수단(12)은 펠리클(20)의 각 변에 설치됨과 아울러, 수납하는 펠리클(20)의 모서리부로부터 각 변의 전체 길이에 대하여 30%의 범위(도 1에 나타내는 D 또는 E)에만 배치되어 있는 것이 바람직하다. 왜냐하면, 펠리클 프레임(21)에는 막 장력에 의한 내측으로의 휨이 발생하고 있고 그 휨의 정도가 변의 중앙부로 갈수록 커지기 때문에, 펠리클 프레임(21)의 모서리부로부터 30%의 범위(D 또는 E)를 초과하여 펠리클 프레임(21)의 변 중앙부 부근에 펠리클 프레임 지지 수단(12)이 배치되면 펠리클 프레임 지지 수단(12)의 단차부(12a)에 마스크 점착층 미도포 영역(23)이 적정하게 적재되지 않고 탈락되어, 마스크 점착층(22)이 펠리클 수납 용기 본체(11)에 접촉할 우려가 있기 때문이다.In addition, the pellicle frame support means 12 is provided on each side of the pellicle 20 and is housed in a range of 30% of the total length of each side from the corner of the pellicle 20 (D or E shown in FIG. 1). ) is preferably arranged only. Because, in the pellicle frame 21, inward bending occurs due to film tension, and since the degree of bending increases toward the center of the side, the range of 30% from the corner of the pellicle frame 21 (D or E) When the pellicle frame support member 12 is disposed near the center of the side of the pellicle frame 21 exceeding This is because there is a fear that the mask adhesive layer 22 may come into contact with the pellicle storage container body 11 by falling off without doing so.

또한, 펠리클 프레임 지지 수단(12)은 이것을 펠리클 프레임(21)의 모서리부로부터 30%의 범위(D 또는 E)에 설치하면서도, 펠리클의 변 중앙부에 가까울수록 펠리클의 내측 방향에 근접해서 배치되어 있는 것이 바람직하다. 왜냐하면, 수송 중에 발생하는 충격 등에 의해 펠리클 프레임(21)이 수평 방향으로 이동한다고 하는 사태가 보다 엄격하게 규제되게 되기 때문에, 마스크 점착층(22)의 접촉을 확실하게 방지할 수 있기 때문이다.In addition, while the pellicle frame support means 12 is installed in a range (D or E) of 30% from the corner of the pellicle frame 21, the closer to the center of the side of the pellicle, the closer to the inside of the pellicle. it is desirable This is because contact with the mask adhesive layer 22 can be reliably prevented because the situation that the pellicle frame 21 moves in the horizontal direction due to an impact or the like generated during transportation is more strictly regulated.

펠리클 프레임 지지 수단(12)의 수직면(12b)과 펠리클 프레임(21)의 외측면의 간격은 마스크 점착층 미도포 영역(23)의 폭에도 따르지만, 0.2~2㎜의 범위가 바람직하다. 0.2㎜ 미만에서는 삽입이나 인출이 곤란하고, 2㎜를 초과하면 규제가 지나치게 느슨해서 목적이 달성되지 않기 때문이다.The distance between the vertical surface 12b of the pellicle frame supporting means 12 and the outer surface of the pellicle frame 21 depends on the width of the mask adhesive layer uncoated area 23, but is preferably in the range of 0.2 to 2 mm. It is because it is difficult to insert or withdraw if it is less than 0.2 mm, and if it exceeds 2 mm, the purpose is not achieved because regulation is too loose.

또한, 펠리클 프레임 지지 수단(12)의 표면은 수납하는 펠리클(20)의 마스크 점착층(22)에 대하여 이형성을 갖는 것이 바람직하다. 만일, 어떠한 이유로 마스크 점착층(22)이 접촉했을 경우에도 심각한 손상을 회피할 수 있기 때문에 바람직하다. 이 이형성의 부여는 표면에 이형성을 갖는 재료를 도포해도 좋고, 펠리클 프레임 지지 수단(12)을 그와 같은 재질로 제작해도 좋다. 이 재질은 마스크 점착층(22)의 재질에 따라 적당한 것을 선택하면 좋지만, 예를 들면 고무계 점착제, 아크릴계 점착제의 마스크 점착층(22)에 대해서는 PTFE 등의 불소계 수지 또는 실리콘 수지를 사용할 수 있다.In addition, the surface of the pellicle frame supporting means 12 preferably has releasability with respect to the mask adhesive layer 22 of the pellicle 20 to be accommodated. This is preferable because serious damage can be avoided even if the mask adhesive layer 22 contacts for some reason. To impart this releasability, a material having releasability may be applied to the surface, or the pellicle frame support means 12 may be made of such a material. This material may be appropriately selected according to the material of the mask adhesive layer 22, but for example, for the mask adhesive layer 22 of a rubber-based adhesive or an acrylic adhesive, a fluorine-based resin such as PTFE or a silicone resin can be used.

펠리클 프레임 지지 수단(12)의 표면에 이형제를 도포하는 경우에는 스프레이, 딥핑, 브러시 도포 등의 공지의 방법으로 도포할 수 있다. 일반적인 실리콘계 이형제를 사용할 경우에는 막 두께가 두꺼우면 박리되기 쉬워지므로, 도포 두께는 10㎛ 이하가 되도록 하는 것이 바람직하다.When the release agent is applied to the surface of the pellicle frame supporting means 12, it can be applied by a known method such as spraying, dipping, or brush application. In the case of using a general silicone-based mold release agent, since peeling becomes easy when the film thickness is thick, the coating thickness is preferably set to 10 μm or less.

펠리클 프레임 지지 수단(12)의 크기는 펠리클 프레임(21)을 따른 길이이며, 10~50㎜ 정도로 하는 것이 좋고, 접착 등 공지의 방법으로 펠리클 수납 용기 본체(11)에 부착할 수 있다. 바람직하게는, 도 4에 나타내는 바와 같이 볼트(16)에 의해 펠리클 수납 용기 본체(11)의 외측으로부터 체결 고정하는 것이 좋다. 또한, 내부에 암나사를 가공한 판 형상 너트(13)를 인서트 성형하면 고정 강도를 대폭 높일 수 있기 때문에 보다 바람직하다.The size of the pellicle frame support means 12 is the length along the pellicle frame 21, preferably about 10 to 50 mm, and can be attached to the pellicle storage container body 11 by a known method such as bonding. Preferably, as shown in FIG. 4, it is good to fasten and fix from the outside of the pellicle storage container main body 11 with the bolt 16. In addition, insert molding of the plate-shaped nut 13 having a female thread processed therein is more preferable because the fixing strength can be significantly increased.

도 5는 펠리클 프레임 지지 수단(12)의 실시형태를 나타내는 일례이다. 단차부(12a)는 펠리클 프레임 지지 수단(12)의 전체에 걸쳐서는 설치되어 있지 않고 일부의 영역에만 설치되어 있으며, 그 길이(w1)는 3~8㎜ 정도로 하는 것이 바람직하다. 이 실시형태에서는 펠리클 프레임(21)을 적재하는 단차부(12a)의 영역이 작게 되어 있기 때문에, 유연성이 높아져서 쿠션성을 향상시킬 수 있다.5 is an example showing an embodiment of the pellicle frame support means 12 . The stepped portion 12a is not provided over the entirety of the pellicle frame supporting means 12 but is provided only in a part of the area, and the length w1 is preferably about 3 to 8 mm. In this embodiment, since the area of the stepped portion 12a on which the pellicle frame 21 is placed is small, flexibility is increased and cushioning properties can be improved.

또한, 필요에 따라서 단차부(12a)에 커터 등에 의한 수작업으로 내측을 컷팅하는 가공을 가해서 단차부의 폭(w2)을 조정할 수 있다. 단차부의 폭(w2)은 수납하는 펠리클(20)의 마스크 점착층 미도포 영역(23)의 폭에 따라 설정할 필요가 있지만, 펠리클 프레임 지지 수단(12)의 형태가 도 5에 나타내는 형태이면 하나의 성형틀로 다양한 사이즈의 펠리클(20)에 대응할 수 있기 때문에 그 실용성이 높아진다.Further, if necessary, the width w2 of the stepped portion 12a can be adjusted by manually cutting the inside of the stepped portion 12a with a cutter or the like. The width w2 of the stepped portion needs to be set according to the width of the mask adhesive layer uncoated area 23 of the pellicle 20 to be housed. Since the mold can correspond to pellicles 20 of various sizes, its practicality increases.

펠리클(20)은 펠리클 프레임 지지 수단(12)의 단차부(12a)에 의해 그 하면이 지지됨과 아울러 수직면(12b)에 의해 그 수평 방향의 이동도 규제되어 있지만, 펠리클 수납 용기(10)의 수송 중에 발생하는 진동에 의해 펠리클 프레임 지지 수단(12)으로부터 펠리클(20)이 튀어나오거나 하지 않도록 펠리클 수납 용기 본체(11) 상에 고정할 필요가 있다.The lower surface of the pellicle 20 is supported by the stepped portion 12a of the pellicle frame supporting means 12, and the movement in the horizontal direction is also restricted by the vertical surface 12b. It is necessary to fix the pellicle 20 on the pellicle housing container main body 11 so that the pellicle 20 does not protrude from the pellicle frame supporting means 12 due to vibration generated during operation.

도 1~도 4에 나타낸 실시형태에서는 특허문헌 1에 기재된 펠리클 수납 용기 와 마찬가지로, 펠리클 프레임(21)의 측면에 형성된 비관통의 구멍(도시하지 않음)에 삽입한 핀(14)과 이것을 유지하는 핀 유지 수단(15)에 의해 펠리클(20)이 고정되어 있다. 또한, 펠리클(20)의 고정 수단은 이외의 공지의 방법이어도 좋고, 핀(14)과 이것을 유지하는 핀 유지 수단(15)에 한정되는 것은 아니다.In the embodiments shown in FIGS. 1 to 4, similarly to the pellicle storage container described in Patent Document 1, a pin 14 inserted into a non-through hole (not shown) formed on the side surface of the pellicle frame 21 and holding it The pellicle 20 is fixed by the pin holding means 15. In addition, the fixing means of the pellicle 20 may be other well-known methods, and it is not limited to the pin 14 and the pin holding means 15 holding it.

펠리클 수납 용기 본체(11) 및 덮개체(17)는 두께 2~8㎜ 정도의 아크릴, ABS, PVC, PC 등의 수지판을 이용하여 진공 성형 또는 압공 성형에 의해 제작되는 것이 바람직하지만, 그 한변이 200㎜ 이하인 소형인 경우에는 사출 성형에 의해 제작해도 좋다. 또한, 펠리클 수납 용기 본체(11)는 부착 이물의 시인성의 향상을 위해서 흑색인 것이 바람직하고, 덮개체(17)는 수납한 펠리클(20)이 용이하게 시인될 수 있도록 투명 또는 유색 반투명인 것이 바람직하다.The pellicle storage container main body 11 and the cover body 17 are preferably manufactured by vacuum molding or pressure molding using a resin plate such as acrylic, ABS, PVC, or PC having a thickness of about 2 to 8 mm. In the case of a small size of 200 mm or less, you may manufacture by injection molding. In addition, the pellicle storage container body 11 is preferably black to improve the visibility of adhered foreign matter, and the cover body 17 is transparent or colored translucent so that the stored pellicle 20 can be easily recognized. do.

또한, 펠리클 수납 용기 본체(11)와 덮개체(17)는 모두 수지 자체에 대전 방지 성능을 부여하거나, 또는 그 표면에 대전 방지 도장을 실시하는 것도 이물 부착을 방지하는 관점에서 바람직하고, 난연성을 부여하는 것도 안전성의 점에서 보다 바람직하다.In addition, it is preferable to impart antistatic performance to the resin itself or to apply antistatic coating to the surface of both the pellicle storage container body 11 and the cover body 17 from the viewpoint of preventing the adhesion of foreign substances, and the flame retardance is reduced. It is also more preferable from the viewpoint of safety.

[실시예][Example]

이어서, 본 발명의 실시예에 대해서 상세하게 설명한다.Next, examples of the present invention will be described in detail.

실시예에서는 우선, 도 1~도 6에 나타내는 바와 같은 펠리클 수납 용기(10)를 제작했다. 펠리클 수납 용기 본체(11)는 두께 5㎜의 대전 방지 흑색 ABS 판재를 사용하고, 도 6에 나타내는 덮개체(17)는 두께 5㎜의 대전 방지 투명 ABS 판재를 사용하여 진공 성형해서 제작한 것이며, 그 크기는 바깥 치수 1100×1280×120㎜로 했다.In the examples, first, a pellicle storage container 10 as shown in Figs. 1 to 6 was produced. The pellicle storage container body 11 is made of an antistatic black ABS plate material having a thickness of 5 mm, and the cover body 17 shown in FIG. 6 is manufactured by vacuum forming using an antistatic transparent ABS plate material having a thickness of 5 mm, The size was set to 1100 x 1280 x 120 mm in outer dimensions.

펠리클 프레임 지지 수단(12)은 재질에 스티렌계 엘라스토머[쿠라레 플라스틱(주) 제, 상품명; 세프톤]를 사용함과 아울러, 도 4에 나타내는 바와 같이 내부에 SUS 304로 제작한 판 형상 너트(13)를 삽입하여 사출 성형에 의해 제작했다. 이 펠리클 프레임 지지 수단(12)을 펠리클 수납 용기 본체(11)에 이면으로부터 2개의 볼트(16)로 부착했다.The pellicle frame support means 12 is made of a styrenic elastomer [Kuraray Plastics Co., Ltd. product, trade name; Sefton] was used, and as shown in Fig. 4, a plate-shaped nut 13 made of SUS 304 was inserted inside and produced by injection molding. This pellicle frame supporting means 12 is attached to the pellicle housing container body 11 from the back side with two bolts 16.

펠리클 프레임 지지 수단(12)의 부착 위치는 도 1에 나타내는 바와 같으며, 펠리클 프레임(21)의 장변에 배치한 4개소의 a, b, c, d는 펠리클 프레임 모서리로부터 장변 길이의 30%의 영역인 D의 범위 내에 부착되어 있다. 한편, 단변에 배치한 2개소의 e, f는 펠리클 프레임 모서리로부터 단변 길이의 30%의 영역인 E의 범위 내에 부착되어 있다. 또한, 장변에 배치한 4개소의 펠리클 프레임 지지 수단(12) 중, 2개소의 b 및 c는 다른 2개소의 a 및 d에 대하여 0.7㎜ 내측에 부착되어 있다.The attachment position of the pellicle frame support means 12 is as shown in FIG. 1, and the four places a, b, c, and d arranged on the long side of the pellicle frame 21 are 30% of the length of the long side from the edge of the pellicle frame. It is attached within the range of area D. On the other hand, two places e and f arranged on the short side are attached within the range of E, which is an area of 30% of the short side length from the edge of the pellicle frame. In addition, among the four pellicle frame supporting means 12 arranged on the long side, two places b and c are attached 0.7 mm inside with respect to the other two places a and d.

이어서, 펠리클 수납 용기 본체(11) 상에는 ABS 수지를 사출 성형해서 제작한 핀 유지 수단(15)이 접착 고정되어 있다. 그리고, 이 접착 고정에 앞서 핀 유지 수단(15)에 삽입되는 핀(14)은 펠리클 프레임 외측면에 형성한 비관통의 구멍(도시하지 않음)에 감합되도록 위치 조정되어 있다.Next, on the pellicle storage container body 11, a pin retaining means 15 manufactured by injection molding of ABS resin is adhered and fixed. Prior to this adhesive fixation, the pin 14 inserted into the pin retaining means 15 is positioned so as to fit into a non-through hole (not shown) formed on the outer surface of the pellicle frame.

한편, 이 펠리클 수납 용기(10)의 평가에 사용하기 위해서 펠리클(20)을 준비했다. 이 펠리클(20)은 펠리클 프레임(21)의 장변 바깥 치수가 1120㎜로, 단변의 바깥 치수가 900㎜로 제작되고, 프레임 폭이 12㎜로, 프레임 높이가 5.8㎜로 각각 제작되어 있다. 그리고, 이 펠리클(20)의 펠리클 프레임(21)에는 그 폭 12㎜에 대하여 마스크 점착층(22)이 높이 1.3㎜, 폭 4㎜로 도포되어 있기 때문에, 도 4에 나타내는 바와 같이 폭 8㎜에 걸쳐서 마스크 점착층(22)이 도포되어 있지 않은 마스크 점착층 미도포 영역(23)이 형성되게 된다.On the other hand, a pellicle 20 was prepared for use in the evaluation of this pellicle storage container 10. The pellicle 20 has a long side outer dimension of 1120 mm and a short side outer dimension of 900 mm, and a frame width of 12 mm and a frame height of 5.8 mm. Since the mask adhesive layer 22 is applied to the pellicle frame 21 of the pellicle 20 at a height of 1.3 mm and a width of 4 mm for a width of 12 mm, as shown in FIG. 4, the width is 8 mm. A mask adhesive layer uncoated region 23 is formed over which the mask adhesive layer 22 is not applied.

도 4에 나타내는 펠리클 프레임(21)의 재질은 A6061 알루미늄 합금이며, 그 표면을 Ra 0.6 정도로 샌드 블래스트 처리한 후, 흑색 알루마이트 처리를 실시해서 펠리클 프레임(21)을 제작했다. 또한, 마스크 점착층(22)의 재질은 실리콘 점착제[신에쓰 가가꾸 고교(주) 제, 상품명 KR-3700]이고, 펠리클막 접착층(24)의 재질은 실리콘 점착제[신에쓰 가가꾸 고교(주) 제, 상품명 KR-3700]이다. 그리고, 펠리클막(25)으로서는 재질이 불소계 수지[아사히 가라스(주) 제, 상품명 사이톱]로 이루어진 두께 4㎛인 것을 사용했다.The material of the pellicle frame 21 shown in FIG. 4 is an A6061 aluminum alloy, and after sandblasting the surface to about Ra 0.6, a black alumite treatment was performed to produce the pellicle frame 21. In addition, the material of the mask adhesive layer 22 is a silicone adhesive [manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name KR-3700], and the material of the pellicle film adhesive layer 24 is a silicone adhesive [Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. ) first, trade name KR-3700]. And, as the pellicle film 25, a material having a thickness of 4 μm made of fluorine-based resin (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., trade name Cytop) was used.

이 펠리클(20)은 펠리클 수납 용기 본체(11) 상의 프레임 지지 수단(12) 상에 적재됨과 아울러, 핀 유지 수단(15)에 지지된 핀(14)을 펠리클 프레임(21)의 외측면의 구멍(도시하지 않음)에 삽입해서 고정시킨 후에, 이 펠리클(20)에 덮개체(17)를 씌워서 밀폐하고, 둘레 가장자리부를 점착 테이프로 밀봉해서 펠리클 수납 용기(10)를 완성시켰다.The pellicle 20 is loaded on the frame supporting means 12 on the pellicle housing container body 11, and the pin 14 supported by the pin holding means 15 is inserted into the hole of the outer surface of the pellicle frame 21. After being inserted into (not shown) and fixed, the pellicle 20 was covered with a lid 17 and sealed, and the periphery was sealed with adhesive tape to complete the pellicle storage container 10.

마지막으로, 이 펠리클 수납 용기(10)를 평가하기 위해서 펠리클(20)이 수납된 펠리클 수납 용기(10)를 강화 골판지와 발포 쿠션재로 이루어진 곤포 상자에 수납하고, 왕복 약 1000㎞의 거리에 걸쳐서 트럭 수송 시험을 행한 후에 이 펠리클 수납 용기(10)를 클린룸 내에서 개곤(開梱)하여 암실에 있어서 펠리클(20)의 손상과 이물의 부착 상황을 검사했다.Finally, in order to evaluate this pellicle storage container 10, the pellicle storage container 10 in which the pellicle 20 is stored is housed in a packing box made of reinforced corrugated cardboard and foam cushioning material, and a truck over a round-trip distance of about 1000 km. After carrying out the transport test, the pellicle storage container 10 was opened in a clean room, and damage to the pellicle 20 and adhesion of foreign matter were inspected in a dark room.

그 검사 결과에서는 펠리클(20)에 부착되어 있는 이물의 증가는 전혀 보이지 않았다. 또한, 펠리클 프레임(21)의 프레임 지지 수단(12)에 접촉하고 있던 부분에 대해서도 마찬가지로 검사한 결과, 이물 부착이나 마찰 등의 흔적이 보이지 않고, 마스크 점착층(22)에도 접촉 흔적 등의 결함은 전혀 보이지 않았다.As a result of the inspection, no increase in foreign matter adhering to the pellicle 20 was observed. In addition, as a result of similarly inspecting the portion of the pellicle frame 21 that was in contact with the frame supporting means 12, no traces of foreign matter adhesion or friction were found, and there were no defects such as contact traces in the mask adhesive layer 22. Didn't see it at all.

[비교예][Comparative example]

비교예에서는 도 7 및 도 8에 나타내는 펠리클 수납 용기(70)를 제작했다. 도 7은 그 평면도이고, 도 8은 도 7 중의 FF 단면도이다. 펠리클 프레임 지지 수단(72)의 재질을 스티렌계 엘라스토머[쿠라레 플라스틱스(주) 제, 상품명; 세프톤]로 하고, 펠리클 프레임 지지 수단(72)을 사출 성형에 의해 제작했다. 이 펠리클 프레임 지지 수단(72)에는 단차가 없이 상부면이 평탄하게 되어 있다.In the comparative example, the pellicle storage container 70 shown in FIGS. 7 and 8 was manufactured. Fig. 7 is a plan view thereof, and Fig. 8 is an FF sectional view in Fig. 7 . The material of the pellicle frame support means 72 is a styrenic elastomer [manufactured by Kuraray Plastics Co., Ltd., trade name; Sefton], and the pellicle frame support means 72 was produced by injection molding. The upper surface of this pellicle frame support means 72 is flat without a step.

또한, 이 펠리클 수납 용기(70)는 그 펠리클 프레임 지지 수단(72)의 부착 위치가 각 장단변 길이의 중앙 부분을 포함하는 균등 배치로 되어 있는 것 이외에는, 상기 실시예의 펠리클 수납 용기(10)와 치수를 포함해서 동일하게 되도록 제작되어 있다.In addition, this pellicle storage container 70 is similar to the pellicle storage container 10 of the above embodiment except that the attachment position of the pellicle frame support means 72 is evenly arranged including the central part of each long and short side length. They are manufactured to be the same including dimensions.

이어서, 이 펠리클 수납 용기(70)를 평가하기 위해서 이 펠리클 수납 용기(70)에 상기 실시예와 같은 펠리클(20)을 수납하고, 마찬가지로 트럭 수송에 의한 왕복 약 1000㎞의 거리에 걸쳐서 수송 시험을 행한 후에, 이 펠리클 수납 용기(70)를 클린룸에 반입해서 평가를 행하였다.Next, in order to evaluate this pellicle storage container 70, the same pellicle 20 as in the above embodiment was stored in this pellicle storage container 70, and similarly, a transportation test was conducted over a round-trip distance of about 1000 km by truck transportation. After performing, this pellicle storage container 70 was carried into a clean room and evaluated.

그 평가의 결과에서는 펠리클(20)을 펠리클 수납 용기(70)로부터 인출하려고 했을 때, 장변 중앙부 부근의 마스크 점착층(22)이 펠리클 프레임 지지 수단(72)에 접촉해서 접착되어 있는 부분이 보였다. 거기에서, 천천히 접착되어 있는 부분을 박리하고 그 부분을 육안 확인한 결과, 마스크 점착층(22)에는 접촉에 의한 손상이 발생하고 있어 사용할 수 없는 상태인 것이 확인되었다.As a result of the evaluation, when the pellicle 20 was to be taken out of the pellicle storage container 70, a portion where the mask adhesive layer 22 in the vicinity of the center of the long side was in contact with the pellicle frame supporting means 72 was observed. Then, as a result of slowly peeling off the adhered portion and visually confirming the portion, it was confirmed that the mask adhesive layer 22 was damaged by contact and could not be used.

10 : 펠리클 수납 용기 11 : 펠리클 수납 용기 본체
12 : 펠리클 프레임 지지 수단 12a : 단차부
12b : 수직면 12c : 테이퍼면
13 : 판 형상 너트 14 : 핀
15 : 핀 유지 수단 16 : 볼트
17 : 덮개체 20 : 펠리클
21 : 펠리클 프레임 22 : 마스크 점착층
23 : 마스크 점착층 미도포 영역 24 : 펠리클막 접착층
25 : 펠리클막 70 : 비교예의 펠리클 수납 용기
71 : 비교예의 펠리클 수납 용기 본체
72 : 비교예의 펠리클 프레임 지지 수단
a, b, c, d, e, f : 펠리클 프레임 지지 수단
w1 : 펠리클 프레임 지지 수단 단차부의 길이
w2 : 펠리클 프레임 지지 수단 단차부의 폭10: pellicle storage container 11: pellicle storage container body
12: pellicle frame support means 12a: stepped portion
12b: vertical plane 12c: tapered plane
13: plate-shaped nut 14: pin
15: pin retaining means 16: bolt
17: cover body 20: pellicle
21: pellicle frame 22: mask adhesive layer
23: mask adhesive layer uncoated area 24: pellicle film adhesive layer
25: pellicle film 70: pellicle storage container of comparative example
71: pellicle storage container body of comparative example
72: pellicle frame support means of comparative example
a, b, c, d, e, f: Pellicle frame support means
w1: length of the stepped part of the pellicle frame support means
w2: Width of the stepped part of the pellicle frame support means

Claims (1)

마스크 점착층을 보호하는 세퍼레이터를 사용하지 않는 직사각형의 펠리클을 수납하는 펠리클 수납 용기 본체와, 그 펠리클 수납 용기 본체에 감합되어 밀폐하는 덮개체를 갖는 펠리클 수납 용기로서, 상기 펠리클 수납 용기 본체 상에는 외측이 높게 된 계단상을 이루는 펠리클 프레임 지지 수단이 설치됨과 아울러, 그 계단상의 펠리클 프레임 지지 수단의 낮은 단에는 펠리클 프레임의 마스크 점착층 미도포 영역이 지지되는 것을 특징으로 하는 펠리클 수납 용기.A pellicle storage container having a pellicle storage container body for accommodating a rectangular pellicle not using a separator for protecting a mask adhesive layer, and a cover body fitted to the pellicle storage container body to seal the pellicle storage container, wherein the pellicle storage container body has an outer side on the pellicle storage container body. A pellicle storage container characterized in that a stepwise pellicle frame support means is provided, and a mask adhesive layer uncoated region of the pellicle frame is supported at a lower end of the stepwise pellicle frame support means.
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102172217B1 (en) * 2018-07-31 2020-10-30 주식회사 시엠테크놀로지 Pellicle container and particle removing method using the same
CN213444112U (en) * 2019-10-03 2021-06-15 凸版印刷株式会社 Box for evaporation mask
TWI767515B (en) * 2020-05-14 2022-06-11 家登精密工業股份有限公司 Container for accommodating substrate with effective hermetic sealing
US12087605B2 (en) * 2020-09-30 2024-09-10 Gudeng Precision Industrial Co., Ltd. Reticle pod with antistatic capability

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009128635A (en) 2007-11-22 2009-06-11 Shin Etsu Chem Co Ltd Pellicle, pellicle storage container storing pellicle, and method for storing pellicle in pellicle storage container
JP2011034020A (en) 2009-08-06 2011-02-17 Shin-Etsu Chemical Co Ltd Pellicle storage container

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4697701A (en) * 1986-05-30 1987-10-06 Inko Industrial Corporation Dust free storage container for a membrane assembly such as a pellicle and its method of use
JPH06208221A (en) * 1993-01-12 1994-07-26 Fujitsu Ltd Pellicle case
JP2855044B2 (en) * 1993-04-19 1999-02-10 信越化学工業株式会社 Pellicle storage container
JP4478558B2 (en) * 2004-12-08 2010-06-09 大日本印刷株式会社 Large pellicle transport method, transport jig and pellicle case
JP2007025183A (en) * 2005-07-15 2007-02-01 Shin Etsu Polymer Co Ltd Storage container for pellicle
JP2007047238A (en) * 2005-08-08 2007-02-22 Shin Etsu Polymer Co Ltd Housing container for pellicle
JP4614845B2 (en) * 2005-08-11 2011-01-19 信越ポリマー株式会社 Pellicle storage container
JP4955449B2 (en) 2007-05-10 2012-06-20 信越化学工業株式会社 Pellicle storage container
JP5528190B2 (en) * 2010-04-23 2014-06-25 信越化学工業株式会社 Pellicle storage container
KR200469200Y1 (en) * 2010-05-10 2013-09-26 아사히 가세이 이-매터리얼즈 가부시키가이샤 Container for receiving pellicle
JP5684752B2 (en) * 2012-03-29 2015-03-18 信越化学工業株式会社 Pellicle storage container
JP5864399B2 (en) * 2012-10-22 2016-02-17 信越化学工業株式会社 Pellicle storage container

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009128635A (en) 2007-11-22 2009-06-11 Shin Etsu Chem Co Ltd Pellicle, pellicle storage container storing pellicle, and method for storing pellicle in pellicle storage container
JP2011034020A (en) 2009-08-06 2011-02-17 Shin-Etsu Chemical Co Ltd Pellicle storage container

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