KR101448169B1 - 멀티-플레인 구조의 3차원 메모리 장치 - Google Patents

멀티-플레인 구조의 3차원 메모리 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR101448169B1
KR101448169B1 KR1020080000206A KR20080000206A KR101448169B1 KR 101448169 B1 KR101448169 B1 KR 101448169B1 KR 1020080000206 A KR1020080000206 A KR 1020080000206A KR 20080000206 A KR20080000206 A KR 20080000206A KR 101448169 B1 KR101448169 B1 KR 101448169B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
block
plane
mat
blocks
layer
Prior art date
Application number
KR1020080000206A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20090074431A (ko
Inventor
박기태
이영택
Original Assignee
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사 filed Critical 삼성전자주식회사
Priority to KR1020080000206A priority Critical patent/KR101448169B1/ko
Priority to US12/343,636 priority patent/US7940564B2/en
Publication of KR20090074431A publication Critical patent/KR20090074431A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101448169B1 publication Critical patent/KR101448169B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10BELECTRONIC MEMORY DEVICES
    • H10B41/00Electrically erasable-and-programmable ROM [EEPROM] devices comprising floating gates
    • H10B41/30Electrically erasable-and-programmable ROM [EEPROM] devices comprising floating gates characterised by the memory core region
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C16/00Erasable programmable read-only memories
    • G11C16/02Erasable programmable read-only memories electrically programmable
    • G11C16/04Erasable programmable read-only memories electrically programmable using variable threshold transistors, e.g. FAMOS
    • G11C16/0483Erasable programmable read-only memories electrically programmable using variable threshold transistors, e.g. FAMOS comprising cells having several storage transistors connected in series
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C5/00Details of stores covered by group G11C11/00
    • G11C5/02Disposition of storage elements, e.g. in the form of a matrix array
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C5/00Details of stores covered by group G11C11/00
    • G11C5/02Disposition of storage elements, e.g. in the form of a matrix array
    • G11C5/025Geometric lay-out considerations of storage- and peripheral-blocks in a semiconductor storage device
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C8/00Arrangements for selecting an address in a digital store
    • G11C8/14Word line organisation; Word line lay-out
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11CSTATIC STORES
    • G11C8/00Arrangements for selecting an address in a digital store
    • G11C8/18Address timing or clocking circuits; Address control signal generation or management, e.g. for row address strobe [RAS] or column address strobe [CAS] signals
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/70Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
    • H01L21/77Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
    • H01L21/78Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
    • H01L21/82Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components
    • H01L21/822Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices to produce devices, e.g. integrated circuits, each consisting of a plurality of components the substrate being a semiconductor, using silicon technology
    • H01L21/8221Three dimensional integrated circuits stacked in different levels
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L27/00Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
    • H01L27/02Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
    • H01L27/04Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
    • H01L27/06Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including a plurality of individual components in a non-repetitive configuration
    • H01L27/0688Integrated circuits having a three-dimensional layout
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10BELECTRONIC MEMORY DEVICES
    • H10B41/00Electrically erasable-and-programmable ROM [EEPROM] devices comprising floating gates
    • H10B41/20Electrically erasable-and-programmable ROM [EEPROM] devices comprising floating gates characterised by three-dimensional arrangements, e.g. with cells on different height levels
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10BELECTRONIC MEMORY DEVICES
    • H10B41/00Electrically erasable-and-programmable ROM [EEPROM] devices comprising floating gates
    • H10B41/30Electrically erasable-and-programmable ROM [EEPROM] devices comprising floating gates characterised by the memory core region
    • H10B41/35Electrically erasable-and-programmable ROM [EEPROM] devices comprising floating gates characterised by the memory core region with a cell select transistor, e.g. NAND
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10BELECTRONIC MEMORY DEVICES
    • H10B69/00Erasable-and-programmable ROM [EPROM] devices not provided for in groups H10B41/00 - H10B63/00, e.g. ultraviolet erasable-and-programmable ROM [UVEPROM] devices

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Read Only Memory (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

본 발명에 따른 3차원 메모리 장치는: 제 1 층에 형성된 제 1 매트 및 상기 제 1 층 위에 배치된 제 2 층에 형성된 제 3 매트를 갖고, 상기 제 1 및 제 3 매트들은 서로 비트라인들을 공유하는 제 1 플레인; 및 상기 제 1 층에 형성된 제 2 매트 및 상기 제 2 층에 형성된 제 4 매트를 갖고, 상기 제 2 및 제 4 매트들은 서로 비트라인들을 공유하는 제 2 플레인을 포함하되, 각 매트들은 복수의 블록들을 포함하고, 상기 제 1 플레인의 어느 하나의 블록 및 상기 제 2 플레인의 어느 하나의 블록에 대하여 동시에 동작이 수행되는 것을 특징으로 한다.
멀티-플레인, 3차원 메모리

Description

멀티-플레인 구조의 3차원 메모리 장치{TREE DIMENTIONAL MEMORY DEVICE OF MULTI-PLN ACHITECHURE }
본 발명은 3차원 메모리 장치에 관한 것으로, 좀더 구체적으로 멀티-플레인구조의 3차원 메모리 장치에 관한 것이다.
반도체 제조 기술의 발전과 더불어, 고밀도 메모리에 대한 요구가 계속되어 오고 있다. 이러한 요구를 충족시키기 위해서 다양한 방법들이 제안되어 오고 있다. 그러한 방법들 중 하나는 3차원 어레이 구조(three-dimentional array structure)를 갖는 메모리 장치(이하, "3차원 메모리 장치"라 칭함)를 제공하는 것이다. 3차원 메모리 장치를 구현하기 위한 기술들이 미국특허 제5835396호(1998.11.10)에 "THREE-DIMENTIONAL READ-ONLY MEMORY"라는 제목으로, 미국특허 제6034882호(2000.3.7)에 "VERTICALLY STACKED FIELD PROGRAMMABLE NONVOLATILE MEMORY AND METHOD OF FABRICATION"라는 제목으로, 그리고 미국특허 제7002825호(2006.2.21)에 "WORD LINE ARRANGEMENT HAVING SEGMENTED WORD LINES"라는 제목으로 각각 게재되어 있으며, 이 출원의 레퍼런스로 포함된다.
3차원 메모리 장치는 복수의 반도체 물질층들에 각각 형성되는 메모리 셀 어 레이들을 포함한다. 반도체 물질층들은 잘 알려진 실리콘 기판과 실리콘 기판 상에 순차적으로 적층된 기판들을 포함할 것이다. 적층된 기판들은, 예를 들면, 에피택시얼 공정 기술을 이용하여 형성될 수 있다.
최근에 반도체 메모리 장치의 성능을 향상시키기 위하여 멀티-플레인(Multi-PLN) 구조가 제안되었다. 멀티-플레인 구조의 반도체 메모리 장치에서는 블록들이 복수의 플레인들에 분산 배치되고, 인접한 플레인들에 연속한 블록들에 대하여 동시 연산(OP)이 수행된다.
본 발명의 목적은 블록관리의 자유도가 증가되는 멀티-플레인 구조의 3차원 메모리 장치 및 그것의 블록 어드레스를 할당하는 방법을 제공하는 데 있다.
본 발명의 목적은 멀티-플레인 구조의 3차원 메모리 장치에서 전력 소비를 줄이는 소거 방법을 제공하는 데 있다.
본 발명에 따른 3차원 메모리 장치는: 제 1 층에 형성된 제 1 매트 및 상기 제 1 층 위에 배치된 제 2 층에 형성된 제 3 매트를 갖고, 상기 제 1 및 제 3 매트들은 서로 비트라인들을 공유하는 제 1 플레인; 및 상기 제 1 층에 형성된 제 2 매트 및 상기 제 2 층에 형성된 제 4 매트를 갖고, 상기 제 2 및 제 4 매트들은 서로 비트라인들을 공유하는 제 2 플레인을 포함하되, 각 매트들은 복수의 블록들을 포함하고, 상기 제 1 플레인의 어느 하나의의 블록 및 상기 제 2 플레인의 어느 하나의 블록에 대하여 동시에 동작이 수행되는 것을 특징으로 한다.
실시예에 있어서, 블록 어드레스는 상기 제 1 매트의 어느 하나의 블록이 선택되고, 다음에 상기 제 2 매트의 어느 하나의 블록이 선택되고, 다음에 상기 제 3 매트의 어느 하나의 블록이 선택되고, 다음에 상기 제 4 매트의 어느 하나의 블록이 선택되도록 할당되는 것을 특징으로 한다.
실시예에 있어서, 상기 제 1 매트의 상기 어느 하나의 블록에 속하는 적어도 하나의 페이지 및 상기 제 2 매트의 상기 어느 하나의 블록에 속하는 적어도 하나 의 페이지가 동시에 프로그램되는 것을 특징으로 한다.
실시예에 있어서, 상기 제 1 매트의 상기 어느 하나의 블록 및 상기 제 2 매트의 상기 어느 하나의 블록이 동시에 소거되는 것을 특징으로 한다.
실시예에 있어서, 상기 제 1 매트의 상기 어느 하나의 블록, 상기 제 2 매트의 상기 어느 하나의 블록, 상기 제 3 매트의 상기 어느 하나의 블록, 및 상기 제 4 매트의 상기 어느 하나의 블록이 동시에 소거되는 것을 특징으로 한다.
실시예에 있어서, 소거 동작시, 공유된 비트라인이 충전되었는 지의 여부에 따라 상기 제 3 매트의 상기 어느 하나의 블록 및 상기 제 4 매트의 상기 어느 하나의 블록의 소거 동작을 검증하고, 상기 충전된 비트라인이 방전되었는 지 여부에 따라 상기 제 1 매트의 상기 어느 하나의 블록 및 상기 제 3 매트의 상기 어느 하나의 블록의 소거 동작을 검증하는 것을 특징으로 한다.
실시예에 있어서, 블록 어드레스는 상기 제 1 매트의 어느 하나의 블록이 선택되고, 다음에 상기 제 4 매트의 어느 하나의 블록이 선택되고, 다음에 상기 제 2 매트의 어느 하나의 블록이 선택되고, 다음에 상기 제 3 매트의 어느 하나의 블록이 선택되도록 할당되는 것을 특징으로 한다.
실시예에 있어서, 상기 제 1 매트의 상기 어느 하나의 블록에 속하는 적어도 하나의 페이지 및 상기 제 4 매트의 상기 어느 하나의 블록에 속하는 적어도 하나의 페이지가 동시에 프로그램되는 것을 특징으로 한다.
실시예에 있어서, 상기 제 1 매트의 상기 어느 하나의 블록 및 상기 제 4 매트의 상기 어느 하나의 블록이 동시에 소거되는 것을 특징으로 한다.
실시예에 있어서, 상기 제 1 매트의 상기 어느 하나의 블록, 상기 제 2 매트의 상기 어느 하나의 블록, 상기 제 3 매트의 상기 어느 하나의 블록, 및 상기 제 4 매트의 상기 어느 하나의 블록이 동시에 소거되는 것을 특징으로 한다.
실시예에 있어서, 블록 어드레스가 상기 제 1 및 제 2층의 플레인들에 대하여는 연속적으로 할당되고, 상기 제 1 및 제 2층들에 대하여는 불연속적으로 할당되는 것을 특징으로 한다.
실시예에 있어서, 블록 어드레스가 상기 제 1 및 제 2 층들에 대하여는 연속적으로 할당되고, 상기 제 1 및 제 2층들의 플레인들에 대하여는 불연속적으로 할당되는 것을 특징으로 한다.
실시예에 있어서, 프로그램 동작시 입력되는 상기 제 1 플레인의 블록 어드레스 및 상기 제 2 플레인의 블록 어드레스는 서로 다른 것을 특징으로 한다.
실시예에 있어서, 소거 동작시 입력되는 상기 제 1 플레인의 블록 어드레스 및 상기 제 2 플레인의 블록 어드레스는 서로 다는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 다른 3차원 메모리 장치는: 비트라인; 상기 비트라인에 연결된 제 1 낸드 스트링; 상기 비트라인에 연결되고, 상기 제 1 낸드 스트링과 구조적으로 서로 다른 위치에 형성된 제 2 낸드 스트링; 및 상기 제 1 낸드 스트링의 소거 동작시 상기 비트라인이 충전됨을 감지하여 상기 제 1 낸드 스트링의 소거 검증을 수행하고, 상기 제 2 낸드 스트링의 소거 동작시 상기 충전된 비트라인이 방전됨을 감지하여 상기 제 2 낸드 스트링의 소거 검증을 수행하는 페이지 버퍼를 포함한다.
실시예에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 낸드 스트링들은 공통 소스 라인을 공 유하되, 상기 제 1 낸드 스트링 소거 동작시 상기 공통 소스 라인에는 전원전압이 인가되고, 상기 제 1 낸드 스트링의 메모리 셀들이 소거됨으로 형성된 채널을 통하여 상기 비트라인으로 상기 전원전압이 충전되는 것을 특징으로 한다.
실시예에 있어서, 상기 제 1 및 제 2 낸드 스트링들은 공통 소스 라인을 공유하되, 상기 2 낸드 스트링 소거 동작시 상기 공통 소스 라인에는 접지전압이 인가되고, 상기 제 2 낸드 스트링의 메모리 셀들이 소거됨으로 형성된 채널을 통하여 상기 충전된 비트라인이 상기 공통 소스 라인으로 방전되는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 3차원 메모리 장치의 멀티-플레인 동작 방법은: 동작 명령을 입력받는 단계; 제 1 플레인의 어드레스를 입력받는 단계; 제 2 플레인의 어드레스를 입력받는 단계; 및 상기 동작 명령에 따라 멀티-플레인 동작을 수행하는 단계를 포함하되, 상기 제 1 및 제 2 플레인의 어드레스들은 서로 다른 블록 어드레스를 갖는 것을 특징으로 한다.
본 발명에 따른 3차원 메모리 장치에서는 각 플레인에 속하는 블록들의 어드레스들이 독립적으로 관리됨으로 블록관리의 자유도가 증가된다.
또한, 본 발명에 따른 3차원 메모리 장치에서는 소거 동작시 공유된 비트라인을 충전 및 방전함으로 소거 검증을 수행하여 소비 전력이 감소된다.
이하, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예를 첨부된 도면을 참조 하여 설명한다.
본 발명에 따른 멀티-플레인 구조의 3차원 메모리 장치에서는 각 플레인들의 블록들에 대하여 독립적으로 어드레스가 할당된다. 이로써, 블록관리의 자유도가 증가된다. 또한 본 발명에 따른 3차원 메모리 장치에서는 공유된 비트라인을 충전 및 방전하여 소거 검증을 수행함으로 소비 전력이 감소된다.
도 1은 본 발명에 따른 멀티-플레인 구조의 3차원 메모리 장치(10)에 대한 실시예를 보여주는 단면도이다. 도 1을 참조하면, 3차원 메모리 장치(10)는 3차원 메모리 어레이를 갖는 두 개의 플레인들(PLN1, PLN2)을 포함한다. 도 1에 도시된 플레인들은 두개이지만, 본 발명의 플레인이 반드시 여기에 국한될 필요가 없다는 것은 당업자에게 자명하다. 본 발명의 3차원 메모리 장치(10)는 3개 이상의 복수의 플레인들을 구비할 수 있다.
제 1 플레인(PLN1)은 제 1 층(1st Layer)에 메모리 어레이가 형성된 제 1 매트(111) 및 제 2 층(2nd Layer)에 메모리 어레이가 형성된 제 3 매트(121)를 포함한다. 각각의 매트들(111,121)에는 복수의 블록들(도시되지 않음)이 포함된다. 복수의 블록들에는 복수의 스트링들이 포함된다. 도 1에 도시된 매트들들(111,121)은 각각 단 하나의 스트링만이 도시되어 있다. 여기서 제 1 매트(111)의 스트링 및 제 3 매트(121)의 스트링은 비트라인(104)을 공유한다.
제 2 플레인(PLN2)은 제 1 층(1st Layer)에 메모리 어레이가 형성된 제 2 매트(211) 및 제 2 층(2nd Layer)에 메모리 어레이가 형성된 제 4 매트(221)를 포함한다. 각각의 매트들(211,221)에는 복수의 블록들(도시되지 않음)이 포함된다. 복수의 블록들에는 복수의 스트링들이 포함된다. 도 1에 도시된 매트들들(211,221)은 각각 단 하나의 스트링만이 도시되어 있다. 여기서 제 2 매트(211)의 스트링 및 제 4 매트(221)의 스트링은 비트라인(204)을 공유한다.
도 1에 도시된 매트들(111,121,211,221)의 메모리 어레이들은 낸드 플래시 메모리 어레이이다. 하지만 본 발명의 메모리 어레이가 낸드 플래시 메모리 어레이에 국한될 필요는 없다는 것은 당업자에게 자명하다. 본 발명의 메모리 어레이는 노아 플래시 메모리 어레이, 읽기 전용 메모리(Read Only Memory) 어레이, 스태틱 랜덤 억세스 메모리(Static Random Access Memory) 어레이, 실리곤-산화막-질화막-산화막-실리콘(Silicon-Oxide-Nitride-Oxide-Silicon:SONOS) 어레이, 또는 그와 같은 것이 될 수 있다.
본 발명의 3차원 메모리 장치(10)에서는 제 1 플레인(PLN1)의 어느 하나의 블록/페이지 및 제 2 플레인(PLN2)의 어느 하나의 블록/페이지가 동시에 동작이 수행된다. 만약 메모리 어레이가 낸드 플래시 어레이라면, 동작에는 프로그램, 읽기 및 소거 동작이 포함될 것이다.
제 1 층(lst Layer)의 제 1 및 제 2 매트들(111,211)은 벌크 실리콘 혹은 그와 같은 것으로 이루어진 기판(101)에 형성된다. 제 1 층(lst Layer)와 제 2 층(2nd Layer)는 절연층(102)에 의해 절연된다. 여기서 절연층(102)은 산화막, BSG(Borosilicate Glass), PSG(Phosphosilicate Glass), 및 BPSG(Borophosphosilicate Glass) 등 이다. 제 2 층(2nd Layer)의 제 3 및 제 4 매트들(121,221)은 단결정 실리콘 기판 혹은 그와 같은 기판(103)에 형성된다.
도 2는 도 1에 도시된 3차원 메모리 장치의 회로도에 대한 실시예이다. 도 2을 참조하면, 제 1 플레인(PLN1)은 제 1 층(1st Layer)에 형성된 제 1 매트(1MAT1,111), 제 2 층(2nd Layer)에 형성된 제 2 매트(1MAT2,121), 로우 디코더들(112,122), 페이지 버퍼(113), 공통 소스 라인 드라이버(114) 및 웰전압 드라이버(115)를 포함한다. 각 층의 제 1 및 제 2 매트들(111,121)은 비트라인들(BL0~BLn-1)을 공유한다. 공유된 비트라인들(BL0~BLn-1)은 하나의 페이지 버퍼(113)에 연결된다. 또한, 각 층의 매트들(111,121)은 공통 소스 라인(Comon Sorce Line:CSL)을 공유한다. 여기서 공통 소스 라인은 공통 소스 라인 드라이버(114)에 의해 제어된다.
또한, 각 층의 매트들(111,121)은 웰전압(Well)을 공유하다. 여기서 웰전압(Well)은 웰전압 드라이버(115)에 의해 제어된다. 한편, 제 1 플레인(PLN1)에서는 매트들(111,121)을 제외한 다른 블록들이 제 1 층(1st Layer) 혹은 제 2 층(2nd Layer)에 다양한 조합으로 형성될 수 있다.
도 2을 다시 참조하면, 제 2 플레인(PLN2)은 제 1 층(1st Layer)에 형성된 제 3 매트(2MAT1,211), 제 2 층(2nd Layer)에 형성된 제 4 매트(2MAT2,221), 로우 디코더들(212,222), 페이지 버퍼(213), 공통 소스 라인 드라이버(214) 및 웰전압 드라이버(215)를 포함한다. 제 2 플레인(PLN2)은 제 1 플레인(PLN1)과 동일한 구조로 구현될 것이다.
도 2에서는 워드라인들이 각 층마다 분리된다. 그러나 본 발명의 워드라인들은 반드시 각 층마다 분리될 필요는 없다. 본 발명에서는 각 층은 워드라인들을 공 유하도록 구현가능하다.
도 3는 본 발명에 따른 멀티-플레인 구조의 3차원 메모리 장치(10)의 동작에 대한 개념도이다. 본 발명의 3차원 메모리 장치(10)에서는 각 플레인들(PLN1,PLN2)의 임의의 하나의 블록들이 동시에 연산된다. 예를 들어, 도 3에 도시된 바와 같이, 3차원 메모리 장치(10)에서는 제 1 플레인(PLN1)의 어느 하나의 블록(BLKi-1) 및 제 2 플레인(PLN2)의 어느 하나의 블록(BLKi)에 대하여 동시에 동작(OP)이 수행된다. 도 3에서는 플레인(PLN2)의 어느 하나의 블록(BLKi)이 제 2 층(2ndt Layer)의 제 4 매트(2MAT1)에 포함되어 있지만, 제 2 플레인(PLN2)의 어느 하나의 블록(BLKi)은 제 3 매트(2MAT1)의 어느 하나의 블록일 수도 있다.
본 발명에 따른 멀티-플레인 구조의 3차원 메모리 장치(10)의 동작은 인접한 플레인들의 연속한 블록들에 대한 동시 동작보다 블록관리의 자유도를 증대시킬 수 있다. 예를 들어, 제 1 플레인(PLN1)의 어느 하나의 블록에 대응하는 제 2 플레인(PLN2)의 블록이 배드 블록으로 판정되더라도, 본 발명의 멀티-플레인 구조의 3차원 메모리 장치(10)에서는 제 1 플레인(PLN1)의 어느 하나의 블록에 대응하는 제 2 플레인(PLN2)의 임의의 블록이 선택될 수 있다. 반대의 경우도 가능하다.
본 발명에서는 각 플레인들(PLN1,PLN2)에 속하는 어느 하나의 블록들이 동시에 연산된다. 여기서 어느 하나의 블록들이 동시에 연산된다는 것은 어느 하나의 블록들에 속하는 적어도 하나의 페이지가 동시에 연산된다 것을 포함한다.
본 발명에 따른 멀티-플레인 구조의 3차원 메모리 장치(10)의 동작이 수행되도록, 각 플레인들(PLN1,PLN2)의 블록들은 다양한 방법으로 블록 어드레스가 할당 될 것이다. 여기서 블록 어드레스의 할당은 외부의 메모리 제어기(도시되지 않음)에 수행될 것이다. 메모리 제어기는 3차원 메모리 장치(10)의 전반적인 동작을 제어한다. 메모리 제어기는 3차원 메모리 장치(10)의 물리적인 위치에 따른 블록에 대하여 블록 어드레스의 순서를 할당한다.
본 발명에서는 멀티-플레인 구조의 3차원 메모리 장치(10)에 대한 블록 어드레스의 할당 방법에 대하여 언급하였다. 본 발명은 유사한 방법으로 페이지 어드레스의 할당 방법에도 적용가능하다.
도 4은 본 발명의 3차원 메모리 장치(10)의 블록 어드레스 할당 방법에 대한 제 1 실시예이다. 도 4을 참조하면, 블록 어드레스의 순서(①→②→③→④)는 각 층의 플레인들에 대하여는 연속적으로 할당되고, 각 층들에 대하여는 비연속적으로 할당된다. 예를 들어, 제 1 플레인(PLN1)의 제 1 층(1st Layer)에 제 1 블록(BLK1)이 선택되고, 다음으로 제 2 플레인(PLN2)의 제 1 층(lst Layer)에 제 2 블록(BLK2)이 선택되고(①), 다음으로 제 1 플레인(PLN1)의 제 2 층(2nd Layer)에 제 3 블록(BLK3)이 선택되고(②), 다음으로 제 2 플레인(PLN2)의 제 2 층(2nd Layer)에 제 4 블록(BLK4)이 선택되고(③), 다음으로 제 1 플레인(PLN1)의 제 1 층(lst Layer)에 제 5 블록(BLK5)이 선택되도록(④) 블록 어드레스가 할당된다.
도 5는 본 발명의 3차원 메모리 장치(10)의 블록 어드레스 할당 방법에 대한 제 2 실시예이다. 도 5을 참조하면, 블록 어드레스의 순서(①→②→③→④)는 각 층들에 대하여는 순차적으로 할당되고, 각 층의 플레인들에 대하여는 비연속적으로 할당된다. 예를 들어, 제 1 플레인(PLN1)의 제 1 층(1st Layer)에 제 1 블록(BLK1) 이 선택되고, 다음으로 제 2 플레인(PLN2)의 제 2 층(2nd Layer)에 제 2 블록(BLK2)이 선택되고(①), 다음으로 제 2 플레인(PLN2)의 제 1 층(1st Layer)에 제 3 블록(BLK3)이 선택되고(②), 다음으로 제 1 플레인(PLN1)의 제 2 층(2nd Layer)에 제 4 블록(BLK4)이 선택되고(③), 다음으로 제 1 플레인(PLN1)의 제 1 층(lst Layer)에 제 5 블록(BLK5)이 선택되도록(④) 블록 어드레스가 할당된다.
도 6은 본 발명에 따른 멀티-플레인 구조의 3차원 메모리 장치의 프로그램 방법을 보여주는 타이밍도의 실시예이다. 도 2 및 6을 참조하면, 프로그램 동작은 아래와 같이 수행된다. 3차원 메모리 장치(10)로 제 1 플레인(PLN1)에 대한 시리얼 데이터 입력 명령(80h)이 전달되고, 이어서 제 1 플레인(PLN1)의 어드레스(PLN1ADD) 및 페이지 데이터(PLN1DATA)가 전달된다. 제 1 플레인(PLN1)의 페이지 버퍼(113)로 페이지 데이터 입력이 완료되면, 제 1 플레인(PLN1)의 더미 페이지 프로그램 명령(11h)이 전달된다.
소정의 시간(tDBSY) 이후 제 2 플레인(PLN1)의 프로그램 동작을 위한 시리얼 데이터 입력 명령(81h)이 전달된다. 이어서 제 2 플레인(PLN2)의 어드레스(PLN2ADD) 및 페이지 데이터(PLN2DATA)가 전달된다. 제 2 플레인(PLN2)의 페이지 버퍼(213)로 데이터 입력이 완료되면, 페이지 프로그램 명령(10h)가 전달된다. 전달된 페이지 프로그램 명령(10h)에 따라 소정의 시간(tPROG) 동안 제 1 플레인(PLN1)의 페이지 버퍼(113) 및 제 2 플레인(PLN2)의 페이지 버퍼(213)의 페이지 데이터들이 각각의 대응하는 메모리 어레이들로 동시에 프로그램된다. 프로그램 동작이 완료된 후, 프로그램이 제대로 수행되었는 지 확인하기 위한 읽기 명령(70h) 가 전달된다.
여기서, 제 1 플레인(PLN1)의 어드레스(PLN1ADD) 및 제 2 플레인(PLN2)의 어드레스(PLN2ADD)는 서로 다르다. 특히, 멀티-플레인 동작시 각 플레인들(PLN1,PLN2)은 블록 어드레스가 서로 다르다. 본 발명에서는 제 1 플레인(PLN1)의 임의 블록에 속하는 적어도 하나의 페이지 및 제 2 플레인(PLN2)의 임의의 블록에 속하는 적어도 하나의 페이지가 동시에 프로그램된다. 본 발명에서는 멀티-플레인 동작시 각 플레인들(PLN1,PLN2)의 블록 어드레스들이 서로 다르다. 이를 위하여 각 플레인들(PLN1,PLN2)의 블록들에 대하여 블록 어드레스가 각각 독립적으로 할당될 것이다. 그러나 멀티-플레인 동작시 본 발명의 각 플레인들(PLN1,PLN2)의 블록 어드레스가 반드시 서로 다를 필요는 없다.
도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이 블록 어드레스가 할당된 3차원 메모리 장치에 대한 프로그램 방법은 다양하게 구현가능하다. 도 7는 도 4에 도시된 바와 같이 블록 어드레스가 할당된 3차원 메모리 장치의 프로그램 방법에 대한 실시예이다. 도 7을 참조하면, 3차원 메모리 장치의 프로그램 방법에서는 각 층의 인접한 모든 블록들(BLK5,BLK6)에 속하는 적어도 하나의 각 페이지가 동시에 프로그램된다. 즉, 제 1 층(1st Layer)에서 제 5 블록(BLK5)에 속하는 적어도 하나의 페이지 및 제 6 블록(BLK6)에 속하는 적어도 하나의 페이지가 동시에 프로그램된다. 한편, 읽기 동작시 각 층의 블록들(BLK5,BLK6)에 속하는 적어도 하나의 각 페이지가 동시에 읽혀질 것이다.
도 8은 도 5에 도시된 바와 같이 블록 어드레스가 할당된 3차원 메모리 장치 의 프로그램 방법에 대한 실시예이다. 도 8을 참조하면, 3차원 메모리 장치의 프로그램 방법은 제 1 층(1st Layer)의 제 1 플레인(PLN1)에 속하는 어느 하나의 블록(BLK5)에 속하는 적어도 하나의 페이지 및 제 2 층(2nd Layer)의 제 2 플레인(PLN2)에 속하는 어느 하나의 블록(BLK6)에 속하는 적어도 하나의 페이지가 동시에 프로그램된다. 즉, 제 1 층(1st Layer)에서 제 5 블록(BLK5)에 속하는 적어도 하나의 페이지 및 제 2 층(2nd Layer)에서 제 6 블록(BLK6)에 속하는 적어도 하나의 페이지가 동시에 프로그램된다. 여기서 제 5 블록(BLK5)에 속하는 적어도 하나의 페이지 및 제 6 블록(BLK6)에 속하는 적어도 하나의 페이지를 통칭하여 하나의 페이지(Page(m))라고 할 수 있다. 한편, 읽기 동작시 각 층의 블록들(BLK5,BLK6)에 속하는 적어도 하나의 각 페이지가 동시에 읽혀질 것이다.
도 9은 본 발명에 따른 멀티-플레인 구조의 3차원 메모리 장치의 소거 방법을 보여주는 타이밍도의 실시예이다. 도 2 및 9을 참조하면, 소거 동작은 아래와 같이 수행된다. 3차원 메모리 장치(10)로 제 1 플레인(PLN1)에 대한 소거 셋업 명(60h)이 전달되고, 이어서 제 1 플레인(PLN1)의 어드레스(PLN1ADD)가 전달된다. 이후, 제 2 플레인(PLN2)에 대한 소거 셋업 명령(60h)이 전달되고, 이어서 제 2 플레인(PLN2)의 어드레스(PLN2ADD)가 전달된다. 이후 소거 명령(D0h)이 전달되고, 소정의 시간(tBERS) 동안 제 1 플레인(PLN1)의 어드레스(PLN1ADD) 및 제 2 플레인(PLN2)의 어드레스(PLN2ADD)에 대응되는 블록들에 대하여 동시에 소거 동작이 수행된다. 소거 동작 이후, 소거 동작이 제대로 수행되었는지 판별하기 위한 읽기 명령(70h)이 전달되고, 그 읽기 결과에 따라 소거 동작이 제대로 수행되었는 지가 판 별된다. 여기서, 제 1 플레인(PLN1)의 어드레스(PLN1ADD) 및 제 2 플레인(PLN2)의 어드레스(PLN2ADD)는 서로 다르다. 특히, 입력된 어드레스들(PLN1ADD,PLN2ADD)에서는 블록 어드레스가 서로 다르다.
본 발명에서는 제 1 플레인(PLN1)의 임의 블록 및 제 2 플레인(PLN2)의 임의의 블록이 동시에 소거되지만, 블록 어드레스는 서로 다르다. 즉, 멀티-플레인 소거 동작시 입력된 각 플레인들(PLN1,PLN2)의 어드레스들(PLN1ADD,PLN2ADD)에서는 블록 어드레스들이 독립적으로 할당된다.
도 4 및 도 5에 도시된 바와 같이 블록 어드레스가 할당된 3차원 메모리 장치에 대한 소거 방법은 다양하게 구현가능하다. 도 10은 도 4에 도시된 바와 같이 블록 어드레스가 할당된 3차원 메모리 장치의 블록 소거 방법에 대한 실시예이다. 도 10을 참조하면, 제 1 층(1st Layer)에서 제 1 플레인(PLN1)의 블록(BLKa) 및 제 2 플레인(PLN2)의 블록(BLKb)이 동시에 소거되고, 제 2 층(2nd Layer)에서 제 1 플레인(PLN1)의 블록(BLKc) 및 제 2 플레인(PLN2)의 블록(BLKd)이 동시에 소거된다. 한편, 블록들(BLKa, BLKb, BLKc, BLKd)이 동시에 소거될 수 있다. 즉, 본 발명에 따른 3차원 메모리 장치에서는 멀티-블록 소거가 가능하다.
도 11은 도 5에 도시된 바와 같이 블록 어드레스가 할당된 3차원 메모리 장치의 블록 소거 방법에 대한 실시예이다. 도 11을 참조하면, 제 1 층(1st Layer)에서 제 1 플레인(PLN1)의 블록(BLKa) 및 제 2 플레인(PLN2)의 블록(BLKb)이 아닌 어드 하나의 임의 블록이 동시에 소거되고, 제 2 층(2nd Layer)에서 제 1 플레인(PLN1)의 블록(BLKc) 및 제 2 플레인(PLN2)의 블록(BLKd)가 아닌 어느 하나의 블 록이 동시에 소거된다. 한편, 블록들(BLKa, BLKb이 아닌 임의 블록, BLKc, BLKd가 아닌 임의의 블록)이 동시에 소거될 수 있다.
본 발명에 따른 3차원 메모리 장치의 멀티-플레인 동작 방법은, 동작 명령을 입력받는 단계, 제 1 플레인의 어드레스를 입력받는 단계, 제 2 플레인의 어드레스를 입력받는 단계, 및 동작 명령에 따라 멀티-플레인 동작을 수행하는 단계를 포함한다. 여기서 동작 명령에는 프로그램/읽기/소거 명령이 포함될 것이다. 특히, 제 1 및 제 2 플레인의 어드레스들은 서로 다른 블록 어드레스를 갖는다.
도 12a 및 도 12b는 본 발명의 3차원 메모리 장치의 블록 소거 동작시 검증 방법을 보여주는 도면이다. 도 12a 및 도 12b을 참조하면, 소스 팔로워(Source Follow)을 이용한 비트라인 충전으로 어느 하나의 블록에 대한 소거 검증을 수행한 뒤, 충전된 비트라인 전압을 방전함으로 다른 하나의 블록에 대한 소거 검증을 수행한다. 여기서 어느 하나의 블록과 다른 하나의 블록은 비트라인을 공유하고 있다.
도 12a는 소스 팔로워(Source Follow)을 이용한 제 2 층(2nd Layer)의 블록에 대한 소거 검증시 인가되는 전압들을 보여주는 도면이다. 도 12a를 참조하면, 본 발명의 3차원 메모리 장치는 어느 하나의 비트라인(BL)에 연결된 두 개의 낸드 스트링들(111a,121a)을 포함하고 있다. 제 1 낸드 스트링들(111a,121a)은 모두 제 1 플레인(PLN1)에 포함되고, 제 1 낸드 스트링(111a)는 제 1 층(1st Layer)에 형성되고, 제 2 낸드 스트링(121a)은 제 2 층(2nd Layer)에 형성된다.
도 12a을 참조하면 제 2 낸드 스트링(121a)의 소거 동작은 다음과 같다. 제 2 낸드 스트링(121a)의 메모리 셀들에 소거 전압이 인가한다. 이 후, 소거가 완료되면, 제 2 낸드 스트링(121a)에는 채널이 형성될 것이다. 소거 전압이 인가된 뒤, 소정의 시간이 지난 후에 소거 검증을 수행한다. 여기서 소거 검증은 비트라인(BL)이 형성된 채널로 인하여 공통 소스 라인(CSL)의 전압으로 충전되었는 지 여부로 판별한다.
이때, 공통 소스 라인(CSL)에는 전원전압(Vcc)이 인가되고, 형성된 채널을 비트라인(BL)과 공통 소스 라인(CSL)에 전기적으로 연결하기 위하여 제 2 낸드 스트링(121a)의 스트링 선택 라인(SSL) 및 접지 선택 라인(GSL)에 각각 읽기전압(Vread)이 인가되고, 각 워드라인들(WL0~WLm-1)에는 OV가 인가된다. 한편, 제 1 낸드 스트링(111a)의 스트링 선택 라인(SSL), 접지 선택 라인(GSL), 각 워드라인(WL0~WLm-1)에는 모두 OV가 인가된다.
만약, 제 2 낸드 스트링(121a)의 소거 동작이 완료되면, 채널이 형성될 것이고, 형성된 채널을 통하여 공통 소스 라인(CSL)의 전원전압(Vcc)이 비트라인(BL)로 충전될 것이다. 즉, 제 2 낸드 스트링(121a)의 메모리 셀들이 모두 소거되었다면, 비트라인(BL)은 소정의 전압(Vs)으로 충전될 것이다. 페이지 버퍼(113)는 비트라인(BL)의 전압을 감지하여 소거 동작이 제대로 되었는 지 판별하게 된다. 이로써 제 2 낸드 스트링(121a)에 대한 소거 검증 동작이 완료된다.
도 12b는 충전된 비트라인을 방전함으로 제 1 층의 블록에 대한 소거 검증시 인가되는 전압들을 보여주는 도면이다. 도 12b을 참조하면, 제 1 낸드 스트링(111a)의 소거 동작은 다음과 같다. 제 1 낸드 스트링(111a)의 메모리 셀들에 소 거 전압이 인가한다. 이 후, 소거가 완료되면, 제 1 낸드 스트링(111a)에는 채널이 형성될 것이다. 소거 전압이 인가된 뒤, 소정의 시간이 지난 후에 소거 검증을 수행한다. 여기서 소거 검증은 제 2 낸드 스트링(121a)의 소거 동작으로 인하여 충전된 비트라인(BL)이 형성된 채널로 통하여 공통 소스 라인(CSL)으로 방전되었는 지 여부로 판별한다.
이때, 공통 소스 라인(CSL)에는 0V가 인가되고, 형성된 채널을 비트라인(BL)과 공통 소스 라인(CSL)에 전기적으로 연결하기 위하여 제 1 낸드 스트링(111a)의 스트링 선택 라인(SSL) 및 접지 선택 라인(GSL)에 각각 읽기전압(Vread)이 인가되고, 각 워드라인들(WL0~WLm-1)에는 OV가 인가된다. 한편, 제 2 낸드 스트링(121a)의 스트링 선택 라인(SSL), 접지 선택 라인(GSL), 각 워드라인(WL0~WLm-1)에는 모두 OV가 인가된다.
만약, 제 1 낸드 스트링(111a)의 소거 동작이 완료되면, 채널이 형성될 것이고, 형성된 채널을 통하여 충전된 비트라인(BL)의 전압(Vs)가 0V로 방전될 것이다. 즉, 제 1 낸드 스트링(111a)의 메모리 셀들이 모두 소거되었다면, 비트라인(BL)은 소정의 전압(Vs)에서 OV로 방전될 것이다. 페이지 버퍼(113)는 비트라인(BL)의 전압을 감지하여 소거 동작이 제대로 되었는 지 판별하게 된다. 이로써 제 1 낸드 스트링(111a)에 대한 소거 검증 동작이 완료된다.
본 발명에 따른 3차원 메모리 장치에서는, 공유된 비트라인을 충전 및 방전함으로 각 층의 소거 동작을 순차적으로 수행할 수 있게 된다. 이로써, 본 발명의 3차원 메모리 장치에서는 소거 동작시 전력 소비를 줄일 수 있게 된다.
도 13은 본 발명에 따른 3차원 메모리 장치를 갖는 메모리 시스템(10)을 보여주는 블록도이다. 도 13을 참조하면, 메모리 시스템(10)은 버스(11)에 전기적으로 연결된 중앙처리장치(12), 에스램(14), 메모리 제어기(16) 및 3차원 메모리 장치(18)를 포함한다. 여기서 3차원 메모리 장치(18)는 도 1에 도시된 것들과 실질적으로 동일하게 구성될 것이다. 3차원 메모리 장치(18)에는 중앙처리장치(12)에 의해서 처리된/처리될 N-비트 데이터(N은 1 또는 그 보다 큰 정수)가 메모리 제어기(16)를 통해 저장될 것이다.
비록 도면에는 도시되지 않았지만, 본 발명에 따른 메모리 시스템(10)에는 응용 칩셋(application chipset), 카메라 이미지 프로세서(Camera Image Processor: CIS), 모바일 디램, 등이 더 제공될 수 있음은 이 분야의 통상적인 지식을 습득한 자들에게 자명하다. 메모리 제어기와 3차원 메모리 장치는, 예를 들면, 데이터를 저장하는 데 비휘발성 메모리 장치를 사용하는 SSD(Solid State Drive/Disk)로 구성될 수도 있다.
본 발명에 따른 3차원 메모리 장치 그리고/또는 메모리 제어기는 다양한 형태들의 패키지를 이용하여 실장될 수 있다. 예를 들면, 본 발명에 따른 3차원 메모리 장치 그리고/또는 메모리 제어기는 PoP(Package on Package), Ball grid arrays(BGAs), Chip scale packages(CSPs), Plastic Leaded Chip Carrier(PLCC), Plastic Dual In-Line Package(PDIP), Die in Waffle Pack, Die in Wafer Form, Chip On Board(COB), Ceramic Dual In-Line Package(CERDIP), Plastic Metric Quad Flat Pack(MQFP), Thin Quad Flatpack(TQFP), Small Outline(SOIC), Shrink Small Outline Package(SSOP), Thin Small Outline(TSOP), Thin Quad Flatpack(TQFP), System In Package(SIP), Multi Chip Package(MCP), Wafer-level Fabricated Package(WFP), Wafer-Level Processed Stack Package(WSP), 등과 같은 패키지들을 이용하여 실장될 수 있다.
한편, 본 발명의 상세한 설명에서는 구체적인 실시예에 관하여 설명하였으나, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않는 한도 내에서 여러 가지로 변형할 수 있다. 그러므로 본 발명의 범위는 상술한 실시예에 국한되어 정해져서는 안되며 후술하는 특허청구범위 뿐만 아니라 이 발명의 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.
도 1은 본 발명에 따른 멀티-플레인 구조의 3차원 메모리 장치에 대한 실시예를 보여주는 단면도이다.
도 2는 도 1에 도시된 멀티-플레인 구조의 3차원 메모리 장치의 회로도에 대한 실시예이다.
도 3은 본 발명에 따른 멀티-플레인 구조의 3차원 메모리 장치의 동작에 대한 개념도이다.
도 4는 본 발명의 멀티-플레인 구조의 3차원 메모리 장치의 블록 어드레스 할당 방법에 대한 제 1 실시예이다.
도 5은 본 발명의 멀티-플레인 구조의 3차원 메모리 장치의 블록 어드레스 할당 방법에 대한 제 2 실시예이다.
도 6은 본 발명에 따른 멀티-플레인 구조의 프로그램 방법을 보여주는 타이밍도에 대한 실시예이다.
도 7는 도 4에 도시된 바와 같이 블록 어드레스가 할당된 멀티-플레인 구조의 3차원 메모리 장치의 프로그램 방법에 대한 실시예이다.
도 8은 도 5에 도시된 바와 같이 블록 어드레스가 할당된 멀티-플레인 구조의 3차원 메모리 장치의 프로그램 방법에 대한 실시예이다.
도 9은 본 발명에 따른 멀티-플레인 구조의 소거 방법을 보여주는 타이밍도에 대한 실시예이다.
도 10은 도 4에 도시된 바와 같이 블록 어드레스가 할당된 멀티-플레인 구조 의 3차원 메모리 장치의 블록 소거 방법에 대한 실시예이다.
도 11은 도 5에 도시된 바와 같이 블록 어드레스가 할당된 멀티-플레인 구조의 3차원 메모리 장치의 블록 소거 방법에 대한 실시예이다.
도 12a는 소스 팔로워을 이용한 제 2 층의 블록에 대한 소거 검증시 인가되는 전압들을 보여주는 도면이다.
도 12b는 충전된 비트라인을 방전함으로 제 1 층의 블록에 대한 소거 검증시 인가되는 전압들을 보여주는 도면이다.
도 13은 본 발명에 따른 멀티-플레인 구조의 3차원 메모리 장치를 갖는 메모리 시스템을 보여주는 블록도이다.
*도면의 주요부분에 대한 부호의 설명*
PLN1: 제 1 플레인 PLN2: 제 2 플레인
111,121,211,221: 매트 111a,121a,211a,221a: 낸드 스트링
BLK1~BLKn: 블록 113,213: 페이지 버퍼

Claims (18)

  1. 제 1 층에 형성된 제 1 매트 및 상기 제 1 층 위에 배치된 제 2 층에 형성된 제 3 매트를 갖는 제 1 플레인; 및
    상기 제 1 층에 형성된 제 2 매트 및 상기 제 2 층에 형성된 제 4 매트를 갖는 제 2 플레인을 포함하고,
    상기 제 1 및 제 3 매트들은 비트라인들을 공유하고,
    상기 제 2 및 제 4 매트들은 비트라인들을 공유하고,
    상기 제 1 내지 제 4 매트들 각각은 복수의 블록들을 포함하고,
    상기 제 1 플레인의 어느 하나의 블록 및 상기 제 2 플레인의 어느 하나의 블록에 대하여 동시에 동작이 수행되고,
    상기 제 1 플레인의 블록들에 대한 어드레스와 상기 제 2 플레인의 블록들에 대한 어드레스는 서로 독립적으로 할당되고,
    상기 제 1 매트의 어느 하나의 블록이 선택되고, 다음에 상기 제 2 매트의 어느 하나의 블록이 선택되고, 다음에 상기 제 3 매트의 어느 하나의 블록이 선택되고, 다음에 상기 제 4 매트의 어느 하나의 블록이 선택되도록 블록 어드레스가 할당되고,
    상기 제 1 매트의 상기 어느 하나의 블록은, 상기 제 2 매트의 상기 어느 하나 블록, 상기 제 3 매트의 상기 어느 하나의 블록, 및 상기 제 4 매트의 상기 어느 하나의 블록이 동시에 소거되고,
    소거 동작시 공유된 비트라인이 충전되었는 지의 여부에 따라 상기 제 2 매트의 상기 어느 하나의 블록 및 상기 제 4 매트의 상기 어느 하나의 블록의 소거 동작이 검증되고, 상기 충전된 비트라인이 방전되었는 지의 여부에 따라 상기 제 1 매트의 사기 어느 하나의 블록 및 상기 제 3 매트의 상기 어느 하나의 블록의 소거 동작이 검증되는 3차원 메모리 장치.
  2. 삭제
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 매트의 상기 어느 하나의 블록에 속하는 적어도 하나의 페이지 및 상기 제 2 매트의 상기 어느 하나의 블록에 속하는 적어도 하나의 페이지가 동시에 프로그램되는 3차원 메모리 장치.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 매트의 상기 어느 하나의 블록 및 상기 제 2 매트의 상기 어느 하나의 블록이 동시에 소거되는 3차원 메모리 장치.
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 층의 플레인들에 대하여는 연속적으로 블록 어드레스가 할당되고, 상기 제 1 및 제 2층들에 대하여는 불연속적으로 블록 어드레스가 할당되는 3차원 메모리 장치.
  8. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 및 제 2 층들에 대하여는 연속적으로 블록 어드레스가 할당되고, 상기 제 1 및 제 2 층들의 플레인들에 대하여는 불연속적으로 블록 어드레스가 할당되는 3차원 메모리 장치.
  9. 삭제
  10. 삭제
  11. 삭제
  12. 삭제
  13. 삭제
  14. 삭제
  15. 삭제
  16. 삭제
  17. 삭제
  18. 삭제
KR1020080000206A 2008-01-02 2008-01-02 멀티-플레인 구조의 3차원 메모리 장치 KR101448169B1 (ko)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080000206A KR101448169B1 (ko) 2008-01-02 2008-01-02 멀티-플레인 구조의 3차원 메모리 장치
US12/343,636 US7940564B2 (en) 2008-01-02 2008-12-24 Three-dimensional memory device with multi-plane architecture

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020080000206A KR101448169B1 (ko) 2008-01-02 2008-01-02 멀티-플레인 구조의 3차원 메모리 장치

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20090074431A KR20090074431A (ko) 2009-07-07
KR101448169B1 true KR101448169B1 (ko) 2014-10-13

Family

ID=40798202

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020080000206A KR101448169B1 (ko) 2008-01-02 2008-01-02 멀티-플레인 구조의 3차원 메모리 장치

Country Status (2)

Country Link
US (1) US7940564B2 (ko)
KR (1) KR101448169B1 (ko)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200058584A (ko) * 2018-05-08 2020-05-27 샌디스크 테크놀로지스 엘엘씨 다중 평면 혼합 서브블록 프로그래밍에 의한 비휘발성 메모리

Families Citing this family (46)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20090106869A (ko) * 2008-04-07 2009-10-12 삼성전자주식회사 3차원 메모리 장치 및 그것의 구동 방법
KR20110001063A (ko) * 2009-06-29 2011-01-06 주식회사 하이닉스반도체 반도체 소자 및 그 제조 방법
KR101682662B1 (ko) * 2009-07-20 2016-12-06 삼성전자주식회사 3차원 메모리 장치 및 그것의 프로그램 방법
US8320181B2 (en) * 2009-08-25 2012-11-27 Micron Technology, Inc. 3D memory devices decoding and routing systems and methods
TWI462116B (zh) * 2010-01-25 2014-11-21 Macronix Int Co Ltd 具有改良串列選擇線和位元線接觸佈局的三維記憶陣列
US9378831B2 (en) 2010-02-09 2016-06-28 Samsung Electronics Co., Ltd. Nonvolatile memory devices, operating methods thereof and memory systems including the same
KR101658479B1 (ko) 2010-02-09 2016-09-21 삼성전자주식회사 불휘발성 메모리 장치, 그것의 동작 방법, 그리고 그것을 포함하는 메모리 시스템
KR101691088B1 (ko) 2010-02-17 2016-12-29 삼성전자주식회사 불휘발성 메모리 장치, 그것의 동작 방법, 그리고 그것을 포함하는 메모리 시스템
KR101691092B1 (ko) * 2010-08-26 2016-12-30 삼성전자주식회사 불휘발성 메모리 장치, 그것의 동작 방법, 그리고 그것을 포함하는 메모리 시스템
KR101691097B1 (ko) * 2010-02-19 2016-12-30 삼성전자주식회사 홀수의 매트들을 구비한 비휘발성 메모리 장치, 그것의 블록 설정 방법, 그것을 포함하는 메모리 시스템
KR20110099883A (ko) * 2010-03-03 2011-09-09 삼성전자주식회사 홀수의 매트들을 갖는 비휘발성 메모리 장치, 그것을 포함하는 메모리 시스템 및 그것의 배속 동작 방법
US8325528B1 (en) * 2010-04-20 2012-12-04 Micron Technology, Inc. Multi-layer flash memory
KR101085724B1 (ko) * 2010-05-10 2011-11-21 주식회사 하이닉스반도체 반도체 메모리 장치 및 그 동작 방법
KR101739431B1 (ko) 2010-12-30 2017-05-26 에스케이하이닉스 주식회사 반도체 메모리 장치 및 그 동작 방법
TWI497496B (zh) * 2011-01-19 2015-08-21 Macronix Int Co Ltd 三維記憶體陣列架構
US8860117B2 (en) 2011-04-28 2014-10-14 Micron Technology, Inc. Semiconductor apparatus with multiple tiers of memory cells with peripheral transistors, and methods
KR101759659B1 (ko) 2011-07-25 2017-07-20 삼성전자 주식회사 3차원 반도체 메모리 장치
US8797806B2 (en) 2011-08-15 2014-08-05 Micron Technology, Inc. Apparatus and methods including source gates
US8913443B2 (en) 2011-09-19 2014-12-16 Conversant Intellectual Property Management Inc. Voltage regulation for 3D packages and method of manufacturing same
US9076544B2 (en) 2011-11-18 2015-07-07 Sandisk Technologies Inc. Operation for non-volatile storage system with shared bit lines
TWI459400B (zh) * 2012-04-17 2014-11-01 Phison Electronics Corp 記憶體儲存裝置、及其記憶體控制器與電源控制方法
US8964474B2 (en) * 2012-06-15 2015-02-24 Micron Technology, Inc. Architecture for 3-D NAND memory
US10541029B2 (en) 2012-08-01 2020-01-21 Micron Technology, Inc. Partial block memory operations
KR102075673B1 (ko) 2012-08-29 2020-02-10 에스케이하이닉스 주식회사 반도체 메모리 장치
US9318199B2 (en) 2012-10-26 2016-04-19 Micron Technology, Inc. Partial page memory operations
US9064578B2 (en) 2012-12-18 2015-06-23 Micron Technology, Inc. Enable/disable of memory chunks during memory access
SG11201507090PA (en) 2013-08-19 2015-10-29 Toshiba Kk Memory system
US9001546B2 (en) * 2013-08-22 2015-04-07 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited 3D structure for advanced SRAM design to avoid half-selected issue
KR102242022B1 (ko) 2013-09-16 2021-04-21 삼성전자주식회사 불휘발성 메모리 및 그것의 프로그램 방법
TWI512623B (zh) * 2013-12-26 2015-12-11 Phison Electronics Corp 休眠模式啓動方法、記憶體控制電路單元及儲存裝置
KR102225989B1 (ko) 2014-03-04 2021-03-10 삼성전자주식회사 불휘발성 메모리 시스템 및 그것의 동작 방법
JP6199835B2 (ja) * 2014-08-28 2017-09-20 東芝メモリ株式会社 半導体記憶装置及びデータ消去方法
US9312019B1 (en) * 2014-09-29 2016-04-12 Kabushiki Kaisha Toshiba Memory device and method for operating the same
CN105990366B (zh) * 2015-02-26 2018-08-24 旺宏电子股份有限公司 存储器结构
US10418369B2 (en) * 2015-10-24 2019-09-17 Monolithic 3D Inc. Multi-level semiconductor memory device and structure
US20170123994A1 (en) * 2015-10-28 2017-05-04 Sandisk Technologies Inc. Handling Of Plane Failure In Non-Volatile Storage
KR20170056072A (ko) * 2015-11-12 2017-05-23 삼성전자주식회사 멀티 플레인을 포함하는 불 휘발성 메모리 장치
KR102465321B1 (ko) * 2016-03-02 2022-11-11 에스케이하이닉스 주식회사 데이터 저장 장치
US9679650B1 (en) 2016-05-06 2017-06-13 Micron Technology, Inc. 3D NAND memory Z-decoder
US11017838B2 (en) 2016-08-04 2021-05-25 Samsung Electronics Co., Ltd. Nonvolatile memory devices
KR102620562B1 (ko) * 2016-08-04 2024-01-03 삼성전자주식회사 비휘발성 메모리 장치
KR20180122847A (ko) * 2017-05-04 2018-11-14 에스케이하이닉스 주식회사 반도체 장치 및 그 제조 방법
KR102468825B1 (ko) 2018-03-12 2022-11-18 에스케이하이닉스 주식회사 메모리 장치 및 그의 신호 라인 레이아웃
US11450381B2 (en) 2019-08-21 2022-09-20 Micron Technology, Inc. Multi-deck memory device including buffer circuitry under array
US20210296360A1 (en) * 2020-03-21 2021-09-23 Fu-Chang Hsu Three dimensional double-density memory array
KR20220109766A (ko) * 2021-01-29 2022-08-05 삼성전자주식회사 페이지 버퍼를 통해 감지되는 데이터의 신뢰성을 향상시키기 위한 불휘발성 메모리 장치

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040047722A (ko) * 2002-11-29 2004-06-05 가부시끼가이샤 도시바 불휘발성 반도체 기억 장치 및 그 소거 검증 방법
KR20070071610A (ko) * 2005-12-30 2007-07-04 주식회사 하이닉스반도체 비휘발성 반도체 메모리 장치
US7280397B2 (en) * 2005-07-11 2007-10-09 Sandisk 3D Llc Three-dimensional non-volatile SRAM incorporating thin-film device layer
KR100784007B1 (ko) * 2006-10-31 2007-12-10 주식회사 하이닉스반도체 비휘발성 메모리 장치 및 그 소거 방법

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5835396A (en) * 1996-10-17 1998-11-10 Zhang; Guobiao Three-dimensional read-only memory
US6034882A (en) * 1998-11-16 2000-03-07 Matrix Semiconductor, Inc. Vertically stacked field programmable nonvolatile memory and method of fabrication
US7247876B2 (en) * 2000-06-30 2007-07-24 Intel Corporation Three dimensional programmable device and method for fabricating the same
US6879505B2 (en) * 2003-03-31 2005-04-12 Matrix Semiconductor, Inc. Word line arrangement having multi-layer word line segments for three-dimensional memory array
JP4045506B2 (ja) 2004-01-21 2008-02-13 セイコーエプソン株式会社 積層型半導体記憶装置
US7082069B2 (en) * 2004-12-03 2006-07-25 Macronix International Co., Ltd. Memory array with fast bit line precharge
US7177191B2 (en) * 2004-12-30 2007-02-13 Sandisk 3D Llc Integrated circuit including memory array incorporating multiple types of NAND string structures
TW200802369A (en) * 2005-12-30 2008-01-01 Hynix Semiconductor Inc Nonvolatile semiconductor memory device
KR100826653B1 (ko) * 2007-04-06 2008-05-06 주식회사 하이닉스반도체 낸드 플래시 메모리소자의 소거검증 방법

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20040047722A (ko) * 2002-11-29 2004-06-05 가부시끼가이샤 도시바 불휘발성 반도체 기억 장치 및 그 소거 검증 방법
US7280397B2 (en) * 2005-07-11 2007-10-09 Sandisk 3D Llc Three-dimensional non-volatile SRAM incorporating thin-film device layer
KR20070071610A (ko) * 2005-12-30 2007-07-04 주식회사 하이닉스반도체 비휘발성 반도체 메모리 장치
KR100784007B1 (ko) * 2006-10-31 2007-12-10 주식회사 하이닉스반도체 비휘발성 메모리 장치 및 그 소거 방법

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20200058584A (ko) * 2018-05-08 2020-05-27 샌디스크 테크놀로지스 엘엘씨 다중 평면 혼합 서브블록 프로그래밍에 의한 비휘발성 메모리
US11101001B2 (en) 2018-05-08 2021-08-24 Sandisk Technologies Llc Non-volatile memory with multi-plane mixed sub-block programming
KR102327121B1 (ko) * 2018-05-08 2021-11-15 샌디스크 테크놀로지스 엘엘씨 다중 평면 혼합 서브블록 프로그래밍에 의한 비휘발성 메모리

Also Published As

Publication number Publication date
US20090168534A1 (en) 2009-07-02
KR20090074431A (ko) 2009-07-07
US7940564B2 (en) 2011-05-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101448169B1 (ko) 멀티-플레인 구조의 3차원 메모리 장치
US9183939B2 (en) Nonvolatile memory device, a memory system having the same, and a read method thereof, the read method applying a read pass voltage to a selected wordline after a sensing
CN106169304B (zh) 擦除和刷新非易失性存储器件的方法
US9053794B2 (en) Nonvolatile memory device and related method of operation
US10236065B2 (en) Nonvolatile memory device including multi-plane structure
US10878913B2 (en) Semiconductor memory device
KR102452993B1 (ko) 반도체 메모리 장치 및 이의 동작 방법
CN106486166A (zh) 存储器设备、存储器系统及其操作方法
US10839926B2 (en) Semiconductor memory device with improved threshold voltage distribution of transistor
CN102194523A (zh) 非易失性存储器件、其擦除方法以及包括其的存储系统
CN105390157A (zh) 非易失性存储装置和编程验证方法
KR20120113553A (ko) 불휘발성 메모리 장치 및 불휘발성 메모리 장치의 동작 방법
KR20110095104A (ko) 불휘발성 메모리 장치, 그것의 동작 방법, 그리고 그것을 포함하는 메모리 시스템
TW201601157A (zh) 非揮發性半導體記憶體裝置
CN106981306A (zh) 非易失性存储器装置的操作方法
US9589647B1 (en) Semiconductor device with improved programming reliability
CN105280228A (zh) 半导体存储器件、半导体系统和操作方法
US20220075565A1 (en) Nonvolatile memory device
JP5502773B2 (ja) 不揮発性半導体記憶装置
EP4421811A1 (en) Nonvolatile memory device and method of controlling the same
US11862262B2 (en) Memory system
EP4439563A1 (en) Nonvolatile memory device and method of controlling the same
KR20240146946A (ko) 비휘발성 메모리 장치 및 비휘발성 메모리 장치의 제어 방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180831

Year of fee payment: 5