KR101375886B1 - 노광장치, 노광방법 및 표시용 패널기판의 제조방법 - Google Patents

노광장치, 노광방법 및 표시용 패널기판의 제조방법 Download PDF

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Abstract

복수의 광빔 조사장치로부터의 복수의 광빔에 의해 기판을 주사하고, 기판에 패턴을 인쇄할 때, 공간적 광변조기의 미러의 동작각도의 분산에 의한 광빔의 회절광의 강도분포의 분산을 보정하여, 인쇄 품질을 향상시킨다.
척과, 광빔을 공급하는 조명광학계(20c), 2 방향으로 배열한 복수의 미러의 각도를 변경하여 광빔을 변조하는 공간적 광변조기(25), 인쇄 데이터에 근거하여 공간적 광변조기를 구동하는 구동회로(27), 및 공간적 광변조기(25)에 의해 변조된 광빔을 조사하는 조사광학계(20b)를 가지는 복수의 광빔 조사장치(20)를 상대적으로 이동하고, 복수의 광빔 조사장치에서의 복수의 광빔에 의해 기판을 주사하여, 기판에 패턴을 인쇄한다. 각 광빔 조사장치의 공간적 광변조기의 미러의 동작각도의 분산에 따라, 각 광빔 조사장치의 공간적 광변조기로 공급하는 광빔의 입사각도를 조절한다.

Description

노광장치, 노광방법 및 표시용 패널기판의 제조방법{LIGHT EXPOSURE DEVICE, LIGHT EXPOSURE METHOD AND MANUFACTUIRING METHOD OF DISPLAY PANEL SUBSTRATE}
본 발명은 액정 디스플레이장치 등의 표시용 패널기판의 제조에 있어서, 포토레지스트가 도포된 기판으로 광빔을 조사하고, 광빔에 의해 기판을 주사(走査)하여 기판에 패턴을 인쇄하는 노광(露光)장치, 노광방법 및 그들을 사용한 표시용 패널기판의 제조방법에 관한 것이며, 특히, 복수의 광빔 조사장치를 사용하여 복수의 광빔에 의해 기판의 주사를 행하는 노광장치, 노광방법 및 그들을 사용한 표시용 패널기판의 제조방법에 관한 것이다.
표시용 패널로서 사용되는 액정 디스플레이장치인 TFT(Thin Film Transistor) 기판이나 컬러필터기판, 플라즈마 디스플레이 패널용 기판, 유기 EＬ(Electroluminescence) 표시패널용 기판 등의 제조는, 노광장치를 사용하여 포토리소그래피 기술에 의하여 기판상에 패턴을 형성하여서 행해진다. 노광장치로서는, 종래의 렌즈 또는 거울을 사용하여 마스크의 패턴을 기판상에 투영하는 프로젝션 방식과, 마스크와 기판과의 사이에 미소한 간극(프록시미티 갭, proximity gap)을 마련하여 마스크의 패턴을 기판으로 전사(轉寫)하는 프록시미티 방식이 있었다.
최근에는 포토레지스트가 도포된 기판으로 광빔을 조사하고, 광빔에 의하여 기판을 주사하여, 기판에 패턴을 인쇄하는 노광장치가 개발되어 있다. 광빔에 의해 기판을 주사하여, 기판에 패턴을 직접 인쇄하기 때문에, 고가의 마스크는 필요 없게 된다. 또 인쇄 데이터 및 주사의 프로그램을 변경함으로써, 여러 종류의 표시용 패널기판에 대응할 수가 있다. 이러한 노광장치로서, 예를 들어, 특허문헌 1, 특허문헌 2 및 특허문헌 3에 기재된 것이 있다.
일본국 특개 2010－44318호 공보 일본국 특개 2010－60990호 공보 일본국 특개 2010－102084호 공보
광빔으로 기판에 패턴을 인쇄할 때, 광빔을 변조하기 위해서는, DMD(Digital Micromirror Device)등의 공간적 광변조기(Optical Modulator, 光變調器)가 사용된다. DMD는, 광빔을 반사하는 복수의 미소한 미러를 직교하는 2 방향으로 배열하여 구성되고, 구동회로가 인쇄 데이터에 근거하여 각 미러의 각도를 변경함으로써, 조명 광학계로부터 공급된 광빔을 변조시킨다. 공간적 광변조기에 의해 변조된 광빔은, 광빔 조사장치의 투영 렌즈를 포함한 조사광학계에서 기판으로 조사된다.
액정 디스플레이 장치 등의 표시용 패널기판의 제조에 있어서는, 노광영역이 넓으므로, 하나의 광빔 조사장치를 사용하고, 하나의 광빔에 의해 기판 전체를 주사하면 기판 전체의 주사에 시간이 걸리고, 택타임(Takt time)이 길어진다. 택타임을 단축시키기 위해서는, 복수의 광빔 조사장치를 사용하여 , 복수의 광빔에 의하여 기판의 주사를 병행해서 행할 필요가 있다.
DMD 미러의 동작각도에는, DMD마다 공차(公差)에 의한 분산(dispersion)이 있다. DMD 미러의 동작각도가 다르면 DMD의 미러에서 반사되어 투영 렌즈 등의 조사광학계를 투과하는 광빔의 광로가 어긋나서 광빔 회절광의 강도분포가 변화한다. 복수의 광빔 조사장치를 사용하여 복수의 광빔에 의해 기판의 주사를 행할 경우, 각 광빔 조사장치에서 기판으로 조사되는 광빔의 회절광의 강도분포에 분산이 있으면 해상성능의 분산이 생겨 패턴의 인쇄가 균일하게 행해지지 않고 인쇄 품질이 저하된다고 하는 문제가 있다.
본 발명의 과제는, 복수의 광빔 조사장치에서의 복수의 광빔에 의해 기판을 주사하고, 기판에 패턴을 인쇄할 때, 공간적 광변조기의 미러의 동작각도의 분산에 의한 광빔의 회절광의 강도분포의 분산을 보정하여, 인쇄 품질을 향상시키는 것이다. 또 본 발명의 과제는, 고품질인 표시용 패널기판을 제조하는 것이다.
본 발명의 노광장치는, 포토레지스트가 도포된 기판을 지지하는 척(chuck)과, 광빔을 공급하는 조명광학계, 2 방향으로 배열한 복수의 미러의 각도를 변경하여 광빔을 변조하는 공간적 광변조기, 인쇄 데이터에 근거하여 공간적 광변조기를 구동하는 구동회로, 및 공간적 광변조기에 의해 변조된 광빔을 조사하는 조사광학계를 가지는 복수의 광빔 조사장치와, 척과 복수의 광빔 조사장치를 상대적으로 이동하는 이동수단을 구비하고, 이동수단에 의하여 척과 복수의 광빔 조사장치를 상대적으로 이동시키고, 복수의 광빔 조사장치에서의 복수의 광빔에 의해 기판을 주사하여, 기판에 패턴을 인쇄하는 노광장치로서, 각 광빔 조사장치가 각 광빔 조사장치의 공간적 광변조기의 미러의 동작각도의 분산에 따라, 각 광빔 조사장치의 공간적 광변조기로 공급되는 광빔의 입사각도를 조절하는 조절수단을 가지는 것이다.
또 본 발명의 노광방법은, 포토레지스트가 도포된 기판을 척으로 지지하고, 척과 광빔을 공급하는 조명광학계, 2 방향으로 배열한 복수의 미러의 각도를 변경하여 광빔을 변조하는 공간적 광변조기, 인쇄 데이터에 근거하여 공간적 광변조기를 구동하는 구동회로, 및 공간적 광변조기에 의해 변조된 광빔을 조사하는 조사광학계를 가지는 복수의 광빔 조사장치를 상대적으로 이동하고, 복수의 광빔 조사장치로부터의 복수의 광빔에 의해 기판을 주사하고, 기판에 패턴을 인쇄하는 노광방법으로서, 각 광빔 조사장치의 공간적 광변조기의 미러의 동작각도의 분산에 따라, 각 광빔 조사장치의 공간적 광변조기로 공급하는 광빔의 입사각도를 조절하는 것이다.
각 광빔 조사장치의 공간적 광변조기의 미러의 동작각도의 분산에 따라, 각 광빔 조사장치의 공간적 광변조기로 공급하는 광빔의 입사각도를 조절하므로, 공간적 광변조기의 미러의 동작각도에 분산이 있어도, 공간적 광변조기의 미러에서 반사되어 조사광학계로 공급되는 광빔의 광로가 동일해진다. 따라서, 공간적 광변조기의 미러의 동작각도의 분산에 따른 광빔의 회절광의 강도분포의 분산이 보정되어, 인쇄 품질이 향상된다.
더욱이, 본 발명의 노광장치는, 각 광빔 조사장치의 조명광학계가, 광빔을 반사하여 반사광을 각 광빔 조사장치의 공간적 광변조기로 공급하는 미러를 가지고, 각 광빔 조사장치의 조절수단이 각 광빔 조사장치의 공간적 광변조기의 미러의 동작각도의 분산에 따라, 각 광빔 조사장치의 조명광학계의 미러의 각도를 변경하는 제1 수단과, 상기 미러의 각도에 따라서 상기 미러의 위치를 변경하는 제2 수단을 가지는 것이다.
또 본 발명의 노광방법은, 각 광빔 조사장치의 조명광학계에 있어서, 광빔을 미러로 반사하여 반사광을 각 광빔 조사장치의 공간적 광변조기로 공급하고, 각 광빔 조사장치의 공간적 광변조기의 미러의 동작각도의 분산에 따라, 각 광빔 조사장치의 조명광학계의 미러의 각도를 변경하고, 상기 미러의 각도에 따라서, 상기 미러의 위치를 변경하여 각 광빔 조사장치의 공간적 광변조기로 공급하는 광빔의 입사각도를 조절하는 것이다.
각 광빔 조사장치의 조명광학계에 있어서, 광빔을 미러로 반사시켜 반사광을 각 광빔 조사장치의 공간적 광변조기로 공급하고, 각 광빔 조사장치의 공간적 광변조기의 미러의 동작각도의 분산에 따라 각 광빔 조사장치의 조명광학계의 미러의 각도를 변경하고, 상기 미러의 각도에 따라서 상기 미러의 위치를 변경하므로, 조명광학계 전체를 경사 시킬 필요 없이, 간단한 구성으로 입사각도가 다른 광빔이 공간적 광변조기로 공급된다.
더욱이, 본 발명의 노광장치는, 각 광빔 조사장치의 조명광학계가, 광빔을 집광하여 각 광빔 조사장치의 조명광학계의 미러로 공급하는 광학부품을 가지고, 제2의 수단이 각 광빔 조사장치의 조명광학계의 미러의 각도에 따라서 각 광빔 조사장치의 조명광학계 전체를 이동시켜, 상기 미러의 위치를 변경하는 것이다.
또 본 발명의 노광방법은, 각 광빔 조사장치의 조명광학계에 있어서, 광빔을 광학부품으로 집광하여 각 광빔 조사장치의 조명광학계의 미러에 공급하고, 각 광빔 조사장치의 조명광학계의 미러의 각도에 따라서 각 광빔 조사장치의 조명광학계 전체를 이동시켜, 상기 미러의 위치를 변경하는 것이다.
각 광빔 조사장치의 조명광학계에 있어서, 광빔을 렌즈 등의 광학부품으로 집광하여 각 광빔 조사장치의 조명광학계의 미러에 공급하는 경우, 조명광학계의 미러의 위치를 단독으로 변경하면, 조명광학계 내에서 광빔의 광로의 길이가 변하고, 렌즈 등의 광학부품으로 집광 된 광빔의 초점이 어긋난다. 각 광빔 조사장치의 조명광학계의 미러의 각도에 따라, 각 광빔 조사장치의 조명광학계 전체를 이동시켜, 상기 미러의 위치를 변경하므로, 렌즈 등의 광학부품으로 집광 된 광빔의 초점이 어긋나는 일 없이, 입사각도가 다른 광빔이 공간적 광변조기로 공급된다.
본 발명의 표시용 패널기판의 제조방법은, 상기 중 어느 하나의 노광장치 또는 노광방법을 사용하여 기판의 노광을 행하는 것이다. 상기의 노광장치 또는 노광방법을 사용함으로써, 공간적 광변조기의 미러의 동작각도의 분산에 의한 광빔의 회절광의 강도분포의 분산이 보정되어, 인쇄 품질이 향상되므로, 고품질의 표시용 패널기판이 제조된다.
본 발명의 노광장치 및 노광방법에 의하면, 각 광빔 조사장치의 공간적 광변조기의 미러의 동작각도의 분산에 따라, 각 광빔 조사장치의 공간적 광변조기로 공급하는 광빔의 입사각도를 조절함으로써, 공간적 광변조기의 미러의 동작각도의 분산에 의한 광빔의 회절광의 강도분포의 분산을 보정하여, 인쇄 품질을 향상시킬 수가 있다.
더욱이, 본 발명의 노광장치 및 노광방법에 따르면, 각 광빔 조사장치의 조명광학계에 있어서, 광빔을 미러로 반사시켜, 반사광을 각 광빔 조사장치의 공간적 광변조기에 공급하고, 각 광빔 조사장치의 공간적 광변조기의 미러의 동작각도의 분산에 따라, 각 광빔 조사장치의 조명광학계의 미러의 각도를 변경시켜 상기 미러의 각도에 따라, 상기 미러의 위치를 변경함으로써, 간단한 구성으로 입사각도가 다른 광빔을 공간적 광변조기로 공급할 수가 있다.
더욱이, 본 발명의 노광장치 및 노광방법에 의하면, 각 광빔 조사장치의 조명광학계에 있어서, 광빔을 광학부품으로 집광하여 각 광빔 조사장치의 조명광학계의 미러로 공급하고, 각 광빔 조사장치의 조명광학계의 미러의 각도에 따라서, 각 광빔 조사장치의 조명광학계 전체를 이동하고, 상기 미러의 위치를 변경함으로써, 광학부품으로 집광 된 광빔의 초점을 어긋나게 하는 일 없이, 입사각도가 다른 광빔을 공간적 광변조기로 공급할 수가 있다.
본 발명의 표시용 패널기판의 제조방법에 의하면, 공간적 광변조기의 미러의 동작각도의 분산에 따른 광빔의 회절광의 강도분포의 분산을 보정하여, 인쇄 품질을 향상시킬 수가 있으므로, 고품질의 표시용 패널기판을 제조할 수가 있다.
도 1은, 본 발명의 일 실시 형태에 따른 노광장치의 개략적인 구성을 나타내는 도면이다.
도 2는, 본 발명의 일 실시 형태에 따른 노광장치의 측면도이다.
도 3은, 본 발명의 일 실시 형태에 따른 노광장치의 정면도이다.
도 4는, 본 발명의 일 실시 형태에 따른 노광장치의 광빔 조사장치의 개략적인 구성을 나타내는 도면이다.
도 5는, DMD의 미러부의 일 예를 나타내는 도면이다.
도 6은, 레이저 측장계의 동작을 설명하는 도면이다.
도 7은, 인쇄 제어부의 개략적인 구성을 나타내는 도면이다.
도 8(a)는 미러 홀더의 측면도, 도 8(b)는 미러 홀더의 배면도이다.
도 9는, XY 스테이지의 사시도이다.
도 10은, 본 발명의 일 실시 형태에 따른 노광방법을 설명하는 도면이다.
도 11은, 본 발명의 일 실시 형태에 따른 노광방법을 설명하는 도면이다.
도 12는, 본 발명의 일 실시 형태에 따른 노광방법을 설명하는 도면이다.
도 13은, 광빔에 의한 기판의 주사를 설명하는 도면이다.
도 14는, 광빔에 의한 기판의 주사를 설명하는 도면이다.
도 15는, 광빔에 의한 기판의 주사를 설명하는 도면이다.
도 16은, 광빔에 의한 기판의 주사를 설명하는 도면이다.
도 17은, 액정 디스플레이 장치의 TFT 기판의 제조공정의 일 예를 나타내는 플로 차트이다.
도 18은, 액정 디스플레이 장치의 컬러필터기판의 제조공정의 일 예를 나타내는 플로 차트이다.
도 1은, 본 발명의 일 실시 형태에 따른 노광장치의 개략적인 구성을 나타내는 도면이다. 또 도 2는 본 발명의 일 실시 형태에 따른 노광장치의 측면도, 도 3은 본 발명의 일 실시 형태에 따른 노광장치의 정면도이다. 노광장치는 베이스(3), X 가이드(4), X 스테이지(5), Y 가이드(6), Y 스테이지(7), θ 스테이지(8), 척(10), 게이트(11), 광빔 조사장치(20), 리니어 스케일(31),(33), 엔코더(32),(34), 레이저 측장계, 레이저 측장계 제어장치(40), 스테이지 구동회로(60), 및 주제어장치(70)를 포함하여 구성되어 있다. 또한, 도 2 및 도 3에서는, 레이저 측장계의 레이저 광원(41), 레이저 측장계 제어장치(40), 스테이지 구동회로(60), 및 주제어장치(70)가 생략되어 있다. 노광장치는, 이들 외에 기판(1)을 척(10)으로 반입하고, 또 기판(1)을 척(10)에서 반출하는 기판반송 로봇, 장치 안의 온도관리를 하는 습도제어 유닛 등을 구비하고 있다.
또한, 아래에서 설명하는 실시 형태에서의 XY 방향은 예시로서, X 방향과 Y 방향을 바꾸어도 관계없다.
도 1 및 도 2에서, 척(10)은, 기판(1)의 주고 받음을 행하는 주고 받는 위치에 있다. 주고 받는 위치에서, 도시하지 않은 기판반송 로봇에 의해 기판(1)이 척(10)으로 반입되고, 또 도시하지 않은 기판반송 로봇에 의해 기판(1)이 척(10)으로 반출된다. 척(10)은, 기판(1)의 이면을 진공흡착하여 지지한다. 기판(1)의 표면에는, 포토레지스트가 도포되어 있다.
기판(1)의 노광을 행하는 노광위치의 상공(上空)에 베이스(3)를 걸쳐서 게이트(11)가 마련되어 있다. 게이트(11)에는, 복수의 광빔 조사장치(20)가 탑재되어 있다. 또한, 본 실시 형태는, 8개의 광빔 조사장치(20)를 사용한 노광장치의 예를 나타내고 있지만, 광빔 조사장치의 수는 이에 한정되지 않고, 본 발명은 2개 이상의 광빔 조사장치를 사용한 노광장치에 적용된다.
도 4는, 본 발명의 일 실시 형태에 따른 노광장치의 광빔 조사장치의 개략적인 구성을 나타내는 도면이다. 광빔 조사장치(20)는, 조사광학계(20b), 조명광학계(20c), 광 파이버(22), DMD(Digital Micromirror Device)(25), DMD 구동회로(27), 제1 프리즘(51), 제2 프리즘(52), 미러 홀더(54) 및 XY 스테이지(55)를 포함하여 구성되어 있다. 조사광학계(20b)는, 투영 렌즈(26)를 포함하여 구성되어 있다. 또 조명광학계(20c)는, 콜리메이션 렌즈(Collimation Lens, 23a), 플라이아이렌즈(Fly-eye lens, 23b), 콘덴서렌즈(Condenser lens, 23c) 및 미러(24a),(24b)를 포함하여 구성되어 있다.
광 파이버(22)는, 레이저 광원 유닛(21)에서 발생된 자외선(紫外光)의 광빔을, 조명광학계(20c)의 안으로 도입한다. 광 파이버(22)에서 사출(射出)된 광빔은, 콜리메이션 렌즈(23a)로 입사하여, 콜리메이션 렌즈(23a)를 투과하여 평행 광선속(平行光線束)이 된다. 콜리메이션 렌즈(23a)를 투과한 빛은 플라이아이렌즈(23b)로 입사된다. 또한, 플라이아이렌즈(23b) 대신 로드 렌즈(Rod lens) 등을 사용해도 된다. 플라이아이렌즈(23b)를 투과하는 광빔은, 콘덴서렌즈(23c)에 의해 집광 되어, 미러(24a),(24b)로 반사되어, 조명광학계(20c)에서 제1 프리즘(51)으로 입사된다. 또한, 콘덴서렌즈(23c) 대신 오목거울 등의 다른 광학부품을 사용해도 된다.
제1 프리즘(51)에는, 제2 프리즘(52)의 경사면에 평행한 경사면과, 반사막을 코팅한 반사면(51a)이 마련되어 있다. 제1 프리즘(51)으로 입사된 빛은, 제1 프리즘(51)의 경사면에서 반사되어 반사면(51a)으로 조사되고, 반사면(51a)으로 반사되어, 제1 프리즘(51)의 경사면에서 제2 프리즘(52)의 경사면으로 입사된다. 제2 프리즘(52)의 경사면에 입사된 빛은, 제2 프리즘(52)을 투과하여 DMD(25)로 조사된다.
DMD(25)는, 광빔을 반사하는 복수의 미소한 미러를 직교하는 2 방향으로 배열하여 구성된 공간적 광변조기이며, 각 미러의 각도를 변경하여 광빔을 변조한다. DMD 구동회로(27)는, 주제어장치(70)에서 공급된 인쇄 데이터에 근거하여, DMD(25)의 각 미러의 각도를 변경한다. DMD(25)에 의해 변조된 광빔은, 다시 제2 프리즘(52)으로 입사되고, 제2 프리즘(52)의 경사면에서 반사되어, 제2 프리즘(52)에서 투영 렌즈(26)를 포함한 조사광학계(20b)로 입사된다. 조사광학계(20b)로 입사된 광빔은, 조사광학계(20b)에서 기판(1)으로 조사된다.
도 2 및 도 3에서, 척(10)은, θ 스테이지(8)에 탑재되어 있고, θ 스테이지(8)의 아래에는 Y 스테이지(7) 및, X 스테이지(5)가 마련되어 있다. X 스테이지(5)는, 베이스(3)에 마련된 X 가이드(4)에 탑재되고, X 가이드(4)를 따라 X 방향으로 이동한다. Y 스테이지(7)는, X 스테이지(5)에 마련된 Y 가이드(6)에 탑재되어, Y 가이드(6)를 따라 Y 방향으로 이동한다. θ 스테이지(8)는, Y 스테이지(7)에 탑재되고, θ 방향으로 회전한다. X 스테이지(5), Y 스테이지(7) 및 θ 스테이지(8)에는, 볼 나사 및 모터나, 리니어 모터 등의 도시하지 않은 구동기구가 마련되어 있고, 각 구동기구는, 도 1의 스테이지 구동회로(60)에 의해 구동된다.
θ 스테이지(8)의 θ 방향으로의 회전에 의해, 척(10)에 탑재된 기판(1)은, 직교하는 두 변이 X 방향 및 Y 방향으로 향하도록 회전된다. X 스테이지(5)의 X 방향으로의 이동에 의해, 척(10)은 주고 받는 위치와 노광위치와의 사이를 이동하게 된다. 노광위치에 있어서, X 스테이지(5)의 X 방향으로의 이동에 의해, 각 광빔 조사장치(20)의 조사광학계(20b)에서 조사된 광빔이, 기판(1)을 X 방향으로 주사한다. 또 Y 스테이지(7)의 Y 방향으로의 이동에 의해, 각 광빔 조사장치(20)의 조사광학계(20b)에서 조사된 광빔에 의한 기판(1)의 주사 영역이 Y 방향으로 이동된다. 도 1에서, 주제어장치(70)는, 스테이지 구동회로(60)를 제어하고, θ 스테이지(8)의 θ 방향으로 회전, X 스테이지(5)의 X 방향으로의 이동, 및 Y 스테이지(7)의 Y 방향으로 이동을 하게 된다.
도 5는, DMD의 미러부의 일 예를 나타내는 도면이다. 광빔 조사장치(20)의 DMD(25)는, 광빔 조사장치(20)에서의 광빔에 의한 기판(1)의 주사방향(X 방향(도 5의 도면 안쪽 방향))과 수직인 Z방향에 대하여, 소정의 각도 θ 만큼 기울여 배치되어 있다. DMD(25)를, Z방향에 대하여 경사지게 배치하면, 직교하는 2 방향으로 배열된 복수의 미러(25a) 중 어느 하나가 인접하는 미러(25a) 사이의 극간에 대응하는 개소를 커버하므로, 패턴의 인쇄를 빈틈없이 행할 수 있다.
또한, 본 실시 형태에서는, X 스테이지(5)에 의해 척(10)을 X 방향으로 이동함에 따라, 광빔 조사장치(20)에서의 광빔에 의한 기판(1)의 주사를 행하고 있지만, 광빔 조사장치(20)를 이동함으로써, 광빔 조사장치(20)에서의 광빔에 의한 기판(1)의 주사를 행하여도 된다. 또 본 실시 형태에서는, Y 스테이지(7)에 의해 척(10)을 Y 방향으로 이동함으로써, 광빔 조사장치(20)에서의 광빔에 의한 기판(1)의 주사영역을 변경하고 있지만, 광빔 조사장치(20)를 이동함으로써, 광빔 조사장치(20)에서의 광빔에 의한 기판(1)의 주사 영역을 변경하여도 된다.
도 1 및 도 2에서, 베이스(3)에는, X 방향으로 신장된 리니어 스케일(31)이 설치되어 있다. 리니어 스케일(31)에는, X 스테이지(5)의 X 방향으로의 이동량을 검출하기 위한 눈금이 마련되어 있다. 또 X 스테이지(5)에는, Y 방향으로 신장되는 리니어 스케일(33)이 설치되어 있다. 리니어 스케일(33)에는, Y 스테이지(7)의 Y 방향으로의 이동량을 검출하기 위한 눈금이 마련되어 있다.
도 1 및 도 3에서, X 스테이지(5)의 한쪽 면에는, 리니어 스케일(31)에 대향하여 엔코더(32)가 부착되어 있다. 엔코더(32)는, 리니어 스케일(31)의 눈금을 검출하여, 펄스신호를 주제어장치(70)로 출력한다. 또 도 1 및 도 2에서, Y 스테이지(7)의 한쪽 면에는, 리니어 스케일(33)에 대향하여 엔코더(34)가 부착되어 있다. 엔코더(34)는, 리니어 스케일(33)의 눈금을 검출하여, 펄스신호를 주제어장치(70)로 출력한다. 주제어장치(70)는, 엔코더(32)의 펄스신호를 카운트하여, X 스테이지(5)의 X 방향으로의 이동량을 검출하고, 엔코더(34)의 펄스신호를 카운트하여, Y 스테이지(7)의 Y 방향으로의 이동량을 검출한다.
도 6은, 레이저 측장계의 동작을 설명하는 도면이다. 또한, 도 6에서는, 도 1에서 나타내는 게이트(11) 및 광빔 조사장치(20)가 생략되어 있다. 레이저 측장계는, 공지의 레이저 간섭식의 측장계로서, 레이저 광원(41), 레이저 간섭계(42),(44) 및 바미러(43),(45)를 포함하여 구성되어 있다. 바미러(Bamira, 43)는, 척(10)의 Y 방향으로 신장되는 한쪽 면에 부착되어 있다. 또 바미러(45)는, 척(10)의 X 방향으로 신장되는 한쪽 면에 부착되어 있다.
레이저 간섭계(42)는, 레이저 광원(41)에서의 레이저 광을 바미러(43)로 조사하고, 바미러(43)에 의해 반사된 레이저 광을 수광하여, 레이저 광원(41)에서의 레이저 광과 바미러(43)에 의해 반사된 레이저 광과의 간섭을 측정한다. 이 측정은 Y 방향의 2개소에서 행한다. 레이저 측장계 제어장치(40)는, 주제어장치(70)의 제어에 의해, 레이저 간섭계(42)의 측정결과로부터, 척(10)의 X 방향의 위치 및 회전을 검출한다.
한편, 레이저 간섭계(44)는, 레이저 광원(41)에서의 레이저 광을 바미러(45)로 조사하고, 바미러(45)에 의해 반사된 레이저 광을 수광하여, 레이저 광원(41)에서의 레이저 광과 바미러(45)에 의해 반사된 레이저 광과의 간섭을 측정한다. 레이저 측장계 제어장치(40)는, 주제어장치(70)의 제어에 의해, 레이저 간섭계(44)의 측정결과에서 척(10)의 Y 방향의 위치를 검출한다.
도 4에서, 주제어장치(70)는, 광빔 조사장치(20)의 DMD 구동회로(27)로 인쇄 데이터를 공급하는 인쇄 제어부를 가진다. 도 7은, 인쇄 제어부의 개략적인 구성을 나타내는 도면이다. 인쇄 제어부(71)는, 메모리(72), 밴드 폭 설정부(73), 중심점 좌표 결정부(74), 및 좌표 결정부(75)를 포함하여 구성되어 있다. 메모리(72)는, 각 광빔 조사장치(20)의 DMD 구동회로(27)로 공급하는 인쇄 데이터를, 그 XY 좌표를 어드레스로서 기억하고 있다.
밴드 폭 설정부(73)는, 메모리(72)에서 판독한 인쇄 데이터의 Y 좌표의 범위를 결정함으로써, 광빔 조사장치(20)의 조사광학계(20b)로부터 조사된 광빔의 Y 방향의 밴드 폭을 설정한다.
레이저 측장계 제어장치(40)는, 노광위치에서의 기판(1)의 노광을 개시하기 전의 척(10)의 XY 방향의 위치를 검출한다. 중심점 좌표 결정부(74)는, 레이저 측장계 제어장치(40)가 검출한 척(10)의 XY 방향의 위치에서, 기판(1)의 노광을 개시하기 전의 척(10)의 중심점의 XY 좌표를 결정한다. 도 1에서, 광빔 조사장치(20)에서의 광빔에 의해 기판(1)의 주사를 행할 때, 주제어장치(70)는, 스테이지 구동회로(60)를 제어하여, X 스테이지(5)에 의해 척(10)을 X 방향으로 이동시킨다. 기판(1)의 주사 영역을 이동할 때, 주제어장치(70)는, 스테이지 구동회로(60)를 제어하고, Y 스테이지(7)에 의해 척(10)을 Y 방향으로 이동시킨다. 도 7에서, 중심점 좌표 결정부(74)는, 엔코더(32),(34)에서의 펄스신호를 카운트하여, X 스테이지(5)의 X 방향으로의 이동량 및 Y 스테이지(7)의 Y 방향으로의 이동량을 검출하고, 척(10)의 중심점인 XY 좌표를 결정한다.
좌표 결정부(75)는, 중심점 좌표 결정부(74)가 결정한 척(10)의 중심점의 XY 좌표에 근거하여, 각 광빔 조사장치(20)의 DMD 구동회로(27)로 공급하는 인쇄 데이터의 XY 좌표를 결정한다. 메모리(72)는, 좌표 결정부(75)가 결정한 XY 좌표를 어드레스로서 입력하고, 입력한 XY 좌표의 어드레스에 기억된 인쇄 데이터를, 각 광빔 조사장치(20)의 DMD 구동회로(27)로 출력한다.
이하, 본 발명의 일 실시 형태에 따른 노광방법에 대하여 설명한다. 도 5에서, DMD(25)의 각 미러(25a)는, 정방형이고, 그 대각선의 하나를 축으로 하여 회전함으로써, 각 미러(25a)의 각도가 변경된다. DMD(25)의 미러(25a)의 동작각도는, 예를 들어 ±2도이어도 DMD마다 공차에 의한 분산이 있다. DMD(25)의 미러(25a)의 동작각도가 다르면, 도 4에서, DMD(25)의 미러(25a)에서 반사되어 투영 렌즈(26)를 포함한 조사광학계(20b)를 투과하는 광빔의 광로가 어긋나서 광빔의 회절광의 강도분포가 변화한다. 복수의 광빔 조사장치(20)를 사용하고, 복수의 광빔에 의해 기판(1)의 주사를 행하는 경우, 각 광빔 조사장치(20)에서 기판(1)으로 조사된 광빔의 회절광의 강도분포에 분산이 있으면, 패턴의 인쇄가 균일하게 이루어지지 않아 인쇄 품질이 저하된다.
도 4에서, 조명광학계(20c)의 미러(24b)는, 미러 홀더(54)에 의해 유지된다. 또 조명광학계(20c) 및 미러 홀더(54)는, XY 스테이지(55)에 탑재되어 있다. 본 실시 형태에서는, 각 광빔 조사장치(20)의 DMD(25)의 미러(25a)의 동작각도의 분산에 따라, 미러 홀더(54) 및 XY 스테이지(55)에 의해, 각 광빔 조사장치(20)의 DMD(25)로 공급되는 광빔의 입사각도를 조절한다.
도 8(a)는 미러 홀더의 측면도, 도 8(b)는 미러 홀더의 배면도이다. 미러 홀더(54)는 지지판(54a), 본체(54b), 인장 코일스프링(54c) 및 조절나사(54d)를 포함하여 구성되어 있다. 도 8(a)에 나타나는 바와 같이, 조명광학계(20c)의 미러(24b)는, 이면(裏面)이 지지판(54a)에 부착되어 지지판(54a)에 의해 지지되어 있다. 지지판(54a)은, 두 개의 인장 코일스프링(54c)에 의해, 본체(54b) 방향으로 힘을 받는다. 도 8(b)에 나타내는 바와 같이, 본체(54b)에는, 세 개의 조절나사(54d)가 나입되어 있고, 도 8(a)에 나타내는 바와 같이, 각 조절나사(54d)의 끝이 지지판(54a)에 접촉하여, 지지판(54a)과 본체(54b)와의 간격을 유지하고 있다. 세 개의 조절나사(54d) 중, 도 8(b)에 일점 쇄선으로 표시한 축을 끼고 대칭으로 배치된 두 개의 조절나사(54d) 중의 어느 하나를 돌려서, 조절나사(54d)의 나입되는 양을 변화시킴으로써, 지지판(54a)이 일점 쇄선으로 나타낸 축과 직교하는 방향으로 경사지게 되어, 미러(24b)의 각도가 조절된다. 또한, 조절나사(54d)는, 모터 등에 의해 회전시키는 구조로 하여도 된다.
도 9는, XY 스테이지의 사시도이다. XY 스테이지(55)는 스테이지 베이스(55a), X 스테이지(55b), Y 스테이지(55c), 및 조절손잡이(55d),(55e)를 포함하여 구성되어 있다. X 스테이지(55b)는, 스테이지 베이스(55a)에 탑재되어, 웜 기어나 랙 및 작은 톱니바퀴 등의 기구에 의해, 스테이지 베이스(55a)에 마련된 조절손잡이(55d)에 연결되어 있다. 조절손잡이(55d)를 회전시킴으로써, X 스테이지(55b)는 스테이지 베이스(55a)의 위를 X 방향으로 이동한다. Y 스테이지(55c)는, X 스테이지(55b)에 탑재되어, 웜기어나 랙 및 작은 톱니바퀴 등의 기구에 의해, X 스테이지(55b)에 설치된 조절손잡이(55e)에 연결되어 있다. 조절손잡이(55e)를 회전시킴으로써, Y 스테이지(55c)는, X 스테이지(55b)의 위를 Y 방향으로 이동한다. 또한, 조절손잡이(55d),(55e)는, 모터 등에 의해 회전시키는 구조로 하여도 된다.
도 10 내지 도 12는, 본 발명의 일 실시 형태에 따른 노광방법을 설명하는 도면이다. 도 10 내지 도 12는, 광빔 조사장치(20) 내의 광빔의 광로를 나타내고 있고, 도 10은 DMD(25)의 미러(25a)의 동작각도가 12도인 경우, 도 11은 DMD(25)의 미러(25a)의 동작각도가 12도보다 작을 경우, 도 12는 DMD(25)의 미러(25a)의 동작각도가 12도보다 큰 경우이다. 또한, 도 10 내지 도 12에서는, 이해를 돕기 위해, DMD(25)의 미러(25a)를 확대하여 하나만 나타내고 있다.
도 10 내지 도 12에서, 광 파이버(22)로부터 사출된 광빔은, 조명광학계(20c)의 콜리메이션 렌즈(23a), 플라이아이렌즈(23b) 및 콘덴서렌즈(23c)를 투과하고, 미러(24a),(24b)로 반사되어, 조명광학계(20c)에서 제1 프리즘(51)으로 입사된다. 제1 프리즘(51)으로 입사된 빛은, 제1 프리즘(51)의 경사면에서 반사되어 반사면(51a)으로 조사되어, 반사면(51a)에서 반사되고, 제1 프리즘(51)의 경사면에서 제2 프리즘(52)의 경사면으로 입사된다. 제2 프리즘(52)의 경사면으로 입사된 빛은, 제2 프리즘(52)을 투과하여, DMD(25)의 미러(25a)로 조사된다. DMD(25)의 미러(25a)가 ON 상태일 때, 미러(25a)에서 반사된 광빔은, 다시 제2 프리즘(52)으로 입사되고, 제2 프리즘(52)의 경사면에서 반사되어, 제2 프리즘(52)에서 투영 렌즈(26)를 포함하는 조사광학계(20b)로 입사된다.
도 10에서, 미러(24b)는, 제2 프리즘(52)을 투과한 광빔이 소정의 각도로 DMD(25)의 방향으로 사출되도록, 미러 홀더(54)에 의해 그 각도가 조절되고 있다. 또 미러(24b)는, 제2 프리즘(52)을 투과한 광빔이 DMD(25)로 조사되도록, XY 스테이지(55)에 의해 조명광학계(20c) 및 미러 홀더(54)를 XY 방향으로 이동하여, 그 위치가 조절되고 있다.
도 11 및 도 12에서, DMD(25)의 미러(25a)의 동작각도가 12도보다 작을 경우 또는, 12도보다 큰 경우, DMD(25)의 미러(25a)의 동작각도의 분산에 의해, DMD(25)가 ON 상태인 미러(25a)에서 반사된 광빔이, DMD(25)의 미러(25a)의 동작각도가 12도인 경우(도 10)와 같은 각도로 제2 프리즘(52)으로 입사하도록, 미러 홀더(54)에 의해 미러(24b)의 각도를 변경하고, 제2 프리즘(52)을 투과한 광빔이 DMD(25)의 방향으로 사출된 각도를 변경한다. 그리고 변경한 미러(24b)의 각도에 따라, 제2 프리즘(52)을 투과한 광빔이 DMD(25)로 조사되도록, XY 스테이지(55)에 의해 조명광학계(20c) 및 미러 홀더(54)를 XY 방향으로 이동하여 미러(24b)의 위치를 변경한다. 이로 인하여, DMD(25)의 미러(25a)의 동작각도의 분산에 따라, DMD(25)의 미러(25a)로 조사되는 광빔의 입사각도가 조절된다. 또한, 도 11 및 도 12에서는, DMD(25)의 미러(25a)의 동작각도가 12도인 경우(도 10)에서의 조명광학계(20c)에서 DMD(25)의 미러(25a) 까지의 광빔의 광로가 일점 쇄선으로 표시되어 있다.
각 광빔 조사장치(20)의 DMD(25)의 미러(25a)의 동작각도의 분산에 따라, 각 광빔 조사장치(20)의 DMD(25)로 공급하는 광빔의 입사각도를 조절하므로, DMD(25)의 미러(25a)의 동작각도에 분산이 있어도, DMD(25)의 미러(25a)에서 반사되어 조사광학계(20b)로 공급되는 광빔의 광로가 동일해진다. 따라서, DMD(25)의 미러(25a)의 동작각도의 분산에 의한 광빔의 회절광의 강도분포의 분산이 보정되어, 인쇄 품질이 향상된다.
또 각 광빔 조사장치(20)의 조명광학계(20c)에서, 광빔을 미러(24b)에서 반사시켜, 반사광을 각 광빔 조사장치(20)의 DMD(25)로 공급하고, 각 광빔 조사장치(20)의 DMD(25)의 미러(25a)의 동작각도의 분산에 따라, 각 광빔 조사장치(20)의 조명광학계(20c)의 미러(24b)의 각도를 변경하고, 미러(24b)의 각도에 따라, 미러(24b)의 위치를 변경하므로, 조명광학계(20c)의 전체를 경사지게 할 필요 없이, 간단한 구성으로 입사각도가 다른 광빔이 DMD(25)로 공급된다.
또 각 광빔 조사장치(20)의 조명광학계(20c)에서, 광빔을 콘덴서렌즈(23c) 등의 광학부품으로 집광하여 각 광빔 조사장치(20)의 조명광학계(20c)의 미러(24b)로 공급하는 경우, 조명광학계(20c)의 미러(24b)의 위치를 단독으로 변경하면, 조명광학계(20c)의 내에서 광빔의 광로의 길이가 변하고, 콘덴서렌즈(23c) 등의 광학부품으로 집광 된 광빔의 초점이 어긋난다. 각 광빔 조사장치(20)의 조명광학계(20c)의 미러(24b)의 각도에 따라, 각 광빔 조사장치(20)의 조명광학계(20c)의 전체를 이동시켜, 미러(24b)의 위치를 변경하므로, 콘덴서렌즈(23c) 등의 광학부품으로 집광 된 광빔의 초점이 어긋나는 일 없이, 입사각도가 다른 광빔이 DMD(25)로 공급된다.
도 13 내지 도 16은, 광빔에 의한 기판의 주사를 설명하는 도면이다. 도 13 내지 도 16은, 8개의 광빔 조사장치(20)로부터의 8개의 광빔에 의해, 기판(1)의 X 방향의 주사를 4회 행하고, 기판(1)의 전체를 주사하는 예를 나타내고 있다. 도 13 내지 도 16에서는, 각 광빔 조사장치(20)의 조사광학계(20b)를 포함하는 헤드부(20a)가 파선으로 표시되어 있다. 각 광빔 조사장치(20)의 헤드부(20a)에서 조사된 광빔은, Y 방향으로 밴드 폭 Ｗ를 가지고, X 스테이지(5)의 X 방향으로의 이동에 의하여 기판(1)을 화살표로 표시하는 방향으로 주사한다.
도 13은, 1회째의 주사를 표시하고, X 방향으로의 1회째의 주사에 의해, 도 13에 회색으로 표시한 주사영역에서 패턴의 인쇄가 행하여진다. 1회째의 주사가 종료되면, Y 스테이지(7)의 Y 방향으로의 이동에 의해, 기판(1)이 Y 방향으로 밴드 폭 Ｗ와 같은 거리만큼 이동된다. 도 14는, 2회째의 주사를 나타내고, X 방향으로의 2회째의 주사에 의해, 도 14에 회색으로 나타나는 주사영역에서 패턴의 인쇄가 행하여진다. 2회째의 주사가 종료되면, Y 스테이지(7)의 Y 방향으로의 이동에 의해, 기판(1)이 Y 방향으로 밴드 폭 Ｗ와 같은 거리만큼 이동된다. 도 15는, 3회째의 주사를 나타내고, X 방향으로의 3회째의 주사에 의해, 도 15에서 회색으로 나타내는 주사영역에서 패턴의 인쇄가 행하여진다. 3회째의 주사가 종료되면, Y 스테이지(7)의 Y 방향으로의 이동에 의해, 기판(1)이 Y 방향으로 밴드 폭 Ｗ와 같은 거리만큼 이동된다. 도 16은, 4회째의 주사를 나타내고, X 방향으로의 4회째의 주사에 의해, 도 16에 회색으로 나타내는 주사영역에서 패턴의 인쇄가 행해지고, 기판(1) 전체의 주사가 종료된다.
또한, 도 13 내지 도 16에서는, 기판(1)의 X 방향의 주사를 4회 행하여, 기판(1) 전체를 주사하는 예를 보여주는 것이나, 주사의 회수는 이에 한정되지 않고, 기판(1)의 X 방향의 주사를 3회 이하 또는 5회 이상 행하여, 기판(1) 전체를 주사하여도 된다.
이상 설명한 실시 형태에 의하면, 각 광빔 조사장치(20)의 DMD(25)의 미러(25a)의 동작각도의 분산에 따라, 각 광빔 조사장치(20)의 DMD(25)로 공급하는 광빔의 입사각도를 조절함으로써, DMD(25)의 미러(25a)의 동작각도의 분산에 의한 광빔의 회절광의 강도분포의 분산을 보정하여, 인쇄 품질을 향상 시킬 수 있다.
더욱이, 각 광빔 조사장치(20)의 조명광학계(20c)에서, 광빔을 미러(24b)에서 반사시켜, 반사광을 각 광빔 조사장치(20)의 DMD(25)로 공급하고, 각 광빔 조사장치(20)의 DMD(25)의 미러(25a)의 동작각도의 분산에 따라, 각 광빔 조사장치(20)의 조명광학계(20c)의 미러(24b)의 각도를 변경하고, 미러(24b)의 각도에 따라, 미러(24b)의 위치를 변경함으로써, 간단한 구성으로 입사각도가 다른 광빔을 DMD(25)로 공급할 수가 있다.
더욱이, 각 광빔 조사장치(20)의 조명광학계(20c)에서, 광빔을 콘덴서렌즈(23c) 등의 광학부품에서 집광하여 각 광빔 조사장치(20)의 조명광학계(20c)의 미러(24b)로 공급하고, 각 광빔 조사장치(20)의 조명광학계(20c)의 미러(24b)의 각도에 따라, 각 광빔 조사장치(20)의 조명광학계(20c) 전체를 이동하여, 미러(24b)의 위치를 변경함으로써, 콘덴서렌즈(23c) 등의 광학부품에서 집광 된 광빔의 초점이 어긋나게 하는 일 없이, 입사각도가 다른 광빔을 DMD(25)로 공급할 수가 있다.
본 발명의 노광장치 또는 노광방법을 사용하여 기판의 노광을 행함으로써, 공간적 광변조기의 미러의 동작각도의 분산에 의한 광빔의 회절광의 강도분포의 분산을 보정하여, 인쇄 품질을 향상시킬 수 있으므로, 고품질의 표시용 패널기판을 제조할 수가 있다.
예를 들어, 도 17은, 액정 디스플레이 장치인 TFT 기판의 제조공정의 일 예를 나타내는 플로 차트이다. 박막형성공정(스텝 101)에서는, 스퍼터링 법(Sputtering Method)이나 플라즈마 화학기상성장(CVD)법 등에 의해, 기판상에 액정구동용의 투명전극이 되는 도전체 막(膜)이나 절연체 막 등의 박막을 형성한다. 레지스트 도포공정(스텝 102)에서는, 롤 도포법 등에 의해 포토레지스트를 도포하고, 박막형성공정(스텝 101)에서 형성한 박막 상에 포토레지스트 막을 형성한다. 노광 공정(스텝 103)에서는, 노광장치를 사용하여, 포토레지스트 막에 패턴을 형성한다. 현상 공정(스텝 104)에서는, 샤워 현상법(Shower development method) 등에 의해 현상액을 포토레지스트 막 위에 공급하여, 포토레지스트 막의 불필요한 부분을 제거한다. 에칭 공정(스텝 105)에서는 웨트 에칭(Wet etching)에 의해, 박막형성공정(스텝 101)에서 형성한 박막 내의, 포토레지스트 막에서 마스크 되어 있지 않은 부분을 제거한다. 박리 공정(스텝 106)에서는, 에칭 공정(스텝 105)에서의 마스크의 역할을 마친 포토레지스트 막을, 박리 액에 의해 박리한다. 이들의 각 공정 전 또는 후에는, 필요에 따라 기판의 세정／건조공정이 실시된다. 이들의 공정을 수회 반복하여 기판상에 TFT 어레이가 형성된다.
또 도 18은, 액정 디스플레이 장치의 컬러필터기판의 제조공정의 일 예를 나타내는 플로 차트이다. 블랙 매트릭스 형성공정(스텝 201)에서는 레지스트 도포, 노광, 현상(現像), 에칭, 박리 등의 처리에 의해 기판 위에 블랙 매트릭스를 형성한다. 착색 패턴 형성공정(스텝 202)에서는 염색법이나 안료 분산법 등에 의해, 기판 위에 착색 패턴을 형성한다. 이 공정을 R, G, B의 착색 패턴에 대하여 반복한다. 보호막 형성공정(스텝 203)에서는, 착색 패턴 상에 보호막을 형성하고, 투명 전극 막 형성공정(스텝 204)에서는, 보호막 위에 투명 전극 막을 형성한다. 이들의 각 공정 전, 도중 또는 후에는, 필요에 따라, 기판의 세정/건조공정이 실시된다.
도 17에 나타낸 TFT 기판의 제조공정에서는, 노광 공정(스텝 103)에서, 도 18에 나타낸 컬러필터기판의 제조공정에서는, 블랙 매트릭스 형성공정(스텝 201) 및 착색 패턴 형성공정(스텝 202)의 노광 처리에서, 본 발명의 노광 장치 또는 노광 방법을 적용할 수가 있다.
1: 기판
3: 베이스
4: X 가이드
5: X 스테이지
6: Y 가이드
7: Y 스테이지
8: θ 스테이지
10: 척
11: 게이트
20: 광빔 조사장치
20a: 헤드부
20b: 조사광학계
20c: 조명광학계
21: 레이저 광원 유닛
22: 광 파이버
23a: 콜리메이션 렌즈
23b: 플라이아이렌즈
23c: 콘덴서렌즈
24a, 24b: 미러
25: DMD(Digital Micromirror Device)
25a: 미러
26: 투영 렌즈
27: DMD 구동회로
31, 33: 리니어 스케일
32, 34: 엔코더
40: 레이저 측장계 제어장치
41: 레이저 광원
42, 44: 레이저 간섭계
43, 45: 바미러
51: 제1 프리즘
52: 제2 프리즘
54: 미러 홀더
54a: 지지판
54b: 본체
54c: 인장 코일스프링
54d: 조절나사
55: XY 스테이지
55a: 스테이지 베이스
55b: X 스테이지
55c: Y 스테이지
55d, 55e: 조절손잡이
60: 스테이지 구동회로
70: 주제어장치
71: 인쇄 제어부
72: 메모리
73: 밴드 폭 설정부
74: 중심점 좌표 결정부
75: 좌표 결정부

Claims (8)

  1. 포토레지스트가 도포된 기판을 지지하는 척과,
    광빔을 공급하는 조명광학계, 직교하는 2 방향으로 배열한 복수의 미러의 각도를 변경하여 광빔을 변조하는 공간적 광변조기, 인쇄 데이터에 근거하여 공간적 광변조기를 구동하는 구동회로, 및 공간적 광변조기에 의해 변조된 광빔을 조사하는 조사광학계를 가지는 복수의 광빔 조사장치와,
    상기 척과 상기 복수의 광빔 조사장치를 상대적으로 이동하는 이동수단을 구비하고,
    상기 이동수단에 의해 상기 척과 상기 복수의 광빔 조사장치를 상대적으로 이동하고, 상기 복수의 광빔 조사장치로부터의 복수의 광빔에 의해 기판을 주사하여, 기판에 패턴을 인쇄하는 노광장치로서,
    각 광빔 조사장치는, 상기 복수의 광빔 조사장치에 포함되는 복수의 공간적 광변조기에서 공간적 광변조기마다 미러의 동작각도의 공차에 의한 분산에 따라, 각 광빔 조사장치의 공간적 광변조기로 공급되는 광빔의 입사각도를 조절하는 조절수단을 가지는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    각 광빔 조사장치의 조명광학계는, 광빔을 반사하고, 반사광을 각 광빔 조사장치의 공간적 광변조기로 공급하는 미러를 가지고,
    각 광빔 조사장치의 조절수단은, 각 광빔 조사장치의 공간적 광변조기의 미러의 동작각도의 분산에 따라, 각 광빔 조사장치의 조명광학계의 미러의 각도를 변경하는 제1 수단과, 상기 미러의 각도에 따라, 상기 미러의 위치를 변경하는 제2 수단을 가지는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  3. 제 2항에 있어서,
    각 광빔 조사장치의 조명광학계는, 광빔을 집광하여 각 광빔 조사장치의 조명광학계의 미러로 공급하는 광학부품을 가지고,
    상기 제2 수단은, 각 광빔 조사장치의 조명광학계의 미러의 각도에 따라, 각 광빔 조사장치의 조명광학계 전체를 이동하여, 상기 미러의 위치를 변경하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
  4. 포토레지스트가 도포된 기판을 척으로 지지하고,
    척과, 광빔을 공급하는 조명광학계, 직교하는 2 방향으로 배열한 복수의 미러의 각도를 변경하여 광빔을 변조하는 공간적 광변조기, 인쇄 데이터에 근거하여 공간적 광변조기를 구동하는 구동회로, 및 공간적 광변조기에 의해 변조된 광빔을 조사하는 조사광학계를 가지는 복수의 광빔 조사장치를 상대적으로 이동하고,
    복수의 광빔 조사장치에서의 복수의 광빔에 의해 기판을 주사하여, 기판에 패턴을 인쇄하는 노광방법으로서,
    복수의 광빔 조사장치에 포함되는 복수의 공간적 광변조기에서 공간적 광변조기마다의 미러의 동작각도의 공차에 의한 분산에 따라, 각 광빔 조사장치의 공간적 광변조기로 공급하는 광빔의 입사각도를 조절하는 것을 특징으로 하는 노광방법.
  5. 제 4항에 있어서,
    각 광빔 조사장치의 조명광학계에서, 광빔을 미러로 반사시켜, 반사광을 각 광빔 조사장치의 공간적 광변조기로 공급하고,
    각 광빔 조사장치의 공간적 광변조기의 미러의 동작각도의 분산에 따라, 각 광빔 조사장치의 조명광학계의 미러의 각도를 변경하고, 상기 미러의 각도에 따라, 상기 미러의 위치를 변경하고, 각 광빔 조사장치의 공간적 광변조기로 공급하는 광빔의 입사각도를 조절하는 것을 특징으로 하는 노광방법.
  6. 제 5항에 있어서,
    각 광빔 조사장치의 조명광학계에 있어서, 광빔을 광학부품에서 집광하여 각 광빔 조사장치의 조명광학계의 미러로 공급하고,
    각 광빔 조사장치의 조명광학계의 미러의 각도에 따라, 각 광빔 조사장치의 조명광학계 전체를 이동하여, 상기 미러의 위치를 변경하는 것을 특징으로 하는 노광방법.
  7. 제 1항 내지 제 3항 중 어느 한 항에 기재된 노광장치를 사용하여 기판의 노광을 행하는 것을 특징으로 하는 표시용 패널기판의 제조방법.
  8. 제 4항 내지 제 6항 중 어느 한 항에 기재된 노광방법을 사용하여 기판의 노광을 행하는 것을 특징으로 하는 표시용 패널기판의 제조방법.
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