KR101366407B1 - 처리 시스템 - Google Patents

Abstract

본 발명의 과제는 직선적으로 연장되는 왕복로의 프로세스 라인을 따라서 복수의 처리 유닛을 프로세스 플로우의 순으로 배열하여 배치하는 인라인형 시스템에 있어서 전체 길이 사이즈의 단축화, 또는 택트 타임 단축화를 효율적으로 실현하는 것이다.

이 도포 현상 처리 시스템(10)에 있어서는, 카세트 스테이션(C/S)(14)과 왕로의 프로세스 라인(A)과 인터페이스 스테이션(I/F)(18)과 귀로의 프로세스 라인(B)으로 둘러싸여 X 방향으로 똑바로 연장되는 내부(courtyard)의 스페이스(NS)가 형성된다. 이 내부 스페이스(NS)에, 제3 군의 유닛으로서 2대의 감압 건조 유닛(66L, 66R)이 서로 마주 보고 소정의 위치에 각각 설치되는 동시에, 양 유닛(66L, 66R) 사이에 1대의 반송 장치(68)가 설치된다.

처리 시스템, 감압 건조 유닛, 반송 장치, 카세트 스테이션, 인터페이스 스테이션

Description

처리 시스템 {PROCESSING SYSTEM}

본 발명은, 일련의 처리 공정에 있어서 피처리 기판을 프로세스 플로우의 순으로 대략 수평한 방향으로 반송하는 반송 라인을 갖는 처리 시스템에 관한 것이다.

종래부터 FPD(플랫 패널 디스플레이) 제조에 있어서의 레지스트 도포 현상 처리 시스템에서는, 피처리 기판의 대형화에 대응하기 위해, 롤러 또는 롤러 등의 반송체를 수평 방향으로 부설하여 이루어지는 평류 반송로 상에서 기판을 수평으로 반송하면서 기판의 피처리면에 소정의 액체, 가스, 광 등을 부여하여 필요한 처리를 행하는 평류 방식의 처리 유닛을 장비하고, 그와 같은 평류 방식의 처리 유닛을 포함하는 다수의 처리 유닛을 프로세스 플로우의 순으로 대략 수평 방향의 라인을 따라서 시리얼로 배열하는 시스템 구성 또는 레이아웃이 표준화되어 있다(예를 들어, 특허 문헌 1 참조).

특허 문헌 1에도 기재된 바와 같이, 이러한 종류의 레이아웃은 시스템 중심부에 가로로 긴 프로세스 스테이션을 배치하고, 그 길이 방향 양단부에 카세트 스테이션 및 인터페이스 스테이션을 각각 배치한다. 카세트 스테이션에서는 스테이 션 내의 스테이지와 시스템 외부 사이에서 미처리 또는 처리 완료된 기판을 복수매 수용하는 카세트의 반입출이 행해지는 동시에, 스테이지 상의 카세트와 처리 스테이션 사이에서 기판의 반입출이 행해진다. 인터페이스 스테이션에서는 인접하는 노광 장치와 처리 스테이션 사이에서 기판의 전달이 행해진다.

프로세스 스테이션은 카세트 스테이션을 시점ㆍ종점으로 하고, 인터페이스 스테이션을 반환점으로 하는 왕로와 귀로의 2열의 프로세스 라인을 갖는다. 일반적으로, 왕로의 프로세스 라인에는 세정 처리계의 유닛, 레지스트 도포 처리계의 유닛, 열적 처리계의 유닛 등이 이웃하거나, 혹은 반송계의 유닛을 사이에 두고 일렬로 배치된다. 귀로의 프로세스 라인에는 현상 처리계의 유닛, 열적 처리계의 유닛, 검사계의 유닛 등이 이웃하거나, 혹은 반송계의 유닛을 사이에 두고 일렬로 배치된다.

[특허 문헌 1] 일본 특허 출원 공개 제2007―200993호 공보

상기와 같이 평류 방식의 처리 유닛을 포함하는 다수의 처리 유닛을 직선적인 왕복로의 프로세스 라인을 따라서 프로세스 플로우의 순으로 시리얼로 배열하여 배치하는 인라인형의 처리 시스템은, FPD 기판의 대형화에 수반하여 시스템 길이 방향 사이즈(전체 길이 사이즈)가 점점 커져, 이것이 FPD 제조 공장에서는 풋 프린트의 면에서 불리점이 되고 있다.

또한, 노광 장치의 처리 속도가 고속화되고 있어, 레지스트 도포 현상 처리 시스템에 있어서도 각 처리 유닛의 택트 타임의 단축화가 요구되고 있다. 그 중에서, 레지스트 도포 공정과 프리베이킹 공정 사이에 감압 건조 공정을 사이에 두는 경우에는, 감압 건조 처리가 비교적 긴 시간을 필요로 하므로 감압 건조 유닛의 택트 타임 단축화가 가장 곤란하게 되어 있다.

특히, 포토리소그래피에 하프톤 노광 프로세스가 사용되는 경우에는, 레지스트 마스크의 막 두께가 통상(약 1.5㎛)의 약 1.5 내지 2배(약 2.0 내지 3.0㎛)이어서, 그만큼 레지스트 도포 처리에 있어서 기판 1매당의 용제 사용량이 많아지므로, 감압 건조 유닛에 있어서는 용제의 증발에 필요로 하는 시간이 길어져, 택트 타임 단축화는 한층 곤란해진다.

본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 감안하여 이루어진 것이며, 직선적으로 연장되는 왕복로의 프로세스 라인을 따라서 복수의 처리 유닛을 프로세스 플로우의 순으로 배열하여 배치하는 인라인형 시스템에 있어서 전체 길이 사이즈의 단축화 및 택트 타임 단축화를 효율적으로 실현하는 처리 시스템을 제공하는 것을 목적으로 한다.

상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 제1 관점에 있어서의 처리 시스템은 복수의 처리 유닛을 프로세스 플로우의 순으로 접속하여 피처리 기판에 일련의 처리를 실시하는 인라인형의 처리 시스템이며, 시스템 길이 방향에 있어서 제1 방향으로, 제1 군의 처리 유닛을 서로 이웃하게 하거나, 또는 반송계 유닛을 통해 일렬로 배치하여, 기판을 평류로 반송하는 제1 왕로 평류 반송부와 이 제1 왕로 평류 반송부보다도 프로세스 플로우의 하류측에서 기판을 평류로 반송하는 제2 왕로 평류 반송부를 포함하는 제1 프로세스 라인과, 시스템 길이 방향에 있어서 상기 제1 방향과는 반대의 제2 방향으로, 상기 제1 프로세스 라인보다도 프로세스 플로우의 하류측에 위치하는 제2 군의 처리 유닛을 서로 이웃하게 하거나, 또는 반송계 유닛을 통해 일렬로 배치하여, 상기 제1 프로세스 라인과 시스템 폭 방향에서 소정 사이즈의 내부 스페이스를 형성하여 평행하게 연장되는 제2 프로세스 라인과, 상기 내부 스페이스에 배치되는 제3 군의 처리 유닛과, 상기 내부 스페이스에 배치되어, 상기 제1 왕로 평류 반송부의 종단부측의 기판 전달부로부터 각 기판을 반출하여 상기 제3 군의 처리 유닛의 하나로 반송하고, 상기 제3 군의 처리 유닛의 하나에서 처리가 종료된 각 기판을 당해 처리 유닛으로부터 반출하여 상기 제2 왕로 평류 반송부의 시단부측의 기판 전달부로 반입하는 제1 반송 장치를 갖는다.

또한, 본 발명의 제2 관점에 있어서의 처리 시스템은 복수의 처리 유닛을 프 로세스 플로우의 순으로 접속하여 피처리 기판에 일련의 처리를 실시하는 인라인형의 처리 시스템이며, 시스템 길이 방향에 있어서 제1 방향으로, 제1 군의 처리 유닛을 서로 이웃하게 하거나, 또는 반송계 유닛을 통해 일렬로 배치하여 이루어지는 제1 프로세스 라인과, 시스템 길이 방향에 있어서 상기 제1 방향과는 반대의 제2 방향으로, 상기 제1 프로세스 라인보다도 프로세스 플로우의 하류측에 위치하는 제2 군의 처리 유닛을 서로 이웃하게 하거나, 또는 반송계 유닛을 통해 일렬로 배치하여, 기판을 평류로 반송하는 제1 귀로 평류 반송부와 이 제1 귀로 평류 반송부보다도 프로세스 플로우의 하류측에서 기판을 평류로 반송하는 제2 귀로 평류 반송부를 포함하고, 상기 제1 프로세스 라인과 시스템 폭 방향에서 소정 사이즈의 내부 스페이스를 형성하여 평행하게 연장되는 제2 프로세스 라인과, 상기 내부 스페이스에 배치되는 제3 군의 처리 유닛과, 상기 내부 스페이스에 배치되어, 상기 제1 귀로 평류 반송부의 종단부측의 기판 전달부로부터 각 기판을 반출하여 상기 제3 군의 처리 유닛의 하나로 반송하고, 상기 제3 군의 처리 유닛의 하나에서 처리가 종료된 각 기판을 당해 처리 유닛으로부터 반출하여 상기 제2 귀로 평류 반송부의 시단부측의 기판 전달부로 반입하는 제1 반송 장치를 갖는다.

본 발명의 처리 시스템에 있어서는, 제3 군의 처리 유닛 및 제1 반송 장치의 점유 스페이스 또는 가동 스페이스는 모두 내부 스페이스 중에 흡수되어, 양 프로세스 라인에는 포함되지 않으므로, 시스템 폭 사이즈의 증가를 수반하지 않고, 시스템 전체 길이 사이즈의 대폭적인 단축화를 실현할 수 있다.

본 발명의 적합한 일 형태에 있어서는, 제3 군의 처리 유닛에, 기판에 대한 처리의 내용 및 시간이 실질적으로 동일한 제1 및 제2 처리 유닛이 포함된다. 그리고, 제1 왕로 평류 반송부를 통해 차례로 이송되어 오는 기판에 대해 제1 및 제2 처리 유닛이 교대로 반복되어 충당된다. 이러한 구성에 따르면, 제1 및 제2 처리 유닛을, 시간을 어긋나게 하여 병렬 가동시킴으로써, 택트 타임의 대폭적인 단축화를 실현할 수도 있다.

이 경우, 제1 반송 장치는 내부 스페이스에 설치된 반송 에어리어 내에서 이동 가능한 반송 로봇을 가져도 좋고, 제1 및 제2 처리 유닛은 시스템 길이 방향에 있어서 반송 에어리어를 사이에 두고 서로 마주 보고 내부 스페이스에 배치되는 것이 바람직하다.

적합한 일 형태에 있어서는, 제1 및 제2 처리 유닛이 반송 에어리어에 인접하여 배치된다. 그리고, 반송 로봇이 제1 및 제2 처리 유닛에 대해 기판을 직접 반입출한다.

적합한 일 형태에 있어서는, 내부 스페이스에, 제1 처리 유닛에 기판을 반입출하기 위해 제1 처리 유닛의 밖과 안에서 연속되는 제1 내부 평류 반송부가 설치된다. 그리고, 반송 로봇은 제1 처리 유닛에 대해 제1 내부 평류 반송부를 통해 기판을 반입출한다.

적합한 일 형태로서, 제1 내부 평류 반송부는 반송 에어리어에 인접하여 설치된 제1 내부 기판 반입로와, 제1 처리 유닛 내에 설치되어 제1 내부 기판 반입로와 접속 가능한 제1 유닛 내 반송로와, 제1 처리 유닛으로부터 볼 때 제1 내부 기판 반입로와는 반대측에서 제1 유닛 내 반송로와 접속 가능하고, 제1 처리 유닛의 위 또는 아래를 통과하여 반송 에어리어에 인접하는 종단부 위치까지 연장되는 제1 내부 기판 반출로를 갖는다. 그리고, 제1 처리 유닛으로 기판을 반입할 때에는, 제1 내부 기판 반입로 및 제1 유닛 내 반송로 상에서 기판을 반송한다. 또한, 제1 처리 유닛으로부터 기판을 반출할 때에는 제1 유닛 내 반송로 및 제1 내부 기판 반출로 상에서 기판을 반송한다.

다른 적합한 일 형태로서, 제1 내부 평류 반송부는 반송 에어리어에 인접하여 상하 2단으로 설치된 승강 가능한 제1 내부 기판 반입로 및 제1 내부 기판 반출로와, 제1 처리 유닛 내에 설치되어, 제1 내부 기판 반입로 및 제1 내부 기판 반출로 모두에 선택적으로 접속 가능한 제1 유닛 내 반송로를 갖는다. 그리고, 제1 처리 유닛으로 기판을 반입할 때에는, 제1 내부 기판 반입로의 높이 위치를 제1 유닛 내 반송로에 맞추어, 제1 내부 기판 반입로 및 제1 유닛 내 반송로 상에서 기판을 시스템 길이 방향의 제1 방향으로 반송한다. 제1 처리 유닛으로부터 기판을 반출할 때에는, 제1 내부 기판 반출로의 높이 위치를 제1 유닛 내 반송로에 맞추어, 제1 유닛 내 반송로 및 제1 내부 기판 반출로 상에서 기판을 시스템 길이 방향의 제2 방향으로 반송한다.

적합한 일 형태에 있어서는, 내부 스페이스에, 제2 처리 유닛에 기판을 반입출하기 위해 제2 처리 유닛의 밖과 안에서 연속되는 제2 내부 평류 반송부가 설치된다. 그리고, 반송 로봇이 제2 처리 유닛에 대해 제2 내부 평류 반송부를 통해 기판을 반입출한다.

적합한 일 형태에 있어서는, 제2 내부 평류 반송부가, 반송 에어리어에 인접 하여 설치된 제2 내부 기판 반입로와, 제2 처리 유닛 내에 설치되어 제1 내부 기판 반입로와 접속 가능한 제2 유닛 내 반송로와, 제2 처리 유닛으로부터 볼 때 제2 내부 기판 반입로와는 반대측에서 제2 유닛 내 반송로와 접속 가능하고, 제2 처리 유닛의 위 또는 아래를 통과하여 상기 반송 에어리어에 인접하는 종단부 위치까지 연장되는 제2 내부 기판 반출로를 갖는다. 그리고, 제2 처리 유닛으로 기판을 반입할 때에는, 제2 내부 기판 반입로 및 제2 유닛 내 반송로 상에서 기판을 반송한다. 제2 처리 유닛으로부터 기판을 반출할 때에는, 제2 유닛 내 반송로 및 제2 내부 기판 반출로 상에서 기판을 반송한다.

다른 적합한 일 형태에 있어서는, 제2 내부 평류 반송부가, 반송 에어리어에 인접하여 상하 2단으로 설치된 승강 가능한 제2 내부 기판 반입로 및 제2 내부 기판 반출로와, 제2 처리 유닛 내에 설치되어 제2 내부 기판 반입로 및 제2 내부 기판 반출로 모두에 선택적으로 접속 가능한 제2 유닛 내 반송로를 갖는다. 그리고, 제2 처리 유닛으로 기판을 반입할 때에는, 제2 내부 기판 반입로의 높이 위치를 제2 유닛 내 반송로에 맞추어, 제2 내부 기판 반입로 및 제2 유닛 내 반송로 상에서 기판을 시스템 길이 방향의 제2 방향으로 반송한다. 또한, 제2 처리 유닛으로부터 기판을 반출할 때에는, 제2 내부 기판 반출로의 높이 위치를 제2 유닛 내 반송로에 맞추어, 제2 유닛 내 반송로 및 제2 내부 기판 반출로 상에서 기판을 시스템 길이 방향의 제1 방향으로 반송한다.

적합한 일 형태에 따르면, 제1 프로세스 라인에 있어서, 제1 왕로 평류 반송부의 종단부측의 기판 전달부와 제2 왕로 평류 반송부의 시단부측의 기판 전달부 사이에 제3 처리 유닛이 배치된다. 그리고, 제1 반송 장치가 제3 처리 유닛에 대한 기판의 반입출을 행한다.

적합한 일 형태에 있어서는, 제3 처리 유닛이, 기판 상에 레지스트액을 도포하는 레지스트 도포 유닛이고, 제1 및 제2 처리 유닛이 각각 기판 상의 레지스트 도포막을 감압 하에서 건조시키는 제1 및 제2 감압 건조 유닛이고, 레지스트 도포 유닛의 기판 반출구에 대해 제1 및 제2 감압 건조 유닛의 기판 반입구가 대략 등거리에 위치하고 있다. 이 구성에 있어서는, 제1 및 제2 감압 건조 유닛을 병렬 가동시켜도 모든 기판이 동일하게 일정한 지연 시간을 사이에 두고 레지스트 도포 처리 후에 감압 건조 처리를 받으므로, 레지스트 도포막의 막질(안정성ㆍ재현성)을 향상시킬 수 있다.

다른 적합한 일 형태에 따르면, 제1 프로세스 라인에 있어서, 제1 왕로 평류 반송부의 반송로 상에, 기판 상에 레지스트액을 도포하는 레지스트 도포 유닛이 설치되고, 제1 및 제2 처리 유닛이, 각각 기판 상의 레지스트 도포막을 감압 하에서 건조시키는 제1 및 제2 감압 건조 유닛이고, 제1 왕로 평류 반송부의 종단부측의 기판 전달부에 대해 제1 및 제2 감압 건조 유닛의 기판 반입구가 대략 등거리에 위치하고 있다. 이 구성에 있어서도, 제1 및 제2 감압 건조 유닛을 병렬 가동시켜도 모든 기판이 동일하게 일정한 지연 시간을 사이에 두고 레지스트 도포 처리 후에 감압 건조 처리를 받으므로, 레지스트 도포막의 막질(안정성ㆍ재현성)을 향상시킬 수 있다.

적합한 일 형태에 있어서는, 시스템 길이 방향의 일단부에서 시스템에 투입 된 어느 하나의 카세트로부터 미처리의 기판을 취출하여 제1 프로세스 라인에 전달하고, 시스템 내의 필요한 처리가 모두 종료된 기판을 제2 프로세스 라인으로부터 수취하여 시스템으로부터 불출되어야 할 어느 하나의 카세트에 수납하는 제2 반송 장치가 설치된다.

다른 적합한 일 형태에 있어서는, 시스템 길이 방향의 타단부에서 제1 프로세스 라인으로부터 기판을 반출하여, 제2 프로세스 라인에 직접 반입하거나, 또는 외부의 처리 장치를 경유시킨 후 제2 프로세스 라인으로 반입하는 제3 반송 장치가 설치된다.

본 발명의 처리 시스템에 따르면, 상기와 같은 구성 및 작용에 의해, 직선적으로 연장되는 왕복로의 프로세스 라인을 따라서 복수의 처리 유닛을 프로세스 플로우의 순으로 모두 배치하는 인라인형의 처리 시스템에 있어서 전체 길이 사이즈의 단축화 및 택트 타임 단축화를 효율적으로 실현할 수 있다.

이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 적합한 실시 형태를 설명한다.

(제1 실시 형태)

도 1에, 본 발명의 제1 실시 형태에 있어서의 도포 현상 처리 시스템(10)의 레이아웃 구성을 도시한다. 이 도포 현상 처리 시스템(10)은 클린룸 내에 설치되어, 예를 들어 글래스 기판을 피처리 기판으로 하고, LCD 제조 프로세스에 있어서 포토리소그래피 공정 중의 세정, 레지스트 도포, 프리베이크, 현상 및 포스트 베이 크 등의 일련의 처리를 행하는 것이다. 노광 처리는 이 시스템에 인접하여 설치되는 외부의 노광 장치(12)에서 행해진다.

이 도포 현상 처리 시스템(10)은 중심부에 가로로 긴 프로세스 스테이션(P/S)(16)을 배치하고, 그 길이 방향(X 방향) 양단부에 카세트 스테이션(C/S)(14)과 인터페이스 스테이션(I/F)(18)을 배치하고 있다.

카세트 스테이션(C/S)(14)은 시스템(10)의 카세트 반입출 포트이고, 기판(G)을 다단으로 적층하도록 하여 복수매 수용 가능한 카세트(C)를 수평한 일방향(Y방향)으로 4개까지 배열하여 적재할 수 있는 카세트 스테이지(20)와, 이 스테이지(20) 상의 카세트(C)에 대해 기판(G)의 출입을 행하는 반송 장치(22)를 구비하고 있다. 반송 장치(22)는 기판(G)을 1매 단위로 유지할 수 있는 반송 아암(22a)을 갖는 반송 로봇으로 이루어지고, X, Y, Z, θ의 4축에서 동작 가능하고, 인접하는 프로세스 스테이션(P/S)(16)측과 기판(G)의 전달을 행할 수 있도록 되어 있다.

프로세스 스테이션(P/S)(16)은 수평한 시스템 길이 방향(X 방향)으로 연장되는 서로 평행하고 또한 역방향인 한 쌍의 프로세스 라인 A, B를 따라서 복수의 처리 유닛을 대략 프로세스 플로우 또는 공정의 순으로 배치하고 있다.

보다 상세하게는, 카세트 스테이션(C/S)(14)측으로부터 인터페이스 스테이션(I/F)(18)측을 향하는 왕로의 프로세스 라인(A)에는, 제1 군의 유닛으로서, 반입 유닛(IN-PASS)(24), 엑시머 UV 조사 유닛(E-UV)(26), 스크러버 세정 유닛(SCR)(28), 어드히젼 유닛(adhesion unit)(AD)(30), 냉각 유닛(COL)(32), 반출 유닛(OUT-PASS)(34), 레지스트 도포 유닛(CT)(36), 반입 유닛(IN-PASS)(38), 프리 베이크 유닛(PRE-BAKE)(40), 냉각 유닛(COL)(42) 및 반출 유닛(OUT-PASS)(44)이 이 순서로 일렬로 배치되어 있다.

여기서, 엑시머 UV 조사 유닛(E-UV)(26), 스크러버 세정 유닛(SCR)(28), 어드히젼 유닛(AD)(30) 및 냉각 유닛(COL)(32)은 모두 평류 방식의 처리 유닛으로서 구성되어 있고, 반입 유닛(IN-PASS)(24)으로부터 반출 유닛(OUT-PASS)(34)까지 상기 처리 유닛(26 내지 32)을 종단하여 연장되는, 예를 들어 롤러 반송로로 이루어지는 제1 왕로 평류 반송부(46)가 부설되어 있다.

또한, 프리베이크 유닛(PRE-BAKE)(40) 및 냉각 유닛(COL)(42)은 모두 평류 방식의 처리 유닛으로서 구성되어 있고, 반입 유닛(IN-PASS)(38)으로부터 반출 유닛(OUT-PASS)(44)까지 상기 처리 유닛(40, 42)을 종단하여 연장되는, 예를 들어 롤러 반송로로 이루어지는 제2 왕로 평류 반송부(48)가 부설되어 있다.

레지스트 도포 유닛(CT)(36)은 평류 방식의 처리 유닛이 아니라, 도 2에 있어서 후술하는 바와 같이, 스테이지(76) 상에 기판(G)을 적재하여 고정하고, 그 상방에서 레지스트 노즐(78)을 수평 방향으로 이동 또는 주사시켜 기판(G) 상에 레지스트 도포막을 형성하도록 구성되어 있다.

한편, 인터페이스 스테이션(I/F)(18)측으로부터 카세트 스테이션(C/S)(14)측을 향하는 귀로의 프로세스 라인(B)에는 제2 군의 유닛으로서, 반입 유닛(도시하지 않음), 현상 유닛(DEV)(52), 포스트 베이크 유닛(POST-BAKE)(54), 냉각 유닛(COL)(56), 검사 유닛(AP)(57) 및 반출 유닛(OUT-PASS)(58)이 이 순서로 일렬로 배치되어 있다. 여기서, 상기 반입 유닛(도시하지 않음)은 주변 장 치(TITLER/EE)(50)의 아래층에, 즉 현상 유닛(DEV)(52)과 동일한 층에 설치되어 있다.

현상 유닛(DEV)(52), 포스트 베이크 유닛(POST-BAKE)(54), 냉각 유닛(COL)(56) 및 검사 유닛(AP)(57)은 모두 평류 방식의 처리 유닛으로서 구성되어 있다. 상기 반입 유닛(도시하지 않음)으로부터 반출 유닛(OUT-PASS)(58)까지 상기 처리 유닛(52 내지 58)을 종단하여 연장되는, 예를 들어 롤러 반송로로 이루어지는 귀로 평류 반송부(60)가 부설되어 있다.

인터페이스 스테이션(I/F)(18)은 상기 왕로 및 귀로의 프로세스 라인(A, B)이나 인접하는 노광 장치(12)와 기판(G)의 교환을 행하기 위한 반송 장치(62)를 갖고, 이 반송 장치(62)의 이웃에 주변 장치(TITLER/EE)(50) 및 로터리 스테이지(R/S)(64)를 배치하고 있다. 주변 장치(50)는 주변 노광 장치(EE)와 타이틀러(TITLER)를 포함하고 있다. 로터리 스테이지(R/S)(64)는 기판(G)을 수평면 내에서 회전시키는 스테이지이고, 노광 장치(12)와의 전달 시에 직사각형의 기판(G)의 방향을 변환하기 위해 사용된다.

이 도포 현상 처리 시스템(10)에 있어서는, 카세트 스테이션(C/S)(14)과 왕로의 프로세스 라인(A)과 인터페이스 스테이션(I/F)(18)과 귀로의 프로세스 라인(B)으로 둘러싸여 X 방향으로 똑바로 연장되는 내부의 스페이스(NS)가 형성된다. 이 내부 스페이스(NS)에 제3 군의 유닛으로서 2대의 감압 건조 유닛(66L, 66R)이 서로 마주 보고 소정의 위치에 각각 설치되는 동시에, 양 유닛(66L, 66R) 사이에 1대의 반송 장치(68)가 설치된다.

도 2에 감압 건조 유닛(66L, 66R) 및 반송 장치(68) 및 그 주위의 처리 유닛의 상세한 구성을 도시한다.

제1 감압 건조 유닛(66L)은 제1 왕로 평류 반송부(46)의 반출 유닛(OUT-PASS)(34)보다도 프로세스 라인(A)의 상류측으로 치우쳐, 냉각 유닛(COL)(32)의 옆에 배치되어 있다. 제2 감압 건조 유닛(66R)은 제2 왕로 평류 반송부(48)의 반입 유닛(IN-PASS)(38)보다도 프로세스 라인(A)의 하류측으로 치우쳐, 프리베이크 유닛(PRE-BAKE)(40)의 옆에 배치되어 있다.

양 감압 건조 유닛(66L, 66R) 사이에 반송 에어리어(TE)가 설치되어 있다. 반송 장치(68)는 기판(G)을 1매 단위로 유지할 수 있는 반송 아암(68a)을 갖는 반송 로봇으로 이루어지고, X, Y, Z, θ의 4축에서 동작 가능하고, 반송 에어리어(TE) 내를 이동하고, 기판 반입구 또는 반출구가 반송 에어리어(TE)에 면하고 있는 모든 유닛, 즉 양 감압 건조 유닛(66L, 66R), 제1 왕로 평류 반송부(46)의 반출 유닛(OUT-PASS)(34), 레지스트 도포 유닛(CT)(36) 및 제2 왕로 평류 반송부(48)의 반입 유닛(IN-PASS)(38)에 액세스 가능하고, 그들 유닛과 기판(G)의 전달을 행할 수 있도록 되어 있다.

각 감압 건조 유닛(66L, 66R)은 감압 가능한 챔버를 상하로 2분할 가능하게 되어 있고, 상면이 개방되어 있는 트레이 또는 바닥이 얕은 용기형의 하부 챔버(70)(도 2)로부터 승강 이동 가능한 상부 챔버(도시하지 않음)를 상방으로 들어올려 기판(G)의 반입출을 행할 수 있도록 구성되어 있다.

도 2에 도시한 바와 같이, 하부 챔버(70)는 대략 사각형이고, 중심부에는 기 판(G)을 수평으로 적재하여 지지하기 위한 스테이지(72)가 배치되고, 저면의 4코너에는 배기구(74)가 형성되어 있다. 각 배기구(74)는 배기관(도시하지 않음)을 통해 진공 펌프(도시하지 않음)에 통하고 있다. 하부 챔버(70)에 상부 챔버를 씌운 상태에서, 양 챔버 내의 밀폐된 처리 공간을 상기 진공 펌프에 의해 소정의 진공 압력으로 감압할 수 있도록 되어 있다. 또한, 각 감압 건조 유닛(66L, 66R)에는 스테이지(72) 상에서 반송 장치(68)의 반송 아암(68a)과 기판(G)의 전달을 행하기 위한 로딩/언로딩 기구(도시하지 않음)도 구비되어 있다.

레지스트 도포 유닛(CT)(36)은, 도 2에 도시한 바와 같이 기판(G)을 수평으로 적재하여 유지하는 스테이지(76)와, 이 스테이지(76) 상에 적재되는 기판(G)의 상면(피처리면)에 장척형의 레지스트 노즐(78)을 사용하여 스핀리스법으로 레지스트액을 도포하는 도포 처리부(80)와, 도포 처리를 행하지 않는 동안에 레지스트 노즐(78)의 레지스트액 토출 기능을 회복시켜 다음을 준비하기 위한 노즐 리후레쉬부(82) 등을 갖는다.

레지스트 노즐(78)은 스테이지(76) 상의 기판(G)을 X 방향에서 일단부로부터 타단부까지 커버할 수 있는 슬릿 형상의 노즐구를 갖는 장척형의 노즐로, 레지스트액 공급원(도시하지 않음)에 접속되어 있다. 도포 처리부(80)는 도포 처리 시에 레지스트 노즐(78)을 스테이지(76)의 상방에서 Y 방향으로 수평 이동시키는 노즐 이동 기구(84)를 갖는다. 이 노즐 이동 기구(84)는 레지스트 노즐(78)을 수평으로 지지하는 ㄷ자 형상 또는 문형의 지지체(86)와, 이 지지체(86)를 Y 방향에서 쌍방향으로 직진 이동시키는 직진 구동부(88)를 갖는다. 레지스트 노즐(78)이 레지스 트액을 띠 형상으로 토출하면서, 스테이지(76) 상방에서 Y 방향으로 기판(G)의 일단부로부터 타단부까지 수평 이동(주사)함으로써, 기판(G)의 상면(피처리면)에 마치 융단이 깔린 것과 같이 원하는 막 두께로 레지스트액의 도포막이 형성된다. 또한, 레지스트 노즐(78)의 길이 방향을 Y 방향으로 하고, 도포 주사 방향을 X 방향으로 하는 것도 가능하다.

이 레지스트 도포 유닛(CT)(36)에 있어서는, 내부 스페이스(NS)의 반송 에어리어(TE)측으로부터 기판(G)의 반입출이 행해지도록 되어 있다. 또한, 스테이지(76) 상에서 기판(G)의 로딩/언로딩을 행하기 위한 승강 이동 가능한 리프트 핀(90) 등도 구비되어 있다.

양 감압 건조 유닛(66L, 66R)은 레지스트 도포 유닛(CT)(36)의 기판 반입 출구로부터 좌우 대칭으로 등거리에 위치하고 있다. 이에 의해, 레지스트 도포 유닛(CT)(36)에서 레지스트 도포 처리가 종료된 기판(G)이 다음 공정인 감압 건조 처리를 받기 위해, 반송 장치(68)에 의해 제1 감압 건조 유닛(66L)으로 이송되는 경우의 반송 지연 시간과, 반송 장치(68)에 의해 제2 감압 건조 유닛(66R)으로 이송되는 경우의 반송 지연 시간을 동등하게 할 수 있다.

도 2에 있어서, 제1 왕로 평류 반송부(46)는 막대 형상의 롤러(92)를 반송 방향(X 방향)으로 일정 간격으로 배열하여 롤러 반송로를 형성하고, 모터 및 전동 기구 등으로 이루어지는 롤러 구동부(도시하지 않음)에 의해 각 롤러(92)를 회전 구동하여, 롤러 반송로 상에서 기판(G)을 반송하도록 구성되어 있다. 냉각 유닛(COL)(32) 내에는 롤러 반송으로 통과하는 기판(G)을 열교환에 의해, 또는 냉풍 을 접하게 하여 소정 온도로 냉각하는 냉각 기구(도시하지 않음)가 설치되어 있다. 반출 유닛(OUT-PASS)(34)은 제1 왕로 평류 반송부(46)의 롤러 반송로를 평류로 반송되어 온 기판(G)을 정지(停止) 또는 정지(靜止)시키는 구성 및 반송 장치(68)의 반송 아암(68a)에 기판(G)을 수취시키는 구성으로 되어 있다. 또한, 제1 왕로 평류 반송부(46)에 있어서는, 롤러 반송로가 복수의 구간으로 분할되어, 각 구간마다 독립된 롤러 구동부가 설치되어도 좋다.

마찬가지로, 제2 왕로 평류 반송부(48)도 막대 형상의 롤러(94)를 반송 방향(X 방향)으로 일정 간격으로 배열하여 롤러 반송로를 형성하고, 모터 및 전동 기구 등을 갖는 롤러 구동부(도시하지 않음)에 의해 각 롤러(94)를 회전 구동하여, 롤러 반송로 상에서 기판(G)을 반송하도록 구성되어 있다. 프리베이크 유닛(PRE-BAKE)(40) 내에는 롤러 반송으로 통과하는 기판(G)을 열교환에 의해, 또는 열풍을 접하게 하여 소정 온도로 가열하는 히터 기구(도시하지 않음)가 설치되어 있다. 반입 유닛(IN-PASS)(38)은 반송 장치(68)의 반송 아암(68a)으로부터 기판(G)을 수취할 수 있는 구성 및 기판(G)을 수취한 직후에 평류의 반송(롤러 반송)을 개시할 수 있는 구성으로 되어 있다. 제2 왕로 평류 반송부(48)에 있어서도, 롤러 반송로가 복수의 구간으로 분할되어, 각 구간마다 독립된 롤러 구동부가 설치되어도 좋다.

여기서, 이 도포 현상 처리 시스템에 있어서의 1매의 기판(G)에 대한 전체 공정의 처리 수순을 설명한다.

우선, 카세트 스테이션(C/S)(14)에 있어서, 반송 장치(22)가, 스테이지(20) 상의 어느 하나의 카세트(C)로부터 기판(G)을 1매 취출하여, 그 취출된 기판(G)을 프로세스 스테이션(P/S)(16)의 프로세스 라인(A)측의 반입 유닛(IN-PASS)(24)으로 반입한다. 반입 유닛(IN-PASS)(24)에 있어서 기판(G)은 프로세스 라인(A)의 제1 왕로 평류 반송부(46)에 투입된다.

제1 왕로 평류 반송부(46)에 투입된 기판(G)은 최초에 세정 프로세스부에 있어서 엑시머 UV 조사 유닛(E―UV)(26) 및 스크러버 세정 유닛(SCR)(28)에 의해 자외선 세정 처리 및 스크러빙 세정 처리가 순차적으로 실시된다. 스크러버 세정 유닛(SCR)(28)은 제1 왕로 평류 반송부(46)의 롤러 반송로 상을 수평으로 이동하는 기판(G)에 대해, 브러싱 세정이나 블로우 세정을 실시함으로써 기판 표면으로부터 입자 형상의 오염을 제거하고, 그 후에 린스 처리를 실시하고, 최후에 에어 나이프 등을 사용하여 기판(G)을 건조시킨다. 스크러버 세정 유닛(SCR)(28)에 있어서의 일련의 세정 처리를 종료하면, 기판(G)은 그대로 제1 왕로 평류 반송부(46)의 롤러 반송로를 내려가 열적 처리부(30, 32)를 통과한다.

열적 처리부(30, 32)에 있어서, 기판(G)은 최초에 어드히젼 유닛(AD)(30)에서 증기 상태의 HMDS를 사용하는 어드히젼(adhesion) 처리가 실시되어, 피처리면이 소수화된다. 이 어드히젼 처리의 종료 후에, 기판(G)은 냉각 유닛(COL)(32)에서 소정의 기판 온도까지 냉각된다. 이 후, 기판(G)은 반출 유닛(OUT-PASS)(34)으로 들어가고, 그곳에서 정지한다.

직후에, 내부 스페이스(NS)의 반송 에어리어(TE)로부터 반송 장치(68)가 반출 유닛(OUT-PASS)(34)에 액세스하여, 제1 왕로 평류 반송부(46)로부터 기판(G)을 반출한다. 계속해서, 반송 장치(68)는 반송 에어리어(TE) 내를 이동하여, 기판(G)을 옆의 레지스트 도포 유닛(CT)(36)으로 반입한다.

레지스트 도포 유닛(CT)(36)에 있어서, 기판(G)은 스테이지(76) 상에 적재되어 고정되고, 슬릿 노즐(78)을 수평 이동(주사)시키는 스핀리스법에 의해 기판(G)의 상면(피처리면)에 레지스트액이 도포된다.

레지스트 도포 유닛(CT)(36)에서 레지스트 도포 처리가 종료되면, 내부 스페이스(NS)의 반송 에어리어(TE)로부터 반송 장치(68)가 레지스트 도포 유닛(CT)(36)에 액세스하여, 스테이지(76)로부터 기판(G)을 반출한다. 다음에, 반송 장치(68)는 반송 에어리어(TE) 내를 이동하여, 기판(G)을 양 감압 건조 유닛(VD)(66L, 66R)의 한쪽, 예를 들어 제1 감압 건조 유닛(VD)(66L)으로 반입한다.

제1 감압 건조 유닛(VD)(66L)에 있어서는, 스테이지(72) 상에 기판(G)을 수평으로 적재한 후, 챔버를 폐쇄하고[상부 챔버를 하부 챔버(70)에 밀착시켜], 진공 펌프가 작동하여 진공 배기를 개시하여, 챔버 내를 감압하여 건조 처리를 행한다. 이 감압 건조 처리에서는, 감압 상태의 챔버 내에서 기판(G) 상의 레지스트 액막으로부터 유기 용제(예를 들어, 시너)가 증발하고, 유기 용제 증기가 다른 가스와 함께 챔버의 배기구(74)로부터 배기관을 통해 진공 펌프측으로 보내진다. 일정 시간을 소요하여 감압 건조 처리가 종료되면, 챔버를 개방하여[상부 챔버를 하부 챔버(70)로부터 상방으로 이격하여], 기판(G)을 언로딩한다.

반송 장치(62)는 제1 감압 건조 유닛(VD)(66L)에 액세스하여, 감압 건조 처리가 종료된 기판(G)을 반출한다. 계속해서, 반송 에어리어(TE) 내를 이동하여, 기판(G)을 반입 유닛(IN-PASS)(38)으로 반입한다. 이 직후에, 제2 왕로 평류 반송부(48)에서 롤러 반송이 개시되고, 기판(G)은 평류로 프로세스 라인(A)의 하류측으로 반송되어, 열적 처리부(40, 42)를 통과한다.

열적 처리부(40, 42)에 있어서, 기판(G)은 최초에 프리베이크 유닛(PRE-BAKE)(40)에서 레지스트 도포 후의 열처리 또는 노광 전의 열처리로서 프리베이킹을 받는다. 이 프리베이킹에 의해, 기판(G) 상의 레지스트막 중에 잔류되어 있던 용제가 증발하여 제거되고, 기판에 대한 레지스트막의 밀착성이 강화된다. 다음에, 기판(G)은 냉각 유닛(COL)(42)에서 소정의 온도까지 냉각된다. 그 후, 기판(G)은 제2 왕로 평류 반송부(48)의 종점의 반출 유닛(OUT-PASS)(44)으로부터 인터페이스 스테이션(I/F)(18)의 반송 장치(62)에 인수된다.

인터페이스 스테이션(I/F)(18)에 있어서, 기판(G)은 로터리 스테이지(64)에서, 예를 들어 90도의 방향 변환을 받은 후 주변 장치(50)의 주변 노광 장치(EE)로 반입되고, 그곳에서 기판(G)의 주변부에 부착되는 레지스트를 현상 시에 제거하기 위한 노광을 받은 후에, 옆의 노광 장치(12)로 보내진다.

노광 장치(12)에서는 기판(G) 상의 레지스트에 소정의 회로 패턴이 노광된다. 그리고, 패턴 노광을 종료한 기판(G)은 노광 장치(12)로부터 인터페이스 스테이션(I/F)(18)으로 복귀되면, 우선 주변 장치(50)의 타이틀러(TITLER)로 반입되어, 그곳에서 기판(G) 상의 소정의 부위에 소정의 정보가 기록된다. 그 후, 기판(G)은 반송 장치(62)에 의해 주변 장치(50)의 아래층의 반입 유닛(도시하지 않음)으로 반입된다.

이와 같이 하여, 기판(G)은, 이번에는 귀로의 프로세스 라인(B)에 부설되어 있는 귀로 평류 반송부(60)의 롤러 반송로에 실려 카세트 스테이션(C/S)(14)을 향해 이동한다.

최초의 현상 유닛(DEV)(52)에 있어서, 기판(G)은 평류로 반송되는 동안에 현상, 린스, 건조의 일련의 현상 처리가 실시된다.

현상 유닛(DEV)(52)에서 일련의 현상 처리를 종료한 기판(G)은 그대로 귀로 평류 반송부(60)의 롤러 반송로에 실린채로 열적 처리부(54, 56) 및 검사 유닛(AP)(57)을 순차적으로 통과한다.

열적 처리부(54, 56)에 있어서, 기판(G)은 최초에 포스트 베이크 유닛(POST-BAKE)(54)에서 현상 처리 후의 열처리로서 포스트 베이킹을 받는다. 이 포스트 베이킹에 의해, 기판(G) 상의 레지스트막에 잔류되어 있던 현상액이나 세정액이 증발하여 제거되고, 기판(G)에 대한 레지스트 패턴의 밀착성이 강화된다. 다음에, 기판(G)은 냉각 유닛(COL)(56)에서 소정의 온도로 냉각된다. 검사 유닛(AP)(57)에서는 기판(G) 상의 레지스트 패턴에 대해 비접촉의 선 폭 검사나 막질ㆍ막 두께 검사 등이 행해진다.

반출 유닛(OUT-PASS)(58)은 귀로 평류 반송부(60)로부터 전체 공정의 처리를 종료하고 온 기판(G)을 수취하여, 카세트 스테이션(C/S)(14)의 반송 기구(22)에 전달한다. 카세트 스테이션(C/S)(14)측에서는 반송 기구(22)가, 반출 유닛(OUT-PASS)(58)으로부터 수취한 처리가 종료된 기판(G)을 어느 하나(통상은 원래)의 카세트(C)에 수용한다.

상기한 바와 같이, 이 도포 현상 처리 시스템(10)은 왕로의 프로세스 라인(A)에 있어서 레지스트 도포 유닛(CT)(36)의 앞에서 종단하는 제1 왕로 평류 반송부(46)와, 프리베이크 유닛(PRE-BAKE)(40)의 앞에서 개시하는 제2 왕로 평류 반송부(48)를 부설하고, 레지스트 도포 유닛(CT)(36)에 인접하는 내부 스페이스(NS)에, 제1 및 제2 감압 건조 유닛(VD)(66L, 66R)을 서로 마주보게 하여 소정의 위치에 각각 설치하는 동시에, 반송 장치(68)를 설치하고 있다. 이 반송 장치(68)는 내부 스페이스(NS)에 설치된 반송 에어리어(TE) 내를 이동하여, 양 감압 건조 유닛(66L, 66R), 제1 왕로 평류 반송부(46)의 반출 유닛(OUT-PASS)(34), 레지스트 도포 유닛(CT)(36) 및 제2 왕로 평류 반송부(48)의 반입 유닛(IN-PASS)(38)에 액세스 가능하여, 그들 유닛과 기판(G)의 전달을 행할 수 있도록 되어 있다.

이러한 구성에 의해, 이 도포 현상 처리 시스템(10)에 있어서는, 제1 및 제2 감압 건조 유닛(VD)(68L, 68R)의 점유 스페이스는 내부 스페이스(NS) 중에 흡수되어, 양 프로세스 라인(A, B)에는 포함되지 않으므로, 시스템 폭 사이즈(Y 방향 사이즈)의 증가를 수반하지 않고, 시스템 전체 길이 사이즈(X 방향 사이즈)의 대폭적인 단축화를 실현할 수 있다.

또한, 이 도포 현상 처리 시스템(10)에 있어서, 제1 및 제2 감압 건조 유닛(66L, 66R)은 동일한 구성ㆍ기능을 갖고 있고, 기판(G)에 대한 감압 건조의 처리 내용 및 처리 시간이 실질적으로 동일하다. 그리고, 제1 왕로 평류 반송부(46)를 통해 차례로 이송되어 오는 기판(G)에 대해, 레지스트 도포 유닛(CT)(36)에서 레지스트 도포 처리를 받은 직후에, 제1 및 제2 감압 건조 유닛(66L, 66R)이 교대로 반 복해서 충당된다.

예를 들어, 홀수번째의 각 기판(G)은 레지스트 도포 유닛(CT)(36)에서 레지스트 도포 처리를 받은 후에 제1 감압 건조 유닛(66L)으로 이송되고, 그곳에서 감압 건조 처리를 받은 후, 제2 왕로 평류 반송부(48)의 반입 유닛(IN-PASS)(38)으로 보내진다. 한편, 짝수번째의 각 기판(G)은 레지스트 도포 유닛(CT)(36)에서 레지스트 도포 처리를 받은 후에 제2 감압 건조 유닛(66R)으로 이송되고, 그곳에서 감압 건조 처리를 받은 후, 제2 왕로 평류 반송부(48)의 반입 유닛(IN-PASS)(38)으로 보내진다.

따라서, 제1 및 제2 감압 건조 유닛(66L, 66R)의 1대분의 택트 타임이 t라고 하면, t/2의 시간차를 두고 2대가 병렬 가동함으로써, 2대 전체에서 택트 타임을 t/2로 할 수 있다. 이와 같이, 1회의 처리 시간이 긴 감압 건조 유닛이 그 택트 타임을 반감함으로써, 시스템 전체의 택트 타임을 율속하고 있던 주요인이 없어진다. 이에 의해, 노광 장치(12)의 처리 속도가 고속화되거나, 혹은 포토리소그래피에 하프톤 노광 프로세스가 사용되어도, 이 도포 현상 처리 시스템은 충분한 여유를 갖고 대응할 수 있다.

또한, 이 도포 현상 처리 시스템에 있어서는, 레지스트 도포 유닛(CT)(36)의 기판 반출구에 대해 제1 및 제2 감압 건조 유닛(66L, 66R)이 등거리에 배치되어 있으므로, 레지스트 도포 처리를 종료한 시점으로부터 감압 건조 처리를 개시할 때까지의 지연 시간이 홀수번째의 기판(G)과 짝수번째의 기판(G)에서 다르지 않은 것도 중요하다. 즉, 레지스트 도포막으로부터의 용제의 증발은 도포 직후로부터 개시하 여, 증발 개시 직후의 건조 상태에 편차가 있으면, 그 후의 감압 건조 처리나 프리베이킹에 의해서도 보상할 수 없는 경우가 있다. 이 도포 현상 처리 시스템에서는 제1 및 제2 감압 건조 유닛(66L, 66R)을 병렬 가동시켜도 모든 기판(G)이 동등하게 일정한 지연 시간을 사이에 두고 레지스트 도포 처리 후에 감압 건조 처리를 받으므로, 레지스트 도포막의 막질(안정성ㆍ재현성)을 향상시킬 수 있다.

(제2 실시 형태)

도 3에 본 발명의 제2 실시 형태에 있어서의 도포 현상 처리 시스템(100)의 레이아웃 구성을 도시한다. 도면 중, 상술한 제1 실시 형태에 있어서의 도포 현상 처리 시스템(10) 내의 구성 요소와 실질적으로 동일한 구성 또는 기능을 갖는 부분에는 동일한 부호를 부여하여, 그 설명을 생략한다. 또한, 도 4 내지 도 6에 이 도포 현상 처리 시스템(100)에 있어서의 주요부의 상세한 레이아웃 또는 구성을 도시한다.

이 제2 실시 형태의 시스템(100)에 있어서, 상기 제1 실시 형태의 시스템(10)과 상이한 주된 부분은, 내부 스페이스(NS)에 배치되는 제1 및 제2 감압 건조 유닛(102L, 102R)이 기판을 스테이지 상에서 고정하는 방식이 아니라, 평류 방식의 감압 건조 장치로서 구성되어 있는 점이다.

내부 스페이스(NS)에는 제1 및 제2 감압 건조 유닛(102L, 102R)에 기판(G)을 평류로 반입출하기 위해 그들 유닛(102L, 102R)의 밖과 안에서 연속되는 제1 및 제2 내부 평류 반송부(104L, 104R)가 설치되어 있다. 그리고, 반송 장치(68)는 제1 및 제2 감압 건조 유닛(102L, 102R)에 대해 각각 제1 및 제2 내부 평류 반송 부(104L, 104R)를 통해 기판(G)을 반입출하도록 되어 있다.

도 4에 도시한 바와 같이, 제1 내부 평류 반송부(104L)는 반송 에어리어(TE)에 인접하는 반입 유닛(IN-PASS)(105) 내에 설치되는 내부 기판 반입로(106)와, 제1 감압 건조 유닛(102L) 내에 설치되어, 내부 기판 반입로(106)와 접속되어 있는 유닛 내 반송로(108)와, 제1 감압 건조 유닛(102L)으로부터 볼 때 반입 유닛(IN-PASS)(105)과는 반대측에 위치하는 엘리베이터실(EV)(110)에서 유닛 내 반송로(108)와 접속 가능하고, 제1 감압 건조 유닛(102L) 상을 통과하여 반송 에어리어(TE)에 인접하는 반출 유닛(OUT-PASS)(112)까지 연장되는 내부 기판 반출로(114)를 갖고 있다.

내부 기판 반입로(106), 유닛 내 반송로(108) 및 내부 기판 반출로(114)는 막대 형상 또는 작은 바퀴 형상(top-like)의 롤러(116)를 반송 방향(X 방향)으로 일정 간격으로 배열하여 롤러 반송로를 형성하고, 모터 및 전동 기구 등을 갖는 롤러 구동부(도시하지 않음)에 의해 각 롤러(116)를 회전 구동하여, 롤러 반송로 상에서 기판(G)을 반송하도록 구성되어 있다. 여기서, 각 구간(106, 108, 114)마다 독립된 롤러 구동부(도시하지 않음)가 구비되어도 좋다.

내부 기판 반출로(114)의 롤러 반송로는 엘리베이터실(EV)(110) 내의 롤러 반송로(114a)와, 제1 감압 건조 유닛(102L)의 상층의 중간 반송실(118) 내의 롤러 반송로(114b)와, 반출 유닛(OUT-PASS)(112) 내의 롤러 반송로(114c)의 3구간으로 분할되어 있고, 각 구간마다 독립된 롤러 구동부(도시하지 않음)가 구비되어도 좋다.

엘리베이터실(EV)(110) 내의 롤러 반송로(114a)는 승강 이동 가능한 롤러 지지부(120)에 설치되어 있고, 예를 들어 에어 실린더로 이루어지는 승강 구동부(122)의 승강 구동에 의해, 1층의 유닛 내 반송로(롤러 반송로)(108)와 접속 가능한 제1 높이 위치(H₁)와, 2층의 중간 반송실(118) 내의 롤러 반송로(114b)와 접속 가능한 제2 높이 위치(H₂) 사이에서 승강 이동할 수 있도록 되어 있다.

제1 감압 건조 유닛(102L)으로 기판(G)을 반입할 때에는, 우선 내부 스페이스(NS)의 반송 에어리어(TE)로부터 반송 장치(68)가 반입 유닛(IN-PASS)(105) 내로 기판(G)을 반입한다. 직후에, 내부 기판 반입로(106) 및 유닛 내 반송로(108) 상에서 롤러 반송 동작이 개시되고, 기판(G)은 반입 유닛(IN―PASS)(105)으로부터 제1 감압 건조 유닛(102L)으로 반입된다.

또한, 제1 감압 건조 유닛(102L)으로부터 기판(G)을 반출할 때에는, 우선 롤러 반송로(108, 114a) 상에서 롤러 반송 동작이 행해져, 기판(G)은 제1 감압 건조 유닛(102L)으로부터 엘리베이터실(EV))(110)의 1층으로 반출된다. 계속해서, 엘리베이터실(EV)(110) 내에서 롤러 반송로(114a)가 상승하여, 기판(G)은 2층으로 옮겨진다. 다음에, 롤러 반송로(114a, 114b, 114c) 상에서 롤러 반송 동작이 행해져, 기판(G)은 엘리베이터실(EV)(110)로부터 중간 반송실(118)을 통해 반출 유닛(OUT-PASS)(112)으로 옮겨진다. 그 후, 내부 스페이스(NS)의 반송 에어리어(TE)로부터 반송 장치(68)가 기판(G)을 수취하기 위해 와서, 반출 유닛(OUT-PASS)(112)으로부터 반출한다.

도 4에 있어서, 감압 건조 유닛(VD)(102L)은 편평한 직육면체 형상을 갖는 일체형의 감압 가능한 챔버(124)를 갖고 있다. 기판 반송 방향(X 방향)에 있어서 챔버(124)의 마주 보는 한 쌍의 측벽에는 셔터 또는 게이트 밸브가 부착된 개폐 가능한 기판 반입구(126) 및 기판 반출구(128)가 각각 형성되어 있다. 챔버(124) 내에는 상기 유닛 내 반송로(롤러 반송로)(108)가 설치되어 있다.

이 감압 건조 유닛(VD)(102L)에는 챔버(124) 내에서 기판(G)을 반입 또는 반출하기 위한 높이 위치[롤러(116) 상의 위치]와, 감압 건조 처리를 위한 높이 위치[롤러(116)로부터 상방으로 뜬 위치] 사이에서 오르내리기 위한 리프트 핀 기구(도시하지 않음)가 구비되어 있다.

챔버(124)의 저벽에는 1개 또는 복수의 배기구(130)가 형성되어 있다. 이들 배기구(130)는 배기관(132)을 통해 진공 펌프(134)의 입구측에 접속되어 있다. 배기관(132)의 도중에는 개폐 밸브(136)가 설치된다.

도 5 및 도 6에 반입 유닛(IN-PASS)(105)의 내부의 일 구성예를 도시한다.

반입 유닛(IN-PASS)(105) 내에는, 도 5에 도시한 바와 같이 기판(G)보다도 큰 간격을 두고 반송 방향(X 방향)으로 평행하게 연장되는 한 쌍의 수평 프레임(140A, 140B)이 설치되어 있다. 이들 수평 프레임(140A, 140B) 사이에는 적당한 간격을 두고 복수개(도시한 예에서는 4개)의 막대 형상 지지 부재(142)가 평행하게 배열하여 배치되어 있다. 각 막대 형상 지지 부재(142)는 반송 방향(X 방향)과 직교하는 방향(Y 방향)으로 연장되는 복수개(도시한 예에서는 3개)의 빔(144)에 지지되어 있다. 빔(144)의 양단부는, 도 6에 도시한 바와 같이 수평 프레임(140A, 140B)의 하면에 각각 고정되어 있다.

막대 형상 지지 부재(142)의 상면에는 기판(G)을 적재하여 지지하기 위한 볼 형상의 프리 롤러(146)가 일정한 피치로 다수 설치되어 있다.

반입 유닛(IN-PASS)(105)의 입구측에서 볼 때 수평 프레임(140A, 140B)의 후단부(최후방부)에, 가교형의 구동 롤러(148)가 설치되어 있다. 이 구동 롤러(148)는 수평 프레임(140A, 140B) 사이에 가설된 회전 샤프트(148a)에 일정한 간격을 두고 다수의 작은 바퀴 형상 롤러 또는 롤러(148b)를 일체로 고정하고 있고, 풀리(150)를 통해 회전 구동부(152)에 의해 회전 구동되도록 되어 있다.

수평 프레임(140A, 140B)에는 그 길이 방향으로 일정한 간격을 두고 다수의 외팔보형의 구동 롤러(154)가 설치되어 있다. 이들 구동 롤러(154)는 수평 프레임(140A, 140B)의 외측에서 구동 벨트(156)를 통해 회전 구동되도록 되어 있다. 여기서, 구동 벨트(156)는 풀리(150)를 통해 회전 구동부(152)에 접속되어 있다.

구동 롤러(148, 154) 및 프리 롤러(146)는 상술한 내부 기판 반입로(106)를 구성하고 있다.

반출 유닛(OUT-PASS)(112) 내의 구성도, 반송 방향이나 반송 동작이 반대로 되는 점을 제외하고, 상기한 반입 유닛(IN-PASS)(105) 내의 구성과 동일하다.

또한, 제2 감압 건조 유닛(102R) 및 제2 내부 평류 반송부(104R)도, 레지스트 도포 유닛(CT)(36)으로부터 볼 때 좌우 대칭으로 배치 위치가 상이할 뿐이고, 상술한 제1 감압 건조 유닛(102L) 및 제1 내부 평류 반송부(104L)와 각각 동일한 구성을 갖고, 동일한 작용을 발휘한다.

본 제2 실시 형태의 도포 현상 처리 시스템(100)에 있어서도, 상기 제1 실시 형태의 도포 현상 처리 시스템(10)과 마찬가지로, 시스템 전체 길이 사이즈 및 택트 타임의 대폭적인 단축화를 실현할 수 있다.

(비교예)

또한, 참고예(비교예)로서, 도 7에 도시한 바와 같이 프로세스 라인(A)에 있어서, 제2 왕로 평류 반송부(48)의 도중에, 즉 반입 유닛(IN-PASS)(38)과 프리베이크 유닛(PRE-BAKE)(40) 사이에 제1 평류식 감압 건조 유닛(102L)을 배치하고, 내부 스페이스(NS)에 제2 평류식 감압 건조 유닛(102R)을 배치하는 레이아웃도 고려된다.

이 경우, 프로세스 라인(A) 상에서, 제2 왕로 평류 반송부(48)의 반입 유닛(IN-PASS)(38)과 제1 평류식 감압 건조 유닛(102L) 사이 및 제1 평류식 감압 건조 유닛(102L)과 프리베이크 유닛(PRE-BAKE)(40) 사이에 제1 및 제2 크로스 컨베이어(CR-PASS)(160, 162)가 각각 배치된다. 또한, 제2 평류식 감압 건조 유닛(102R)을 사이에 두고, 제1 및 제2 크로스 컨베이어(CR-PASS)(160, 162)에 인접하여, 내부 스페이스(NS)에 제3 및 제4 크로스 컨베이어(CR-PASS)(164, 166)가 각각 배치된다.

여기서, 각각의 크로스 컨베이어(CR-PASS)(160 내지 166)는 서로 직교하는 평류 반송로 및 반송 구동부를 갖고 있고, 평류의 X 방향 컨베이어 동작과 평류의 Y 방향 컨베이어 동작이 선택적으로 절환되도록 되어 있다.

예를 들어, 제1 크로스 컨베이어(CR-PASS)(160)는 반입 유닛(IN-PASS)(38)으 로부터 평류로 수취하는 기판(G) 중, 홀수번째의 기판(G)은 그대로 똑바로 제1 평류식 감압 건조 유닛(102L)으로 반입하고, 짝수번째의 기판(G)은 제3 크로스 컨베이어(CR-PASS)(164)로 전송한다.

제3 크로스 컨베이어(CR-PASS)(164)는 제1 크로스 컨베이어(CR-PASS)(160)로부터 수취한 짝수번째의 기판(G)을 제2 평류식 감압 건조 유닛(102R)으로 반입한다.

제4 크로스 컨베이어(CR-PASS)(166)는 제2 평류식 감압 건조 유닛(102R)에서 감압 건조 처리를 종료한 짝수번째의 기판(G)을 반출하여, 제2 크로스 컨베이어(CR-PASS)(162)로 전송한다.

제2 크로스 컨베이어(CR-PASS)(162)는 제1 평류식 감압 건조 유닛(102L)으로부터 감압 건조 처리를 종료한 홀수번째의 기판(G)을 반출하여, 이것을 후단의 프리베이크 유닛(PRE-BAKE)(40)으로 보낸다. 또한, 제4 크로스 컨베이어(CR-PASS)(166)로부터 감압 건조 처리가 종료된 짝수번째의 기판(G)을 수취하여, 이것을 후단의 프리베이크 유닛(PRE-BAKE)(40)으로 보낸다.

도 7의 레이아웃은 제1 및 제2 평류식 감압 건조 유닛(102L, 102R)을 병렬 가동시킴으로써 택트 타임의 단축화를 실현할 수 있지만, 프로세스 라인(A)에 2대의 크로스 컨베이어(CR-PASS)(160, 162)와 1대의 감압 건조 유닛(102L)이 일렬로 삽입되므로, 그들 3대의 유닛(160, 102L, 162)을 합한 X 방향 사이즈(L)가 그대로 프로세스 라인(A)의 전체 길이, 나아가서는 시스템의 전체 길이를 증대시켜, 시스템 전체 길이 사이즈의 단축화를 실현할 수는 없다. 또한, 레지스트 도포 유 닛(CT)(36)에서 레지스트 도포 처리가 종료된 기판(G)을 제1 평류식 감압 건조 유닛(102L)으로 보내는 경우와 제2 평류식 감압 건조 유닛(102R)으로 보내는 경우에서 반송 지연 시간이 상이하다고 하는 불리점도 있다.

(제3 실시 형태)

도 8에 본 발명의 제3 실시 형태에 있어서의 도포 현상 처리 시스템(170)의 레이아웃 구성을 도시한다. 도면 중, 상술한 제1 실시 형태에 있어서의 도포 현상 처리 시스템(10) 내의 구성 요소와 실질적으로 동일한 구성 또는 기능을 갖는 부분에는 동일한 번호를 부여하고 있고, 그 설명을 생략한다. 또한, 도 9에 이 도포 현상 처리 시스템(170)에 있어서의 레지스트 도포 유닛(CT)(172)의 구성을 도시한다.

본 제3 실시 형태의 시스템(170)에 있어서, 상기 제1 실시 형태의 시스템(10)과 상이한 주된 부분은 레지스트 도포 유닛(CT)(172)이 기판을 스테이지 상에 고정하는 방식이 아니라, 평류 방식의 레지스트 도포 장치로서 구성되어 있고, 왕로의 프로세스 라인(A)에 있어서 이 레지스트 도포 유닛(CT)(172)이 제1 왕로 평류 반송부(46)를 따라서 반출 유닛(OUT-PASS)(34)보다도 상류의 위치에 배치되어 있는 점이다.

도 9에 도시한 바와 같이, 레지스트 도포 유닛(CT)(172)은 제1 왕로 평류 반송부(46)의 일부 또는 일구간을 구성하는 도포용 부상 스테이지(174)와, 이 도포용 부상 스테이지(174) 상에서 공중에 떠 있는 기판(G)을 부상 스테이지 길이 방향(X 방향)으로 반송하는 기판 반송 기구(176)와, 부상 스테이지(174) 상을 반송되는 기 판(G)의 상면에 레지스트액을 공급하는 레지스트 노즐(178)과, 도포 처리 사이에 레지스트 노즐(178)을 리후레쉬하는 노즐 리후레쉬부(180)를 갖고 있다.

부상 스테이지(174)의 상면에는 소정의 가스(예를 들어, 에어)를 상방으로 분사하는 다수의 가스 분사 구멍(182)이 형성되어 있고, 그들 가스 분사 구멍(182)으로부터 분사되는 가스의 압력에 의해 기판(G)이 스테이지 상면으로부터 일정한 높이로 부상하도록 구성되어 있다.

기판 반송 기구(176)는 부상 스테이지(174)를 사이에 두고 X 방향으로 연장되는 한 쌍의 가이드 레일(184A, 184B)과, 이들 가이드 레일(184A, 184B)을 따라서 왕복 이동 가능한 슬라이더(186)와, 부상 스테이지(174) 상에서 기판(G)의 양 측단부를 착탈 가능하게 유지하도록 슬라이더(186)에 설치된 흡착 패드 등의 기판 유지 부재(도시하지 않음)를 구비하고 있고, 직진 이동 기구(도시하지 않음)에 의해 슬라이더(186)를 반송 방향(X 방향)으로 이동시킴으로써, 부상 스테이지(174) 상에서 기판(G)의 부상 반송을 행하도록 구성되어 있다.

레지스트 노즐(178)은 부상 스테이지(174)의 상방을 반송 방향(X 방향)과 직교하는 수평 방향(Y 방향)으로 횡단하여 연장되는 장척형 노즐로, 소정의 도포 위치에서 그 바로 아래를 통과하는 기판(G)의 상면에 대해 슬릿 형상의 토출구로부터 레지스트액을 띠 형상으로 토출하도록 되어 있다. 또한, 레지스트 노즐(178)은 이 노즐을 지지하는 노즐 지지 부재(188)와 일체로 X 방향으로 이동 가능하고, 또한 Z 방향으로 승강 가능하게 구성되어 있고, 상기 도포 위치와 노즐 리후레쉬부(180) 사이에서 이동할 수 있도록 되어 있다.

노즐 리후레쉬부(180)는 부상 스테이지(174)의 상방의 소정 위치에서 지주 부재(190)에 유지되어 있고, 도포 처리를 위한 사전 준비로서 레지스트 노즐(178)에 레지스트액을 토출시키기 위한 프라이밍 처리부(192)와, 레지스트 노즐(178)의 레지스트 토출구를 건조 방지의 목적으로부터 용제 증기의 분위기 중에 유지하기 위한 노즐 버스(194)와, 레지스트 노즐(178)의 레지스트 토출구 근방에 부착된 레지스트를 제거하기 위한 노즐 세정 기구(196)를 구비하고 있다.

여기서, 레지스트 도포 유닛(CT)(172)에 있어서의 주된 작용을 설명한다. 우선, 전단의 냉각 유닛(COL)(32)으로부터 기판(G)이 소터(sorter) 기구(도시하지 않음)를 통해 부상 스테이지(174)의 전단부측에 설정된 반입 에어리어로 반입되고, 그곳에서 대기하고 있던 슬라이더(186)가 기판(G)을 유지하여 수취한다. 부상 스테이지(174) 상에서 기판(G)은 가스 분사 구멍(182)으로부터 분사되는 가스(에어)의 압력을 받아서 대략 수평한 자세로 부상 상태를 유지한다.

그리고, 슬라이더(186)가 기판(G)을 유지하면서 반송 방향(X 방향)으로 이동하여, 기판(G)이 레지스트 노즐(178)의 아래를 통과할 때에, 레지스트 노즐(178)이 기판(G)의 상면을 향해 액상의 레지스트액을 띠 형상으로 토출함으로써, 기판(G) 상에 기판 전단부로부터 후단부를 향해 융단이 깔린 것과 같이 하여 레지스트액의 도포막이 일면에 형성된다. 이와 같이 하여 레지스트가 도포된 기판(G)은, 그 후에도 슬라이더(186)에 의해 부상 스테이지(174) 상에서 부상 반송되어, 부상 스테이지(174)의 후단부에 설정된 반출 에어리어로부터 소터 기구(도시하지 않음)를 통해 반출 유닛(OUT-PASS)(34)으로 보내진다.

또한, 반입측의 소터 기구(도시하지 않음)는 제1 왕로 평류 반송부(46)의 반송 방향(X 방향)에 부설된 롤러 반송로와, 이 롤러 반송로 상의 기판에 대해 기판 이면의 모서리부에 진공 흡착 가능/이탈 가능한 복수의 흡착 패드와, 그들 흡착 패드를 반송 방향과 평행하게 쌍방향으로 이동시키는 기판 이송 기구를 갖고 있다. 상류측의 냉각 유닛(COL)(32)에서 일정 온도로 냉각된 기판을 평류로 상기 롤러 반송로 상에 수취하면, 흡착 패드가 상승하여 상기 기판의 이면 모서리부에 흡착하고, 기판을 흡착 유지하는 흡착 패드를 통해 기판 이송 기구가 기판을 스테이지(178)의 반입 에어리어까지 이송하도록 되어 있다. 그리고, 반입 에어리어로 기판을 반입한 후, 흡착 패드가 기판으로부터 분리되고, 계속해서 기판 이송 기구와 흡착 패드가 원위치로 복귀되도록 되어 있다.

반출측의 소터 기구(도시하지 않음)도 동작이 반대(대칭)로 되는 점을 제외하고, 반입측의 소터 기구와 동일한 구성ㆍ기능을 갖고 있다.

본 제3 실시 형태의 도포 현상 처리 시스템(170)에 있어서도, 제1 및 제2 감압 건조 유닛(VD)(66L, 66R)을 내부 스페이스(NS)에 배치하고 있으므로, 시스템 폭 사이즈(Y 방향 사이즈)의 증가를 수반하지 않고, 시스템 전체 길이 사이즈(X 방향 사이즈) 및 택트 타임의 대폭적인 단축화를 실현할 수 있다. 당연히, 프로세스 라인(A) 상에서 평류 방식의 레지스트 도포 유닛(CT)(172)은 스테이지 방식의 레지스트 도포 유닛(CT)(36)보다도 유닛 사이즈(X 방향 사이즈)가 길고, 그만큼 시스템 전체 길이 사이즈(X 방향 사이즈)도 다소 길어진다. 그러나, 한편, 내부 스페이스(NS)의 반송 장치(68)는 양 감압 건조 유닛(66L, 66R), 제1 왕로 평류 반송 부(46)의 반출 유닛(OUT-PASS)(34) 및 제2 왕로 평류 반송부(48)의 반입 유닛(IN-PASS)(38)에만 액세스하면 되고, 레지스트 도포 유닛(CT)(172)에 액세스할 필요는 없다. 즉, 반송 장치(68)의 반송 스케줄상의 부담이 줄어든다고 하는 이점이 있다.

또한, 도 8의 레이아웃에서는 프로세스 라인(A) 상에서 제1 왕로 평류 반송부(46)의 반출 유닛(OUT-PASS)(34)과 제2 왕로 평류 반송부(48)의 반입 유닛(IN-PASS)(38)을 횡방향(X 방향)으로 배열하여 배치하고 있다.

그러나, 일 변형예로서, 도 10에 도시한 바와 같이 상기 반출 유닛(OUT-PASS)(34)과 상기 반입 유닛(IN-PASS)(38)을 2층으로 상하로 포개어 배치하는 구성도 가능하다. 이 경우, 제1 왕로 평류 반송부(46)의 반출 유닛(OUT-PASS)(34)은 레지스트 도포 유닛(CT)(172)과 동일한 층, 예를 들어 1층에서 배열되고, 제2 왕로 평류 반송부(48)의 반입 유닛(IN-PASS)(38)은 프리베이크 유닛(PRE-BAKE)(40)과 동일한 층, 예를 들어 2층에서 배열되는 구성이 된다.

도 10의 레이아웃에 있어서는, 제1 왕로 평류 반송부(46)의 반출 유닛(OUT-PASS)(34)과 제2 왕로 평류 반송부(48)의 상기 반입 유닛(IN-PASS)(38)이, 이차원적으로는 1개소에 집약 배치되므로, 그곳에 내부 스페이스(NS) 내의 반송 장치(68) 및 제1 및 제2 감압 건조 유닛(VD)(66L, 66R)도 집약 또는 내지 배치하는 것이 가능해, 반송 장치(68)의 이동 범위를 축소화하고, 이동 방향(운동 축)을 간소화할 수 있다.

(제4 실시 형태)

도 11에 본 발명의 제4 실시 형태에 있어서의 도포 현상 처리 시스템(200)의 레이아웃 구성의 주요부를 도시한다. 도면 중, 상술한 제2 실시 형태에 있어서의 도포 현상 처리 시스템(100) 내의 구성 요소와 실질적으로 동일한 구성 또는 기능을 갖는 부분에는 동일한 번호를 부여하고 있고, 그 설명을 생략한다.

본 실시 형태에서도 상기 제2 실시 형태와 마찬가지로, 내부 스페이스(NS)에 있어서, 반송 장치(68)는 제1 및 제2 감압 건조 유닛(102L, 102R)에 대해 각각 제1 및 제2 내부 평류 반송부(202L, 202R)를 통해 기판(G)을 반입출하도록 되어 있다.

여기서, 반송 에어리어(TE)와 제1 및 제2 감압 건조 유닛(102L, 102R) 사이에 승강 가능한 일체형의 제1 및 제2 반입/반출 유닛(IN/OUT-PASS)(204L, 204R)이 각각 설치되어 있다.

도 12 내지 도 14에 도시한 바와 같이, 제1 내부 평류 반송부(202L)는 제1 반입/반출 유닛(IN/OUT-PASS)(204L) 내의 하단 및 상단에 각각 설치된 내부 기판 반입로(206) 및 내부 기판 반출로(208)와, 제1 감압 건조 유닛(102L) 내에 설치되어, 내부 기판 반입로(206) 및 내부 기판 반출로(208) 모두에 선택적으로 접속 가능한 유닛 내 반송로(108)를 갖고 있다. 내부 기판 반입로(206), 내부 기판 반출로(208) 및 유닛 내 반송로(108)는, 예를 들어 롤러 반송로로 이루어지고, 각각 독립된 롤러 구동부에 의해 구동되어도 좋다.

내부 기판 반입로(206) 및 내부 기판 반출로(208)는 제1 반입/반출 유닛(IN/OUT-PASS)(204) 내에 수용된 상태에서, 예를 들어 에어 실린더 등으로 이루어지는 승강 구동부(210)의 승강 구동에 의해 승강 이동하도록 되어 있다.

제1 감압 건조 유닛(102L)으로 기판(G)을 반입할 때에는, 도 14에 도시한 바와 같이 내부 기판 반입로(206)의 높이 위치를 유닛 내 반송로(108)에 맞추어, 내부 기판 반입로(206) 및 유닛 내 반송로(108) 상에서 기판(G)을 시스템 길이 방향(X 방향)의 제1 방향(도면의 우측으로부터 좌측)으로 반송한다.

제1 감압 건조 유닛(102L)으로부터 기판(G)을 반출할 때에는, 도 13에 도시한 바와 같이 내부 기판 반출로(208)의 높이 위치를 유닛 내 반송로(108)에 맞추어, 유닛 내 반송로(108) 및 내부 기판 반출로(208) 상에서 기판(G)을 시스템 길이 방향(X 방향)의 제2 방향(도면의 좌측으로부터 우측)으로 반송한다.

이 도포 현상 처리 시스템(200)에 있어서는, 도 12에 도시한 바와 같이 제1 감압 건조 유닛(102L) 내에서 기판(G_i)이 감압 건조 처리를 받고 있는 중에, 반송 장치(68)가 제1 반입/반출 유닛(IN/OUT-PASS)(204L)에 액세스하여 내부 기판 반입로(206)로 다음의 기판(G_i+1)을 반송 아암(68a)에 의해 반입할 수 있다.

그리고, 도 13에 도시한 바와 같이 내부 기판 반입로(206)에 다음의 기판(G_i+1)을 대기시킨 상태에서, 제1 감압 건조 유닛(102L) 내에서 감압 건조 처리가 종료된 기판(G_i)을 롤러 반송으로 내부 기판 반출로(208)로 반출할 수 있다.

혹은, 다른 시퀸스로서, 감압 건조 처리가 종료된 기판(G_i)을 제1 감압 건조 유닛(102L)으로부터 내부 기판 반출로(208)로 반출하는 것과 동시에, 제1 감압 건조 유닛(102L)에서 다음에 감압 건조 처리를 받아야 할 기판(G_i+1)을 내부 기판 반 입로(206)로 반입하는 것도 가능하다.

또는, 도 14에 도시한 바와 같이, 기판(G_i+1)을 내부 기판 반입로(206)로부터 제1 감압 건조 유닛(102L)으로 롤러 반송으로 반입하는 것과 동시에, 반송 장치(68)가 처리 완료된 기판(G_i)을 반송 아암(68a)을 사용하여 내부 기판 반출로(208)로부터 반출할 수 있다.

반입/반출 유닛(IN/OUT-PASS)(204L)에 있어서의 내부 기판 반입로(206) 및 내부 기판 반출로(208)의 구성은 도 5 및 도 6에 도시한 것과 동일해도 좋다.

제2 반입/반출 유닛(IN/OUT-PASS)(204R) 및 제2 내부 평류 반송부(202R)도 상술한 제1 반입/반출 유닛(IN/OUT-PASS)(204L) 및 제1 내부 평류 반송부(202)와 동일한 구성ㆍ기능을 갖고 있다.

본 제4 실시 형태에 있어서는, 제1 및 제2 감압 건조 유닛(102L, 102R)에 있어서 기판 반입구(126)에 기판 반출구(128)를 겸용시켜 반송 에어리어(TE)측으로부터 기판(G)의 출입을 행할 수 있으므로, 내부 평류 반송부(202L, 202R)를 콤팩트하게 할 수 있다.

이상 본 발명의 적합한 실시 형태에 대해 설명하였지만, 본 발명은 상기 실시 형태로 한정되는 것이 아니라, 그 기술적 사상의 범위 내에서 다양한 변형이 가능하다.

예를 들어, 상기 실시 형태에서는 왕로의 프로세스 라인(A)이 제1 및 제2 왕로 평류 반송부(46, 48)를 포함하는 시스템에 있어서, 내부 스페이스(NS)에 그들 평류 반송부(46, 48)를 프로세스 플로우로 접속하는 제3 군의 처리 유닛을 배치하였다. 그러나, 귀로의 프로세스 라인(B)이 제1 및 제2 귀로 평류 반송부를 포함하는 경우에는 내부 스페이스(NS)에 그들 2개의 귀로 평류 반송부를 프로세스 플로우로 접속하는 제3 군(혹은 제4 군)의 처리 유닛을 배치하는 것도 가능하다.

상기 실시 형태에서는 내부 스페이스(NS)에 배치되는 처리 유닛이 감압 건조 유닛이었지만, 프로세스 라인의 배치 구성에 따라서 다른 처리 유닛을 배치하는 것도 가능하다.

본 발명에 있어서의 피처리 기판은 LCD용 글래스 기판으로 한정되는 것이 아니라, 다른 플랫 패널 디스플레이용 기판이나, 반도체 웨이퍼, CD 기판, 포토마스크, 프린트 기판 등도 가능하다.

도 1은 본 발명의 제1 실시 형태에 있어서의 도포 현상 처리 시스템의 레이아웃 구성을 도시하는 평면도.

도 2는 도 1의 도포 현상 처리 시스템에 있어서 내부 스페이스에 배치되는 감압 건조 유닛 및 반송 장치 및 그 주위의 처리 유닛의 상세한 구성을 도시하는 평면도.

도 3은 제2 실시 형태에 있어서의 도포 현상 처리 시스템의 레이아웃 구성을 도시하는 평면도.

도 4는 도 2의 도포 현상 처리 시스템에 있어서의 주요부의 구성을 도시하는 대략 측면도.

도 5는 도 4의 반입 유닛 내부의 구성을 도시하는 평면도.

도 6은 도 4의 반입 유닛 내부의 구성을 도시하는 정면도.

도 7은 비교예의 시스템의 레이아웃 구성을 도시하는 평면도.

도 8은 제3 실시 형태에 있어서의 도포 현상 처리 시스템의 레이아웃 구성을 도시하는 평면도.

도 9는 도 9의 도포 현상 처리 시스템에 있어서의 레지스트 도포 유닛의 구성을 도시하는 평면도.

도 10은 제3 실시 형태의 하나의 변형예에 의한 도포 현상 처리 시스템의 레이아웃 구성의 주요부를 도시하는 평면도.

도 11은 제4 실시 형태에 있어서의 도포 현상 처리 시스템의 주요부의 레이 아웃 구성을 도시하는 평면도.

도 12는 도 11의 도포 현상 처리 시스템에 있어서의 반입/반출 유닛 및 내부 평류 반송부의 구성 및 동작의 1단계를 도시하는 일부 단면 측면도.

도 13은 도 11의 도포 현상 처리 시스템에 있어서의 반입/반출 유닛 및 내부 평류 반송부의 구성 및 동작의 1단계를 도시하는 일부 단면 측면도.

도 14는 도 11의 도포 현상 처리 시스템에 있어서의 반입/반출 유닛 및 내부 평류 반송부의 구성 및 동작의 1단계를 나타내는 일부 단면 측면도.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>

10 : 도포 현상 처리 시스템

14 : 카세트 스테이션(C/S)

16 : 프로세스 스테이션(P/S)

18 : 인터페이스 스테이션(I/F)

22, 62, 68 : 반송 장치

34 : 반출 유닛(OUT-PASS)

36, 172 : 레지스트 도포 유닛(CT)

38, 105 : 반입 유닛(IN-PASS)

46 : 제1 왕로 평류 반송부

48 : 제2 왕로 평류 반송부

60 : 귀로 평류 반송부

66L : 제1 감압 건조 유닛(VD)

66R : 제1 감압 건조 유닛(VD)

102L : 제1 감압 건조 유닛(VD)

102R : 제1 감압 건조 유닛(VD)

104L : 제1 내부 평류 반송부

104R : 제2 내부 평류 반송부

112 : 반출 유닛(OUT-PASS)

A : 왕로 프로세스 라인

B : 귀로 프로세스 라인

Claims (16)

1. 복수의 처리 유닛을 프로세스 플로우의 순으로 접속하여 피처리 기판에 일련의 처리를 실시하는 인라인형의 처리 시스템이며,

   시스템 길이 방향에 있어서 제1 방향으로, 제1 군의 처리 유닛을 서로 이웃하게 하거나, 또는 반송계 유닛을 통해 일렬로 배치하여, 기판을 평류로 반송하는 제1 왕로 평류 반송부와 이 제1 왕로 평류 반송부보다도 프로세스 플로우의 하류측에서 기판을 평류로 반송하는 제2 왕로 평류 반송부를 갖고, 상기 제1 군의 처리 유닛 중에서 프로세스 플로우의 도중에 위치하는 제3 처리 유닛을 상기 제1 왕로 평류 반송부의 종단부와 제2 왕로 평류 반송부의 시단부 사이에 끼워 넣어서 배치하는 제1 프로세스 라인과,

   시스템 길이 방향에 있어서 상기 제1 방향과는 반대의 제2 방향으로, 상기 제1 프로세스 라인보다도 프로세스 플로우의 하류측에 위치하는 제2 군의 처리 유닛을 서로 이웃하게 하거나, 또는 반송계 유닛을 통해 일렬로 배치하여, 상기 제1 프로세스 라인과 시스템 폭 방향에서 소정 사이즈의 내부 스페이스를 형성하여 평행하게 연장되는 제2 프로세스 라인과,

   상기 내부 스페이스에 배치되는 제3 군의 처리 유닛과,

   상기 내부 스페이스에 배치되어, 상기 제1 왕로 평류 반송부의 종단부측의 기판 전달부로부터 각 기판을 반출하여 상기 제3 처리 유닛으로 반입하고, 상기 제3 처리 유닛에서 처리가 끝난 각 기판을 상기 제3 처리 유닛으로부터 반출해서 상기 제3 군의 처리 유닛의 하나로 반입하고, 상기 제3 군의 처리 유닛의 하나에서 처리가 종료된 각 기판을 당해 처리 유닛으로부터 반출하여 상기 제2 왕로 평류 반송부의 시단부측의 기판 전달부로 반입하는 제1 반송 장치를 갖는, 처리 시스템.
2. 복수의 처리 유닛을 프로세스 플로우의 순으로 접속하여 피처리 기판에 일련의 처리를 실시하는 인라인형의 처리 시스템이며,

   시스템 길이 방향에 있어서 제1 방향으로, 제1 군의 처리 유닛을 서로 이웃하게 하거나, 또는 반송계 유닛을 통해 일렬로 배치하여, 기판을 평류로 반송하는 제1 왕로 평류 반송부와 이 제1 왕로 평류 반송부보다도 프로세스 플로우의 하류측에서 기판을 평류로 반송하는 제2 왕로 평류 반송부를 갖고, 상기 제1 군의 처리 유닛 중에서 프로세스 플로우의 도중에 위치하는 제3 처리 유닛이 상기 제1 왕로 평류 반송부 상에서 기판을 반송하면서 소정의 처리를 하는 평류 방식의 처리 장치로서 구성되어 있는 제1 프로세스 라인과,

   시스템 길이 방향에 있어서 상기 제1 방향과는 반대의 제2 방향으로, 상기 제1 프로세스 라인보다도 프로세스 플로우의 하류측에 위치하는 제2 군의 처리 유닛을 서로 이웃하게 하거나, 또는 반송계 유닛을 통해 일렬로 배치하여, 상기 제1 프로세스 라인과 시스템 폭 방향에서 소정 사이즈의 내부 스페이스를 형성하여 평행하게 연장되는 제2 프로세스 라인과,

   상기 내부 스페이스에 배치되는 제3 군의 처리 유닛과,

   상기 내부 스페이스에 배치되어, 상기 제1 왕로 평류 반송부의 종단부측의 기판 전달부로부터 상기 제3 처리 유닛에서 처리를 막 끝마친 각 기판을 반출하여 상기 제3 군의 처리 유닛의 하나로 반입하고, 상기 제3 군의 처리 유닛의 하나에서 처리가 종료된 각 기판을 당해 처리 유닛으로부터 반출하여 상기 제2 왕로 평류 반송부의 시단부측의 기판 전달부로 반입하는 제1 반송 장치를 갖는, 처리 시스템.
3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 제3 군의 처리 유닛이, 기판에 대한 처리의 내용 및 시간이 동일한 제1 및 제2 처리 유닛을 포함하고, 상기 제1 왕로 평류 반송부를 통해 차례로 이송되어 오는 기판에 대해 상기 제1 및 제2 처리 유닛을 교대로 반복하여 충당하는, 처리 시스템.
4. 제3항에 있어서, 상기 제1 반송 장치가, 상기 내부 스페이스에 설치된 반송 에어리어 내에서 이동 가능한 반송 로봇을 갖고,

   상기 제1 및 제2 처리 유닛이, 시스템 길이 방향에 있어서 상기 반송 에어리어를 사이에 두고 서로 마주 보고 상기 내부 스페이스에 배치되는, 처리 시스템.
5. 제4항에 있어서, 상기 제1 및 제2 처리 유닛이 상기 반송 에어리어에 인접하여 배치되고,

   상기 반송 로봇이, 상기 제1 및 제2 처리 유닛에 대해 기판을 직접 반입출하는, 처리 시스템.
6. 제3항에 있어서, 상기 제3 처리 유닛이, 상기 기판 상에 레지스트액을 도포하는 레지스트 도포 유닛이고,

   상기 제1 및 제2 처리 유닛이, 각각 기판 상의 레지스트 도포막을 감압 하에서 건조시키는 제1 및 제2 감압 건조 유닛이고,

   상기 레지스트 도포 유닛의 기판 반출구에 대해 상기 제1 및 제2 감압 건조 유닛의 기판 반입구가 등거리에 위치하고 있는, 처리 시스템.
7. 제3항에 있어서, 상기 제1 프로세스 라인에 있어서, 상기 제1 왕로 평류 반송부의 반송로 상에, 상기 기판 상에 레지스트액을 도포하는 레지스트 도포 유닛이 설치되고,

   상기 제1 및 제2 처리 유닛이, 각각 기판 상의 레지스트 도포막을 감압 하에서 건조시키는 제1 및 제2 감압 건조 유닛이고,

   상기 제1 왕로 평류 반송부의 종단부측의 기판 전달부에 대해 상기 제1 및 제2 감압 건조 유닛의 기판 반입구가 등거리에 위치하고 있는, 처리 시스템.
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