KR20100036975A - 처리 시스템 - Google Patents

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KR20100036975A
KR20100036975A KR1020090092089A KR20090092089A KR20100036975A KR 20100036975 A KR20100036975 A KR 20100036975A KR 1020090092089 A KR1020090092089 A KR 1020090092089A KR 20090092089 A KR20090092089 A KR 20090092089A KR 20100036975 A KR20100036975 A KR 20100036975A
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요시하루 오오따
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도쿄엘렉트론가부시키가이샤
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Abstract

본 발명의 과제는 다수의 처리 유닛을 프로세스 플로우의 순서대로 배열하여 배치하는 인라인형에 있어서 평류 반송로 상의 기판 간격 또는 택트 타임의 단축화를 실현하는 것이다.
이 레지스트 도포 현상 처리 시스템(10)에 있어서, 건조/열적 처리부(32)는 평류 반송로(24)를 따라서 상류측으로부터 차례로, 모두 평류 방식의 반송 유닛 또는 처리 유닛으로서 구성되어 있는 2분할형의 반입용 분할 컨베이어(Fa/Fb)(46), 2단 적층형의 병렬 감압 건조 유닛(VD1/VD2)(48), 2분할형의 반출용 분할 컨베이어(Ra/Rb)(50), 프리베이크 유닛(PRE-BAKE)(52) 및 쿨링 유닛(COL)(54)을 일렬로 배치하고 있다.
Figure P1020090092089
레지스트 도포 현상 처리 시스템, 카세트 스테이션, 분할 컨베이어, 레지스트 도포 유닛, 쿨링 유닛

Description

처리 시스템{PROCESSING SYSTEM}
본 발명은 다수의 처리 유닛을 프로세스 플로우의 순서대로 배열하여 배치하는 인라인형의 처리 시스템에 관한 것이다.
종래부터 FPD(플랫 패널 디스플레이) 제조에 있어서의 레지스트 도포 현상 처리 시스템에서는, 피처리 기판의 대형화에 대응하기 위해, 롤러 등의 반송체를 수평 방향으로 부설하여 이루어지는 평류 반송로 상에서 기판을 수평으로 반송하면서 기판의 피처리면에 소정의 액, 가스, 광 등을 부여하여 소요의 처리를 행하는 평류 방식의 처리 유닛을 장비하고, 그와 같은 평류 방식의 처리 유닛을 포함하는 다수의 처리 유닛을 프로세스 플로우의 순으로 대략 수평 방향의 라인을 따라서 시리얼로 배열하는 시스템 구성 또는 레이아웃이 표준화되어 있다(예를 들어, 특허 문헌 1 참조).
특허 문헌 1에도 기재된 바와 같이, 이러한 종류의 레이아웃은 시스템 중심부에 가로로 긴 프로세스 스테이션을 배치하여, 그 길이 방향 양단부에 카세트 스테이션 및 인터페이스 스테이션을 각각 배치한다. 카세트 스테이션에서는, 스테이션 내의 스테이지와 시스템 외부 사이에서 미처리 또는 처리 완료된 기판을 복수매 수용하는 카세트의 반입출이 행해지는 동시에, 스테이지 상의 카세트와 처리 스테이션 사이에서 기판의 반입출이 행해진다. 인터페이스 스테이션에서는 인접하는 노광 장치와 처리 스테이션 사이에서 기판의 전달이 행해진다.
프로세스 스테이션은 카세트 스테이션을 시점ㆍ종점으로 하고, 인터페이스 스테이션을 반환점으로 하는 왕로와 귀로의 2열의 프로세스 라인을 갖는다. 일반적으로, 왕로의 프로세스 라인에는 세정 처리계의 유닛, 레지스트 도포 처리계의 유닛, 열적 처리계의 유닛 등이 이웃하거나, 혹은 반송계의 유닛을 사이에 두고 일렬로 배치된다. 귀로의 프로세스 라인에는 현상 처리계의 유닛, 열적 처리계의 유닛, 검사계의 유닛 등이 이웃하거나, 혹은 반송계의 유닛을 사이에 두고 일렬로 배치된다.
[특허 문헌 1] 일본 특허 출원 공개 제2007-200993호 공보
상기와 같이 평류 방식의 처리 유닛을 포함하는 다수의 처리 유닛을 직선적인 왕복로의 프로세스 라인을 따라서 프로세스 플로우의 순서대로 시리얼로 배열하여 배치하는 인라인형의 처리 시스템은 FPD 기판의 대형화에 수반하여 시스템 길이 방향 사이즈 또는 시스템 전체 길이 사이즈가 점점 커져, 이것이 FPD 제조 공장에서는 풋프린트(footprint)의 면에서 불리점으로 되어 있다.
그 원인의 하나로서, 평류 방식의 처리 시스템에 있어서는, 택트 타임이 길수록, 프로세스 라인 상에서 서로 전후하는 기판 사이의 이격 거리가 길어져, 그것에 의해 평류 방식을 채용하는 모든 처리 유닛 혹은 반송 유닛의 평류 방향 사이즈가 대형화되고, 나아가서는 시스템 전체 길이 사이즈가 커진다고 하는 특질이 있다.
따라서, 시스템 전체 길이 사이즈를 짧게 하기 위해서는, 모든 처리 유닛의 택트 타임의 단축화가 요구된다. 그 점, 상기와 같은 레지스트 도포 현상 처리 시스템에 있어서는, 레지스트 도포 공정과 프리베이킹 공정 사이에 삽입되는 감압 건조 처리가 비교적 긴 시간을 필요로 하므로 감압 건조 유닛의 택트 타임 단축화가 가장 곤란하게 되어 있다.
따라서, 프로세스 라인 상에 복수대의 감압 건조 유닛을 병렬로 배치하여, 그들 복수대의 감압 건조 유닛을 병렬적 또는 동시적으로 가동시킴으로써 감압 건조 프로세스의 택트 타임을 절반 이하로 단축시키는 시스템 구성이 고려된다. 그 경우, 레지스트 도포 처리부로부터 레지스트 도포 처리를 종료하여 흘러오는 기판을 복수대의 감압 건조 유닛으로 순서대로 분배하여 반입하기 위한 반송 기구를 감압 건조 유닛의 상류측 옆에 배치하고, 각 감압 건조 유닛에서 감압 건조 처리가 종료된 기판을 그때마다 당해 유닛으로부터 반출하여 프리베이크 유닛 등의 열적 처리부로 전달하기 위한 다른 반송 기구를 감압 건조 유닛의 하류측 옆에 배치하는 구성이 채용된다.
그런데, 상기와 같이 복수대의 감압 건조 유닛을 병렬 배치하는 경우에는, 반송 기구의 택트 타임이 문제가 된다. 예를 들어, 상류측의 반송 기구는 프로세스 라인 상의 평류 방향과 직교하는 방향(병렬 배치 방향)에서, 레지스트 도포 처리부로부터 기판을 수취하기 위한 수취 위치와, 각 감압 건조 유닛으로 기판을 반입하기 위한 반입 위치 사이에서 왕복 이동하게 된다. 그러나, 시스템 전체의 택트 타임이 짧아지면, 평류 반송로 상에서 서로 전후하는 기판끼리의 간격이 좁아져, 감압 건조 유닛으로 기판을 반입하고 있는 동안에, 다음의 기판이 수취 위치에 도착하는 장면이 나오게 된다. 감압 건조 유닛으로의 기판의 반입이 완료될 때까지 반송 기구가 반입 위치에 완전히 구속되어 있으면, 다음의 기판을 수취 위치에 정지시켜 대기시키는 수밖에는 없다. 하류측의 반송 기구에 있어서도, 동일한 문제에 맞닥뜨린다.
결국, 평류 반송로 상의 기판 간격(이격 거리)을 짧게 하는 것이 어려워져, 시스템 전체의 택트 타임 단축화는 곤란해진다. 즉, 복수대의 병렬 배치로 감압 건조 유닛의 택트 타임을 단축시켜도, 이번에는 반송 기구의 택트 타임이 보틀넥으 로 되어, 시스템 전체의 택트 타임을 율속한다. 그 결과, 반송 기구의 택트 타임에 맞추어 기판 간격(이격 거리)을 크게 취하면, 그것에 의해 시스템 전체 길이 사이즈는 오히려 증대되게 된다.
본 발명은 상기와 같은 종래 기술의 문제점을 감안하여 이루어진 것이며, 다수의 처리 유닛을 프로세스 플로우의 순으로 배열하여 배치하는 인라인형에 있어서 평류 반송로 상의 기판 간격 또는 택트 타임의 단축화를 실현하고, 또한 시스템 전체 길이 사이즈의 단축화를 실현하는 처리 시스템을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명의 제1 관점에 있어서의 처리 시스템은, 프로세스 플로우를 따라서 피처리 기판을 평류로 반송하기 위한 평류 반송로와, 프로세스 플로우에 있어서 상기 평류 반송로의 하류측에 상기 평류 반송로와 대략 직교하는 오프셋 방향으로 겹쳐지거나, 또는 배열되어 배치되는 복수의 병렬 처리 유닛과, 상기 평류 반송로의 종단부와 상기 병렬 처리 유닛의 입구 사이에 평류 반송 방향에서 분할되어 배치되는 복수의 분할 컨베이어와, 상기 복수의 분할 컨베이어를, 상기 평류 반송로로부터 기판을 평류로 수취하고, 수취한 기판을 상기 병렬 처리 유닛 중 어느 하나로 분배하여 평류로 반입하도록, 상기 오프셋 방향에서 각각 독립적으로 이동시키는 분할 컨베이어 이동부를 갖는다.
상기 제1 관점에 있어서의 시스템 구성에 있어서는, 복수의 분할 컨베이어가 오프셋 방향에서 각각 독립적으로 이동할 수 있으므로, 평류 반송로로부터 다음의 기판을 평류로 수취할 때에는 상류측의 분할 컨베이어가 선행하여 기판을 수취하러 가고, 하류측의 분할 컨베이어는 기판을 제때에 수취할 수 있도록 나중에 수취 위치로 이동해도 되어, 그때까지는 병렬 처리 유닛으로의 선행 기판의 (평류)반입에 종사할 수 있다. 이와 같이, 병렬 처리 유닛으로의 기판의 (평류)반입이 완료될 때까지 분할 컨베이어 전체가 구속되지 않아, 상류측의 분할 컨베이어가 선행하여 다음의 기판을 수취하기 위해 수취 위치로 이동할 수 있으므로, 평류 반송로로부터의 기판의 수취와 병렬 처리 유닛으로의 기판의 반입의 반복 동작을 짧은 택트 타임으로 수행할 수 있다.
본 발명의 적합한 일 형태로서, 각각의 분할 컨베이어는 평류 반송로로부터 기판을 평류로 수취하기 위한 수취 위치와, 이 평류 반송로로부터 오프셋 방향으로 오프셋하여 배치되는 각각의 병렬 처리 유닛에 기판을 평류로 반입하기 위한 오프셋 반입 위치 사이에서 이동 가능하게 설치된다.
또한, 다른 적합한 일 형태에 있어서는, 병렬 처리 유닛 중 하나가, 평류 반송로와 일직선 상에 배치되고, 당해 병렬 처리 유닛으로 기판을 반입할 때에는, 복수의 분할 컨베이어가 직선 상에 전부 정렬되어 정렬 합체한 상태 하에서, 평류 반송로로부터 기판을 수취하기 위한 평류 반송과, 당해 병렬 처리 유닛으로 기판을 반입하기 위한 평류 반송이 연속적으로 행해진다.
또한, 다른 적합한 일 형태로서, 분할 컨베이어는 평류 반송 방향에 있어서, 각각 단일 부재의 컨베이어 길이가 기판보다도 짧고, 전부 일렬로 정렬 합체했을 때의 합체 컨베이어 길이가 기판과 대략 동일하거나 그것보다도 긴 사이즈를 갖는다. 이 경우, 분할 컨베이어의 설치 스페이스는 대략 기판 1매분으로 충분하다.
또한, 다른 적합한 일 형태에 있어서, 분할 컨베이어는 기판을 적재하여 수취 위치로부터 오프셋 반입 위치로 이송할 때에는 평류 반송 방향에서 전부 일렬로 정렬 합체한 상태를 유지하여 동시에 이동하고, 비어 있는 상태에서 오프셋 반입 위치로부터 수취 위치로 복귀될 때에는 평류 반송 방향의 상류측으로부터 기판을 하류측으로 송출한 순으로 개별로 이동한다.
다른 적합한 일 형태에 따르면, 각각의 병렬 처리 유닛은 분할 컨베이어로부터 미처리의 기판을 평류로 유닛 내로 반입하고, 유닛 내에서 처리가 종료된 기판을 평류로 프로세스 플로우의 하류측으로 반출하기 위한 내부 컨베이어를 구비한다. 또한, 평류 반송로를 따라서 평류의 처리 유닛이 적어도 1대 설치된다.
본 발명의 제2 관점에 있어서의 처리 시스템은 프로세스 플로우를 따라서 피처리 기판을 평류로 반송하기 위한 제1 평류 반송로와, 프로세스 플로우에 있어서 상기 평류 반송로의 하류측에 상기 제1 평류 반송로와 대략 직교하는 오프셋 방향으로 겹쳐지거나, 또는 배열되어 배치되는 제2 및 제3 평류 반송로와, 상기 제1 평류 반송로의 종단부와 상기 제2 및 제3 평류 반송로의 시단부 사이에 평류 반송 방향에서 분할되어 배치되는 복수의 분할 컨베이어와, 상기 복수의 분할 컨베이어를, 상기 제1 평류 반송로로부터 기판을 평류로 수취하고, 수취한 기판을 상기 제2 또는 제3 평류 반송로 중 어느 하나로 분배하여 평류로 전달하도록, 상기 오프셋 방향에서 각각 독립적으로 이동시키는 분할 컨베이어 이동부를 갖는다.
상기 제2 관점에 있어서의 시스템 구성에 있어서는, 복수의 분할 컨베이어가 오프셋 방향에서 각각 독립적으로 이동할 수 있으므로, 제1 평류 반송로로부터 다 음의 기판을 평류로 수취할 때에는 상류측의 분할 컨베이어가 선행하여 기판을 수취하러 가고, 하류측의 분할 컨베이어는 기판을 제때에 수취할 수 있도록 나중에 수취 위치로 이동해도 되어, 그때까지는 제2 또는 제3 평류 반송로로의 선행 기판의 (평류)전달에 종사할 수 있다. 이와 같이, 제2 또는 제3 평류 반송로로의 기판의 (평류)전달이 완료될 때까지 분할 컨베이어의 전부가 구속되지 않아, 상류측의 분할 컨베이어가 선행하여 다음의 기판을 수취하기 위해 수취 위치로 이동할 수 있으므로, 제1 평류 반송로로부터의 기판의 수취와 병렬 배치의 제2 또는 제3 평류 반송로로의 기판의 전달의 반복 동작을 짧은 택트 타임으로 수행할 수 있다.
본 발명의 제3 관점에 있어서의 처리 시스템은, 프로세스 플로우를 따라서 피처리 기판을 평류로 반송하기 위한 평류 반송로와, 프로세스 플로우에 있어서 상기 평류 반송로의 상류측에 상기 평류 반송로와 대략 직교하는 오프셋 방향으로 겹쳐지거나, 또는 배열되어 배치되는 복수의 병렬 처리 유닛과, 상기 병렬 처리 유닛의 출구와 상기 평류 반송로의 시단부 사이에 평류 반송 방향에서 분할되어 배치되는 복수의 분할 컨베이어와, 상기 복수의 분할 컨베이어를, 상기 병렬 처리 유닛 중 어느 하나로부터 기판을 평류로 반출하고, 반출한 기판을 상기 평류 반송로로 평류로 전달하도록, 상기 오프셋 방향에서 각각 독립적으로 이동시키는 분할 컨베이어 이동부를 갖는다.
상기 제3 관점에 있어서의 시스템 구성에 있어서는, 복수의 분할 컨베이어가 오프셋 방향에서 각각 독립적으로 이동할 수 있으므로, 평류 반송로로부터 오프셋 하여 배치되어 있는 병렬 처리 유닛 중 어느 하나로부터 처리가 종료된 기판을 평 류로 반출할 때에는 상류측의 분할 컨베이어가 선행하여 기판을 수취하러 가고, 하류측의 분할 컨베이어는 상기 처리 완료된 기판을 제때에 반출할 수 있도록 나중에 오프셋 반출 위치로 이동해도 되어, 그때까지는 평류 반송로로의 선행 기판의 전달에 종사할 수 있다. 이와 같이, 평류 반송로로의 기판의 전달이 완료될 때까지 분할 컨베이어의 전부가 구속되지 않아, 상류측의 분할 컨베이어가 선행하여 처리 완료된 기판의 반출을 위해 오프셋 반출 위치로 이동할 수 있으므로, 병렬 처리 유닛으로부터의 기판의 반출과 평류 반송로로의 기판의 전달의 반복 동작을 짧은 택트 타임으로 수행할 수 있다.
본 발명의 적합한 일 형태로서, 각각의 분할 컨베이어는 평류 반송로로부터 오프셋 방향으로 오프셋하여 배치되는 각각의 병렬 처리 유닛으로부터 기판을 평류로 반출하기 위한 오프셋 반출 위치와, 평류 반송로에 기판을 평류로 전달하기 위한 전달 위치 사이에서 이동 가능하게 설치된다.
또한, 다른 적합한 일 형태에 있어서는, 병렬 처리 유닛 중 하나가, 평류 반송로와 일직선 상에 배치되고, 당해 병렬 처리 유닛으로부터 기판을 반출할 때에는, 복수의 분할 컨베이어가 직선 상에 전부 정렬되어 정렬 합체한 상태 하에서, 당해 병렬 처리 유닛으로부터 기판을 반출하기 위한 평류 반송과, 이 평류 반송로로 기판을 전달하기 위한 평류 반송이 연속적으로 행해진다.
또한, 다른 적합한 일 형태로서, 분할 컨베이어는 평류 반송 방향에 있어서, 각각 단일 부재의 컨베이어 길이가 기판보다도 짧고, 전부 일렬로 정렬 합체했을 때의 합체 컨베이어 길이가 기판과 대략 동일하거나 그것보다도 긴 사이즈를 갖는 다. 이 경우, 분할 컨베이어의 설치 스페이스는 대략 기판 1매분으로 충분하다.
또한, 다른 적합한 일 형태에 있어서, 분할 컨베이어는 기판을 적재하여 오프셋 반출 위치로부터 전달 위치로 이송할 때에는 평류 반송 방향에서 전부 일렬로 정렬 합체한 상태를 유지하여 동시에 이동하고, 비어 있는 상태에서 전달 위치로부터 오프셋 반출 위치로 복귀될 때에는 평류 반송 방향의 상류측으로부터 기판을 하류측으로 송출한 순으로 개별로 이동한다.
다른 적합한 일 형태에 따르면, 각각의 병렬 처리 유닛은 미처리의 기판을 프로세스 플로우의 상류측으로부터 평류로 유닛 내로 반입하고, 유닛 내에서 처리가 종료된 기판을 평류로 분할 컨베이어로 반출하기 위한 내부 컨베이어를 구비한다. 또한, 평류 반송로를 따라서 평류의 처리 유닛이 적어도 1대 설치된다.
본 발명의 제4 관점에 있어서의 처리 시스템은, 프로세스 플로우를 따라서 피처리 기판을 평류로 반송하기 위한 제1 평류 반송로와, 프로세스 플로우에 있어서 상기 제1 평류 반송로의 상류측에 상기 제1 평류 반송로와 대략 직교하는 오프셋 방향으로 겹쳐지거나, 또는 배열되어 부설되는 제2 및 제3 평류 반송로와, 상기 제2 및 제3 평류 반송로의 종단부와 상기 제1 평류 반송로의 시단부 사이에 평류 반송 방향에서 분할되어 배치되는 복수의 분할 컨베이어와, 상기 복수의 분할 컨베이어를, 상기 제2 또는 제3 평류 반송로 중 어느 하나로부터 기판을 평류로 수취하고, 수취한 기판을 상기 제1 평류 반송로로 평류로 전달하도록, 상기 오프셋 방향에서 각각 독립적으로 이동시키는 분할 컨베이어 이동부를 갖는다.
상기 제4 관점에 있어서의 시스템 구성에 있어서는, 복수의 분할 컨베이어가 오프셋 방향에서 각각 독립적으로 이동할 수 있으므로, 제1 평류 반송로로부터 오프셋하여 배치되어 있는 제2 또는 제3 평류 반송로로부터 다음의 기판을 평류로 수취할 때에는 상류측의 분할 컨베이어가 선행하여 기판을 수취하러 가고, 하류측의 분할 컨베이어는 기판을 제때에 수취할 수 있도록 나중에 수취 위치로 이동해도 되어, 그때까지는 제1 평류 반송로로의 선행 기판의 전달에 종사할 수 있다. 이와 같이, 제1 평류 반송로로의 기판의 전달이 완료될 때까지 분할 컨베이어의 전부가 구속되지 않아, 상류측의 분할 컨베이어가 선행하여 다음의 기판을 수취하기 위해 제2 또는 제3 평류 반송로의 오프셋 수취 위치로 이동할 수 있으므로, 제1 평류 반송로로부터의 기판의 수취와 병렬 배치의 제2 또는 제3 평류 반송로로의 기판의 전달의 반복 동작을 짧은 택트 타임으로 수행할 수 있다.
본 발명의 제5 관점에 있어서의 처리 시스템은, 프로세스 플로우를 따라서 피처리 기판을 평류로 반송하기 위한 빈 스페이스를 통해 서로 분단된 제1 및 제2 평류 반송로와, 상기 빈 스페이스에 평류 반송 방향에서 분할되어 배치되는 복수의 분할 컨베이어와, 상기 복수의 분할 컨베이어를, 상기 제1 평류 반송로로부터 기판을 평류로 수취하고, 수취한 기판을 상기 제2 평류 반송로로 전달하도록, 상기 평류 반송 방향에서 각각 독립적으로 이동시키는 분할 컨베이어 이동부를 갖는다.
상기 제5 관점에 있어서의 시스템 구성에 있어서는, 복수의 분할 컨베이어가 빈 스페이스 내에서 평류 반송 방향으로 각각 독립적으로 이동할 수 있으므로, 제1 평류 반송로로부터 다음의 기판을 평류로 수취할 때에는 상류측의 분할 컨베이어가 선행하여 기판을 수취하러 가고, 하류측의 분할 컨베이어는 기판을 제때에 수취할 수 있도록 나중에 수취 위치로 이동해도 되어, 그때까지는 제2 평류 반송로로의 선행 기판의 전달에 종사할 수 있다. 이와 같이, 제2 평류 반송로로의 기판의 전달이 완료될 때까지 분할 컨베이어의 전부가 구속되지 않아, 상류측의 분할 컨베이어가 선행하여 다음 기판을 수취하기 위해 제1 평류 반송로용 수취 위치로 이동할 수 있으므로, 제1 평류 반송로로부터의 기판의 수취와 제2 평류 반송로로의 기판의 전달의 반복 동작을 짧은 택트 타임으로 수행할 수 있다.
본 발명의 처리 시스템에 따르면, 상기와 같은 구성 및 작용에 의해, 다수의 처리 유닛을 프로세스 플로우의 순으로 배열하여 배치하는 인라인형에 있어서 평류 반송로 상의 기판 간격 또는 택트 타임의 단축화를 실현하고, 또한 시스템 전체 길이 사이즈의 단축화를 실현할 수도 있다.
이하, 첨부 도면을 참조하여 본 발명의 적합한 실시 형태를 설명한다.
[제1 실시 형태]
도 1에, 본 발명의 처리 시스템을 적용할 수 있는 일 구성예로서의 레지스트 도포 현상 처리 시스템을 도시한다. 이 레지스트 도포 현상 처리 시스템(10)은 클린룸 내에 설치되어, 예를 들어 글래스 기판을 피처리 기판(G)으로 하고, LCD 제조 프로세스에 있어서 포토리소그래피 공정 중의 세정, 레지스트 도포, 프리베이크, 현상 및 포스트베이크 등의 일련의 처리를 행하는 것이다. 노광 처리는 이 시스템에 인접하여 설치되는 외부의 노광 장치(12)에서 행해진다.
이 레지스트 도포 현상 처리 시스템(10)은 중심부에 가로로 긴 프로세스 스테이션(P/S)(16)을 배치하고, 그 길이 방향(X방향) 양단부에 카세트 스테이션(C/S)(14)과 인터페이스 스테이션(I/F)(18)을 배치하고 있다.
카세트 스테이션(C/S)(14)은 시스템(10)의 카세트 반입출 포트이고, 기판(G)을 다단으로 적층하도록 하여 복수매 수용 가능한 카세트(C)를 수평한 일방향(Y방향)으로 4개까지 배열하여 적재할 수 있는 카세트 스테이지(20)와, 이 스테이지(20) 상의 카세트(C)에 대해 기판(G)의 출입을 행하는 반송 기구(22)를 구비하고 있다. 반송 기구(22)는 기판(G)을 1매 단위로 유지할 수 있는 반송 아암(22a)을 갖고, X, Y, Z, θ의 4축에서 동작 가능하고, 인접하는 프로세스 스테이션(P/S)(16)측과 기판(G)의 전달을 행할 수 있도록 되어 있다.
프로세스 스테이션(P/S)(16)은 수평한 시스템 길이 방향(X방향)으로 연장되는 평행하고 또한 역방향의 한 쌍의 라인(A, B)에 각 처리부를 프로세스 플로우 또는 공정의 순으로 배치하고 있다.
보다 상세하게는, 카세트 스테이션(C/S)(14)측으로부터 인터페이스 스테이션(I/F)(18)측을 향하는 왕로의 프로세스 라인(A)에는 평류 반송로(24)를 따라서 상류측으로부터 차례로, 반입 유닛(IN-PASS)(26), 세정 프로세스부(28), 도포 프로세스부(30), 건조/열적 처리부(32), 반출 유닛(OUT-PASS)(34)을 일렬로 배치하고 있다.
반입 유닛(IN-PASS)(26)은 카세트 스테이션(C/S)(14)의 반송 기구(22)로부터 미처리의 기판(G)을 수취하여, 소정의 택트로 평류 반송로(24)에 투입하도록 구성 되어 있다.
세정 프로세스부(28)는 평류 반송로(24)를 따라서 상류측으로부터 차례로, 모두 평류 방식의 처리 유닛으로서 구성되어 있는 엑시머 UV 조사 유닛(E-UV)(36) 및 스크러버 세정 유닛(SCR)(38)을 설치하고 있다.
도포 프로세스부(30)는 평류 반송로(24)를 따라서 상류측으로부터 차례로, 모두 평류 방식의 처리 유닛으로서 구성되어 있는 어드히젼(adhesion) 유닛(AD)(40), 쿨링 유닛(COL)(42) 및 레지스트 도포 유닛(CT)(44)을 일렬로 배치하고 있다.
건조/열적 처리부(32)는 평류 반송로(24)를 따라서 상류측으로부터 차례로, 모두 평류 방식의 반송 유닛 또는 처리 유닛으로서 구성되어 있는 2분할형의 반입용 분할 컨베이어(Fa/Fb)(46), 2단 적층형의 병렬 감압 건조 유닛(VD1/VD2)(48), 2분할형의 반출용 분할 컨베이어(Ra/Rb)(50), 프리베이크 유닛(PRE-BAKE)(52) 및 쿨링 유닛(COL)(54)을 일렬로 배치하고 있다.
반입 유닛(IN-PASS)(26)으로부터 왕로 평류 반송로(24) 상으로 투입된 기판(G)은, 후술하는 바와 같이 평류 반송로(24) 상을 평류로 하류측으로 이동하면서 도중의 각 처리 유닛에서 소정의 처리를 순차적으로 받아, 최후에 종점의 반출 유닛(OUT-PASS)(34)에 도착하고, 그곳으로부터 인터페이스 스테이션(I/F)(18)으로 전달되도록 되어 있다.
왕로 평류 반송로(24)는, 예를 들어 레지스트 도포 유닛(CT)(44) 내의 스테 이지 상에서는 부상 반송로로 구성되고, 그 이외의 구간에서는 롤러 반송로로 구성된다.
한편, 인터페이스 스테이션(I/F)(18)측으로부터 카세트 스테이션(C/S)(14)측을 향하는 귀로의 프로세스 라인(B)에는 평류 반송로(56)를 따라서 상류측으로부터 이 순서로, 모두 평류 방식의 처리 장치 또는 반송 유닛으로서 구성되어 있는 반입 유닛(도시하지 않음), 현상 유닛(DEV)(58), 포스트베이크 유닛(POST-BAKE)(60), 쿨링 유닛(COL)(62), 통과 유닛(TR)(64), 검사 유닛(IP)(66) 및 반출 유닛(OUT-PASS)(68)을 일렬로 배치하고 있다.
귀로의 평류 반송로(56)는 주변 장치(TITLER/EE)(70)의 하층에, 즉 현상 유닛(DEV)(58)과 동일한 층에 설치되어 있는 상기 반입 유닛(도시하지 않음)을 시점으로 하여, 상기 귀로 프로세스 라인(B) 상의 처리 유닛 또는 반송 유닛(58 내지 66)을 종단하여 반출 유닛(OUT-PASS)(68)에서 종단하고 있다. 귀로 평류 반송로(56)는, 예를 들어 전체 구간에 걸쳐서 롤러 반송로로 구성된다.
인터페이스 스테이션(I/F)(18)은 상기 왕로 평류 반송로(24) 및 귀로 평류 반송로(56)나 인접하는 노광 장치(12)와 기판(G)의 교환을 행하기 위한 반송 장치(72)를 갖고, 이 반송 장치(72)의 주위에 로터리 스테이지(R/S)(74) 및 주변 장치(70)를 배치하고 있다. 로터리 스테이지(R/S)(74)는 기판(G)을 수평면 내에서 회전시키는 스테이지이고, 노광 장치(12)와의 전달 시에 직사각형의 기판(G)의 방향을 변환하기 위해 사용된다. 주변 장치(70)는, 예를 들어 타이틀러(TITLER)와 주변 노광 장치(EE)를 포함하고 있다.
여기서, 이 도포 현상 처리 시스템에 있어서의 1매의 기판(G)에 대한 전체 공정의 처리 수순을 설명한다. 우선, 카세트 스테이션(C/S)(14)에 있어서, 반송 기구(22)가, 스테이지(20) 상의 어느 하나의 카세트(C)로부터 기판(G)을 1매 취출하고, 그 취출된 기판(G)을 프로세스 스테이션(P/S)(16)의 왕로 프로세스 라인(A)측의 반입 유닛(IN-PASS)(26)으로 반입한다. 반입 유닛(IN-PASS)(26)으로부터 기판(G)은 왕로 평류 반송로(24)로 이동 적재 또는 투입된다.
왕로 평류 반송로(24)에 투입된 기판(G)은, 최초에 세정 프로세스부(28)에 있어서 엑시머 UV 조사 유닛(E-UV)(36) 및 스크러버 세정 유닛(SCR)(38)에 의해 자외선 세정 처리 및 스크러빙 세정 처리가 순차적으로 실시된다. 스크러버 세정 유닛(SCR)(38)은 평류 반송로(24) 상을 평류로 수평으로 이동하는 기판(G)에 대해, 브러싱 세정이나 블로우 세정을 실시함으로써 기판 표면으로부터 입자 형상의 오염을 제거하고, 그 후에 린스 처리를 실시하고, 최후에 에어 나이프 등을 사용하여 기판(G)을 건조시킨다. 스크러버 세정 유닛(SCR)(38)에 있어서의 일련의 세정 처리를 종료하면, 기판(G)은 그대로 왕로 평류 반송로(24)를 내려가 도포 프로세스부(30)로 들어간다.
도포 프로세스부(30)에 있어서, 기판(G)은 레지스트 도포의 전처리로서, 최초에 어드히젼 유닛(AD)(40)에서 증기 형상의 HMDS를 사용하는 어드히젼 처리가 실시되어, 피처리면이 소수화된다. 이 어드히젼 처리의 종료 후에, 기판(G)은 쿨링 유닛(COL)(42)에서 소정의 기판 온도까지 냉각된다. 이 후, 기판(G)은 평류 반송로(24)를 내려가 레지스트 도포 유닛(CT)(44)으로 반입된다.
레지스트 도포 유닛(CT)(44)은 기판(G)을 부상 스테이지(도시하지 않음) 상에서 부상 반송하면서 긴 슬릿 노즐(도시하지 않음)로부터 기판 상으로 레지스트액을 공급하는 평류의 스핀리스법에 의해 기판 표면에 레지스트액을 일정한 막 두께로 도포한다. 부상 스테이지를 나오면, 기판(G)은 평류 반송로(24)를 내려가 건조/열적 처리부(32)의 반입용 분할 컨베이어(Fa/Fb)(46)에 건네진다.
또한, 레지스트 도포 유닛(CT)(44)에는 부상 스테이지의 전후, 즉 반입측 및 반출측에 각각 소터 유닛(도시하지 않음)이 포함되어 있다. 반입측의 소터 유닛은 평류 반송로(24)의 일구간을 구성하는 롤러 반송로와, 이 롤러 반송로 상의 기판에 대해 기판 이면의 테두리부에 진공 흡착 가능/이탈 가능한 복수의 흡착 패드와, 그들의 흡착 패드를 반송 방향과 평행하게 양 방향에서 이동시키는 기판 이송 기구를 갖고 있다. 상류측의 쿨링 유닛(COL)(42)에서 냉각 처리가 종료된 기판을 평류로 상기 롤러 반송로 상에 수취하면, 흡착 패드가 상승하여 상기 기판의 이면 테두리부에 흡착하고, 기판을 흡착 유지하는 흡착 패드를 통해 기판 이송 기구가 기판을 레지스트 도포 유닛(CT)(44)의 부상 스테이지까지 이송하도록 되어 있다. 그리고, 부상 스테이지로 기판을 반입한 후, 흡착 패드가 기판으로부터 분리되고, 계속해서 기판 이송 기구와 흡착 패드가 원위치로 복귀되도록 되어 있다. 반출측의 소터 유닛도, 동작의 순서 및 방향이 반대로 될 뿐, 반입측의 소터 유닛과 동일한 구성으로 되어 있다.
건조/열적 처리부(32)에 있어서, 평류 반송로(24)는, 기능적으로는 반입용 분할 컨베이어(Fa/Fb)(46)를 통해 양쪽으로 나뉘어져 2단 적층형의 감압 건조 유닛(VD1/VD2)(48)을 횡단하고, 반출용 분할 컨베이어(Ra/Rb)(50)에서 다시 합류하여 하나의 반송로로 복귀되도록 구성되어 있다.
반입용 분할 컨베이어(Fa/Fb)(46)는 레지스트 도포 유닛(CT)(44)으로부터 레지스트 도포 처리가 종료된 기판(G)을 평류로 수취하고, 수취한 기판(G)을 하층(1층)의 감압 건조 유닛(VD1) 또는 상층(2층)의 감압 건조 유닛(VD2)의 어느 하나로 분배하여 반입한다. 예를 들어, 짝수번째의 기판(G2n)(단, n ＝ 1, 2‥)을 2층의 감압 건조 유닛(VD2)으로 반입하고, 홀수번째의 기판(G2n-1)을 1층의 감압 건조 유닛(VD1)으로 반입한다. 따라서, 짝수번째의 기판(G2n)은 2층의 감압 건조 유닛(VD2)에서, 홀수번째의 기판(G2n-1)은 1층의 감압 건조 유닛(VD1)에서 각각 감압 건조 처리를 받는다. 이 감압 건조 처리에서는 감압 하의 챔버 내에서 기판(G) 상의 레지스트액 막으로부터 유기 용제(예를 들어, 시너)가 증발하여, 유기 용제 증기가 다른 가스와 함께 챔버의 밖으로 배기된다.
각 감압 건조 유닛(VD1, VD2)에서 감압 건조 처리가 종료된 기판(G)은 반출용 분할 컨베이어(Ra/Rb)(50)에 의해 당해 감압 건조 유닛으로부터 반출되고, 평류 반송로(24) 상을 하류측으로 이동하여 프리베이크 유닛(PRE-BAKE)(52) 및 쿨링 유닛(COL)(54)을 순차적으로 통과한다.
기판(G)은 프리베이크 유닛(PRE-BAKE)(52)을 평류로 통과할 때에, 예를 들어 평류 반송로(24)의 상방에 설치된 발열체로부터 방사되는 열로 가열되어, 레지스트 도포 후의 열처리 또는 노광 전의 열처리로서 프리베이킹을 받는다. 이 프리베이킹에 의해, 기판(G) 상의 레지스트막 중에 잔류되어 있던 용제가 증발하여 제거되어, 기판에 대한 레지스트막의 밀착성이 강화된다. 다음에, 기판(G)은 쿨링 유닛(COL)(54)을 평류로 통과할 때에, 예를 들어 평류 반송로(24)의 상방에 설치된 냉풍 노즐로부터 냉풍이 분사되어, 소정의 기판 온도까지 냉각된다. 그 후, 기판(G)은 왕로 평류 반송로(24)의 종점의 반출 유닛(OUT-PASS)(34)으로부터 인터페이스 스테이션(I/F)(18)의 반송 장치(72)로 인수된다.
인터페이스 스테이션(I/F)(18)에 있어서, 기판(G)은 로터리 스테이지(74)에서, 예를 들어 90도의 방향 변환을 받은 후 주변 장치(70)의 주변 노광 장치(EE)로 반입되고, 그곳에서 기판(G)의 주변부에 부착되는 레지스트를 현상 시에 제거하기 위한 노광을 받은 후에, 옆의 노광 장치(12)로 보내진다.
노광 장치(12)에서는 기판(G) 상의 레지스트에 소정의 회로 패턴이 노광된다. 패턴 노광을 종료한 기판(G)은 노광 장치(12)로부터 인터페이스 스테이션(I/F)(18)으로 복귀되면, 우선 주변 장치(70)의 타이틀러(TITLER)로 반입되고, 그곳에서 기판 상의 소정의 부위에 소정의 정보가 기록된다. 그 후, 기판(G)은 반송 장치(72)로부터 주변 장치(70)의 하층의 반입 유닛(도시하지 않음)으로 반입된다.
이와 같이 하여, 기판(G)은, 이번에는 귀로의 평류 반송로(56) 상을 프로세 스 라인(B)의 하류측을 향해 반송된다. 최초의 현상 유닛(DEV)(58)에 있어서, 기판(G)은 평류로 반송되는 동안에 현상, 린스, 건조의 일련의 현상 처리가 실시된다.
현상 유닛(DEV)(58)에서 일련의 현상 처리를 종료한 기판(G)은 그대로 평류 반송로(56) 상을 하류측으로 이동하여, 포스트베이크 유닛(POST-BAKE)(60), 쿨링 유닛(COL)(62), 통과 유닛(64) 및 검사 유닛(IP)(66)을 순차적으로 통과한다.
기판(G)은 포스트베이크 유닛(POST-BAKE)(60)을 평류로 통과할 때에 현상 처리 후의 열처리로서 포스트베이킹을 받는다. 이 포스트베이킹에 의해, 기판(G) 상의 레지스트막에 잔류되어 있던 현상액이나 세정액이 증발하여 제거되어, 기판에 대한 레지스트 패턴의 밀착성이 강화된다. 다음에, 기판(G)은 쿨링 유닛(COL)(62)을 평류로 통과할 때에 소정의 기판 온도로 냉각된다. 검사 유닛(IP)(66)에서는 기판(G) 상의 레지스트 패턴에 대해 비접촉의 선 폭 검사나 막질ㆍ막 두께 검사 등이 행해진다. 통과 유닛(TR)(64)은 귀로 프로세스 라인(B)의 전체 길이를 왕로 프로세스 라인(A)의 전체 길이에 맞추기 위한 프로세스 라인 길이 사이즈 조정용 반송 유닛이고, 예를 들어 롤러 반송로만을 구비하는 구성이라도 좋다.
반출 유닛(OUT-PASS)(68)은 귀로의 평류 반송로(56)로부터 전체 공정의 처리를 종료해 온 기판(G)을 수취하여, 카세트 스테이션(C/S)(14)의 반송 기구(22)로 전달한다. 카세트 스테이션(C/S)(14)측에서는 반송 기구(22)가, 반출 유닛(OUT-PASS)(68)으로부터 수취한 처리 완료된 기판(G)을 어느 하나(통상은 원래)의 카세트(C)에 수용한다.
이 레지스트 도포 현상 처리 시스템(10)에 있어서는, 왕로 프로세스 라인(A) 상에 배치되는 건조/열적 처리부(32)에 본 발명을 적용할 수 있다.
이하, 도 2 내지 도 5에 대해, 본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 건조/열적 처리부(32)의 구성 및 작용을 상세하게 설명한다.
도 2에, 본 실시 형태에 있어서의 건조/열적 처리부(32)의 주요부의 구성을 도시한다. 도시한 바와 같이, 반입용 분할 컨베이어(Fa/Fb)(46)는 평류 반송 방향(X방향)에서 분할된 2개의 분할 컨베이어(Fa, Fb)로 이루어진다. 이들 분할 컨베이어(Fa, Fb)는 각각 단일 부재의 컨베이어 길이가 기판(G)의 약 1/2이고, 2개 합체하여 일렬로 정렬했을 때의 합체 컨베이어 길이가 기판(G)과 대략 동일하거나 그것보다도 긴 사이즈를 갖고 있다. 각 분할 컨베이어(Fa, Fb)는 컨베이어 본체(80)에 복수개의 롤러(82)를 일정 간격으로 설치하여 독립 구동의 롤러 반송로를 형성하고 있고, 또한 개별의 컨베이어 승강부(84a, 84b)에 의해 연직 방향에서 독립적으로 승강 이동할 수 있도록 되어 있다.
마찬가지로, 반출용 분할 컨베이어(Ra/Rb)(50)도 평류 반송 방향(X방향)에서 분할된 2개의 분할 컨베이어(Ra, Rb)로 이루어진다. 이들 분할 컨베이어(Ra, Rb)도, 각각 단일 부재의 컨베이어 길이가 기판(G)의 약 1/2이고, 2개 합체하여 일렬로 정렬했을 때의 합체 컨베이어 길이가 기판(G)과 대략 동일하거나 그것보다도 긴 사이즈를 갖고 있다. 그리고, 각 분할 컨베이어(Ra, Rb)는 컨베이어 본체(80)에 복수개 의 롤러(82)를 일정 간격으로 설치하여 독립 구동의 롤러 반송로를 형성하고 있고, 또한 개별의 컨베이어 승강부(86a, 86b)에 의해 연직 방향에서 독립적으로 승강 이동할 수 있도록 되어 있다.
반입용 분할 컨베이어(Fa/Fb)(46) 및 반출용 분할 컨베이어(Ra/Rb)(50)는 각각 왕로 평류 반송로(24)(도 1)의 일구간을 구성한다.
2단 적층형의 감압 건조 유닛(VD1/VD2)(48)에 있어서, 1층의 감압 건조 유닛(VD1)은 편평한 직육면체 형상을 갖는 감압 가능한 챔버[90(1)]를 갖고 있다. 평류 반송 방향(X방향)에 있어서 챔버[90(1)]의 서로 대향하는 한 쌍의 측벽에는, 셔터 또는 도어 밸브가 부착된 개폐 가능한 기판 반입구[92(1)] 및 기판 반출구[94(1)]가 각각 형성되어 있다. 챔버[90(1)] 내에는 상기 평류 반송로(24)(도 1)의 일구간을 구성하는 정치의 내부 롤러 반송로[96(1)]가 설치되어 있다. 또한, 챔버[90(1)] 내에서 기판(G)을 반입 또는 반출하기 위한 높이 위치{롤러 반송로[96(1)] 상의 위치}와, 감압 건조 처리를 위한 높이 위치{롤러 반송로[96(1)]로부터 상방으로 뜬 위치} 사이에서 오르내리기 위한 리프트 핀 기구(도시하지 않음)가 구비되어 있다.
챔버[90(1)]의 저벽에는 1개 또는 복수의 배기구[98(1)]가 형성되어 있다. 이들 배기구[98(1)]는 배기관[100(1)]을 통해 진공 펌프(102)(1)의 입구측에 접속되어 있다. 배기관[100(1)]의 도중에는 개폐 밸브[104(1)]가 설치된다. 또한, 챔버[90(1)]의 실내를 감압 상태로부터 대기압 상태로 복귀시킬 때에 공기 또는 질소 등의 퍼지 가스를 실내에 공급하는 퍼지 가스 공급부(도시하지 않음)도 가스 공급관을 통해 챔버[90(1)]에 접속되어 있다.
2층의 감압 건조 유닛(VD2)도, 상술한 1층의 감압 건조 유닛(VD1)과 동일하거나 또는 마찬가지의 구성[90(2) 내지 104(2)]을 갖고 있다.
프리베이크 유닛(PRE-BAKE)(52) 내에는 왕로 평류 반송로(24)(도 1)의 일구간을 구성하는 롤러 반송로(106)를 따라서 프리베이킹용 발열체, 예를 들어 시즈 히터(108)가 일정한 간격을 두고 다수 배치되어 있다.
도 3에 단일 부재의 분할 컨베이어(Fa)(Fb, Ra, Rb) 및 컨베이어 승강부(84a)(84b, 86a, 86b)의 일 구성예를 도시한다. 도시한 바와 같이, 컨베이어 본체(80)는 빔 부재(109)를 통해 서로 연결된 좌우 한 쌍의 롤러 지지/구동부(110, 112)에 복수개의 롤러(82)를 수평으로 걸쳐서, 각 롤러(82)를 롤러 지지/구동부(110, 112)의 박스 내에 설치되어 있는 롤러 구동부(도시하지 않음)에 접속하고 있다. 또한, 롤러(82)는 둥근 막대의 회전축에 팽이형 롤러를 일정 간격으로 복수개 설치하고 있다.
각 롤러 지지/구동부(110, 112)의 양단부에 가이드부(114)가 일체로 형성 또는 결합되고, 각 가이드부(114)에 형성되어 있는 관통 구멍에는 연직 방향으로 연장되는 가이드 막대(116)가 미끄럼 이동 가능하게 삽입되어 있다. 이에 의해, 컨베이어 본체(80)는 가이드 막대(116)로 안내되어 연직 방향에서 승강 이동 가능하게 되어 있다.
또한, 양 롤러 지지/구동부(110, 112)에는 컨베이어 승강부(84a)(84b, 86a, 86b)의 구동원, 예를 들어 모터(118)의 회전축에 결합된 연직 방향으로 연장되는 이송 나사(120)와 나사 결합하는 볼 나사(122)도 설치되어 있다. 이러한 볼 나사 기구의 승강 구동에 의해, 컨베이어 본체(80)는 상방향 및 하방향의 어느 쪽으로도 승강 이동 가능하고, 또한 임의의 높이 위치에서 정지할 수 있도록 되어 있다.
다음에, 도 4a 및 도 4b에 대해, 본 실시 형태에 있어서의 건조/열적 처리부(32)의 작용을 설명한다. 또한, 도해를 용이하게 하기 위해, 평류 반송로(24)(도 1)를 구성하는 각 구간의 롤러 반송로를 생략하고 있다.
건조/열적 처리부(32)의 각 부는 일정한 택트(사이클)로 동일한 동작을 반복한다. 본 예에서는, 도 4a의 1단계 [1]로부터 개시하여 1사이클분의 동작을 몇 개의 단계 [2] 내지 [8]로 나누어 순차적으로 설명한다.
최초의 단계 [1]에 있어서, 조금 전에 2층의 감압 건조 유닛(VD2)으로부터 반출되어 1층으로 내려져 있는 0번째의 기판(G0)은 반출용 분할 컨베이어(Ra/Rb)(50)로부터 프리베이크 유닛(PRE-BAKE)(52)으로 평류로 이송되어 있다. 이 경우, 반출용 분할 컨베이어(Ra/Rb)(50)는 전반부의 분할 컨베이어(Ra)와 후반부의 분할 컨베이어(Rb)가 1층의 감압 건조 유닛(VD1)의 롤러 반송로[96(1)](도 2)에 높이를 정렬시켜 평류 반송 방향(X방향)에서 일렬로 정렬 합체하고 있다. 한편, 1번째의 기판(G1)은 1층의 감압 건조 유닛(VD1) 내에서 감압 건조 처리를 받고 있고, 2번째의 기판(G2)은 2층의 감압 건조 유닛(VD2) 내에서 감압 건조 처리를 받고 있다. 또한, 3번째의 기판(G3)은 반입용 분할 컨베이어(Fa/Fb)(46)에 평류로 수취되고 있는 중에 있다. 반입용 분할 컨베이어(Fa/Fb)(46)의 쪽도, 전반부의 분할 컨베이어(Fa)와 후반부의 분할 컨베이어(Fb)가 1층의 감압 건조 유닛(VD1)의 롤러 반송로[96(1)](도 2)에 높이를 정렬시켜 평류 반송 방향(X방향)에서 일렬로 정렬(합체)하고 있다.
이 후, 다음의 단계 [2]에서는, 1층의 감압 건조 유닛(VD1)에 있어서, 처리가 종료된 1번째의 기판(G1)이 반출용 분할 컨베이어(Ra/Rb)(50) 상으로 평류로 반출되고, 그것과 동시에 처리 전의 3번째의 기판(G3)이 반입용 분할 컨베이어(Fa/Fb)(46)로부터 평류로 반입된다. 이때, 2층의 감압 건조 유닛(VD2) 내에서는 2번째의 기판(G2)에 대한 감압 건조 처리가 아직 행해지고 있다. 또한, 도시를 생략하지만, 0번째의 기판(G0)은 프리베이크 유닛(PRE-BAKE)(52) 내지 쿨링 유닛(COL)(54) 내를 평류로 이동하면서 열적 처리를 받고 있다.
다음의 단계 [3]에서, 1층의 감압 건조 유닛(VD1)으로의 3번째의 기판(G3)의 반입이 완료되는 한편, 1번째의 기판(G1)이 반출용 분할 컨베이어(Ra/Rb)(50)로부터 프리베이크 유닛(PRE-BAKE)(52)으로 평류로 이송된다. 이때, 4번째의 기판(G4)이 반입용 분할 컨베이어(Fa/Fb)(46)의 앞으로 오고 있다. 2층의 감압 건조 유닛(VD2)에는 2번째의 기판(G2)이 아직 체류되어 있다.
또한, 레지스트 도포 유닛(CT)(44)으로부터 반입용 분할 컨베이어(Fa/Fb)(46)로 보내져 오는 기판(G)의 속도(상류측 평류 속도)와 반출용 분할 컨베이어(Ra/Rb)(50)로부터 프리베이크 유닛(PRE-BAKE)(52)측으로 이송되는 기판(G)의 속도(하류측 평류 속도)는 독립적으로 설정된다. 본 실시 형태에서는, 프리베이크 유닛(PRE-BAKE)(52) 및 쿨링 유닛(COL)(54)의 길이 사이즈를 짧게 하기 위해, 하류측 평류 속도를 낮게 설정해도 좋다.
다음의 단계 [4]에서는, 반출용 분할 컨베이어(Ra/Rb)(50)에 있어서, 전반부의 분할 컨베이어(Ra)는 1번째의 기판(G1)이 통과하여 비어 있는 상태로 되면, 아직 후반부의 분할 컨베이어(Rb) 상을 기판(G1)이 이동하고 있음에도 불구하고, 2층의 감압 건조 유닛(VD2)으로부터 제2 기판(G2)이 반출되는 것에 대비하기 위해 먼저 상승 이동한다. 한편, 반입용 분할 컨베이어(Fa/Fb)(46)는 4번째의 기판(G4)이 완전히 실려 들어가면, 그곳에서 일단 기판(G4)의 평류를 정지한다.
다음의 단계 [5]에서, 반입용 분할 컨베이어(Fa/Fb)(46)는 전반부의 컨베이어(Fa)와 후반부의 컨베이어(Fb)가 정렬 합체한 채로 상승 이동하여, 4번째의 기 판(G4)을 2층의 감압 건조 유닛(VD2)의 기판 반입구 전까지 수평 자세로 들어올린다. 한편, 2층의 감압 건조 유닛(VD2)으로부터 처리가 종료된 2번째의 기판(G2)의 반출이 개시되어, 반출용 분할 컨베이어(Ra/Rb)(50)의 전반부의 분할 컨베이어(Ra)가 기판 반출구 앞에서 기판(G2)을 수취한다. 이때, 후반부의 분할 컨베이어(Rb)도 기판(G1)의 송출을 완료한 직후에 1층의 평류 위치로부터 2층의 평류 위치를 향해 상승 이동한다. 1층의 감압 건조 유닛(VD1)에서는 3번째의 기판(G3)에 대한 감압 건조 처리가 개시되고 있다.
그 후, 다음의 단계 [6]에서는, 2층의 감압 건조 유닛(VD2)에 있어서, 처리가 종료된 2번째의 기판(G2)의 반출이 완료된다. 도시한 바와 같이, 반출용 분할 컨베이어(Ra/Rb)(50)는 전반부의 분할 컨베이어(Ra)에 후반부의 분할 컨베이어(Rb)가 정렬 합체하여 기판(G2)을 수취한다. 한편, 반입용 분할 컨베이어(Fa/Fb)(46)로부터 2층의 감압 건조 유닛(VD2)으로의 4번째의 기판(G4)의 반입이 진행되어, 전반부의 분할 컨베이어(Fa)는 기판(G4)을 송출하면, 다음에 레지스트 도포 유닛(CT)(44)으로부터 평류로 흘러 오는 5번째의 기판(G5)을 수취하기 위해, 후반부의 분할 컨베이어(Fb)를 2층의 높이 위치에 남긴 채로 먼저 1층까지 하강 이동한다. 1층의 감압 건조 유닛(VD1)에서는 3번째의 기판(G3)에 대한 감압 건조 처리가 행해지고 있다.
다음의 단계 [7]에서, 반출용 분할 컨베이어(Ra/Rb)(50)는 전반부 및 후반부의 분할 컨베이어(Ra, Rb)가 정렬 합체한 채로 기판(G2)을 적재하여 2층으로부터 1층까지 하강 이동한다. 한편, 반입용 분할 컨베이어(Fa/Fb)(46)의 쪽에서는 5번째의 기판(G5)이 진입하거나, 또는 진입하려고 하고 있고, 이를 전반부의 분할 컨베이어(Fa)가 받아들이고 있다. 후반부의 분할 컨베이어(Fb)는 2층의 감압 건조 유닛(VD2)으로의 기판(G4)의 반입을 완료시킨 직후에 2층으로부터 1층으로 내려온다.
다음의 단계, 즉 1사이클의 최후의 단계 [8]에서는, 반입용 분할 컨베이어(Fa/Fb)(46)에 있어서, 1층에서 전반부의 분할 컨베이어(Fa)의 후방 옆에 후반부의 분할 컨베이어(Fb)가 도착하여 정렬 합체하고, 5번째의 기판(G5)을 평류로 수취한다. 반출용 분할 컨베이어(Ra/Rb)(50)의 쪽은 2층의 감압 건조 유닛(VD2)으로부터 반출해 온 2번째의 기판(G2)을 프리베이크 유닛(PRE-BAKE)(52)측으로 평류로 이송한다. 1층의 감압 건조 유닛(VD1) 내에는 3번째의 기판(G3)이 아직 들어 있고, 2층의 감압 건조 유닛(VD2) 내에서는 4번째의 기판(G4)에 대한 감압 건조 처리가 개시되고 있다.
상기와 같이, 본 실시 형태에 있어서는, 건조/열적 처리부(32)에 2개의 병렬 감압 건조 유닛(VD1/VD2)(48)을 2단 적층 또는 2층 구조로 설치하여, 1층의 감압 건 조 유닛(VD1)과 2층의 감압 건조 유닛(VD2)을 동시적 또는 병렬적으로 가동시킴으로써, 1대의 택트 타임을 Tc로 하면, 2대 병렬로 약 Tc/2까지 택트 타임을 단축할 수 있다.
또한, 본 실시 형태에서는, 병렬 감압 건조 유닛(VD1/VD2)(48)의 상류측 옆 및 하류측 옆에 반입용 분할 컨베이어(Fa/Fb)(46) 및 반출용 분할 컨베이어(Ra/Rb)(50)를 각각 배치하고 있다.
반입용 분할 컨베이어(Fa/Fb)(46)는 1층과 2층 사이에서 각각 독립적으로 승강 이동할 수 있는 전반부 및 후반부의 분할 컨베이어(Fa/Fb)로 이루어지고, 기판(G)을 1층으로부터 2층까지 올릴 때에는 전반부 및 후반부의 분할 컨베이어(Fa, Fb)가 정렬 합체한 상태를 시종 유지하지만, 상류측의 레지스트 도포 유닛(CT)(44)으로부터 기판(G)을 평류로 수취할 때나, 기판(G)을 1층의 감압 건조 유닛(VD1) 또는 2층의 감압 건조 유닛(VD2) 중 어느 하나로 평류로 반입할 때에는, 전반부 및 후반부의 분할 컨베이어(Fa, Fb)가 반드시 일렬로 정렬 합체한 상태를 시종 유지하는 것이 아니라, 필요에 따라서 분리하도록 되어 있다.
즉, 전반부의 분할 컨베이어(Fa)는 2층의 감압 건조 유닛(VD2)으로 기판(G)을 반입할 때에 당해 기판(G)을 송출하여 비어 있는 상태로 되자마자, 후반부의 분 할 컨베이어(Fb)를 2층에 남긴 채로 단독으로 먼저 2층으로부터 1층으로 하강 이동하여, 상류측의 레지스트 도포 유닛(CT)(44)으로부터 흘러 오는 다음 기판(G)을 받아들인다. 후반부의 분할 컨베이어(Fb)는 2층의 감압 건조 유닛(VD2)으로의 기판(G)의 반입이 완료된 후, 다음 기판(G)의 수취를 제때에 할 수 있도록 2층으로부터 1층으로 내려오도록 되어 있다. 이에 의해, 다음 기판(G)의 평류를 시간 조정을 위해 일시 정지할 필요없이, 도포 프로세스부(30)로부터 건조/열적 처리부(32)로 기판(G)을 이송하는 주기 또는 택트 타임을 상당히 짧게 해도, 예를 들어 Tc/2 근처까지 짧게 해도, 반입용 분할 컨베이어(Fa/Fb)(46)는 그 택트 타임으로 동작할 수 있다.
한편, 반출용 분할 컨베이어(Ra/Rb)(50)는 1층과 2층 사이에서 각각 독립적으로 승강 이동할 수 있는 전반부 및 후반부의 분할 컨베이어(Ra, Rb)로 이루어지고, 기판(G)을 2층으로부터 1층까지 내릴 때에는 전반부 및 후반부의 분할 컨베이어(Ra, Rb)가 정렬 합체한 상태를 시종 유지하지만, 1층의 감압 건조 유닛(VD1) 또는 2층의 감압 건조 유닛(VD2) 중 어느 하나로부터 감압 건조 처리가 종료된 기판(G)을 평류로 반출할 때나, 반출한 기판(G)을 하류측의 프리베이크 유닛(PRE-BAKE)(52)으로 평류로 이송할 때에는, 전반부 및 후반부의 분할 컨베이어(Fa, Fb)가 반드시 일렬로 정렬 합체한 상태를 시종 유지하는 것이 아니라, 필요에 따라서 분 리하도록 되어 있다.
즉, 전반부의 분할 컨베이어(Ra)는 1층의 감압 건조 유닛(VD1)으로부터 반출된 기판(G)을 프리베이크 유닛(PRE-BAKE)(52)으로 이송할 때에, 당해 기판(G)을 송출하여 비어 있는 상태로 되자마자, 후반부의 분할 컨베이어(Rb)를 1층에 남긴 채로 단독으로 먼저 1층으로부터 2층으로 상승 이동하여, 2층의 감압 건조 유닛(VD2)으로부터 평류로 반출되는 기판(G)을 받아들인다. 후반부의 분할 컨베이어(Rb)는 1층에서 프리베이크 유닛(PRE-BAKE)(52)으로의 기판(G)의 이송을 완료한 후에, 2층의 감압 건조 유닛(VD2)으로부터 반출되는 기판(G)의 수취를 제때에 할 수 있도록 1층으로부터 2층으로 오르도록 되어 있다. 이에 의해, 2층의 감압 건조 유닛(VD2)에서 처리가 종료된 기판(G)의 체류 시간을 연장시킬 필요없이, 상기와 같이 병렬 감압 건조 유닛(VD1/VD2)(48)이 2대 병렬로 택트 타임을 약 Tc/2까지 단축시켜도, 반출용 분할 컨베이어(Ra/Rb)(50)는 그 택트 타임으로 동작할 수 있다.
이와 같이, 본 실시 형태에 있어서는, 건조/열적 처리부(32)에 설치되는 감압 건조 유닛(VD1/VD2)(48), 반입용 분할 컨베이어(Fa/Fb)(46) 및 반출용 분할 컨베이어(Ra/Rb)(50) 모두 짧은 택트 타임으로 동작할 수 있으므로, 지금까지 평류 방식의 레지스트 도포 현상 처리 시스템의 택트 타임을 율속하고 있던 요인이 현저하게 완화 또는 해소되므로, 처리량의 향상이 도모된다. 또한, 왕로 평류 반송로(24) 상에서 서로 전후하는 기판 사이의 이격 거리를 짧게 하는 것이 가능하고, 이에 의해 평류 반송 방향(X방향)에 있어서 각 처리 유닛 또는 반송 유닛의 길이 사이즈를 단축하고, 나아가서는 시스템 전체 길이 사이즈의 단축화도 도모된다.
[제2 실시 형태]
상기한 제1 실시 형태에서는, 건조/열적 처리부(32)의 반입용 분할 컨베이어(Fa/Fb)(46)가, 상류측 옆의 레지스트 도포 유닛(CT)(44)으로부터 보내져 오는 기판(G)을 항상 1층에서 수취하도록 되어 있었다. 그러나, 1층이 아니라 항상 2층에서 수취하는 것도 가능하고, 혹은 1층과 2층에서 교대로 수취하는 것도 가능하다. 예를 들어, 레지스트 도포 유닛(CT)(44)을 2층으로 하여 2대 병렬로 설치하는 경우에, 홀수번째의 기판(G2n－1)을 1층의 레지스트 도포 유닛(CT1)으로부터 평류로 수취하고, 짝수번째의 기판(G2n)을 2층의 레지스트 도포 유닛(CT2)으로부터 평류로 수취한다고 하는 형태가 고려된다.
도 5a 및 도 5b에, 이 경우의 1사이클분의 동작을 8개의 단계 [1] 내지 [8]로 나누어 도시한다. 상술한 제1 실시 형태(도 4a, 도 4b)와 상이한 것은 주로 단계 [2] 내지 [4]의 동작이다.
즉, 단계 [1]에서, 반입용 분할 컨베이어(Fa/Fb)(46)는 전반부 및 후반부의 분할 컨베이어(Fa, Fb)가 1층에서 정렬 합체하고, 1층의 레지스트 도포 유닛(CT1)으로부터 보내져 오는 3번째의 기판(G3)을 평류로 수취한다. 이 동작은 제1 실시 형 태와 동일하다.
그러나, 그 후, 3번째의 기판(G3)을 1층의 감압 건조 유닛(VD1)으로 반입하는 장면에서, 즉 단계 [2]에서, 전반부의 분할 컨베이어(Fa)는 기판(G3)을 송출하자마자, 이후에는 후반부의 분할 컨베이어(Fb)로 기판(G3)의 반입을 맡긴 채로, 먼저 1층으로부터 2층으로 상승 이동한다.
그리고, 다음의 단계 [3]에서, 전반부의 분할 컨베이어(Fa)는 2층의 레지스트 도포 유닛(CT2)으로부터 보내져 오는 4번째의 기판(G4)을 받아들인다. 후반부의 분할 컨베이어(Fb)도 1층의 감압 건조 유닛(VD1)으로의 3번째의 기판(G3)의 반입을 완료시키면 즉시 1층으로부터 2층으로 상승 이동한다.
이와 같이 하여, 다음 단계 [4]에서는, 2층에서 전반부의 분할 컨베이어(Fa)의 후방 옆에 후반부의 분할 컨베이어(Fb)가 정렬 합체하여, 4번째의 기판(G4)을 수취한다.
[제3 실시 형태]
상술한 제1 및 제2 실시 형태는 왕로 프로세스 라인(A) 상의 건조/열적 처리부(32)에 관한 것이었지만, 본 발명은 왕로 프로세스 라인(A) 또는 귀로 프로세스 라인(B) 상의 다른 평류 처리부 혹은 반송부에도 적용 가능하다.
예를 들어, 상기 레지스트 도포 현상 처리 시스템(도 1)은 귀로 프로세스 라인(B) 상의 최종단에 검사 유닛(IP)(66)을 설치하여, 기판(G) 상의 레지스트 패턴 에 대해 비접촉의 선 폭 검사나 막질ㆍ막 두께 검사 등을 평류로 행하도록 하고 있지만, 기판(G)의 종류나 사양에 따라서는 그와 같은 검사를 필요로 하지 않는 경우가 있다.
따라서, 도 6에 도시한 바와 같이, 귀로 프로세스 라인(B)에 있어서, 검사 유닛(IP)(66)과 횡방향(Y방향)에서 병렬로 통과 유닛(TR)(130)을 배치하여, 쿨링 유닛(COL)(62)을 평류로 통과한 기판(G) 중, 검사를 필요로 하는 기판(Gj)은 검사 유닛(IP)(66)으로 그대로 연속의 평류로 보내고, 검사를 불필요로 하는 기판(Gk)은 가로로 분기시켜 통과 유닛(TR)(130)에 통과시키도록 해도 좋다.
이 경우, 쿨링 유닛(COL)(62)과 검사 유닛(IP)(66) 및 통과 유닛(TR)(130) 사이에, 예를 들어 2분할형의 분배용 분할 컨베이어(Ma, Mb)를 설치할 수 있다. 이들 분배용 분할 컨베이어(Ma, Mb)는 연직 방향이 아니라 수평 방향(Y방향)에서 독립적으로 이동 가능하고, 기판(Gk)을 통과 유닛(TR)(130)으로 분배할 때에는, 도 6의 단계 [2]와 같이 전반부의 분할 컨베이어(Ma)와 후반부의 분할 컨베이어(Mb)가 정렬 합체한 상태를 유지하여 오프셋 방향(Y방향)으로 이동한다.
그리고, 오프셋 위치에서 전반부의 분할 컨베이어(Ma)는 기판(Gk)을 송출하면, 도 6의 단계 [3]과 같이 후반부의 분할 컨베이어(Mb)를 오프셋 위치에 남긴 채로 단독으로 먼저 원위치로 이동하여, 쿨링 유닛(COL)(62)으로부터 평류로 다음의 기판(Gj)(Gk)을 받아들인다. 후반부의 분할 컨베이어(Mb)는 오프셋 위치에서 통과 유닛(TR)(130)으로의 기판(G)의 전달을 완료한 후에, 도 6의 단계 [4]와 같이 다음의 기판(Gj)(Gk)을 제때에 수취할 수 있도록 오프셋 위치로부터 원위치로 복귀된다.
[다른 실시 형태]
이상 본 발명의 적합한 실시 형태에 대해 설명하였지만, 본 발명은 상기한 실시 형태로 한정되는 것이 아니라, 그 기술적 사상의 범위 내에서 다른 실시 형태 혹은 다양한 변형이 가능하다.
예를 들어, 상술한 실시 형태에서는, 분할 컨베이어[(Fa/Fb)(46), (Ra/Rb)(50), (Ma/Mb)(132)] 모두 2분할식으로 구성하였지만, 3분할 이상의 구성도 가능하다.
또한, 분할 컨베이어[(Fa/Fb)(46), (Ra/Rb)(50), (Ma/Mb)(132)]의 어느 것에 있어서도, 각 분할 유닛을 병렬 배치의 평류 처리 유닛 또는 반송 유닛에 대해 병렬 배치 방향, 즉 오프셋 방향(Z방향 또는 Y방향)에서 독립적으로 이동시키도록 하였지만, 평류 반송 방향(X방향)에서 각 분할 유닛을 독립적으로 이동시키는 구성도 가능하다.
예를 들어, 도 7에 도시하는 평류 시스템은 프로세스 플로우를 따라서 기판(G)을 평류로 반송하기 위한 빈 스페이스(140)를 통해 서로 분단된 제1(상류측) 및 제2(하류측)의 평류 반송로(142, 144)를 구비하고, 빈 스페이스(140)에 평류 반 송 방향(X방향)에서 분할되어 배치되는 복수, 예를 들어 2개의 분할 컨베이어(Na, Nb)를 설치한다. 각 평류 반송로(142, 144)를 따라서 평류 방식의 처리 유닛 또는 반송 유닛(도시하지 않음)이 설치되어도 좋다.
평류 반송 방향(X방향)에서 빈 스페이스(140)는 기판(G)보다도 길고, 분할 컨베이어(Na, Nb)는, 단일 부재의 컨베이어 길이는 기판(G)의 절반 정도이고, 정렬 합체하였을 때의 합체 컨베이어 길이가 기판(G)과 대략 동일한 길이로 되어, 빈 스페이스(140) 내에서 평류 반송 방향(X방향)으로 각각 독립적으로 이동할 수 있도록 되어 있다. 도시는 생략하지만, 각 분할 컨베이어(Na, Nb)에 개별의 컨베이어 이동부(도시하지 않음)가 결합되어 있다.
도 7에 도시한 바와 같이, 단계 [1]에서, 분할 컨베이어(Na, Nb)는 상류측의 평류 반송로(142)의 종단부 옆에서 정렬 합체하여, 기판(G0)을 평류로 수취한다. 계속해서, 단계 [2]에서, 분할 컨베이어(Na, Nb)는 정렬 합체의 상태를 유지한 채로 빈 스페이스(140) 내를 평류 반송 방향(X방향)으로 이동한다. 다음의 단계 [3]에서, 분할 컨베이어(Na, Nb)는 하류측의 평류 반송로(144)의 시단부 옆에 도착하여, 기판(G0)을 평류로 전달한다. 그리고, 전반부의 분할 컨베이어(Na)는 기판(G0)을 송출하여 비어 있는 상태로 되면, 단계 [4]와 같이 후반부의 분할 컨베이어(Nb)에 기판(G0)의 전달을 맡기고, 먼저 단독으로 상류측의 평류 반송로(142)로 이동하여, 다음의 기판(G1)을 받아들인다. 후반부의 분할 컨베이어(Nb)도 기판(G0)의 전달을 완료시키면, 단계 [5]와 같이 뒤를 따르도록 하여 상류측의 평류 반송로(142)로 이동하여, 다음의 기판(G1)의 수취를 제때에 할 수 있게 한다.
또한, 상기한 실시 형태에서는 왕로 프로세스 라인(A) 상 및 귀로 프로세스 라인(B) 상에 배치하는 처리 유닛을 모두 평류 방식으로 통일하고 있으므로, 처리 효율 및 반송 효율의 향상이 도모되는 이점이 있다. 그러나, 비평류 방식의 처리 유닛을 포함하는 구성도 가능하다. 예를 들어, 왕로 프로세스 라인(A) 상에 배치되는 레지스트 도포 유닛(CT)(44)으로서, 레지스트 노즐을 고정하고 기판을 부상 반송하여 레지스트 도포 처리를 행하는 부상식 대신에, 스테이지 상에 기판을 고정하고 레지스트 노즐의 쪽을 주사 이동시키는 방식(스테이지 고정식)을 사용하는 것도 가능하다.
상술한 제3 실시 형태(도 6)에서는, 2분할형의 분배용 분할 컨베이어(Ma, Mb)의 상류측에 평류 처리 유닛[(POST-BAKE)(60), (COL)(62)]이 일렬로 배치되고, 하류측에 평류 처리 유닛(IP)(66)과 평류 반송 유닛(TR)(130)이 2열로 배치되었다. 그러나, 반대로, 분할 컨베이어(Ma, Mb)의 상류측에 2열의 평류 방식 처리 유닛 또는 반송 유닛이 설치되어, 하류측에 1열의 평류 방식 처리 유닛 또는 반송 유닛이 설치되는 레이아웃도 가능하다.
또한, 건조/열적 처리부(32)에 있어서, 감압 건조 유닛(VD1/VD2)(48)뿐만 아 니라, 프리베이크 유닛(PRE-BAKE)(52) 및 쿨링 유닛(COL)(54)도 2층 구조의 병렬 배치 구성으로 하는 것도 가능하고, 그 경우에는 반입용 분할 컨베이어(Fa/Fb)만을 사용하여, 반출용 분할 컨베이어(Ra/Rb)를 생략할 수 있다.
본 발명에 있어서의 피처리 기판은 LCD용 글래스 기판으로 한정되는 것이 아니라, 다른 플랫 패널 디스플레이용 기판이나, 반도체 웨이퍼, CD 기판, 포토마스크, 프린트 기판 등도 가능하다.
도 1은 본 발명의 일 실시 형태에 있어서의 레지스트 도포 현상 처리 시스템의 레이아웃 구성을 도시하는 평면도.
도 2는 도 1의 레지스트 도포 현상 처리 시스템의 주요부, 특히 왕로 프로세스 라인에 내장되어 있는 건조/열적 처리부의 주요부의 구성을 모식적으로 도시하는 종단면도.
도 3은 실시 형태에 있어서의 분할 컨베이어의 일 구성예를 도시하는 사시도.
도 4a는 제1 실시 형태에 있어서의 건조/열적 처리부의 동작의 각 단계를 모식적으로 도시하는 도면.
도 4b는 제1 실시 형태에 있어서의 건조/열적 처리부의 동작의 각 단계를 모식적으로 도시하는 도면.
도 5a는 제2 실시 형태에 있어서의 건조/열적 처리부의 동작의 각 단계를 모식적으로 도시하는 도면.
도 5b는 제2 실시 형태에 있어서의 건조/열적 처리부의 동작의 각 단계를 모식적으로 도시하는 도면.
도 6은 제3 실시 형태에 있어서의 분할 컨베이어를 사용한 기판 분배 동작의 각 단계를 모식적으로 도시하는 도면.
도 7은 다른 실시 형태에 있어서의 분할 컨베이어를 사용한 평류 반송로 사이의 기판 전송 동작의 각 단계를 모식적으로 도시하는 도면.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
10 : 레지스트 도포 현상 처리 시스템
14 : 카세트 스테이션(C/S)
16 : 프로세스 스테이션(P/S)
18 : 인터페이스 스테이션(I/F)
24 : 왕로 평류 반송로
28 : 세정 프로세스부
30 : 도포 프로세스부
44 : 레지스트 도포 유닛(CT)
46 : 2분할형의 반입용 분할 컨베이어(Fa/Fb)
48 : 2단 적층형의 병렬 감압 건조 유닛(VD1/VD2)
50 : 2분할형의 반출용 분할 컨베이어(Ra/Rb)
56 : 귀로 평류 반송로
80 : 컨베이어 본체
82 : 롤러
84a, 84b, 86a, 86b : 컨베이어 승강부

Claims (17)

  1. 프로세스 플로우를 따라서 피처리 기판을 평류로 반송하기 위한 평류 반송로와,
    프로세스 플로우에 있어서 상기 평류 반송로의 하류측에 상기 평류 반송로와 대략 직교하는 오프셋 방향으로 겹쳐지거나, 또는 배열되어 배치되는 복수의 병렬 처리 유닛과,
    상기 평류 반송로의 종단부와 상기 병렬 처리 유닛의 입구 사이에 평류 반송 방향에서 분할되어 배치되는 복수의 분할 컨베이어와,
    상기 복수의 분할 컨베이어를, 상기 평류 반송로로부터 기판을 평류로 수취하고, 수취한 기판을 상기 병렬 처리 유닛 중 어느 하나로 분배하여 평류로 반입하도록, 상기 오프셋 방향에서 각각 독립적으로 이동시키는 분할 컨베이어 이동부를 갖는, 처리 시스템.
  2. 제1항에 있어서, 각각의 상기 분할 컨베이어는 상기 평류 반송로로부터 기판을 평류로 수취하기 위한 수취 위치와, 상기 평류 반송로로부터 상기 오프셋 방향으로 오프셋하여 배치되는 각각의 상기 병렬 처리 유닛에 기판을 평류로 반입하기 위한 오프셋 반입 위치 사이에서 이동 가능하게 설치되는, 처리 시스템.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 병렬 처리 유닛 중 하나가, 상기 평류 반 송로와 일직선 상에 배치되고,
    당해 병렬 처리 유닛으로 기판을 반입할 때에는, 상기 복수의 분할 컨베이어가 상기 직선 상에 전부 정렬되어 정렬 합체한 상태 하에서, 상기 평류 반송로로부터 기판을 수취하기 위한 평류 반송과, 당해 병렬 처리 유닛으로 기판을 반입하기 위한 평류 반송이 연속적으로 행해지는, 처리 시스템.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 분할 컨베이어는 평류 반송 방향에 있어서, 각각 단일 부재의 컨베이어 길이가 상기 기판보다도 짧고, 전부 일렬로 정렬 합체했을 때의 합체 컨베이어 길이가 상기 기판과 대략 동일하거나 그것보다도 긴, 처리 시스템.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 분할 컨베이어는, 기판을 적재하여 수취 위치로부터 오프셋 반입 위치로 이송할 때에는 평류 반송 방향에서 전부 일렬로 정렬 합체한 상태를 유지하여 동시에 이동하고, 비어 있는 상태에서 오프셋 반입 위치로부터 수취 위치로 복귀될 때에는 평류 반송 방향의 상류측으로부터 기판을 하류측으로 송출한 순으로 개별로 이동하는, 처리 시스템.
  6. 제1항 또는 제2항에 있어서, 각각의 상기 병렬 처리 유닛은, 상기 분할 컨베이어로부터 미처리의 기판을 평류로 유닛 내로 반입하고, 유닛 내에서 처리가 종료된 기판을 평류로 프로세스 플로우의 하류측으로 반출하기 위한 내부 컨베이어를 구비하는, 처리 시스템.
  7. 제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 평류 반송로를 따라서 평류의 처리 유닛이 적어도 1대 설치되는, 처리 시스템.
  8. 프로세스 플로우를 따라서 피처리 기판을 평류로 반송하기 위한 제1 평류 반송로와,
    프로세스 플로우에 있어서 상기 평류 반송로의 하류측에 상기 제1 평류 반송로와 대략 직교하는 오프셋 방향으로 겹쳐지거나, 또는 배열되어 배치되는 제2 및 제3 평류 반송로와,
    상기 제1 평류 반송로의 종단부와 상기 제2 및 제3 평류 반송로의 시단부 사이에 평류 반송 방향에서 분할되어 배치되는 복수의 분할 컨베이어와,
    상기 복수의 분할 컨베이어를, 상기 제1 평류 반송로로부터 기판을 평류로 수취하고, 수취한 기판을 상기 제2 또는 제3 평류 반송로 중 어느 하나로 분배하여 평류로 전달하도록, 상기 오프셋 방향에서 각각 독립적으로 이동시키는 분할 컨베이어 이동부를 갖는, 처리 시스템.
  9. 프로세스 플로우를 따라서 피처리 기판을 평류로 반송하기 위한 평류 반송로와,
    프로세스 플로우에 있어서 상기 평류 반송로의 상류측에 상기 평류 반송로와 대략 직교하는 오프셋 방향으로 겹쳐지거나, 또는 배열되어 배치되는 복수의 병렬 처리 유닛과,
    상기 병렬 처리 유닛의 출구와 상기 평류 반송로의 시단부 사이에 평류 반송 방향에서 분할되어 배치되는 복수의 분할 컨베이어와,
    상기 복수의 분할 컨베이어를, 상기 병렬 처리 유닛 중 어느 하나로부터 기판을 평류로 반출하고, 반출한 기판을 상기 평류 반송로로 평류로 전달하도록, 상기 오프셋 방향에서 각각 독립적으로 이동시키는 분할 컨베이어 이동부를 갖는, 처리 시스템.
  10. 제9항에 있어서, 각각의 상기 분할 컨베이어는, 상기 평류 반송로로부터 상기 오프셋 방향으로 오프셋하여 배치되는 각각의 상기 병렬 처리 유닛으로부터 기판을 평류로 반출하기 위한 오프셋 반출 위치와, 상기 평류 반송로로 기판을 평류로 전달하기 위한 전달 위치 사이에서 이동 가능하게 설치되는, 처리 시스템.
  11. 제9항 또는 제10항에 있어서, 상기 병렬 처리 유닛의 하나가, 상기 평류 반송로와 일직선 상에 배치되고,
    당해 병렬 처리 유닛으로부터 기판을 반출할 때에는, 상기 복수의 분할 컨베이어가 상기 직선 상에 전부 정렬되어 정렬 합체한 상태 하에서, 당해 병렬 처리 유닛으로부터 기판을 반출하기 위한 평류 반송과, 상기 평류 반송로로 기판을 전달하기 위한 평류 반송이 연속적으로 행해지는, 처리 시스템.
  12. 제9항 또는 제10항에 있어서, 상기 분할 컨베이어는, 평류 반송 방향에 있어서, 각각 단일 부재의 컨베이어 길이가 상기 기판보다도 짧고, 전부 일렬로 정렬 합체했을 때의 합체 컨베이어 길이가 상기 기판과 대략 동일하거나 그것보다도 긴, 처리 시스템.
  13. 제9항 또는 제10항에 있어서, 상기 분할 컨베이어는, 기판을 적재하여 오프셋 반출 위치로부터 전달 위치로 이송할 때에는 평류 반송 방향에서 전부 일렬로 정렬 합체한 상태를 유지하여 동시에 이동하고, 비어 있는 상태에서 전달 위치로부터 오프셋 반출 위치로 복귀될 때에는 평류 반송 방향의 상류측으로부터 기판을 하류측으로 송출한 순으로 개별로 이동하는, 처리 시스템.
  14. 제9항 또는 제10항에 있어서, 각각의 상기 병렬 처리 유닛은, 미처리의 기판을 프로세스 플로우의 상류측으로부터 평류로 유닛 내로 반입하고, 유닛 내에서 처리가 종료된 기판을 평류로 상기 분할 컨베이어로 반출하기 위한 내부 컨베이어를 구비하는, 처리 시스템.
  15. 제9항 또는 제10항에 있어서, 상기 평류 반송로를 따라서 평류의 처리 유닛이 적어도 1대 설치되는, 처리 시스템.
  16. 프로세스 플로우를 따라서 피처리 기판을 평류로 반송하기 위한 제1 평류 반송로와,
    프로세스 플로우에 있어서 상기 제1 평류 반송로의 상류측에 상기 제1 평류 반송로와 대략 직교하는 오프셋 방향으로 겹쳐지거나, 또는 배열되어 부설되는 제2 및 제3 평류 반송로와,
    상기 제2 및 제3 평류 반송로의 종단부와 상기 제1 평류 반송로의 시단부 사이에 평류 반송 방향에서 분할되어 배치되는 복수의 분할 컨베이어와,
    상기 복수의 분할 컨베이어를, 상기 제2 또는 제3 평류 반송로 중 어느 하나로부터 기판을 평류로 수취하고, 수취한 기판을 상기 제1 평류 반송로로 평류로 전달하도록, 상기 오프셋 방향에서 각각 독립적으로 이동시키는 분할 컨베이어 이동부를 갖는, 처리 시스템.
  17. 프로세스 플로우를 따라서 피처리 기판을 평류로 반송하기 위한 빈 스페이스를 통해 서로 분단된 제1 및 제2 평류 반송로와,
    상기 빈 스페이스에 평류 반송 방향에서 분할되어 배치되는 복수의 분할 컨베이어와,
    상기 복수의 분할 컨베이어를, 상기 제1 평류 반송로로부터 기판을 평류로 수취하고, 수취한 기판을 상기 제2 평류 반송로로 전달하도록, 상기 평류 반송 방향에서 각각 독립적으로 이동시키는 분할 컨베이어 이동부를 갖는, 처리 시스템.
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