KR101280735B1 - 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물, 광 경화성 수지 조성물및 물품 - Google Patents

다관능 (메트)아크릴레이트 화합물, 광 경화성 수지 조성물및 물품 Download PDF

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Abstract

방오 성능을 갖는 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물, 지지 기체에 대하여 그 표면의 내흠집성을 손상시키지 않고 오일 미스트나 지문 등의 유기 오염물에 대한 방오성을 부여시킬 수 있는 광 경화성 수지 조성물 및 그의 피막이 형성된 물품을 제공한다.
평균 조성 화학식 1로 표시되고, 1 분자 중에 F 원자를 3개 이상 및 Si 원자를 3개 이상 함유하는 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물, 상기 화합물을 함유하는 방오 성능을 갖는 광 경화성 수지 조성물 및 이 경화 피막이 형성되어 이루어지는 물품.
<화학식 1>
RaRf bRA cSiO(4-a-b-c)/2
(식 중, R은 수소 원자, 메틸기, 에틸기, 프로필기 또는 페닐기이고, Rf는 불소 원자를 함유하는 유기기이고, RA는 (메트)아크릴기를 함유하는 유기기이고, a, b, c는 a=1 내지 1.75, b=0.2 내지 0.4, c=0.4 내지 0.8, a+b+c=2 내지 2.7이다.)
방오성, 광 경화성 수지, (메트)아크릴레이트

Description

다관능 (메트)아크릴레이트 화합물, 광 경화성 수지 조성물 및 물품{Multifunctional (meth)acrylate compound, photocurable resin composition and article}
[특허 문헌 1] 일본 특허 공개 (평)11-293159호 공보
[특허 문헌 2] 일본 특허 공개 제2002-190136호 공보
[특허 문헌 3] 일본 특허 공개 (평)11-213444호 공보
[특허 문헌 4] 일본 특허 공표 (평)11-503768호 공보
본 발명은 방오 성능을 갖는 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물을 광 조사함으로써 경화하여 기재 표면에 내흠집성을 부여함과 동시에 지문이나 먼지가 부착되는 것을 방지 또는 간단하게 제거할 수 있는 방오성이 우수한 경화물을 형성할 수 있는 광 경화성 수지 조성물 및 그의 피막이 형성된 물품에 관한 것이다.
폴리메틸메타크릴레이트 수지, 폴리카르보네이트 수지, 폴리스티렌 수지, 환상 폴리올레핀 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지, 트리아세틸셀룰로오스 수지 등의 합성 수지는 경량ㆍ투명성ㆍ가공 용이성 등의 이점을 갖는다. 따라서, 그와 같은 합성 수지는 최근에 CD, DVD 등의 광 디스크, 액정, EL 패널 등의 표시창, 각종 기능성 필름 등 다양한 분야에서 이용되고 있다.
이들 표면에는 그의 사용시에 각종 오염 물질에 의한 오염이나 지문의 부착이 발생한다. 이들 오염이나 지문의 부착은 바람직하지 않고, 광 정보 매체의 표면에 방오성의 개선, 지문 부착성의 감소 또는 지문 제거성의 향상을 위해 적절한 표면 처리가 실시되는 경우도 있다. 예를 들면, 광 정보 매체 표면에 다양한 발수ㆍ발유 처리를 실시하는 것이 검토되고 있다.
또한, 이들 표면의 내흠집성을 향상시키기 위해서, 투명하면서 또한 내흠집성을 갖는 하드 코팅을 매체의 기록 및/또는 재생 빔 입사측 표면에 형성하는 것이 일반적으로 행해지고 있다. 하드 코팅의 형성은 분자 중에 (메트)아크릴로일기 등의 중합성 관능기를 2개 이상 갖는 활성 에너지선 중합 경화성 화합물을 매체 표면에 도포하여, 이것을 자외선 등의 활성 에너지선의 조사에 의해 경화시킴으로써 행해진다. 그러나, 이러한 하드 코팅은 내흠집성의 향상만을 목적으로 하기 때문에, 진애(塵埃)나 대기 중의 오일 미스트 또는 지문 오염 등의 오염 물질에 대한 방오 효과를 기대할 수는 없다.
유기 오염물에 대한 방오성을 갖는 하드 코팅으로서는, 예를 들면 일본 특허 공개 (평)11-293159호 공보, 일본 특허 공개 제2002-190136호 공보(특허 문헌 1, 2)에 하드 코팅제 중에 가교형 불소계 계면 활성제를 첨가하는 것이 제안되어 있다. 이러한 가교형 불소계 계면 활성제는 중합성 이중 결합을 가지고, 하드 코팅제 베이스 수지와 가교하여 막 중에 고정된다.
일본 특허 공개 (평)11-213444호 공보, 일본 특허 공표 (평)11-503768호 공보(특허 문헌 3, 4)에는 불소계 중합체를 도포하는 것이 개시되어 있다.
그러나, 불소계 재료로 형성된 막은 피막 내부에도 불소 재료가 고정되기 때문에 강도가 저하되고, 그 강도의 저하를 피하기 위해서 첨가량을 적게 하면, 기대하는 방오성이 얻어지지 않게 된다.
일본 특허 공개 제2002-190136호 공보(특허 문헌 2)에는 하드 코팅 상에 발수성 또는 발유성기를 포함하는 실란 커플링제 막을 설치하고, 광 정보 매체 표면의 방오성을 향상시키는 것이 개시되어 있다. 이 방법에서는 강도, 방오성을 부여할 수 있지만 공정이 번잡해지기 때문에, 하드 코팅 재료에 첨가하는 것만으로 강도와 방오성을 부여할 수 있는 재료가 요구되었다.
본 발명은 상기 사정을 감안하여 이루어진 것이며, 방오 성능을 갖는 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물, 지지 기체(基體)에 대하여 그 표면의 내흠집성을 손상시키지 않고 오일 미스트나 지문 등의 유기 오염물에 대한 방오성(특히, 부착된 오염물이 제거되기 쉽도록 하는 방오성)을 부여시킬 수 있는 광 경화성 수지 조성물 및 그의 피막이 형성된 물품을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명자는 상기 목적을 달성하기 위해서 표면 보호층에 대하여 다양한 검토를 행한 결과, 평균 조성 화학식 1로 표시되고, 1 분자 중에 F 원자를 3개 이상 및 Si 원자를 3개 이상 함유하는 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물을 첨가한 조성 물, 특히 상기 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물, 다른 다관능 (메트)아크릴레이트 및 라디칼 개시제, 바람직하게는 금속 미립자를 더 함유하는 조성물을 사용함으로써 내흠집성을 손상시키지 않고 방오성이 우수한 피막이 얻어지는 것을 발견하였다.
RaRf bRA cSiO(4-a-b-c)/2
(식 중, R은 수소 원자, 메틸기, 에틸기, 프로필기 또는 페닐기이고, Rf는 불소 원자를 함유하는 유기기이고, RA는 (메트)아크릴기를 함유하는 유기기이고, a, b, c는 a=1 내지 1.75, b=0.2 내지 0.4, c=0.4 내지 0.8, a+b+c=2 내지 2.7임)
즉, 상기 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물을 첨가한 조성물은 실록산 골격의 효과에 의해 표층에 편재화되고, 또한 (메트)아크릴기를 함유하기 때문에 표면에서 고정화되어 장기간에 걸쳐 방오성이 얻어지는 것을 발견하고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
따라서, 본 발명은 하기에 나타내는 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물, 광 경화성 수지 조성물 및 그의 피막을 형성한 물품을 제공한다.
[1] 평균 조성 화학식 1로 표시되고, 1 분자 중에 F 원자를 3개 이상 및 Si 원자를 3개 이상 함유하는 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물.
<화학식 1>
RaRf bRA cSiO(4-a-b-c)/2
(식 중, R은 수소 원자, 메틸기, 에틸기, 프로필기 또는 페닐기이고, Rf는 불소 원자를 함유하는 유기기이고, RA는 (메트)아크릴기를 함유하는 유기기이고, a, b, c는 a=1 내지 1.75, b=0.2 내지 0.4, c=0.4 내지 0.8, a+b+c=2 내지 2.7임)
[2] [1]에 있어서, 화학식 2로 표시되는 분지상 실록산으로 이루어지는 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물.
RfSiRk[OSiRm(ORA)3-m]3-k
(식 중, R은 수소 원자, 메틸기, 에틸기, 프로필기 또는 페닐기이고, Rf는 불소 원자를 함유하는 유기기이고, RA는 (메트)아크릴기를 함유하는 유기기이고, m=0, 1 또는 2이고, k=0 또는 1임)
[3] [1]에 있어서, 화학식 3으로 표시되는 환상 실록산으로 이루어지는 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물.
(RfRSiO)(RARSiO)n
(식 중, R은 수소 원자, 메틸기, 에틸기, 프로필기 또는 페닐기이고, Rf는 불소 원자를 함유하는 유기기이고, RA는 (메트)아크릴기를 함유하는 유기기이고, n은 n≥2임)
[4] [1] 내지 [3] 중 어느 한 항에 있어서, RA의 Si 원자에의 결합 부위가 Si-O-C 결합인 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물.
[5] [1] 내지 [4] 중 어느 한 항에 있어서, Rf가 CxF2x +1(CH2)p-(식 중, x는 1 내지 8의 정수, p는 2 내지 10의 정수임)로 표시되는 기 또는 퍼플루오로폴리에테르 치환 알킬기인 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물.
[6] (a) 하기 (b) 이외의 다관능 (메트)아크릴레이트 100 질량부,
(b) [1] 내지 [5] 중 어느 한 항에 기재된 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물 0.01 내지 5 질량부,
(c) 라디칼 개시제 0.1 내지 10 질량부
를 함유하는 방오 성능을 갖는 광 경화성 수지 조성물.
[7] [6]에 있어서, (d) 금속 미립자 5 내지 200 질량부를 더 함유하는 것을 특징으로 하는 광 경화성 수지 조성물.
[8] [6] 또는 [7]에 기재된 광 경화성 수지 조성물의 경화 피막이 형성되어 이루어지는 물품.
<발명을 실시하기 위한 최선의 형태>
본 발명의 1 분자 중에 F 원자를 3개 이상 및 Si 원자를 3개 이상 함유하는 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물은 하기 평균 조성식 1로 표시되는 것이다.
<화학식 1>
RaRf bRA cSiO(4-a-b-c)/2
(식 중, R은 수소 원자, 메틸기, 에틸기, 프로필기 또는 페닐기이고, Rf는 불소 원자를 함유하는 유기기이고, RA는 (메트)아크릴기를 함유하는 유기기이고, a, b, c는 a=1 내지 1.75, b=0.2 내지 0.4, c=0.4 내지 0.8, a+b+c=2 내지 2.7임)
상기 화학식 중, R은 수소 원자, 메틸기, 에틸기, 프로필기 또는 페닐기이다.
a는 1 내지 1.75, 바람직하게는 1 내지 1.5이고, 1보다 작으면 화합물의 합성이 공업적으로 곤란해지고, 1.75보다 크면 경화성, 방오성을 양립시킬 수 없게 된다.
Rf는 불소 원자를 함유하는 유기기이고, CxF2x +1(CH2)p-(식 중, x는 1 내지 8의 정수, p는 2 내지 10의 정수임)로 표시되는 기 또는 퍼플루오로폴리에테르 치환 알킬기인 것이 바람직하다.
이러한 Rf로서 구체적으로는
CF3C2H4-, C4F9C2H4-, C4F9C3H6-,
C8F17C2H4-, C8F17C3H6-,
C3F7C(CF3)2C3H6-,
C3F7OC(CF3)FCF2OCF2CF2C3H6-,
C3F7OC(CF3)FCF2OC(CF3)FC3H6-,
CF3CF2CF2OC(CF3)FCF2OC(CF3)FCONHC3H6-
등을 들 수 있다.
b는 0.2 내지 0.4, 바람직하게는 0.2 내지 0.25이고, 0.2보다 작으면 방오성이 저하되고, 0.4보다 크면 경화성이 악화된다.
RA는 (메트)아크릴기를 함유하는 유기기이고, 구체적으로는
CH2=CHCOO-, CH2=C(CH3)COO-,
CH2=CHCOOC3H6-, CH2=C(CH3)COOC3H6-,
CH2=CHCOOC2H4O-, CH2=C(CH3)COOC2H4O-
등을 들 수 있다. 또한, RA는 공업적인 합성 용이성 때문에 Si 원자에의 결합이 Si-O-C 결합인 것이 보다 바람직하다.
c는 0.4 내지 0.8, 바람직하게는 0.6 내지 0.8이고, 0.4보다 작으면 경화성이 악화되고, 0.8보다 크면 방오성이 저하된다.
또한, a+b+c는 2 내지 2.7, 바람직하게는 2 내지 2.5이고, 2보다 작으면 표면에의 편재화가 일어나기 어려워지고, 2.7보다 크면 경화성, 방오성을 양립시킬 수 없게 된다.
본 발명의 다관능 아크릴레이트는 1 분자 중에 F 원자를 3개 이상 및 Si 원자를 3개 이상, 바람직하게는 F 원자를 3 내지 17개 및 Si 원자를 3 내지 8개 함유한다. F 원자가 3개 미만이면 방오성이 불충분해지고, Si 원자가 3개 미만이면 표면에의 편재화가 부족하기 때문에 방오성이 불충분해진다.
본 발명의 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물의 제조 방법으로서는, 예를 들면 불소 원자를 3개 이상 함유하는 유기기와 Si-H기를 3개 이상 갖는 실록산 화합물에 알릴(메트)아크릴레이트 등을 부가 반응시키는 방법이나, 불소 원자를 3개 이상 함유하는 유기기와 Si-H기를 3개 이상 갖는 실록산 화합물과 히드록시에틸아크릴레이트 등의 OH기를 갖는 (메트)아크릴 화합물을 탈수소 반응시키는 방법 등을 들 수 있다.
이들 방법 중에서 부가 반응은 (메트)아크릴기도 부가 반응을 받을 가능성이 있지만, 탈수소 반응에서는 아민 등의 촉매를 이용함으로써, (메트)아크릴기를 유지한 채로 반응이 진행되고, 목적으로 하는 화합물이 용이하게 얻어지기 때문에 보다 바람직하다.
실록산 구조로서는 직쇄상, 분지상, 환상 중 어느 것일 수도 있지만, 이들 중에서 특히 분지상, 환상의 것이 후술하는 다른 다관능 (메트)아크릴레이트 등과 상용성이 양호하고, 크레이터링(cratering)이 없으며 표면에의 편재화가 일어나기 쉽기 때문에 바람직하다.
여기서, 실록산 구조가 분지상인 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물로서는 하기 화학식 2로 표시되는 것이 바람직하다.
<화학식 2>
RfSiRk[OSiRm(ORA)3-m]3-k
(식 중, R, Rf, RA는 상기와 동일하고, m=0, 1 또는 2, 특히 m=2이고, k=0 또는 1임)
또한, 실록산 구조가 환상 구조인 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물로서는, 하기 화학식 3으로 표시되는 것이 바람직하다.
<화학식 3>
(RfRSiO)(RARSiO)n
(식 중, R, Rf, RA는 상기와 동일하고, n≥2, 특히 3≤n≤5임)
이러한 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물의 구체적인 예로서는,
Figure 112006086036979-pat00001
등을 들 수 있다.
본 발명의 방오 성능을 갖는 광 경화성 수지 조성물은
(a) 상술한 1 분자 중에 F 원자를 3개 이상 및 Si 원자를 3개 이상 함유하는 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물 이외의 다관능 (메트)아크릴레이트,
(b) 상기 1 분자 중에 F 원자를 3개 이상 및 Si 원자를 3개 이상 함유하는 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물,
(c) 라디칼 개시제
를 함유하는 것이고,
(d) 금속 미립자
를 더 함유할 수 있다.
(a) 다관능 ( 메트 ) 아크릴레이트
본 발명의 (a) 성분은 경화성 성분의 주성분이고, 경화 후에 얻어지는 피막의 매트릭스를 형성한다. 바람직하게는 분자내에 2개 이상의 (메트)아크릴기를 갖는 화합물이고, 예를 들면 1,6-헥산디올 디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜 디(메트)아크릴레이트, 에틸렌옥시드 변성 비스페놀 A 디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판 테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨 헥사(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, 3-(메트)아크릴로일옥시 글리세린 모노(메트)아크릴레이트, 우레탄 아크릴레이트, 에폭시 아크릴레이트, 에스테르아크릴레이트 등을 들 수 있지만, 반드시 이것으로 한정되지 않는다.
이들 화합물은 1종만을 이용할 수도 있고, 2종 이상을 병용할 수도 있다.
(b) F 원자 및 Si 원자를 함유하는 다관능 ( 메트 ) 아크릴레이트
본 발명의 (b) 성분은 상술한 1 분자 중에 F 원자를 3개 이상 및 Si 원자를 3개 이상 함유하는 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물이고, 방오성을 부여하는 성분이다.
(b) 성분의 배합량은 (a) 성분 100 질량부에 대하여 0.01 내지 5 질량부이 고, 바람직하게는 0.05 내지 3 질량부이다. 배합량이 0.05 질량부보다 적으면 방오성이 저하되고, 3 질량부보다 많으면 표면의 경도가 저하된다.
(c) 라디칼 개시제
본 발명의 (c) 성분은 아세토페논계, 벤조인계, 벤조페논계, 티오크산톤계 등의 통상적인 것으로부터 선택할 수 있다.
예를 들면, 다로큐어 1173, 이루가큐어 651, 이루가큐어 184, 이루가큐어 907(모두 시바 스페셜티 케미칼즈사 제조) 등을 들 수 있다.
(c) 성분의 배합량은 (a) 성분 100 질량부에 대하여 0.1 내지 10 질량부이고, 바람직하게는 0.5 내지 8 질량부이다. 배합량이 0.1 질량부보다 적으면 경화성이 악화되고, 10 질량부보다 많으면 표면의 경도가 저하된다.
(d) 금속 미립자
본 발명의 (d) 성분인 금속 미립자로서는, 무기 미립자의 금속 또는 반금속, 금속(또는 반금속) 산화물의 미립자 또는 금속(또는 반금속) 황화물의 미립자 등을 사용할 수 있다. 무기 미립자의 금속 또는 반금속으로서는, 예를 들면 Si, Ti, Al, Zn, Zr, In, Sn, Sb 등 또는 이들의 복합 산화물 입자 등을 들 수 있다. 또한, 산화물, 황화물 외에 Se화물, Te화물, 질화물, 탄화물 등을 사용할 수도 있다. 또한, 표면을 실리카, 알루미나 등으로 피복한 것을 사용할 수도 있다. 금속 미립자로서는, 예를 들면 실리카, 알루미나, 지르코니아, 티타니아 등의 미립자를 들 수 있고, 실리카 미립자가 바람직하다. 이러한 금속 미립자를 첨가함으로써 내마모성을 보다 높일 수 있다.
상기 실리카 미립자 중에서도 활성 에너지선 반응성기를 갖는 가수분해성 실란 화합물에 의해서 표면 수식된 것이 바람직하게 사용된다. 이러한 반응성 실리카 미립자는 하드 코팅을 경화시킬 때의 활성 에너지선 조사에 의해서 가교 반응을 일으키고, 중합체 매트릭스 중에 고정된다.
(d) 성분의 배합량은 (a) 성분 100 질량부에 대하여 0 내지 200 질량부이고, 바람직하게는 0 내지 150 질량부이다. 배합량이 200 질량부보다 많으면 균열이 발생하는 경우가 있다. 또한, (d) 성분을 배합하는 경우, 5 질량부 이상 배합하는 것이 바람직하다.
본 발명의 광 경화성 수지 조성물에는 필요에 따라서 비중합성 희석 용제, 유기 충전재, 중합 금지제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 광 안정제, 소포제, 레벨링제 등을 본 발명의 목적을 손상시키지 않는 범위에서 포함하여도 지장이 없다.
본 발명의 광 경화성 수지 조성물은 상기 각 성분을 통상법에 준하여 혼합함으로써 제조할 수 있다.
상기에서 얻어진 조성물을 이용하여 피막을 형성하는 방법으로서는 스핀 코팅법 등에 의해 피막을 제조할 수 있다. 형성된 피막의 막 두께는 0.5 내지 30 ㎛의 범위인 것이 바람직하다.
본 발명의 광 경화성 수지 조성물은 광 조사, 예를 들면 자외선 조사에 의해서 경화된다. 또한, 자외선 경화의 조건으로서는 공지된 조건으로 할 수 있다.
여기서, 표면에 방오층의 부여가 필요한 물품으로서는, 광 정보 매체, 광학 렌즈, 광학 필터, 반사 방지막 및 액정 디스플레이, CRT 디스플레이, 플라즈마 디 스플레이, EL 디스플레이 등의 각종 표시 소자 등을 들 수 있다.
특히, 본 발명에 있어서는 재생 전용 광 디스크, 광 기록 디스크, 광 자기 기록 디스크 등의 광 정보 매체, 보다 상세하게는 기록 및/또는 재생 빔 입사측 표면에 광 경화성 수지 조성물의 경화 피막을 형성함으로써, 방오성 및 윤활성이 우수함과 동시에 내흠집성 및 내마모성도 우수한 광 정보 매체가 얻어진다.
<실시예>
이하, 합성예, 실시예 및 비교예를 나타내어 본 발명을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 하기 실시예로 제한되지 않는다. 또한, 하기 예에 있어서 점도는 캐논 펜스케형 모세관 점도계에 의해 측정한 25 ℃에서의 값을 나타내고, 굴절률은 디지탈 굴절률계 RX-7000α(아타고사 제조)에 의해 측정한 값을 나타낸다.
[합성예 1]
하기 화학식(4)로 표시되는 화합물 69.4 질량부(0.1 몰), 2-히드록시에틸아크릴레이트 36.5 질량부(0.315 몰), 톨루엔 111.9 질량부를 반응기 중에 배합하여 균일해지면, 촉매로서 N,N-디에틸히드록실아민 1.12 질량부(0.0126 몰)를 첨가하였다. 그 후, 70 ℃에서 8 시간 반응시켰다. 수세 후, 톨루엔 등을 증류 제거하였다. 이 반응물은 적외 흡수 광 분석, 핵 자기 공명 분석 및 원소 분석으로부터 하기 화학식(1)로 표시되는 화합물인 것이 확인되었다. 또한, 이 반응물은 점도 93.0 mm2/s, 굴절률 1.4018이었다.
Figure 112006086036979-pat00002
[합성예 2]
화학식(4)로 표시되는 화합물을 하기 화학식(5)로 표시되는 화합물 75.7 질량부(0.1 몰)로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 행하여 하기 화학식(2)로 표시되는 화합물을 얻었다. 또한, 이 화합물은 점도 272 mm2/s, 굴절률 1.4031이었다.
Figure 112006086036979-pat00003
[합성예 3]
화학식(4)로 표시되는 화합물을 하기 화학식(6)으로 표시되는 화합물 70.8 질량부(0.1 몰)로 변경한 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 행하여 하기 화학식(3)으로 표시되는 화합물을 얻었다. 또한, 이 화합물은 점도 25.3 mm2/s, 굴절률1.3985였다.
Figure 112006086036979-pat00004
[실시예 1]
γ-아크릴옥시프로필트리메톡시실란 처리를 행한 실리카 40 질량부, 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트 40 질량부, 1,6-헥산디올 디아크릴레이트 20 질량부, 합성예 1에서 얻어진 화학식(1)의 화합물 0.5 질량부, 라디칼 개시제로서 다로큐어 1173 5 질량부를 혼합하였다.
폴리카르보네이트판 상에 스핀 코팅법으로 도장하고, UV 조사하여 5 ㎛의 피막을 형성하였다.
형성한 피막에 대하여 이하의 시험을 행하고, 그 결과를 표 1에 통합하였다.
(I) 테이버 마모 시험
ASTM D 1044에 준하여 마모륜 CS-10F, 500 g 하중, 100 회전 후의 헤이즈값의 변화를 측정하였다.
(II) 올레산 접촉각
접촉각계 CA-150X형(교와 가이멘 가가꾸사 제조)으로써 측정하였다.
(III) 매직 잉크 제거성
매직 잉크로 선을 그리고, 1 분 후에 가제로 닦아낸 후의 잉크 잔여물에서 하기 기준에 의해 판정하였다.
○: 매직 잉크로 그린 선의 흔적이 남지 않음
×: 매직 잉크로 그린 선의 흔적이 남음
[실시예 2]
실시예 1 중의 화학식(1)의 화합물을 합성예 2에서 얻어지는 화학식(2)의 화합물로 변경하여 동일하게 행하였다.
[실시예 3]
실시예 1 중의 화학식(1)의 화합물을 합성예 3에서 얻어진 화학식(3)의 화합물로 변경하여 동일하게 행하였다.
[비교예 1]
실시예 1 중의 화학식(1)의 화합물을 첨가하지 않은 것 이외에는 동일하게 행하였다.
[비교예 2]
실시예 1 중의 화학식(1)의 화합물을 옥타플루오로펜틸아크릴레이트로 변경하여 동일하게 행하였다.
Figure 112006086036979-pat00005
비교예 1에서는 불소 화합물을 첨가하지 않기 때문에 방오성이 얻어지지 않았다.
또한, 비교예 2에서는 불소를 함유하고 있더라도 실리콘을 함유하지 않기 때문에, 표면에의 편재화가 일어나지 않으므로 방오성이 얻어지지 않았다.
본 발명에 따르면, 표면에 방오층의 부여가 필요한 물품에, 1 분자 중에 F 원자를 3개 이상 및 Si 원자를 3개 이상 함유하는 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물을 포함하는 광 경화성 수지 조성물의 피막을 형성함으로써, 광 조사하여 경화시킬 수 있고, 기재 표면 상에 내흠집성을 부여함과 동시에 지문이나 먼지가 부착되는 것을 방지 또는 간단하게 제거할 수 있는 방오성이 우수한 경화 피막이 형성되는 것이다.

Claims (8)

  1. 평균 조성 화학식 1로 표시되고, 1 분자 중에 F 원자를 3개 이상 및 Si 원자를 3개 이상 함유하는 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물.
    <화학식 1>
    RaRf bRA cSiO(4-a-b-c)/2
    (식 중, R은 수소 원자, 메틸기, 에틸기, 프로필기 또는 페닐기이고, Rf는 불소 원자를 함유하는 유기기이고, RA는 (메트)아크릴기를 함유하는 유기기이고, RA의 Si 원자에의 결합 부위가 Si-O-C 결합이고, a, b, c는 a=1 내지 1.75, b=0.2 내지 0.4, c=0.4 내지 0.8, a+b+c=2 내지 2.7임)
  2. 제1항에 있어서, 화학식 2로 표시되는 분지상 실록산으로 이루어지는 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물.
    <화학식 2>
    RfSiRk[OSiRm(ORA)3-m]3-k
    (식 중, R은 수소 원자, 메틸기, 에틸기, 프로필기 또는 페닐기이고, Rf는 불소 원자를 함유하는 유기기이고, RA는 (메트)아크릴기를 함유하는 유기기이고, RA의 Si 원자에의 결합 부위가 Si-O-C 결합이고, m=0, 1 또는 2이고, k=0 또는 1임)
  3. 제1항에 있어서, 화학식 3으로 표시되는 환상 실록산으로 이루어지는 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물.
    <화학식 3>
    (RfRSiO)(RARSiO)n
    (식 중, R은 수소 원자, 메틸기, 에틸기, 프로필기 또는 페닐기이고, Rf는 불소 원자를 함유하는 유기기이고, RA는 (메트)아크릴기를 함유하는 유기기이고, RA의 Si 원자에의 결합 부위가 Si-O-C 결합이고, n은 n≥2임)
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, Rf가 CxF2x+1(CH2)p-(식 중, x는 1 내지 8의 정수, p는 2 내지 10의 정수임)로 표시되는 기 또는 퍼플루오로폴리에테르 치환 알킬기인 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물.
  5. (a) 하기 (b) 이외의 다관능 (메트)아크릴레이트 100 질량부,
    (b) 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 기재된 다관능 (메트)아크릴레이트 화합물 0.01 내지 5 질량부,
    (c) 라디칼 개시제 0.1 내지 10 질량부
    를 함유하는 방오 성능을 갖는 광 경화성 수지 조성물.
  6. 제5항에 있어서, (d) 금속 미립자 5 내지 200 질량부를 더 함유하는 것을 특징으로 하는 광 경화성 수지 조성물.
  7. 제5항에 기재된 광 경화성 수지 조성물의 경화 피막이 형성되어 이루어지는 물품.
  8. 삭제
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