JP5326994B2 - 光硬化性樹脂組成物及びその硬化皮膜を有する物品 - Google Patents
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Description
〔請求項1〕
(1)平均粒子径が80nm以下の無機酸化物微粒子、
(2)(メタ)アクリル基を3個以上含有する化合物、
(3)(メタ)アクリル基を1個又は2個含有する化合物、
(4)R1R2R3R4N+ X-(R1、R2、R3、R4はCH3、C2H5、C2H4OCH3、C6H13、C8H17から選択される基で、それぞれの基は同一であっても異なっても良い。XはN(SO2CF3)2、BF4、PF6から選択される基である。)で表されるイオン性化合物、
(5)ラジカル系光重合開始剤
を含有してなり、(1),(2),(3)成分の合計100質量部中、(1)成分が25〜70質量部、(2)成分が20〜70質量部、(3)成分が5〜30質量部であり、(1),(2),(3)成分の合計100質量部に対して、(4)成分が0.05〜3質量部、(5)成分が1〜8質量部であり、実質的に溶剤を含有せず、25℃における粘度が500mPa・s以下であることを特徴とする光硬化性樹脂組成物。
〔請求項2〕
(1)成分の平均粒子径が80nm以下の無機酸化物微粒子が、シリカ微粒子である請求項1記載の光硬化性樹脂組成物。
〔請求項3〕
シリカ微粒子が、(メタ)アクリル基を含有するシランカップリング剤で処理されたものである請求項2記載の光硬化性樹脂組成物。
〔請求項4〕
(1)成分が(2)成分及び/又は(3)成分に予め分散した混合物に(4),(5)成分を混合してなることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の光硬化性樹脂組成物。
〔請求項5〕
請求項1〜4のいずれか1項に記載の光硬化性樹脂組成物の硬化皮膜が形成されてなる物品。
(1)平均粒子径が80nm以下の無機酸化物微粒子、
(2)(メタ)アクリル基を3個以上含有する化合物、
(3)(メタ)アクリル基を1個又は2個含有する化合物、
(4)脂肪族アミン系イオン性化合物、
(5)ラジカル系光重合開始剤
を含有し、実質的に溶剤を含有せず、25℃における粘度が500mPa・s以下のものである。
本発明の(1)無機酸化物微粒子は、例えば、Si、Ti、Al、Zn、Zr、In、Sn、Sb、Ce、Fe等の酸化物微粒子、あるいはこれらの複合酸化物微粒子等が挙げられる。金属酸化物微粒子として、具体的には、例えば、シリカ、アルミナ、ジルコニア、チタニア、酸化セリウム等の微粒子が挙げられる。
また、活性エネルギー線反応性基を有する加水分解性シラン化合物の表面修飾量は、好ましくは0.1〜10質量%、より好ましくは0.5〜8質量%、特に好ましくは1〜5質量%である。
具体的には、無機酸化物微粒子を、(メタ)アクリル基含有化合物中に分散剤や分散機器を用い、物理的に分散する方法や、無機酸化物微粒子が分散された溶液に(メタ)アクリル基含有化合物を添加した後、もともとの分散剤を留去する方法が挙げられる。
本発明の(2)(メタ)アクリル基を3個以上含有する化合物は、(1)無機酸化物微粒子及び(3)(メタ)アクリル基を1個又は2個含有する化合物と共に、硬化性成分の主成分となるものであり、硬化後に得られる皮膜のマトリックスを形成するものである。
(メタ)アクリル基を3個以上含有する化合物は、(1)成分の無機酸化物微粒子を分散すると共にバインダー成分であり、該化合物により、耐磨耗性に優れ、高硬度な硬化物が得られるものである。
これらの化合物は1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
本発明の(3)(メタ)アクリル基を1個又は2個含有する化合物は、(1)無機酸化物微粒子及び(2)(メタ)アクリル基を3個以上含有する化合物と共に、硬化性成分の主成分となるものであり、硬化後に得られる皮膜のマトリックスを形成するものである。
特に粘度を低下させるための成分であると共に、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリスチレン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、トリアセチルセルロース樹脂等との密着性を向上させるための成分である。
(3)成分は、粘度を低下させるためには、25℃における粘度が100mPa・s以下、特には50mPa・s以下であることが好ましい。下限は特に制限されないが、通常1mPa・s以上である。なお、粘度は回転粘度計により測定できる(以下、同じ)。
これらの化合物は1種のみを用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
(1)成分と(2)成分と(3)成分の合計100質量部中、(1)成分の配合量が25質量部未満であると、硬度が低下し、十分な耐磨耗性が得られなくなり、70質量部を超えると、皮膜の外観が悪くなる。また、(2)成分の配合量が20質量部未満であると、分散安定性が悪く、皮膜外観を悪化させてしまい、70質量部を超えると、硬度が低下する。(3)成分の配合量が5質量部未満であると、密着性が悪くなり、30質量部を超えると、硬度が低下する。
本発明において、(4)R1R2R3R4N+ X-(R1、R2、R3、R4はCH3、C2H5、C2H4OCH3、C6H13、C8H17から選択される基で、それぞれの基は同一であっても異なっても良い。XはN(SO2CF3)2、BF4、PF6から選択される基である。)で表される脂肪族アミン系イオン性化合物は、相溶性及び溶解性が良好な帯電防止剤として使用される。また、分散性改善の効果があり、添加することで保存時の凝集や沈降が抑制でき、更に皮膜が白濁するのを防ぐことができる。
(C2H5)4N+BF4 -、(CH3)(C2H5)3N+BF4 -、(CH3)(C2H5)2(C2H4OCH3)N+BF4 -、(CH3)3(C6H13)N+BF4 -、(CH3)(C8H17)3N+BF4 -、(C2H5)4N+PF6 -、(CH3)(C2H5)3N+PF6 -、(CH3)(C2H5)2(C2H4OCH3)N+PF6 -、(CH3)3(C6H13)N+PF6 -、(CH3)(C8H17)3N+PF6 -、(C2H5)4N+(CF3SO2)2N-、(CH3)(C2H5)3N+(CF3SO2)2N-、(CH3)(C2H5)2(C2H4OCH3)N+(CF3SO2)2N-、(CH3)3(C6H13)N+(CF3SO2)2N-、(CH3)(C8H17)3N+(CF3SO2)2N-
本発明の組成物には、(5)ラジカル系光重合開始剤が含有される。ラジカル系光重合開始剤としては、アセトフェノン系、ベンゾイン系、アシルフォスフィンオキサイド系、ベンゾフェノン系、チオキサントン系等の通常のものから選択することができる。具体的には、ベンゾフェノン、ベンジル、ミヒラーズケトン、チオキサントン誘導体、ベンゾインエチルエーテル、ジエトキシアセトフェノン、ベンジルジメチルケタール、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、アシルフォスフィンオキサイド誘導体、2−メチル−1−{4−(メチルチオ)フェニル}−2−モルフォリノプロパン−1−オン、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルスルファイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンなどが挙げられる。これらは単独で用いてもよく2種以上を組み合わせて用いてもよい。
これらのうちでは、ベンジルジメチルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ヒドロキシジメチルアセトフェノン、2−メチル−1−{4−(メチルチオ)フェニル}−2−モルフォリノプロパン−1−オン、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルスルファイド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンが、表面硬化性が良好である点から好ましい。
更に、これらの組成物は25℃における粘度が500mPa・s以下になるように調整する。好ましくは300mPa・s以下である。粘度が高すぎると、塗布作業性が悪化し、スジムラ等が発生しやすくなる。なお、本組成物の25℃における粘度は10mPa・s以上であることが好ましい。
形成された皮膜の膜厚は、0.1〜50μm、特に0.5〜30μmの範囲にあることが好ましい。膜厚が薄すぎると耐磨耗性が低下する場合があり、また厚すぎると耐クラック性が低下する場合がある。
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン処理シリカが分散されたエトキシレートペンタエリスリトールテトラアクリレート(以下、S−PETTA;シリカ濃度50質量%、シリカ粒子径30nm)80質量部、ヘキサンジオールジアクリレート(以下、HDODA、PII値5.5)20質量部、(CH3)(C8H17)3N+(CF3SO2)2N-(以下、MTOTFSI)0.2質量部、ダロキュアー1173(以下、D1173;2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ラジカル系光重合開始剤、チバスペシャリティケミカルズ社製、商品名)3質量部を混合し、25℃における粘度が180mPa・sである光硬化性樹脂組成物を得た。この組成物をポリカーボネートに厚さ5μmとなるように塗布し、80W高圧水銀灯で光を2秒間照射し(積算照射量200mJ/cm2)、硬化させ、透明な膜を得た。
保存安定性:
40℃、14日後に、沈降物があるかないかを目視判定し、下記基準で評価した。
○:沈降物なし
×:沈降物あり
100ccのビーカーに入れて目視判定し、下記基準で評価した。
○:透明
△:わずかに白化
×:白化
ASTM D 1044に準拠し、テーバー磨耗試験機(磨耗輪CS−10F使用)を用いて硬化皮膜の磨耗試験(500g荷重、100回転)を行い、磨耗試験前後の硬化皮膜の濁度を、濁度計(NDH2000、日本電色工業製)を用いて測定し、磨耗試験後の濁度−磨耗試験前の濁度をΔHazeとした(ΔHazeは15以下の場合に耐擦傷性、耐磨耗性が良好である)。
高抵抗抵抗率計(ハイレスタUP MCP−HT450型、ダイアインスツルメント社製)を用い、25℃、50%RHの雰囲気下で測定した。
帯電電荷減衰度測定器(スタチックオネストメーター、シシド静電気社製)を用い、25℃、50%RHの雰囲気下で測定した。
碁盤目テープ剥離試験により下記基準で評価した。
○:異常なし
×:剥離箇所あり
同様に、下記表1,2に示すように配合を変えて膜を得、評価を行った。これらの結果を表1,2に示す。
されたエトキシレートペンタエリスリトールテトラアクリレート、
シリカ濃度50質量%、シリカ粒子径30nm
S−PETTA−2:γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン処理シリカが分
散されたエトキシレートペンタエリスリトールテトラアクリレート、
シリカ濃度50質量%、シリカ粒子径120nm
HDODA:ヘキサンジオールジアクリレート
THFFA:テトラヒドロフルフリルアクリレート
MTOTFSI:(CH3)(C8H17)3N+(CF3SO2)2N-
D1173:ダロキュアー1173、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパ
ン−1−オン、チバスペシャリティケミカルズ社製、商品名
PGM:プロピレングリコールモノメチルエーテル
Claims (5)
- (1)平均粒子径が80nm以下の無機酸化物微粒子、
(2)(メタ)アクリル基を3個以上含有する化合物、
(3)(メタ)アクリル基を1個又は2個含有する化合物、
(4)R1R2R3R4N+ X-(R1、R2、R3、R4はCH3、C2H5、C2H4OCH3、C6H13、C8H17から選択される基で、それぞれの基は同一であっても異なっても良い。XはN(SO2CF3)2、BF4、PF6から選択される基である。)で表されるイオン性化合物、
(5)ラジカル系光重合開始剤
を含有してなり、(1),(2),(3)成分の合計100質量部中、(1)成分が25〜70質量部、(2)成分が20〜70質量部、(3)成分が5〜30質量部であり、(1),(2),(3)成分の合計100質量部に対して、(4)成分が0.05〜3質量部、(5)成分が1〜8質量部であり、実質的に溶剤を含有せず、25℃における粘度が500mPa・s以下であることを特徴とする光硬化性樹脂組成物。 - (1)成分の平均粒子径が80nm以下の無機酸化物微粒子が、シリカ微粒子である請求項1記載の光硬化性樹脂組成物。
- シリカ微粒子が、(メタ)アクリル基を含有するシランカップリング剤で処理されたものである請求項2記載の光硬化性樹脂組成物。
- (1)成分が(2)成分及び/又は(3)成分に予め分散した混合物に(4),(5)成分を混合してなることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の光硬化性樹脂組成物。
- 請求項1〜4のいずれか1項に記載の光硬化性樹脂組成物の硬化皮膜が形成されてなる物品。
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