KR101234971B1 - 반사 방지 적층체의 제조 방법 - Google Patents

반사 방지 적층체의 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR101234971B1
KR101234971B1 KR1020060036265A KR20060036265A KR101234971B1 KR 101234971 B1 KR101234971 B1 KR 101234971B1 KR 1020060036265 A KR1020060036265 A KR 1020060036265A KR 20060036265 A KR20060036265 A KR 20060036265A KR 101234971 B1 KR101234971 B1 KR 101234971B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
inorganic fine
fine particle
dispersion
chain
mixed
Prior art date
Application number
KR1020060036265A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20060112216A (ko
Inventor
다쿠미 시부타
진쇼 남부
다이이치 사카야
Original Assignee
스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 filed Critical 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
Publication of KR20060112216A publication Critical patent/KR20060112216A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101234971B1 publication Critical patent/KR101234971B1/ko

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G02B1/113—Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
    • G02B1/115—Multilayers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B32—LAYERED PRODUCTS
    • B32B—LAYERED PRODUCTS, i.e. PRODUCTS BUILT-UP OF STRATA OF FLAT OR NON-FLAT, e.g. CELLULAR OR HONEYCOMB, FORM
    • B32B7/00—Layered products characterised by the relation between layers; Layered products characterised by the relative orientation of features between layers, or by the relative values of a measurable parameter between layers, i.e. products comprising layers having different physical, chemical or physicochemical properties; Layered products characterised by the interconnection of layers
    • B32B7/02—Physical, chemical or physicochemical properties
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133502—Antiglare, refractive index matching layers
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2211/00—Plasma display panels with alternate current induction of the discharge, e.g. AC-PDPs
    • H01J2211/20—Constructional details
    • H01J2211/34—Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
    • H01J2211/44—Optical arrangements or shielding arrangements, e.g. filters or lenses
    • H01J2211/442—Light reflecting means; Anti-reflection means

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)

Abstract

본 발명은,
쇄형으로 연속된 입경 10 내지 60 nm의 3개 이상의 입자로 이루어지는 무기 미립자쇄(A), 평균 입경이 1 내지 20 nm인 무기 미립자(B) 및 액체 분산매를 이용해서 하기 식 (1) 및 식 (2)를 만족하는 혼합 무기 미립자 분산액을 조제하는 단계,
상기 혼합 무기 미립자 분산액을 기재상에 도포하는 단계, 및
상기 기재에 도포한 상기 분산액으로부터 분산매를 제거하여 기재상에 무기 미립자층을 형성하는 단계
를 포함하는 반사 방지 적층체의 제조 방법을 제공한다:
(1) 0.55≤RVa≤0.90
(2) 0.10≤RVb≤0.45
여기서, RVa는 상기 분산액 중의 상기 무기 미립자쇄(A)와 무기 미립자(B)의 합계 체적에 대한 상기 무기 미립자쇄(A)의 체적의 비율이며, RVb는 상기 분산액 중의 상기 무기 미립자쇄(A)와 무기 미립자(B)의 합계 체적에 대한 상기 무기 미립자(B)의 체적의 비율이다.

Description

반사 방지 적층체의 제조 방법{METHOD FOR PRODUCING AN ANTIREFLECTIVE LAYERED MATERIAL}
본 발명은 기재와 그 위에 형성된 무기 미립자층을 갖는 반사 방지 적층체의 제조 방법에 관한 것이다.
LCD, PDP, CRT, 유기 EL, 무기 EL, FED와 같은 각종 디스플레이에 있어서는, 태양광이나 형광등의 빛 등의 외부광이 표면에서 반사함으로써, 반사나 섬광이 발생하여 화상의 시인성(視認性)이 저하되는 것이 문제가 되고 있었다.
상기한 문제는 디스플레이 표면에서의 굴절율의 급격한 변화가 원인이며, 이것을 완화하는 수법으로서 디스플레이의 표면에 상기 표면을 구성하는 재료보다 낮은 굴절율을 갖는 재료로 이루어지는 반사 방지막을 형성하는 것이 알려져 있다. 예컨대 일본 특허 공개 평성 제11-292568호 공보에는, 반사 방지막을 갖는 기재로서 쇄형 실리카 미립자 및 그 쇄형 실리카 미립자의 중량에 대하여 5 내지 30 중량%의 비입자형 실리카로 이루어지고, 110 내지 250 nm의 두께를 갖는 막이 유리 기판 표면에 피복되어 있으며, 그 막 표면에 요철이 형성되어 있는 가시광 반사 방지 유리판이 기재되어 있다.
그러나 상기한 바와 같은 반사 방지막을 형성하기 위해서는 가수 분해 및/또는 축중합 가능한 유기 규소 화합물이나 이들의 가수 분해물로부터 선택되는 규소 화합물을 이용해서 고온 처리하는 것이 필수적이었다. 그 때문에 반사 방지막을 형성시키는 기재로서 내열성이 우수한 것만 이용할 수 있다고 하는 문제가 있었다.
본 발명의 목적은 고온으로 처리하지 않고 형성할 수 있으며 반사 방지 성능 및 막 강도가 우수한 반사 방지 적층체의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명은 쇄형으로 연속된 입경이 10 내지 60 nm인 3개 이상의 입자로 이루어지는 무기 미립자쇄(A), 평균 입경이 1 내지 20 nm인 무기 미립자(B) 및 액체 분산매를 이용해서 하기 식 (1) 및 식 (2)를 만족하는 혼합 무기 미립자 분산액을 조제하는 단계,
상기 혼합 무기 미립자 분산액을 기재상에 도포하는 단계, 및
상기 기재에 도포한 상기 분산액으로부터 분산매를 제거하여 기재상에 무기 미립자층을 형성하는 단계를 포함하는 반사 방지 적층체의 제조 방법을 제공한다:
(1) 0.55≤RVa≤0.90
(2) 0.10≤RVb≤0.45
여기서, RVa는 상기 분산액 중의 상기 무기 미립자쇄(A)와 무기 미립자(B)의 합계 체적에 대한 상기 무기 미립자쇄(A)의 체적의 비율이며, RVb는 상기 분산액 중의 상기 무기 미립자쇄(A)와 무기 미립자(B)의 합계 체적에 대한 상기 무기 미립 자(B)의 체적의 비율이다.
본 발명의 방법으로 제조되는 반사 방지 적층체란, 주로 LCD, PDP, CRT, 유기 EL, 무기 EL, FED와 같은 각종 디스플레이의 반사 방지재로서 사용되는 부재이며, 보다 구체적으로는 디스플레이 표면에서의 외부광에 기인하는 반사의 방지나, 디스플레이 내부의 발광체 또는 발광층으로부터 발생한 광의 디스플레이 내부에서의 반사에 기인하는 디스플레이의 휘도의 저하 방지를 목적으로, 주로 디스플레이의 표면 혹은 내부에 배치되는 것이다.
본 발명에 있어서, 기재로서는 용도에 따른 적절한 기계적 강성을 갖는 투명 재료, 예컨대 투명 플라스틱 필름 또는 시트, 투명 유리를 사용할 수 있다. 투명 플라스틱 필름 또는 시트의 구체예로서는, 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 셀로판, 트리아세틸셀룰로오스, 디아세틸셀룰로오스, 아세틸셀룰로오스부틸레이트, 폴리메타크릴산메틸 등의 필름 또는 시트를 들 수 있다. 투명성이 우수하여 광학적으로 이방성이 없기 때문에 트리아세틸셀룰로오스나 폴리에틸렌테레프탈레이트로 이루어지는 필름 또는 시트가 바람직하다. 또한, 편광판, 확산판, 도광판, 휘도 향상 필름, 반사 편광판 등의 광학용 부재를 기재로서 사용할 수도 있다. 기재는 자외선 경화성 수지등으로 이루어지는 하드 코트층이나 도전성 미립자 등을 함유하는 대전 방지층을 표면층으로서 갖고 있더라도 좋다.
본 발명의 방법에서 사용하는 혼합 무기 미립자 분산액은 쇄형으로 연속된 입경이 10 내지 60 nm인 3개 이상의 입자로 이루어지는 무기 미립자쇄(A), 평균 입경이 1 내지 20 nm인 무기 미립자(B) 및 액체 분산매를 이용해서 조제되고 하기 식 (1) 및 식 (2)를 만족한다:
(1) 0.55≤RVa≤0.90
(2) 0.10≤RVb≤0.45
여기서, RVa는 상기 분산액 중의 상기 무기 미립자쇄(A)와 무기 미립자(B)의 합계 체적에 대한 상기 무기 미립자쇄(A)의 체적의 비율이며, RVb는 상기 분산액 중의 상기 무기 미립자쇄(A)와 무기 미립자(B)의 합계 체적에 대한 상기 무기 미립자(B)의 체적의 비율이다.
무기 미립자쇄(A)의 화학 조성과 무기 미립자(B)의 화학 조성은 동일하더라도 좋고, 또한 다르더라도 좋다. 무기 미립자쇄(A) 및 무기 미립자(B)로서 사용되는 무기 미립자의 예로서는, 산화규소(실리카), 산화티탄, 산화알루미늄, 산화아연, 산화주석, 탄산칼슘, 황산바륨, 탤크, 카올린 등을 들 수 있다. 용매 중에서의 분산성이 양호하고 굴절율이 낮으며 또한 입경 분포가 작은 분체의 입수가 용이하기 때문에, 무기 미립자(A)와 무기 미립자(B)는 실리카인 것이 바람직하다.
본 발명의 방법에서 사용되는 무기 미립자쇄(A)란, 입경이 10 내지 60 nm인 입자가 3개 이상 쇄형으로 연속되어 있는 무기 미립자쇄이다. 이러한 무기 미립자쇄로서는 시판품을 사용할 수 있고, 그 예로서는 닛산 화학 공업 주식회사 제조의 스노우텍스(등록 상표) UP, OUP, PS-S, PS-S0, PS-M, PS-M0(이들은 물을 분산매로 하는 실리카졸임) 및 닛산 화학 공업 주식회사 제조의 IPA-ST-UP(이것은 이소프로판올을 분산매로 하는 실리카졸임) 등을 들 수 있다. 무기 미립자쇄를 형성하고 있는 입자의 입경 및 무기 미립자쇄의 형상은 투과형 전자 현미경으로 관찰함으로써 결정할 수 있다. 여기서, 「쇄형으로 연속된」이라고 하는 표현은 「환형으로 연속된」에 상대되는 표현이며, 직선형으로 연속된 것뿐만 아니라, 절곡되어 연속된 것도 포함된다.
본 발명의 방법에서 사용되는 무기 미립자(B)의 평균 입경은 1 내지 20 nm이다. 여기서 무기 미립자(B)의 평균 입경은 동적 광 산란법 또는 시어즈법에 의해 구해진다. 동적 광 산란법에 의한 평균 입경의 측정은 시판의 입도 분포 측정 장치를 사용하여 행할 수 있다. 시어즈법이란, 문헌[Analytical Chemistry, vol. 28, p. 1981-1983, 1956]에 기재된 방법으로서, 실리카 입자의 평균 입경의 측정에 적용되는 분석 수법이며, pH=3의 콜로이달 실리카 분산액을 pH=9로 할 때까지 소비되는 NaOH의 양으로부터 표면적을 구하고, 구한 표면적으로부터 구(球) 상당 직경을 산출하는 방법이다. 이와 같이 하여 구한 구 상당 직경을 평균 입경으로 한다.
혼합 무기 미립자 분산액은 전형적으로는 예컨대 하기 [1] 내지 [5] 중 어느 하나의 방법에 의해 조제할 수 있지만, 이들의 방법에 한정되는 것은 아니다.
[1] 무기 미립자쇄(A)의 분말과 무기 미립자(B)의 분말을 동시에 공통의 액체 분산매 중에 첨가하여 분산시키는 방법.
[2] 무기 미립자쇄(A)를 제1 액체 분산매 중에 분산시켜 제1 분산액을 조제하고, 별도로 무기 미립자(B)를 제2 액체 분산매 중에 분산시켜 제2 분산액을 조제하며, 이어서 제1 및 제2 분산액을 혼합하는 방법.
[3] 무기 미립자쇄(A)를 액체 분산매 중에 분산시켜 분산액을 조제하고, 이어서 상기 분산액에 무기 미립자(B)의 분말을 첨가하여 분산시키는 방법.
[4] 무기 미립자(B)를 액체 분산매 중에 분산시켜 분산액을 조제하고, 이어서 상기 분산액에 무기 미립자쇄(A)의 분말을 첨가하여 분산시키는 방법.
[5] 분산매 중에서 입자성장시켜 무기 미립자쇄(A)를 함유하는 제1 분산액을 조제하고, 별도로 분산매 중에서 입자성장시켜 무기 미립자(B)를 함유하는 제2 분산액을 조제하며, 이어서 제1 및 제2 분산액을 혼합하는 방법.
초음파 분산, 초고압 분산 등의 강분산 수법을 적용함으로써 혼합 무기 미립자 분산액 중에 무기 미립자를 특히 균일하게 분산시킬 수 있다.
보다 균일한 분산을 달성하기 위해서 혼합 무기 미립자 분산액의 조제에 사용하는 무기 미립자쇄(A)의 분산액, 무기 미립자(B)의 분산액 또는 최종적으로 얻어지는 혼합 무기 미립자 분산액 중에서 무기 미립자는 콜로이드 상태인 것이 바람직하다. 분산매에는 물이나 휘발성의 유기 용매를 이용할 수 있다.
상기 [2], [3], [4] 또는 [5]의 방법에 있어서, 무기 미립자쇄(A)의 분산액, 무기 미립자(B)의 분산액 또는 무기 미립자쇄(A)의 분산액과 무기 미립자(B)의 분산액 양쪽이 콜로이달 알루미나인 경우에는, 양성에 대전하는 알루미나 입자를 안정화시키기 위해서 콜로이달 알루미나 중에 염소 이온, 황산 이온, 아세트산 이온 등의 음이온을 카운터 음이온으로서 첨가하는 것이 바람직하다. 콜로이달 알루미나의 pH는 특히 한정되는 것은 아니지만, 분산액의 안정성의 관점에서 pH 2 내지 pH 6인 것이 바람직하다.
또한, 상기 [1]의 방법에 있어서도, 무기 미립자쇄(A) 및 무기 미립자(B) 중 적어도 한쪽이 알루미나이고 혼합 무기 미립자 분산액이 콜로이드 상태인 경우에 는, 상기 혼합 무기 미립자 분산액에 염소 이온, 황산 이온, 아세트산 이온 등의 음이온을 첨가하는 것이 바람직하다.
상기 [2], [3], [4] 또는 [5]의 방법에 있어서, 무기 미립자쇄(A)의 분산액, 무기 미립자(B)의 분산액 또는 무기 미립자쇄(A)의 분산액과 무기 미립자(B)의 분산액 양쪽이 콜로이달 실리카인 경우에는, 음성에 대전하는 실리카 입자를 안정화시키기 위해서 콜로이달 실리카 중에 암모늄 이온, 알칼리 금속 이온, 알칼리 토류 금속 이온 등의 양이온을 카운더 양이온으로서 첨가하는 것이 바람직하다. 콜로이달 실리카의 pH는 특별히 한정되는 것은 아니지만, 분산액의 안정성의 관점에서 pH 8 내지 pH 11인 것이 바람직하다.
또한, 상기 [1]의 방법에 있어서도, 무기 미립자쇄(A) 및 무기 미립자(B) 중의 적어도 하나가 실리카이고, 혼합 무기 미립자 분산액이 콜로이드 상태인 경우에는, 상기 혼합 무기 미립자 분산액에 암모늄 이온, 알칼리 금속 이온, 알칼리 토류 금속 이온 등의 양이온을 첨가하는 것이 바람직하다.
본 발명의 혼합 무기 미립자 분산액은 하기 식 (1) 및 식 (2)를 만족해야 한다:
(1) 0.55≤RVa≤0.90
(2) 0.10≤RVb≤0.45
여기서, RVa는 상기 분산액 중의 상기 무기 미립자쇄(A)와 무기 미립자(B)의 합계 체적에 대한 상기 무기 미립자쇄(A)의 체적의 비율이며, RVb는 상기 분산액 중의 상기 무기 미립자쇄(A)와 무기 미립자(B)의 합계 체적에 대한 상기 무기 미립 자(B)의 체적의 비율이다.
바꾸어 말하면, 상기 식에서의 RVa 및 RVb는 각각 무기 미립자쇄(A)의 체적분률 및 무기 미립자(B)의 체적분률에 상당한다. 무기 미립자쇄(A) 및 무기 미립자(B)가 동일한 화학종이면, 일반적으로 무기 미립자쇄(A) 및 무기 미립자(B)의 체적분률(RVa 및 RVb)은 무기 미립자쇄(A) 및 무기 미립자(B)의 중량분률과 동일하다.
본 발명의 방법으로는 무기 미립자쇄(A)와 무기 미립자(B)와 액체 분산매를 사용하여 조정한 무기 미립자 혼합액을 기재상에 도포하고, 이어서 도포한 무기 미립자 혼합액으로부터 액체 분산매를 적당한 수단으로 제거함으로써 상기 기재상에 무기 미립자층이 형성된다. 이 무기 미립자층은 반사 방지 기능을 갖기 때문에, 본 발명의 방법에 의해 반사 방지 적층체가 형성되게 된다. 디스플레이 내부에서의 외부광의 반사를 효과적으로 방지하기 위해서 디스플레이의 표면층으로서 사용하는 데 알맞은 반사 방지 적층체의 제조에 있어서, 반사 방지 적층체에서의 무기 미립자층의 두께를 50 내지 150 nm으로 하는 것이 바람직하고, 80 내지 130 nm으로 하는 것이 보다 바람직하다. 무기 미립자층의 두께는 혼합 무기 미립자 분산액 중의 무기 미립자쇄(A) 및 무기 미립자(B)의 양 및 혼합 무기 미립자 분산액의 도포량을 변경함으로써 조절할 수 있다.
본 발명에 있어서, 혼합 무기 미립자 분산액에는 무기 미립자의 분산의 안정화 등을 목적으로, 계면활성제, 유기계 전해질 등의 첨가제를 첨가하더라도 좋다.
혼합 무기 미립자 분산액이 계면활성제를 포함하는 경우, 그 함유량은 분산 매 100 중량부에 대하여 통상 0.1 중량부 이하이다. 이용되는 계면활성제는 특별히 한정되는 것은 아니며 예컨대 음이온성 계면활성제, 양이온성 계면활성제, 비이온성 계면활성제, 양성 계면활성제 등을 들 수 있다.
음이온성 계면활성제로서는 카르복실산의 알칼리 금속염을 들 수 있고, 구체적으로는 카프릴산나트륨, 카프릴산칼륨, 데칸산나트륨, 카프론산나트륨, 미리스틴산나트륨, 올레인산칼륨, 스테아린산테트라메틸암모늄, 스테아린산나트륨 등을 들 수 있다. 특히, 탄소 원자수 6 내지 10의 알킬쇄를 갖는 카르복실산의 알칼리 금속염이 바람직하다.
양이온성 계면활성제로서는, 예컨대 염화세틸트리메틸암모늄, 염화디옥타데실디메틸암모늄, 브롬화-N-옥타데실피리디늄, 브롬화세틸트리에틸포스포늄 등을 들 수 있다.
비이온성 계면활성제로서는, 예컨대 소르비탄지방산에스테르, 글리세린지방산에스테르 등을 들 수 있다.
양성 계면활성제로서는, 2-알킬-N-카르복시메틸-N-히드록시에틸이미다졸리늄베타인, 라우린산아미드프로필베타인 등을 들 수 있다.
혼합 무기 미립자 분산액이 유기계 전해질을 포함하는 경우, 그 함유량은 액체 분산매 100 중량부에 대하여 통상 0.01 중량부 이하이다. 본 발명에서의 유기계 전해질이란, 전리성 이온성 기를 갖는 유기 화합물(다만, 계면활성제를 제외함)을 가리킨다. 예컨대, p-톨루엔술폰산나트륨, 벤젠술폰산나트륨, 부틸술폰산칼륨, 페닐포스핀산나트륨, 디에틸인산나트륨 등을 들 수 있다. 상기 유기계 전해질은 벤젠 술폰산 유도체인 것이 바람직하다.
본 발명에 있어서, 기재상에 혼합 무기 미립자 분산액을 도포하는 방법은 특별히 한정되지 않고, 예컨대 그라비아 코팅, 리버스 코팅, 브러시 롤 코팅, 스프레이 코팅, 키스 코팅, 다이 코팅, 디핑, 바 코팅 등의 공지의 방법으로 도포할 수 있다.
기재에 혼합 무기 미립자 분산액을 도포하기 전에 기재의 표면에 코로나 처리, 오존 처리, 플라즈마 처리, 프레임 처리, 전자선 처리, 앵커 코트 처리, 세정 처리 등의 전처리를 행하는 것이 바람직하다.
기재상에 도포한 혼합 무기 미립자 분산액으로부터 액체 분산매를 제거함으로써 기재상에 무기 미립자층을 형성한다. 액체 분산매의 제거는 예컨대, 상압하 또는 감압하에서의 가열에 의해 행할 수 있다. 액체 분산매의 제거시의 압력, 가열 온도는 사용하는 재료[즉, 무기 미립자쇄(A), 무기 미립자(B) 및 액체 분산매]에 따라 적절하게 선택할 수 있다. 예컨대, 분산매가 물일 때는 일반적으로는 50 내지 80℃에서, 바람직하게는 약 60℃에서 건조할 수 있다.
본 발명의 방법에 따르면, 200℃를 넘는 고온에서의 처리를 행하는 일 없이 강도가 우수한 무기 미립자층을 기재상에 형성할 수 있다. 이것은 형성된 무기 미립자층이 무기 미립자쇄(A)의 간극에 무기 미립자(B)가 위치하는 구조로 되어 있고, 무기 미립자(B)를 통해 무기 미립자쇄(A)가 연결되어 고정되기 때문이라고 추정된다.
본 발명의 방법으로 형성된 반사 방지 적층체의 무기 미립자층 위에는, 불소 계 화합물 등으로 이루어지는 방오층(防汚層)을 더 형성하더라도 좋다. 방오층의 형성에는 딥 코팅법을 사용할 수 있다.
실시예
이하, 본 발명을 실시예에 의해 더욱 상세히 설명하지만, 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니다.
사용한 주된 재료는 이하와 같다.
[기재]
후지사진필름주식회사 제조의 트리아세틸셀룰로오스 필름(상품명: 후지태크; 반사율: 4.0%; 투과율: 93.0%; 두께: 80 ㎛)
[무기 미립자쇄(A)]
(1) 스노우텍스(등록 상표) PS-M(닛산 화학 공업 주식회사 제조의 쇄형 콜로이달 실리카; 구형 입자의 입경: 18 내지 25 nm; 동적 광 산란법에 의한 평균 입경 111 nm; 고형분 농도: 20 중량%) 이하, 이것을 「PS-M」이라고 기술한다.
(2) 스노우텍스(등록 상표) PS-S(닛산 화학 공업 주식회사 제조의 쇄형 콜로이달 실리카; 구형 입자의 입경: 10 내지 18 nm; 동적 광 산란법에 의한 평균 입경 106 nm; 고형분 농도 20 중량%) 이하 이것을 「PS-S」라고 기술한다.
[무기 미립자(B)]
스노우텍스(등록 상표) ST-XS(닛산 화학 공업 주식회사 제조의 콜로이달 실리카; 평균 입경 4 내지 6 nm; 고형분 농도 20 중량%) 이하, 이것을 「ST-XS」라고 기술한다.
또, 실시예의 평가는 이하의 방법에 의해 행했다.
각 실시예 및 비교예에서의 혼합 무기 미립자 분산액 중의 무기 미립자쇄 및 무기 미립자의 모든 무기 미립자에 대한 체적분률은 표 1에 정리했다. 또, 모든 예에서 무기 미립자층의 형성에 사용한 무기 미립자쇄(A) 및 무기 미립자(B)는 모두 실리카였기 때문에, 무기 미립자쇄(A) 및 무기 미립자(B)의 중량분률을 이들의 체적분률로서 사용했다.
(1) 반사율: 시마즈 제작소 제조의 분광 광도계 UV-3150을 이용해서 가시광 영역에서의 입사각 5°의 상대 정반사 강도를 측정했다. 측정시에는 필름의 이면에 흑색 테이프를 붙였다.
(2) 투과율: 시마즈 제작소 제조의 분광 광도계 UV-3150을 이용해서 가시광 영역에서의 모든 광선 투과율을 측정했다.
(3) 막 강도: 반사 방지막 표면을 킴와이프 S-200(등록 상표: 크레시아사 제조의 산업용 와이퍼)로 문지르고 무기 미립자층의 박리의 유무를 확인했다. 박리가 없는 것은 막 강도가 우수하고, 박리가 있는 것은 막 강도가 뒤떨어지는 것으로 판단했다.
[실시예 1]
무기 미립자쇄(A)로서 PS-M(50 g)과, 무기 미립자(B)로서 ST-XS(12.5 g)를 187.5 g의 순수에 투입하고, 마그네틱 스터러를 이용해서 교반하여 혼합 무기 미립자 분산액을 조제했다. 혼합액 중의 고형분 농도는 PS-M이 4 중량%, ST-XS가 1 중량%이다. 이 혼합액을 바 코팅기를 이용해서 트리아세틸셀룰로오스 필름 기재상에 도포하고 60℃에서 건조하여 무기 미립자층을 형성했다. 얻어진 무기 미립자층의 단면의 투과형 전자 현미경(TEM) 사진으로부터 구한 상기 무기 미립자층의 두께는 114 nm, 가시광 영역에서의 최소 반사율은 0.3%이며 막 강도는 우수했다.
[실시예 2]
무기 미립자쇄(A)로서 PS-M(50 g)과, 무기 미립자(B)로서 ST-XS(25 g)를 175 g의 순수에 투입하고 마그네틱 스터러를 이용해서 교반하여 혼합 무기 미립자 분산액을 조제했다. 혼합액 중의 고형분 농도는 PS-M이 4 중량%, ST-XS가 2 중량%이다. 이 혼합액을 바 코팅기를 이용해서 트리아세틸셀룰로오스 필름 기재상에 도포하고 60℃에서 건조하여 무기 미립자층을 형성했다. 얻어진 무기 미립자층의 가시광 영역에서의 최소 반사율은 0.9%이며 막 강도는 우수했다.
[실시예 3]
무기 미립자쇄(A)로서 PS-M(62.5 g)과, 무기 미립자(B)로서 ST-XS(18.75 g)를 168.75 g의 순수에 투입하고 마그네틱 스터러를 이용해서 교반하여 혼합 무기 미립자 분산액을 조제했다. 혼합액 중의 고형분 농도는 PS-M이 5 중량%, ST-XS가 1.5중량%이다. 이 혼합액을 바 코팅기를 이용해서 트리아세틸셀룰로오스 필름 기재상에 도포하고 60℃에서 건조하여 무기 미립자층을 형성했다. 얻어진 무기 미립자층의 가시광 영역에서의 최소 반사율은 0.5%, 최대 투과율은 95.3%이며 막 강도는 우수했다.
[실시예 4]
무기 미립자쇄(A)로서 PS-M(56.25 g) 및 PS-S(6.25 g)와, 무기 미립자(B)로 서 ST-XS(18.75 g)를 168.75 g의 순수에 투입하고 마그네틱 스터러를 이용해서 교반하여 혼합 무기 미립자 분산액을 조제했다. 혼합액 중의 고형분 농도는 PS-M이 4.5 중량%, PS-S가 0.5 중량%, ST-XS가 1.5 중량%이다. 이 혼합액을 바 코팅기를 이용해서 트리아세틸셀룰로오스 필름 기재상에 도포하고 60℃에서 건조하여 무기 미립자층을 형성했다. 얻어진 무기 미립자층의 가시광 영역에서의 최소 반사율은 0.5%, 최대 투과율은 94.7%이며 막 강도는 우수했다.
[실시예 5]
무기 미립자(A)로서 PS-M(56.25 g) 및 PS-S(6.25 g)와, 무기 미립자(B)로서 ST-XS(25.00 g)를 162.50 g의 순수에 투입하고 마그네틱 스터러를 이용해서 교반하여 혼합 무기 미립자 분산액을 조제했다. 혼합액 중의 고형분 농도는 PS-M이 4.5 중량%, PS-S가 0.5 중량%, ST-XS가 2.0 중량%이다. 이 혼합액을 바 코팅기를 이용해서 트리아세틸셀룰로오스 필름 기재상에 도포하고 60℃에서 건조하여 무기 미립자층을 형성했다. 얻어진 무기 미립자층의 가시광 영역에서의 최소 반사율은 0.6%, 최대 투과율은 95.1%이며 막 강도가 우수한 것이었다.
[비교예 1]
무기 미립자쇄(A) 대신에 스노우텍스(등록 상표) ST-ZL(닛산카가쿠가부시키가이샤 제조의 콜로이달 실리카; BET 비표면적법에 의한 평균 입경 78 nm, 고형분 농도 40 중량%)(37.5 g)과, 무기 미립자(B)로서 ST-XS(12.5 g)를 200g의 순수에 투입하고 마그네틱 스터러를 이용해서 교반하여 혼합 무기 미립자 분산액을 조제했다. 혼합액 중의 고형분 농도는 ST-ZL이 6 중량%, ST-XS가 1.0 중량%이다. 이 혼합 액을 바 코팅기를 이용해서 트리아세틸셀룰로오스 필름 기재상에 도포하고 60℃에서 건조하여 무기 미립자층을 형성했다. 얻어진 무기 미립자층의 가시광 영역에서의 최소 반사율은 1.6%이며 반사 방지 효과는 불충분했다. 최대 투과율은 94.5%였다. 또한 막 강도는 우수했다.
[비교예 2]
무기 미립자쇄(A)로서 PS-M(50 g)을 200 g의 순수에 투입하고 마그네틱 스터러를 이용해서 교반하여 혼합 무기 미립자 분산액을 조제했다. 도공액 중의 고형분 농도는 PS-M이 4 중량%이다. 이 도공액을 바 코팅기를 이용해서 트리아세틸셀룰로오스 필름 기재상에 도포하고 60℃에서 건조하여 무기 미립자층을 형성했다. 얻어진 무기 미립자층의 가시광 영역에서의 최소 반사율은 0.2%이며, 충분한 반사 방지 효과를 나타냈지만, 막 강도는 뒤떨어졌다.
[비교예 3]
무기 미립자쇄(A)로서 PS-M(50 g)과, 무기 미립자(B)로서 ST-XS(50 g)를 150 g의 순수에 투입하고 마그네틱 스터러를 이용해서 교반하여 혼합 무기 미립자 분산액을 조제했다. 혼합액 중의 고형분 농도는 PS-M이 4 중량%, ST-XS가 4 중량%이다. 이 혼합액을 바 코팅기를 이용해서 트리아세틸셀룰로오스 필름 기재상에 도포하고 60℃에서 건조하여 무기 미립자층을 형성했다. 얻어진 무기 미립자층의 가시광 영역에서의 최소 반사율은 1.7%이며 반사 방지 효과는 불충분했다. 또한, 막 강도는 우수했다.
RVa RVb
실시예 1 0.80 0.20
실시예 2 0.67 0.33
실시예 3 0.77 0.23
실시예 4 0.67 0.33
실시예 5 0.71 0.29
비교예 1 0.86 0.14
비교예 2 1.00 0.00
비교예 3 0.50 0.50
본 발명에 따르면, 고온 처리가 필수적이지 않기 때문에 내열성이 뒤떨어지는 재료로 형성되는 기재상에서도 반사 방지 성능 및 막 강도가 우수한 반사 방지막이 적층된 반사 방지 적층체를 제조할 수 있다.

Claims (3)

  1. 입경이 10 내지 60 nm인 무기 입자가 3개 이상 쇄형으로 연속되어 있는 무기 미립자쇄(A), 평균 입경이 1 내지 20 nm인 무기 미립자(B) 및 액체 분산매를 이용해서, 하기 식 (1) 및 식 (2)를 만족하는 혼합 무기 미립자 분산액을 조제하는 단계,
    상기 혼합 무기 미립자 분산액을 기재상에 도포하는 단계, 및
    상기 도포된 혼합 무기 미립자 분산액으로부터 액체 분산매를 제거하여 기재상에 무기 미립자층을 형성하는 단계
    를 포함하는 반사 방지 적층체의 제조 방법:
    (1) 0.55≤RVa≤0.90
    (2) 0.10≤RVb≤0.45
    여기서, RVa는 상기 혼합 무기 미립자 분산액 중 상기 무기 미립자쇄(A)와 무기 미립자(B)의 합계 체적에 대한 상기 무기 미립자쇄(A)의 체적의 비율이며, RVb는 상기 혼합 무기 미립자 분산액 중 상기 무기 미립자쇄(A)와 무기 미립자(B)의 합계 체적에 대한 상기 무기 미립자(B)의 체적의 비율이다.
  2. 제1항에 있어서, 무기 미립자층의 두께가 50 내지 150 nm인 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 무기 미립자쇄(A) 및 무기 미립자(B)는 실리카 인 방법.
KR1020060036265A 2005-04-26 2006-04-21 반사 방지 적층체의 제조 방법 KR101234971B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2005-00127590 2005-04-26
JP2005127590 2005-04-26

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20060112216A KR20060112216A (ko) 2006-10-31
KR101234971B1 true KR101234971B1 (ko) 2013-02-20

Family

ID=37509853

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020060036265A KR101234971B1 (ko) 2005-04-26 2006-04-21 반사 방지 적층체의 제조 방법

Country Status (3)

Country Link
KR (1) KR101234971B1 (ko)
CN (1) CN100523874C (ko)
TW (1) TWI410330B (ko)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20110123708A1 (en) * 2008-02-29 2011-05-26 Sumitomo Chemical Company, Limited Manufacturing method for a laminated body
CN102122009B (zh) * 2011-03-22 2013-04-24 南京炫视界光电科技有限公司 一种能消除光学成像中光干涉影像的反向镀抗反射膜的方法
WO2021095647A1 (ja) * 2019-11-15 2021-05-20 住友化学株式会社 無機微粒子分散液

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07198604A (ja) * 1993-12-29 1995-08-01 Shimadzu Corp 屈折率測定装置
JPH11292568A (ja) 1997-12-09 1999-10-26 Nippon Sheet Glass Co Ltd 反射防止ガラス板、その製造方法および反射防止膜用被覆組成物
WO2004070436A1 (ja) 2003-02-06 2004-08-19 Sdc Technologies-Asia Ltd. 低反射処理物品の製造方法、低反射層形成用溶液および低反射処理物品
JP2005010470A (ja) 2003-06-19 2005-01-13 Asahi Kasei Corp 反射防止膜用塗布組成物および反射防止膜

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4836316B2 (ja) * 1999-09-29 2011-12-14 富士フイルム株式会社 反射防止膜、偏光板、及び画像表示装置
US7604866B2 (en) * 2003-06-18 2009-10-20 Asahi Kasei Kabushiki Kaisha Antireflection film

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07198604A (ja) * 1993-12-29 1995-08-01 Shimadzu Corp 屈折率測定装置
JPH11292568A (ja) 1997-12-09 1999-10-26 Nippon Sheet Glass Co Ltd 反射防止ガラス板、その製造方法および反射防止膜用被覆組成物
WO2004070436A1 (ja) 2003-02-06 2004-08-19 Sdc Technologies-Asia Ltd. 低反射処理物品の製造方法、低反射層形成用溶液および低反射処理物品
JP2005010470A (ja) 2003-06-19 2005-01-13 Asahi Kasei Corp 反射防止膜用塗布組成物および反射防止膜

Also Published As

Publication number Publication date
TWI410330B (zh) 2013-10-01
KR20060112216A (ko) 2006-10-31
CN1877369A (zh) 2006-12-13
TW200702175A (en) 2007-01-16
CN100523874C (zh) 2009-08-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101304381B1 (ko) 반사 방지 적층체의 제조방법
JP4816223B2 (ja) 反射防止積層体の製造方法
CN101815958B (zh) 光学膜及其制造方法、防眩膜、具有光学层的偏光片以及显示装置
CN101523242B (zh) 防反射膜形成用涂料组合物及形成有防反射膜的物品
JP5102958B2 (ja) 反射防止フィルムの製造方法
JP4893539B2 (ja) アンチグレア層を有する物品およびその製造方法
KR20040093658A (ko) 방현성 필름 및 화상표시장치
KR20080008346A (ko) 편광판
KR20010090749A (ko) 반사 방지 재료 및 그것을 이용한 편광 필름
WO2009131104A1 (ja) 透明膜形成用組成物及び積層透明膜
KR20110025146A (ko) 광학 적층체, 편광판 및 그것을 이용한 표시장치
US20110123708A1 (en) Manufacturing method for a laminated body
EP2128090B1 (en) Hollow microparticle, method for production thereof, coating composition, and article having coating film formed thereon
KR101234971B1 (ko) 반사 방지 적층체의 제조 방법
JP5084122B2 (ja) 被膜付基材および該被膜形成用塗布液
JP5911785B2 (ja) 光学積層体
JP2010223985A (ja) 金属酸化物微粒子、塗料および光学積層体並びにその製造方法
JP2004318054A (ja) 偏光板及びその製造方法、並びに画像表示装置
JP2005275214A (ja) 反射防止膜、反射防止フィルム、及びそれらの製造方法、並びに偏光板、画像表示装置
CN101042438B (zh) 具有无机微粒层的层叠体的制造方法
JP2013254117A (ja) 光学積層体、及びこれを用いた偏光板
JP4872739B2 (ja) 積層体の製造方法
JPH11305007A (ja) 反射防止材料及びそれを用いた偏光フィルム
JP5050602B2 (ja) 積層体
JP2008292987A (ja) 光学積層体

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160119

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170119

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180202

Year of fee payment: 6

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190130

Year of fee payment: 7

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20200205

Year of fee payment: 8