JP2005010470A - 反射防止膜用塗布組成物および反射防止膜 - Google Patents

反射防止膜用塗布組成物および反射防止膜 Download PDF

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崇明 井岡
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Abstract

【課題】低反射率かつ耐擦傷性に優れた多孔質シリカ薄膜からなる反射防止膜を形成するための反射防止膜用塗布組成物、及び該組成物から得られた反射防止膜を提供する。
【解決手段】少なくとも鎖状のシリカゾル及び粒径50〜300nmの球状微粒子を含有することを特徴とする反射防止膜用塗布組成物。
【選択図】 なし

Description

【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、反射防止膜用の塗布組成物、及びそれを用いて形成された反射防止膜に関する。
【0002】
【従来の技術】
光学部品、眼鏡、ディスプレイ装置などを被覆して用いる反射防止膜は、単層または複数層からなるものが知られているが、単層および2層からなるものは、残存反射率が大きくなってしまうため屈折率の異なる3層を重層したものが好ましいと考えられてきた。しかし、3層を積層させるのは、公知の真空蒸着法、ディップコーティング法等いずれの方法でも、単層に比べ工程が煩雑であるとともに生産性が低いという欠点があった。
その後、単層であっても後述の条件を満足すれば反射率の低減が可能であることが見出され、下記条件を満足する単層膜の開発が検討されてきた。
【0003】
即ち、基材の屈折率がn、単層膜の屈折率がnの場合の反射率Rがn>nのとき、極小値として(n−n/(ns +nをとることを利用し、このRが、n=nとなるように単層膜の屈折率nを(n1/2 に近づけて反射率を低減させるものである。
具体的には、光透過性光学基材にガラス(n=1.52程度)やポリメチルメタクリレート(n=1.49程度)、ポリエチレンテレフタレート(n=1.54程度)、トリアセチルセルロース(n=1.49程度)のような基材の屈折率nが1.49〜1.54のものを用いると、単層膜に要求される目標屈折率nは1.22〜1.24となる。従って、単層膜で屈折率が1.22〜1.24に限りなく近い低屈折率のものが達成されれば単層膜でも充分な反射防止膜となり得ることを利用したものである。
【0004】
上記の単層膜の目標屈折率を達成するために下記の方法が検討されている。
(1)膜中に多孔起因剤を用いて空隙を導入した多孔体からなる単層膜が検討されているが(例えば特許文献1〜4参照)、これらの多孔体は多孔起因剤を抽出工程で除去する際に、膜が膨潤したり、剥離を起こすという問題や、成膜工程が煩雑であるという問題が生じている。
(2)そこで、抽出操作の不要な低屈折率の多孔体の単層膜を成膜する方法として、シリカ等の無機物粒子が鎖状に連なったもの(以下、鎖状ゾルと呼ぶ)を含有する塗布液を用いて得られた多孔体からなる単層膜も検討されているが(例えば特許文献5〜7参照)、該単層膜の表面は鎖状ゾルが露出しているため非常に凹凸が激しく、したがって耐擦傷性に乏しいという問題があった。これを改善するために単層膜の上層に保護層を設けるという手法も考えられるが、単層膜の内部の空孔を維持したまま上層に製膜するのは非常に困難であるし、成膜工程が煩雑である。
即ち、従来の技術では光透過性光学基材と反射防止膜からなる複合膜であって、該光透過性光学基材の屈折率nが1.49〜1.54の場合に複合膜の低反射率を達成する屈折率nが1.22〜1.24となる反射防止膜を形成するための反射防止膜用の塗布組成物で、かつ単層でも優れた耐擦傷性を有する反射防止膜用の塗布組成物の提供はなされていない。
【0005】
【特許文献1】
特開平01−312501号公報
【特許文献2】
特開平07−140303号公報
【特許文献3】
特開平03−199043号公報
【特許文献4】
特開平11−035313号公報
【特許文献5】
特開2001−188104号公報
【特許文献6】
特開平11−061043号公報
【特許文献7】
特開平11−292568号公報
【0006】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、光透過性光学基材と反射防止膜からなる複合膜の反射防止膜用の塗布組成物の提供であって、該光透過性光学基材の屈折率nが1.49〜1.54の場合に複合膜の低反射率を達成することが可能な屈折率nが1.22〜1.24程度の反射防止膜を形成するための反射防止膜用の塗布組成物で、かつ、優れた耐擦傷性を有する反射防止膜用の塗布組成物を提供するものである。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、前記課題を解決するために鋭意検討を重ねた結果、少なくとも鎖状のシリカゾルおよび特定範囲の粒径をもつ球状微粒子を含有する反射防止膜用塗布組成物が上記目的を達成し得ることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成させるに至った。
すなわち、本発明は、
1.少なくとも鎖状のシリカゾル及び粒径50〜300nmの球状微粒子を含有することを特徴とする反射防止膜用塗布組成物、
2.球状微粒子がシリカゾルであることを特徴とする1に記載の反射防止膜用塗布組成物、
3.球状微粒子の含有量が、該鎖状のシリカゾルに対して重量比で0.001〜10の範囲であることを特徴とする1又は2に記載の反射防止膜用塗布組成物、
4.1〜3のいずれか1項に記載の反射防止膜用塗布組成物を用いて形成された反射防止膜、
5.鎖状のシリカゾル及び粒径50〜300nmの球状微粒子を含有することを特徴とする反射防止膜、
6.球状微粒子がシリカゾルであることを特徴とする5に記載の反射防止膜、
7.球状微粒子の含有量が、該鎖状のシリカゾルに対して重量比で0.001〜10の範囲であることを特徴とする5〜6に記載の反射防止膜、
である。
【0008】
本発明について、以下に具体的に説明する。
本発明の反射防止膜用塗布組成物は、鎖状のシリカゾルを含有することを特徴とする。鎖状のシリカゾルとは、シリカ微粒子がシロキサン結合等の化学結合により連続して鎖状となったものを言い、直線状に伸びた形状であっても、二次元的、もしくは三次元的に湾曲した形状であっても構わない。
上記鎖状のシリカゾルは、10〜25nmの平均粒子径を有するシリカ微粒子が30〜200nmの平均長さを有するまで連続したものである。ここで平均粒子径とは、通常窒素吸着法(BET法)により測定された比表面積(m)から、平均粒子径=(2720/比表面積)の式によって与えられた値である。平均長さとは、動的光散乱法による測定値である。
【0009】
鎖状のシリカゾルを形成するシリカ微粒子の平均粒子径が10nm未満では、隣接する鎖状のシリカゾル同士の間に存在する空隙の体積が小さくなり、したがって空隙の総体積が小さくなって、膜としての屈折率の値を小さくすることができなくなるので好ましくなく、平均粒子径が25nmを超えると、膜表面の算術平均粗さ(Ra)が50nmより大きくなり、ヘーズが発生しやすくなったり透視像の解像度が低下しやすくなって、視認性が低下するので好ましくない。
また平均長さが30nm未満では、隣接する鎖状のシリカゾル同士の間隙の体積が小さくなり、したがって空隙の総体積が小さくなって膜としての屈折率の値を小さくすることができなくなるので好ましくなく、平均長さが200nmを超えると、膜表面の算術平均粗さ(Ra)が50nmより大きくなり、ヘーズが発生しやすくなったり、透視像の解像度が低下しやすくなって、視認性が低下するので好ましくない。
【0010】
上記鎖状のシリカゾルの例としては、例えば日産化学工業株式会社製の「スノーテックス−OUP(登録商標)」、及び同社製「スノーテックス−UP(登録商標)」が挙げられる。この鎖状のシリカゾルは、三次元的に湾曲した形状を有する。
本発明の反射防止膜用塗布組成物は、さらに50〜300nmの球状微粒子を含有することを特徴とする。球状微粒子の組成は特に限定されない。例えば、ケイ素、アルミニウム、チタン、ジルコニウム、亜鉛、スズ、インジウム、ガリウム、ゲルマニウム、アンチモン、モリブデンなどからなる金属酸化物微粒子、及びそれらの複合金属酸化物微粒子や、銅粉、銀粉、金粉、白金粉等の金属微粒子、有機ポリマーラテックス等を用いることができる。球状微粒子が導電性を持っていれば、反射防止膜に帯電防止性能を付与することもできる。
【0011】
上記の中でも好ましいのはシリカ、チタニア、アルミナ、ジルコニア、シリカアルミナ、インジウム−スズ酸化物等の金属酸化物であり、さらに好ましいのはシリカである。
球状微粒子の含有量は、鎖状シリカゾル1重量部に対して0.001〜10重量部、好ましくは0.005〜5重量部、より好ましくは0.01〜1重量部である。0.001重量部より少ないと、耐擦傷性が有効に発現しない。10重量部より多くても屈折率の低い薄膜を得ることは可能だが、膜のヘーズが大きくなるので反射防止膜としては適さない。
本発明の塗布組成物は、膜の機械的強度を向上するために、上記の鎖状のシリカゾルおよび球状微粒子の他に、該鎖状シリカゾルや球状微粒子を接着・架橋するためのバインダーを含有していてもよい。
【0012】
バインダーとしては好適に用いられるものは、以下のものである。
(1)テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ(n−プロポキシ)シラン、テトラ(i−プロポキシ)シラン、テトラ(n−ブトキシ)シラン、テトラ−sec−ブトキシシラン、テトラ−tert−ブトキシシラン、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、イソブチルトリエトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、メチルトリ−n−プロポキシシラン、メチルトリ−iso−プロポキシシラン、
【0013】
メチルトリ−n−ブトキシシラン、メチルトリ−sec−ブトキシシラン、メチルトリ−tert−ブトキシシラン、エチルトリ−n−プロポキシシラン、エチルトリ−iso−プロポキシシラン、エチルトリ−n−ブトキシシラン、エチルトリ−sec−ブトキシシラン、エチルトリ−tert−ブトキシシラン、n−プロピルトリ−n−プロポキシシラン、n−プロピルトリ−iso−プロポキシシラン、n−プロピルトリ−n−ブトキシシラン、n−プロピルトリ−sec−ブトキシシラン、n−プロピルトリ−tert−ブトキシシラン、i−プロピルトリメトキシシラン、i−プロピルトリエトキシシラン、i−プロピルトリ−n−プロポキシシラン、i−プロピルトリ−iso−プロポキシシラン、i−プロピルトリ−n−ブトキシシラン、i−プロピルトリ−sec−ブトキシシラン、i−プロピルトリ−tert−ブトキシシラン、n−ブチルトリメトキシシラン、n−ブチルトリエトキシシラン、n−ブチルトリ−n−プロポキシシラン、
【0014】
n−ブチルトリ−iso−プロポキシシラン、n−ブチルトリ−n−ブトキシシラン、n−ブチルトリ−sec−ブトキシシラン、n−ブチルトリ−tert−ブトキシシラン、n−ブチルトリフェノキシシラン、sec−ブチルトリメトキシシラン、sec−ブチル−トリ−n−プロポキシシラン、sec−ブチル−トリ−iso−プロポキシシラン、sec−ブチル−トリ−n−ブトキシシラン、sec−ブチル−トリ−sec−ブトキシシラン、sec−ブチル−トリ−tert−ブトキシシラン、t−ブチルトリメトキシシラン、t−ブチルトリエトキシシラン、t−ブチルトリ−n−プロポキシシラン、t−ブチルトリ−iso−プロポキシシラン、t−ブチルトリ−n−ブトキシシラン、t−ブチルトリ−sec−ブトキシシラン、t−ブチルトリ−tert−ブトキシシラン、
【0015】
フェニルトリ−n−プロポキシシラン、フェニルトリ−iso−プロポキシシラン、フェニルトリ−n−ブトキシシラン、フェニルトリ−sec−ブトキシシラン、フェニルトリ−tert−ブトキシシラン、ジメトキシシラン、ジエトキシシラン、メチルジメトキシシラン、メチルジエトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジ(n−プロポキシ)シラン、ジメチルジ(i−プロポキシ)シラン、ジメチルジ(n−ブトキシ)シラン、ジメチルジ(sec−ブトキシ)シラン、ジメチルジ(tert−ブトキシシラン)、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチルジ(n−プロポキシ)シラン、ジエチルジ(i−プロポキシ)シラン、ジエチルジ(n−ブトキシ)シラン、ジエチルジ(sec−ブトキシ)シラン、
【0016】
ジエチルジ(tert−ブトキシシラン)、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジフェニルジ(n−プロポキシ)シラン、ジフェニルジ(i−プロポキシ)シラン、ジフェニルジ(n−ブトキシ)シラン、ジフェニルジ(sec−ブトキシ)シラン、ジフェニルジ(tert−ブトキシシラン)、メチルエチルジメトキシシラン、メチルエチルジエトキシシラン、メチルエチルジ(n−プロポキシ)シラン、メチルエチルジ(i−プロポキシ)シラン、メチルエチルジ(n−ブトキシ)シラン、メチルエチルジ(sec−ブトキシ)シラン、メチルエチルジ(tert−ブトキシシラン)、メチルプロピルジメトキシシラン、メチルプロピルジエトキシシラン、メチルプロピジ(n−プロポキシ)シラン、メチルプロピルジ(i−プロポキシ)シラン、メチルプロピルジ(n−ブトキシ)シラン、メチルプロピルジ(sec−ブトキシ)シラン、
【0017】
メチルプロピルジ(tert−ブトキシシラン)、メチルフェニルジメトキシシラン、メチルフェニルジエトキシシラン、メチルフェニルジ(n−プロポキシ)シラン、メチルフェニルジ(i−プロポキシ)シラン、メチルフェニルジ(n−ブトキシ)シラン、メチルフェニルジ(sec−ブトキシ)シラン、メチルフェイルジ(tert−ブトキシシラン)、エチルフェニルジメトキシシラン、エチルフェニルジエトキシシラン、エチルフェニルジ(n−プロポキシ)シラン、エチルフェニルジ(i−プロポキシ)シラン、エチルフェニルジ(n−ブトキシ)シラン、エチルフェニルジ(sec−ブトキシ)シラン、エチルフェニルジ(tert−ブトキシシラン)、メチルビニルジメトキシシラン、メチルビニルジエトキシシラン、メチルビニルジ(n−プロポキシ)シラン、メチルビニルジ(i−プロポキシ)シラン、メチルビニルジ(n−ブトキシ)シラン、
【0018】
メチルビニルジ(sec−ブトキシ)シラン、メチルビニルジ(tert−ブトキシシラン)、ジビニルジメトキシシラン、ジビニルジエトキシシラン、ジビニルジ(n−プロポキシ)シラン、ジビニルジ(i−プロポキシ)シラン、ジビニルジ(n−ブトキシ)シラン、ジビニルジ(sec−ブトキシ)シラン、ジビニルジ(tert−ブトキシシラン)、メトキシシラン、エトキシシラン、メチルメトキシシラン、メチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチル(n−プロポキシ)シラン、トリメチル(i−プロポキシ)シラン、トリメチル(n−ブトキシ)シラン、トリメチル(sec−ブトキシ)シラン、トリメチル(tert−ブトキシシラン)、トリエチルメトキシシラン、
【0019】
トリエチルエトキシシラン、トリエチル(n−プロポキシ)シラン、トリエチル(i−プロポキシ)シラン、トリエチル(n−ブトキシ)シラン、トリエチル(sec−ブトキシ)シラン、トリエチル(tert−ブトキシシラン)、トリプロピルメトキシシラン、トリプロピルエトキシシラン、トリプロピル(n−プロポキシ)シラン、トリプロピル(i−プロポキシ)シラン、トリプロピル(n−ブトキシ)シラン、トリプロピル(sec−ブトキシ)シラン、トリプロピル(tert−ブトキシシラン)、トリフェニルメトキシシラン、トリフェニルエトキシシラン、トリフェニル(n−プロポキシ)シラン、トリフェニル(i−プロポキシ)シラン、トリフェニル(n−ブトキシ)シラン、トリフェニル(sec−ブトキシ)シラン、トリフェニル(tert−ブトキシシラン)、
【0020】
メチルジエチルメトキシシラン、メチルジエチルエトキシシラン、メチルジエチル(n−プロポキシ)シラン、メチルジエチル(i−プロポキシ)シラン、メチルジエチル(n−ブトキシ)シラン、メチルジエチル(sec−ブトキシ)シラン、メチルジエチル(tert−ブトキシシラン)、メチルジプロピルメトキシシラン、メチルジプロピルエトキシシラン、メチルジプロピル(n−プロポキシ)シラン、メチルジプロピル(i−プロポキシ)シラン、メチルジプロピル(n−ブトキシ)シラン、メチルジプロピル(sec−ブトキシ)シラン、メチルジプロピル(tert−ブトキシシラン)、メチルジフェニルメトキシシラン、メチルジフェニルエトキシシラン、メチルジフェニル(n−プロポキシ)シラン、メチルジフェニル(i−プロポキシ)シラン、メチルジフェニル(n−ブトキシ)シラン、メチルジフェニル(sec−ブトキシ)シラン、
【0021】
メチルジフェニル(tert−ブトキシシラン)、エチルジメチルメトキシシラン、エチルジメチルエトキシシラン、エチルジメチル(n−プロポキシ)シラン、エチルジメチル(i−プロポキシ)シラン、エチルジメチル(n−ブトキシ)シラン、エチルジメチル(sec−ブトキシ)シラン、エチルジメチル(tert−ブトキシシラン)、エチルジプロピルメトキシシラン、エチルジプロピルエトキシシラン、エチルジプロピル(n−プロポキシ)シラン、エチルジプロピル(i−プロポキシ)シラン、エチルジプロピル(n−ブトキシ)シラン、エチルジプロピル(sec−ブトキシ)シラン、エチルジプロピル(tert−ブトキシシラン)、エチルジフェニルメトキシシラン、エチルジフェニルエトキシシラン、エチルジフェニル(n−プロポキシ)シラン、エチルジフェニル(i−プロポキシ)シラン、エチルジフェニル(n−ブトキシ)シラン、
【0022】
エチルジフェニル(sec−ブトキシ)シラン、エチルジフェニル(tert−ブトキシシラン)、プロピルジメチルメトキシシラン、プロピルジメチルエトキシシラン、プロピルジメチル(n−プロポキシ)シラン、プロピルジメチル(i−プロポキシ)シラン、プロピルジメチル(n−ブトキシ)シラン、プロピルジメチル(sec−ブトキシ)シラン、プロピルジメチル(tert−ブトキシシラン)、プロピルジエチルメトキシシラン、プロピルジエチルエトキシシラン、プロピルジエチル(n−プロポキシ)シラン、プロピルジエチル(i−プロポキシ)シラン、プロピルジエチル(n−ブトキシ)シラン、プロピルジエチル(sec−ブトキシ)シラン、プロピルジエチル(tert−ブトキシシラン)、プロピルジフェニルメトキシシラン、プロピルジフェニルエトキシシラン、
【0023】
プロピルジフェニル(n−プロポキシ)シラン、プロピルジフェニル(i−プロポキシ)シラン、プロピルジフェニル(n−ブトキシ)シラン、プロピルジフェニル(sec−ブトキシ)シラン、プロピルジフェニル(tert−ブトキシシラン)フェニルジメチルメトキシシラン、フェニルジメチルエトキシシラン、フェニルジメチル(n−プロポキシ)シラン、フェニルジメチル(i−プロポキシ)シラン、フェニルジメチル(n−ブトキシ)シラン、フェニルジメチル(sec−ブトキシ)シラン、フェニルジメチル(tert−ブトキシシラン)、フェニルジエチルメトキシシラン、フェニルジエチルエトキシシラン、フェニルジエチル(n−プロポキシ)シラン、フェニルジエチル(i−プロポキシ)シラン、フェニルジエチル(n−ブトキシ)シラン、フェニルジエチル(sec−ブトキシ)シラン、フェニルジエチル(tert−ブトキシシラン)、
【0024】
フェニルジプロピルメトキシシラン、フェニルジプロピルエトキシシラン、フェニルジプロピル(n−プロポキシ)シラン、フェニルジプロピル(i−プロポキシ)シラン、フェニルジプロピル(n−ブトキシ)シラン、フェニルジプロピル(sec−ブトキシ)シラン、フェニルジプロピル(tert−ブトキシシラン)、トリビニルメトキシシラン、トリビニルエトキシシラン、トリビニル(n−プロポキシ)シラン、トリビニル(i−プロポキシ)シラン、トリビニル(n−ブトキシ)シラン、トリビニル(sec−ブトキシ)シラン、トリビニル(tert−ブトキシシラン)、ビニルジメチルメトキシシラン、ビニルジメチルエトキシシラン、ビニルジメチル(n−プロポキシ)シラン、ビニルジメチル(i−プロポキシ)シラン、ビニルジメチル(n−ブトキシ)シラン、
【0025】
ビニルジメチル(sec−ブトキシ)シラン、ビニルジメチル(tert−ブトキシシラン)、ビニルジエチルメトキシシラン、ビニルジエチルエトキシシラン、ビニルジエチル(n−プロポキシ)シラン、ビニルジエチル(i−プロポキシ)シラン、ビニルジエチル(n−ブトキシ)シラン、ビニルジエチル(sec−ブトキシ)シラン、ビニルジエチル(tert−ブトキシシラン)、ビニルジプロピルメトキシシラン、ビニルジプロピルエトキシシラン、ビニルジプロピル(n−プロポキシ)シラン、ビニルジプロピル(i−プロポキシ)シラン、ビニルジプロピル(n−ブトキシ)シラン、ビニルジプロピル(sec−ブトキシ)シラン、ビニルジプロピル(tert−ブトキシシラン)、ビス(トリメトキシシリル)メタン、ビス(トリエトキシシリル)メタン、
【0026】
ビス(トリフェノキシシリル)メタン、ビス(トリメトキシシリル)エタン、ビス(トリエトキシシリル)エタン、ビス(トリフェノキシシリル)エタン、1,3−ビス(トリメトキシシリル)プロパン、1,3−ビス(トリエトキシシリル)プロパン、1,3−ビス(トリフェノキシシリル)プロパン、1,4−ビス(トリメトキシシリル)ベンゼン、1,4−ビス(トリエトキシシリル)ベンゼン、ヘキサメトキシジシロキサン、ヘキサエトキシジシロキサン、ヘキサフェノキシジシロキサン、1,1,1,3,3−ペンタメトキシ−3−メチルジシロキサン、1,1,1,3,3−ペンタエトキシ−3−メチルジシロキサン、1,1,1,3,3−ペンタメトキシ−3−フェニルジシロキサン、1,1,1,3,3−ペンタエトキシ−3−フェニルジシロキサン、
【0027】
1,1,3,3−テトラメトキシ−1,3−ジメチルジシロキサン、1,1,3,3−テトラエトキシ−1,3−ジメチルジシロキサン、1,1,3,3−テトラメトキシ−1,3 −ジフェニルジシロキサン、1,1,3,3−テトラエトキシ−1,3−ジフェニルジシロキサン、1,1,3 −トリメトキシ−1,3,3−トリメチルジシロキサン、1,1,3−トリエトキシ−1,3,3−トリメチルジシロキサン、1,1,3−トリメトキシ−1,3,3−トリフェニルジシロキサン、1,1,3−トリエトキシ−1,3,3−トリフェニルジシロキサン、1,3−ジメトキシ−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1,3−ジエトキシ−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1,3−ジメトキシ−1,1,3,3−テトラフェニルジシロキサン、1,3−ジエトキシ−1,1,3,3−テトラフェニルジシロキサン、3−ジメトキシ−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1,3−ジエトキシ−1,1,3,3−テトラメチルジシロキサン、1,3−ジメトキシ−1,1,3,3−テトラフェニルジシロキサン、1,3−ジエトキシ−1,1,3,3−テトラフェニルジシロキサン、
【0028】
3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルトリエトキシシラン、3−ヒドロキシプロピルトリメトキシシラン、3−ヒドロキシプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、
【0029】
3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、テトラアセトキシシラン、テトラキス(トリクロロアセトキシ)シラン、テトラキス(トリフルオロアセトキシ)シラン、トリアセトキシシラン、トリス(トリクロロアセトキシ)シラン、トリス(トリフルオロアセトキシ)シラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルトリス(トリクロロアセトキシ)シラン、メチルトリス(トリフルオロアセトキシ)シラン、フェニルトリアセトキシシラン、フェニルトリス(トリクロロアセトキシ)シラン、フェニルトリス(トリフルオロアセトキシ)シラン、メチルジアセトキシシラン、メチルビス(トリクロロアセトキシ)シラン、
【0030】
メチルビス(トリフルオロアセトキシ)シラン、フェニルジアセトキシシラン、フェニルビス(トリクロロアセトキシ)シラン、フェニルビス(トリフルオロアセトキシ)シラン、ジメチルジアセトキシシラン、ジメチルビス(トリクロロアセトキシ)シラン、ジメチルビス(トリフルオロアセトキシ)シラン、メチルフェニルジアセトキシシラン、メチルフェニルビス(トリクロロアセトキシ)シラン、メチルフェニルビス(トリフルオロアセトキシ)シラン、ジフェニルジアセトキシシラン、ジフェニルビス(トリクロロアセトキシ)シラン、ジフェニルビス(トリフルオロアセトキシ)シラン、メチルアセトキシシラン、メチル(トリクロロアセトキシ)シラン、メチル(トリフルオロアセトキシ)シラン、フェニルアセトキシシラン、フェニル(トリクロロアセトキシ)シラン、
【0031】
フェニル(トリフルオロアセトキシ)シラン、ジメチルアセトキシシラン、ジメチル(トリクロロアセトキシ)シラン、ジメチル(トリフルオロアセトキシ)シラン、ジフェニルアセトキシシラン、ジフェニル(トリクロロアセトキシ)シラン、ジフェニル(トリフルオロアセトキシ)シラン、トリメチルアセトキシシラン、トリメチル(トリクロロアセトキシ)シラン、トリメチル(トリフルオロアセトキシ)シラン、トリフェニルアセトキシシラン、トリフェニル(トリクロロアセトキシ)シラン、トリフェニル(トリフルオロアセトキシ)シラン、3−アクリロキシプロピルトリアセトキシシラン、3−アクリロキシプロピルトリス(トリクロロアセトキシ)シラン、3−アクリロキシプロピルトリス(トリフルオロアセトキシ)シラン、3−メタクリロキシプロピルトリアセトキシシラン、
【0032】
3−メタクリロキシプロピルトリス(トリクロロアセトキシ)シラン、3−メタクリロキシプロピルトリス(トリフルオロアセトキシ)シラン、3−グリシドキシプロピルトリアセトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリス(トリクロロアセトキシ)シラン、3−グリシドキシプロピルトリス(トリフルオロアセトキシ)シラン、テトラクロロシラン、テトラブロモシラン、テトラフルオロシラン、トリクロロシラン、トリブロモシラン、トリフルオロシラン、メチルトリクロロシラン、メチルトリブロモシラン、メチルトリフルオロシラン、フェニルトリクロロシラン、フェニルトリブロモシラン、フェニルトリフルオロシラン、メチルジクロロシラン、メチルジブロモシラン、メチルジフルオロシラン、
【0033】
フェニルジクロロシラン、フェニルジブロモシラン、フェニルジフルオロシラン、ジメチルジクロロシラン、ジメチルジブロモシラン、ジメチルジフルオロシラン、メチルフェニルジクロロシラン、メチルフェニルジブロモシラン、メチルフェニルジフルオロシラン、ジフェニルジクロロシラン、ジフェニルジブロモシラン、ジフェニルジフルオロシラン、メチルクロロシラン、メチルブロモシラン、メチルフルオロシラン、フェニルクロロシラン、フェニルブロモシラン、フェニルフルオロシラン、ジメチルクロロシラン、ジメチルブロモシラン、ジメチルフルオロシラン、ジフェニルクロロシラン、ジフェニルブロモシラン、ジフェニルフルオロシラン、トリメチルクロロシラン、トリメチルブロモシラン、
【0034】
トリメチルフルオロシラン、トリフェニルクロロシラン、トリフェニルブロモシラン、トリフェニルフルオロシラン、3−アクリロキシプロピルトリクロロシラン、3−アクリロキシプロピルトリブロモシラン、3−アクリロキシプロピルトリフルオロシラン、3−メタクリロキシプロピルトリクロロシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリブロモシラン、3−メタクリロキシプロピルトリフルオロシラン、3−グリシドキシプロピルトリクロロシラン、3−グリシドキシプロピルトリブロモシラン、3−グリシドキシプロピルトリフルオロシランなどの加水分解性シラン類。またはこれらの部分加水分解物、脱水縮合物。
【0035】
(2)ケイ酸、トリメチルシラノール、トリフェニルシラノール、ジメチルシランジオール、ジフェニルシランジオール、シラノール末端ポリジメチルシロキサン、シラノール末端ポリジフェニルシロキサン、シラノール末端ポリメチルフェニルシロキサン、シラノール末端ポリメチルラダーシロキサン、シラノール末端ポリフェニルラダーシロキサン、オクタヒドロキシオクタシルセスキオキサンなどの、シラノール基を含有するケイ素化合物。
(3)水ガラス、オルトケイ酸ナトリウム、オルトケイ酸カリウム、オルトケイ酸リチウム、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム、メタケイ酸リチウム、オルトケイ酸テトラメチルアンモニウム、オルトケイ酸テトラプロピルアンモニウム、メタケイ酸テトラメチルアンモニウム、メタケイ酸テトラプロピルアンモニウムなどのケイ酸塩を酸やイオン交換樹脂に接触させることにより得られる活性シリカ。
【0036】
(4)ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコールなどのポリエーテル類、ポリアクリルアミド誘導体、ポリメタクリルアミド誘導体、ポリ(N−ビニルピロリドン)、ポリ(N−アシルエチレンイミン)などのアミド類、ポリビニルアルコール、ポリ酢酸ビニル、ポリアクリル酸誘導体、ポリメタクリル酸誘導体、ポリカプロラクトンなどのエステル類、ポリイミド類、ポリウレタン類、ポリ尿素類、ポリカーボネート類などの有機ポリマー。
上記(4)で列挙した有機ポリマーの末端や主鎖中に、重合性官能基を有していても良い。上記のバインダーは1種を単独で用いてもよいし、複数を組み合わせても良い。
【0037】
上記(1)で表される加水分解性シラン類は、塗布組成物中にモノマーの状態で添加することもできるが、部分加水分解・脱水縮合させた方が好ましい。部分加水分解・脱水縮合反応は、該加水分解性シランを水と反応させることによって行うが、触媒として塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、ホウ酸、ギ酸、酢酸などの酸類、あるいはアンモニア、トリアルキルアミン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、コリン、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシドなどのアルカリ類を用いてもよい。予め部分加水分解・脱水縮合を行った後に鎖状シリカゾル、球状微粒子と混合しても良いし、鎖状シリカゾル及び/又は球状微粒子の存在下で加水分解・脱水縮合反応を行っても良い。
【0038】
上記(1)で列挙した加水分解性シラン類、あるいは上記(4)で列挙した有機ポリマーの末端や主鎖中に重合性官能基が含まれている場合、添加物として重合性モノマーや重合開始剤などを添加しても良い。重合性モノマーは上記重合性官能基と反応するものであれば限定されることなく用いることができる。具体例としては、アルキル(メタ)アクリレート、エチレンビス(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテルなどが挙げられる。ここで(メタ)アクリレートとはアクリレートとメタクリレートの両方を指す。
重合開始剤としては、熱ラジカル発生剤、光ラジカル発生剤、熱酸発生剤、光酸発生剤など公知のものを、上記の重合性官能基の反応形態に合わせて選ぶことができる。
本発明の塗布組成物は、鎖状のシリカゾル、球状微粒子、および添加物を分散媒に分散した状態で反射防止膜用塗布組成物と成すが、用いる分散媒は、実質的に鎖状のシリカゾル、球状微粒子、および添加物が安定に分散していれば、特に限定されない。
【0039】
具体的には、水、炭素数1〜6の一価アルコール、炭素数1〜6の二価アルコール、グリセリンなどのアルコール類の他、ホルムアミド、N−メチルホルムアミド、N−エチルホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジエチルホルムアミド、N−メチルアセトアミド、N−エチルアセトアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジエチルアセトアミド、N−メチルピロリドンなどのアミド類、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテル、ジ(n−プロピル)エーテル、ジイソプロピルエーテル、ジグライム、1、4−ジオキサン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテルなどのエーテル類、
【0040】
ギ酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールジアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、炭酸ジエチル、炭酸エチレン、炭酸プロピレンなどのエステル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチル(n−ブチル)ケトン、メチルイソブチルケトン、メチルアミルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなどのケトン類、アセトニトリル、プロピオニトリル、n−ブチロニトリル、イソブチロニトリルなどのニトリル類、ジメチルスルホキシド、ジメチルスルホン、スルホランなどが好適に用いられる。
【0041】
より好ましい溶媒は、炭素数1〜6の一価アルコール類またはエチレングリコールモノメチルエーテルやプロピレングリコールモノメチルエーテルなどのアルカノールエーテル類である。
これらの溶媒は、本発明の目的を損なわない限り混合したり、他の任意の溶媒あるいは添加物を混合しても良い。
本発明の反射防止膜用の塗布組成物には、その他、レベリング剤、帯電防止剤、色素、金属塩など、種々の添加物を本発明の趣旨を損なわない範囲で添加することも可能である。
【0042】
また、本発明の反射防止膜用塗布組成物において、鎖状のシリカゾルと球状微粒子とを合わせた濃度は0.01〜10重量%、好ましくは0.05〜5重量%の範囲にあることが、成膜性の点で好適である。濃度が上記範囲を下回ると所望の厚さをもつ膜を得るのが困難となる。一方、上記範囲を上回ると、塗布液粘度が高くなりすぎて、成膜の作業性が低下する傾向がある。
本発明の反射防止膜用塗布組成物は、光透過性光学基材として用いるガラスや光学フィルムに塗布した後、成膜することで、反射防止膜として機能するが、特に耐熱性の低い光学フィルム等に用いることで優れた機能を発揮する。
【0043】
以下に本発明の反射防止膜用塗布組成物を耐熱性の低い光学フィルムを基材に用いた反射防止膜の成膜条件について詳説する。
本発明の反射防止膜用塗布組成物を塗布する光学フィルムとしては、透明なフィルムが好ましく、例えば、耐熱性200℃以下のトリアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロースアセテート系フィルム、延伸したポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ノルボネン系フィルム、ポリアリレート系フィルムおよびポリスルフォン系フィルムであってもよく、耐熱性150℃以下のセルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、ポリカーボネートフィルム、延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムであってもよい。
また、本発明の反射防止膜用塗布組成物を塗布する基材としては、上記のフィルムよりも厚いアクリルシートやポリカーボネートシートを用いることもできる。
【0044】
本発明の反射防止膜用塗布組成物は先ず、上記光学フィルム上に塗布し塗布膜を形成する。
本発明では塗布組成物の塗布は、ディッピング、スピンコーター、ナイフコーター、バーコーター、ブレードコーター、スクイズコーター、リバースロールコーター、グラビアロールコーター、スライドコーター、カーテンコーター、スプレイコーター、ダイコーター等の公知の塗布法を用いて実施することができる。これらのうち連続塗布が可能なナイフコーター、バーコーター、ブレードコーター、スクイズコーター、リバースロールコーター、グラビアロールコーター、スライドコーター、カーテンコーター、スプレイコーター、ダイコーターが好ましく用いられる。
【0045】
塗布された塗布膜はその後光学フィルムの熱変形温度より低い温度で加熱処理して硬化させる。硬化を行う温度は、上記光学フィルムの耐熱性に依存して適宜変更することができるが、60〜150℃、好ましくは70〜130℃、より好ましくは80〜120℃の範囲である。60℃未満では多孔質、且つ、密着性の良い膜が得られず、また、150℃を超えると基材が変形する危険性がある。
硬化時間は、1時間以内、好ましくは10分以内、より好ましくは2分以内である。
以上の処理によって反射防止膜を形成することができる。反射防止膜の膜厚は、特に制限されるものではないが、例えば一層の反射防止膜用の場合、50〜1,000nmの範囲内、好ましくは50〜500nmの範囲内、より好ましくは60〜200nmの範囲内である。膜厚が50nm未満となると、反射防止効果が低下する場合があり、一方、膜厚が1,000nmを超えると、光の位相のずれが乱雑になり干渉による反射防止効果が低下する恐れがある。
【0046】
尚、上記光学フィルムには、耐傷性を付与するために、反射防止膜と光学フィルムの間にハードコート層を設けることが好ましい。ハードコート層は、多官能モノマー等と重合開始剤を含有する塗布液を光学フィルム上に塗布し、多官能モノマー等を重合させることにより形成できる。ハードコート剤としては、市販のシリコーン系ハードコート剤やアクリル系ハードコート剤を用いることができる。
さらに、本発明の反射防止膜は、転写フィルムを経由して透明基材上に作成することも可能である。すなわち、離型性を有する支持体の上に本発明の反射防止膜を作成し、必要であればさらに帯電防止層やハードコート層を作成した後、最表層に接着層を設け、転写フィルムとする。任意の透明基材に該転写フィルムを貼り付け、支持体を剥離することによって、反射防止膜付き光学部材とすることができる。
【0047】
上記の方法によって得られる反射防止膜は、例えば、メガネレンズ、ゴーグル、コンタクトレンズ等のメガネ分野;車の窓、インパネメーター、ナビゲーションシステム等の自動車分野;窓ガラス等の住宅・建築分野;ハウスの光透過性フィルムやシート等の農芸分野;太陽電池、光電池、レーザー等のエネルギー分野;TVブラウン管、ノートパソコン、電子手帳、タッチパネル、液晶テレビ、液晶ディスプレイ、車載用テレビ、液晶ビデオ、プロジェクションテレビ、光ファイバー、光ディスク等の電子情報機器分野;照明グローブ、蛍光灯、鏡、時計等の家庭用品分野;ショーケース、額、半導体リソグラフィー、コピー機器等の業務用分野;液晶ゲーム機器、パチンコ台ガラス、ゲーム機等の娯楽分野などにおいて、映り込みの防止及び/又は光透過性の向上を必要としている光透過性光学基材、特に耐熱性の低い光学フィルム等の表面塗装に用いることが可能になった。
【0048】
以上本発明の反射防止膜用塗布組成物を用いた反射防止膜の形成方法について記したが、本発明の塗布組成物を用いて形成した反射防止膜は、単層膜で屈折率1.35以下を達成できるため、本発明の反射防止膜と特定の屈折率を有する光透過性光学材料とからなる複合膜の反射率は0.6%以下を達成することが可能となった。
本発明の反射防止膜用塗布組成物が鎖状のシリカゾルを用いることで低屈折率を達成できる根拠は定かではないが、鎖状のシリカゾルを用いることにより、膜中で、隣接する鎖状のシリカゾル同士の間に間隙(間隔)が形成されるからだと推定される。この間隙は、鎖状のシリカゾルを構成するシリカ微粒子のみで膜を形成した場合の間隙と比較して、はるかに大きな間隙の総体積を有する。その間隙の存在により、屈折率を低下させることができると考えられる。
加えて、上記の反射防止膜防止膜用塗布組成物は従来に比較して低温で反射防止膜とすることが可能であるため、従来不可能であった耐熱性の低い光学フィルム等への形成をも可能にせしめたものである。さらに該反射防止膜は耐擦傷性に優れるので、光学部材として広範な用途に応用することができる。
【0049】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を実施例などを用いて更に具体的に説明するが、本発明はこれら実施例などにより何等限定されるものではない。なお、本発明における測定方法などは以下の方法によるものである。
・最低反射率の測定
FE−3000型反射分光計(大塚電子株式会社製)を用いて、波長250〜800nmの範囲での反射スペクトルを測定した。該波長範囲における反射率の最小値を最低反射率と定めた。
・スチールウール試験
直径1cmのステンレス柱の片端にスチールウール(商品名:ボンスターNo.0000(登録商標)、日本スチールウール株式会社製)を取り付け、50gの荷重をかけながら反射防止膜上を10回往復させた。
【0050】
・ヘーズ
日本電色工業株式会社製濁度計(曇り度計)NDH2000を用いて、JIS−K−7361−1に規定される方法にて測定した。スチールウール試験を行う前後のヘーズ値の変化をΔヘーズとして定めた。
・ハードコート層付き光学基材の作成
市販のハードコート剤(日本化薬株式会社製UV硬化型ハードコート剤FOP−1100)をトルエンで2倍に希釈して、ハードコート層用塗布液を調製した。光学フィルム(東洋紡績株式会社製コスモシャインA4300(登録商標)、188ミクロン膜厚、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム)の片面に、上記ハードコート用塗布液を、スピンコーターを用いて1000rpmにて30秒間塗布し、120℃、1分間の乾燥を行った後、紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚み約5ミクロンのハードコート層を形成した。
【0051】
【比較例1】
平均直径が約12nmで平均長さが約100nmの鎖状シリカゾル(商品名:スノーテックスOUP、日産化学工業株式会社製、シリカ固形分濃度15重量%)2gと、エタノール18gを室温で混合し、シリカ固形分濃度1.5重量%の鎖状シリカゾルのエタノール分散液を得、次いで、テトラエトキシシラン0.104g、1N硝酸0.150gを添加して室温にて1晩攪拌し、反射防止膜用塗布組成物Aを得た。
得られた上記の反射防止膜用塗布組成物Aをスピンコート法により、上記のハードコート層の上に室温にて1000rpm、30秒間塗布して塗布膜を形成し、続いて熱風循環乾燥機にて120℃、2分間加熱処理を行い、反射防止膜とした。
【0052】
【実施例1、2】
大粒径シリカゾル(商品名:スノーテックスZL、日産化学工業株式会社製、粒径70〜100nm、シリカ固形分濃度40重量%)にSOH型イオン交換樹脂(三菱化学株式会社製、陽イオン交換樹脂ダイアイオンRCP−160M(登録商標))を加えて1分間攪拌した後、濾過してイオン交換樹脂を除くことにより、大粒径シリカゾルの水分散液Bを得た。上記塗布組成物Aに上記液Bを添加し、種々の反射防止膜用塗布組成物を得、比較例1と同様の方法でハードコート層上に反射防止膜を形成した。結果は表1に示す通り、スチールウール試験によるヘーズの上昇が著しく抑制されていた。
【0053】
【表1】
Figure 2005010470
【0054】
【実施例3〜5】
大粒径シリカゾルの水分散液B0.75gと、エタノール18gを室温で混合し、シリカ固形分濃度1.5重量%の大粒径シリカゾルのエタノール分散液を得、次いで、テトラエトキシシラン0.104g、1N硝酸0.150gを添加して室温にて1晩攪拌し、大粒径シリカゾルを含有する組成物Cを得た。上記塗布組成物Aと組成物Cを種々の割合で混合し、反射防止膜用塗布組成物を得、比較例1と同様の方法でハードコート層上に反射防止膜を形成した。結果は表2に示す通り、スチールウール試験によるヘーズの上昇が著しく抑制されていた。
【0055】
【表2】
Figure 2005010470
【0056】
【発明の効果】
本発明の反射防止膜用塗布組成物によれば、低反射率かつ耐擦傷性に優れた多孔質シリカ薄膜からなる反射防止膜を形成することができる。

Claims (7)

  1. 少なくとも鎖状のシリカゾル及び粒径50〜300nmの球状微粒子を含有することを特徴とする反射防止膜用塗布組成物。
  2. 球状微粒子がシリカゾルであることを特徴とする請求項1に記載の反射防止膜用塗布組成物。
  3. 球状微粒子の含有量が、該鎖状のシリカゾルに対して重量比で0.001〜10の範囲であることを特徴とする請求項1又は2に記載の反射防止膜用塗布組成物。
  4. 請求項1〜3のいずれか1項に記載の反射防止膜用塗布組成物を用いて形成された反射防止膜。
  5. 鎖状のシリカゾル及び粒径50〜300nmの球状微粒子を含有することを特徴とする反射防止膜。
  6. 球状微粒子がシリカゾルであることを特徴とする請求項5に記載の反射防止膜。
  7. 球状微粒子の含有量が、該鎖状のシリカゾルに対して重量比で0.001〜10の範囲であることを特徴とする請求項5又は6に記載の反射防止膜。
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Cited By (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006145709A (ja) * 2004-11-18 2006-06-08 Hitachi Ltd 反射防止膜及び反射防止膜を用いた光学部品及び反射防止膜を用いた画像表示装置
JP2007114305A (ja) * 2005-10-18 2007-05-10 Asahi Kasei Corp 転写用反射防止フィルム
WO2008041681A1 (fr) 2006-10-02 2008-04-10 Asahi Glass Company, Limited Composition de revêtement destinée à la formation d'un film antireflet, et article sur lequel est formé un film antireflet
JP2008139581A (ja) * 2006-12-01 2008-06-19 Asahi Glass Co Ltd 反射防止膜付き基体
JP2009226947A (ja) * 2008-02-29 2009-10-08 Sumitomo Chemical Co Ltd 積層体の製造方法
JP2011530401A (ja) * 2008-08-07 2011-12-22 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 親水性/透過率を高めるための針状シリカコーティング
KR101234971B1 (ko) 2005-04-26 2013-02-20 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 반사 방지 적층체의 제조 방법
JP2013527879A (ja) * 2010-05-11 2013-07-04 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 物品、コーティング組成物、及び方法
WO2013111783A1 (ja) 2012-01-23 2013-08-01 旭化成イーマテリアルズ株式会社 コーティング組成物及び反射防止膜
JP2014015560A (ja) * 2012-07-10 2014-01-30 Mitsubishi Rayon Co Ltd 耐擦傷性に優れたシロキサン系硬化被膜
JP5622955B1 (ja) * 2014-04-30 2014-11-12 尾池工業株式会社 ハードコート転写フィルムの製造方法及びハードコート転写フィルム並びにハードコート層を備えた高分子樹脂板又は高分子樹脂フィルム。
JP2015108061A (ja) * 2013-12-04 2015-06-11 旭化成株式会社 コーティング組成物及び反射防止膜
JP2019110219A (ja) * 2017-12-19 2019-07-04 株式会社 シリコンプラス 太陽電池パネル用コーティング材
US11592945B2 (en) * 2015-10-09 2023-02-28 Inkron Oy Dielectric siloxane particle films and devices having the same
US11860340B2 (en) 2019-01-08 2024-01-02 Lg Chem, Ltd. Optical laminate, polarizing plate, and display device

Cited By (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006145709A (ja) * 2004-11-18 2006-06-08 Hitachi Ltd 反射防止膜及び反射防止膜を用いた光学部品及び反射防止膜を用いた画像表示装置
KR101234971B1 (ko) 2005-04-26 2013-02-20 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 반사 방지 적층체의 제조 방법
JP2007114305A (ja) * 2005-10-18 2007-05-10 Asahi Kasei Corp 転写用反射防止フィルム
WO2008041681A1 (fr) 2006-10-02 2008-04-10 Asahi Glass Company, Limited Composition de revêtement destinée à la formation d'un film antireflet, et article sur lequel est formé un film antireflet
JP2008139581A (ja) * 2006-12-01 2008-06-19 Asahi Glass Co Ltd 反射防止膜付き基体
TWI461727B (zh) * 2008-02-29 2014-11-21 Sumitomo Chemical Co 積層體的製造方法
JP2009226947A (ja) * 2008-02-29 2009-10-08 Sumitomo Chemical Co Ltd 積層体の製造方法
JP2011530401A (ja) * 2008-08-07 2011-12-22 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 親水性/透過率を高めるための針状シリカコーティング
JP2013527879A (ja) * 2010-05-11 2013-07-04 スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー 物品、コーティング組成物、及び方法
US10297698B2 (en) 2010-05-11 2019-05-21 3M Innovative Properties Company Articles, coating compositions, and methods
KR101653894B1 (ko) * 2012-01-23 2016-09-02 아사히 가세이 이-매터리얼즈 가부시키가이샤 코팅 조성물 및 반사 방지막
WO2013111783A1 (ja) 2012-01-23 2013-08-01 旭化成イーマテリアルズ株式会社 コーティング組成物及び反射防止膜
CN104066805A (zh) * 2012-01-23 2014-09-24 旭化成电子材料株式会社 涂料组合物及防反射膜
KR20140102283A (ko) 2012-01-23 2014-08-21 아사히 가세이 이-매터리얼즈 가부시키가이샤 코팅 조성물 및 반사 방지막
EP2808368A1 (en) * 2012-01-23 2014-12-03 Asahi Kasei E-Materials Corporation Coating composition and antireflection film
EP2808368A4 (en) * 2012-01-23 2014-12-03 Asahi Kasei E Materials Corp COATING COMPOSITION AND ANTI-REFLECTIVE FILM
JPWO2013111783A1 (ja) * 2012-01-23 2015-05-11 旭化成イーマテリアルズ株式会社 コーティング組成物及び反射防止膜
CN104066805B (zh) * 2012-01-23 2017-05-03 旭化成株式会社 涂料组合物及防反射膜
JP2014015560A (ja) * 2012-07-10 2014-01-30 Mitsubishi Rayon Co Ltd 耐擦傷性に優れたシロキサン系硬化被膜
JP2015108061A (ja) * 2013-12-04 2015-06-11 旭化成株式会社 コーティング組成物及び反射防止膜
JP5622955B1 (ja) * 2014-04-30 2014-11-12 尾池工業株式会社 ハードコート転写フィルムの製造方法及びハードコート転写フィルム並びにハードコート層を備えた高分子樹脂板又は高分子樹脂フィルム。
US11592945B2 (en) * 2015-10-09 2023-02-28 Inkron Oy Dielectric siloxane particle films and devices having the same
JP2019110219A (ja) * 2017-12-19 2019-07-04 株式会社 シリコンプラス 太陽電池パネル用コーティング材
JP2022106797A (ja) * 2017-12-19 2022-07-20 株式会社 シリコンプラス 太陽電池パネル用コーティング材
JP7465001B2 (ja) 2017-12-19 2024-04-10 株式会社 シリコンプラス 太陽電池パネル用コーティング材
US11860340B2 (en) 2019-01-08 2024-01-02 Lg Chem, Ltd. Optical laminate, polarizing plate, and display device

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