JP4443318B2 - 反射防止膜及び反射防止膜を有する光学素子 - Google Patents
反射防止膜及び反射防止膜を有する光学素子 Download PDFInfo
- Publication number
- JP4443318B2 JP4443318B2 JP2004178779A JP2004178779A JP4443318B2 JP 4443318 B2 JP4443318 B2 JP 4443318B2 JP 2004178779 A JP2004178779 A JP 2004178779A JP 2004178779 A JP2004178779 A JP 2004178779A JP 4443318 B2 JP4443318 B2 JP 4443318B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- antireflection film
- refractive index
- layers
- substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Description
図1は、基材1の表面11に形成された反射防止膜2を示す。図1に示す反射防止膜2は6層構成であるが、本発明はこれに限定されず、2〜5層、及び7層以上の薄層を有するものを含む。基材1の表面11に第一層21が形成されており、その上に第二層22、第三層23、第四層24、第五層25及び第六層26がこの順に形成されている。第一層21、第二層22及び第三層23は緻密層であり、第四層24、第五層25及び第六層26は多孔質層である。第六層26は入射媒質aに接触している。図1に示す例では平板を基材1としているが、本発明はこれに限定されず、レンズ、プリズム、ライトガイド、フィルム又は回折素子を基材1とするものを含む。また基材1の材料は、ガラス、結晶性材料、プラスチックのいずれでも良い。
無機材料のみからなる層は蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の物理蒸着法、熱CVD、プラズマCVD、光CVD等の化学蒸着法等によって形成することができる。無機微粒子−バインダ複合層はディップコート法、スピン法、スプレー法、ロールコティング法、スクリーン印刷法等の湿式の方法で形成することができる。樹脂層は化学蒸着法やウェット法で形成可能である。
まず、蒸着法によって無機材料層を作製する方法を説明し、次にディップコート法によって無機微粒子−バインダ複合層及びフッ素樹脂層を作製する方法を説明する
(A) 蒸着法
図3に示す蒸着装置30は、真空チャンバ31内に基材ホルダ32と、蒸発源33とを具備する。基材ホルダ32は回転するようになっている。基材1上に第一層21を形成するには、まず表面11が蒸発源33側になるように、基材1を基材ホルダ32に設置し、蒸着材37を蒸発源33に載置する。真空ポンプ接続口35に接続された真空ポンプ(図示せず)により真空チャンバ31内を減圧にした後、蒸発源33により蒸着材37を加熱する。蒸着材37は加熱により蒸発し、基材1表面11に蒸着する。蒸着時間、加熱温度等を適宜設定することにより、所望の厚さを有する層を形成することができる。例えば酸化アルミニウムからなる第一層21を基材1の表面11に形成する場合、光学膜厚D0を100〜130 nmとするには、蒸着時間を4〜5分程度とすればよい。
(I) 無機微粒子−バインダ複合層
(a) 無機微粒子含有スラリーの調製
無機微粒子と、バインダ成分とを含有するスラリーを調製する。本明細書中、「バインダ成分」とは、重合によりバインダとなるモノマー及び/又はオリゴマーを言う。
ディップコート法、スピン法、スプレー法、ロールコティング法、スクリーン印刷法等によって基材に無機微粒子含有スラリーの層を形成する。例えばディップコート法による場合、形成する層の厚さはスラリーの濃度、浸漬時間、引き上げ速度等によって制御することができる。
(a) フッ素含有組成物溶液の調製
フッ素樹脂層を形成するには、(a) フッ素含有オレフィン系重合体と、架橋性化合物とを含有する組成物の溶液を基材等に塗布した後で架橋させても良いし、(b) フッ素含有オレフィン系化合物及びこれと共重合する単量体等を含有する組成物の溶液を塗布した後、重合させても良い。フッ素含有組成物を用いてフッ素樹脂層を形成する方法については、特開平07-126552号、特開平11-228631号、特開平11-337706号等に詳細に記載されている。
フッ素樹脂層を形成する方法は、フッ素含有組成物溶液を使用する以外上記(I) 無機微粒子−バインダ複合層とほぼ同じであるので、相違点のみ以下に説明する。フッ素含有組成物溶液の層を形成した後、架橋反応又は重合反応させる。架橋性化合物又はフッ素含有オレフィン系化合物等が熱硬化型の場合、100〜140℃に加熱して30〜60分程度保持するのが好ましい。紫外線硬化型の場合、UV照射装置を用いて50〜3000 mJ/cm2程度でUV照射する。層の厚さにも拠るが、照射時間は通常0.1〜60秒程度である。
有機修飾シリカエアロゲル層を積層する場合を例にとって、多孔質層の製造方法を説明する。
(a-1) アルコキシシラン及びシルセスキオキサン
アルコキシシラン及び/又はシルセスキオキサンの加水分解重合により、シリカゾル及びシリカゲルが生成する。アルコキシシランはモノマーでも、オリゴマーでも良い。アルコキシシランモノマーはアルコキシル基を3つ以上有するものが好ましい。アルコキシル基を3つ以上有するアルコキシシランを出発原料とすることにより、優れた均一性を有する反射防止膜が得られる。アルコキシシランモノマーの具体例としてはメチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラブトキシシラン、テトラプロポキシシラン、ジエトキシジメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン及びジエトキシジメチルシランが挙げられる。アルコキシシランオリゴマーとしては、上述のモノマーの縮重合物が好ましい。アルコキシシランオリゴマーはモノマーの加水分解重合により得られる。
溶媒は水とアルコールからなるのが好ましい。アルコールとしてはメタノール、エタノール、n-プロピルアルコール、i-プロピルアルコールが好ましく、エタノールが特に好ましい。溶媒の水/アルコール体積比は1〜2であるのが好ましい。水/アルコール比が2超であると、溶媒の揮発に時間がかかり過ぎる。水/アルコール比が1未満であると、アルコキシシラン及び/又はシルセスキオキサン(以下、単に「アルコキシシラン等」という)の加水分解が十分に起こらない。
アルコキシシラン等の水溶液に触媒を添加するのが好ましい。適当な触媒を添加することによりアルコキシシラン等の加水分解反応を促進することができる。触媒は酸性でも塩基性でもよい。酸性の触媒としては塩酸、硝酸及び酢酸が挙げられる。塩基性の触媒としてはアンモニア、アミン、NaOH及びKOHが挙げられる。好ましいアミンとしてはアルコールアミン、アルキルアミン(例えばメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、n-ブチルアミン及びn-プロピルアミン。)が挙げられる。
水とアルコールからなる溶媒に、アルコキシシラン等を溶解する。溶媒/アルコキシシラン等のモル比は5〜40にするのが好ましい。モル比が5未満であると、アルコキシシラン等が溶解し難過ぎる。モル比が40超であると、シリカ含有ゾルの乾燥に時間がかかり過ぎる。触媒/アルコキシシラン等のモル比は1×10-3〜3×10-2にするのが好ましく、3×10-3〜1×10-2にするのがより好ましい。モル比が1×10-3未満であると、アルコキシシラン等の加水分解が十分に起こらない。モル比を3×10-2超としても、触媒効果は増大しない。
ゾル及び/又はゲルに有機修飾剤の溶液を加え、これらが十分に接触した状態にすることにより、ゾル又はゲルを構成する酸化ケイ素の末端にある水酸基等の親水性基を疎水性の有機基に置換する。好ましい有機修飾剤は下記式(2)〜(7)
MpSiClq ・・・(2)
M3SiNHSiM3 ・・・(3)
MpSi(OH)q ・・・(4)
M3SiOSiM3 ・・・(5)
MpSi(OM)q ・・・(6)
MpSi(OCOCH3)q ・・・(7)
(ただしpは1〜3の整数であり、qはq = 4−p を満たす1〜3の整数であり、Mは水素、アルキル基又はアリール基であり、アルキル基は置換又は無置換であって炭素数1〜18であり、アリール基は置換又は無置換であって炭素数5〜18である。)のいずれかにより表される化合物及びそれらの混合物である。
ゾル及び/又はゲルの分散媒は、前述のエージング工程においてエージングを促進したり遅らせたりする表面張力及び/又は固相−液相の接触角や、有機修飾工程における表面修飾の範囲に影響する他、後述するコーティング工程における分散媒の蒸発率にも関係する。ゲルに取り込まれている分散媒は、ゲルの入った容器に置換すべき分散媒を注ぎ、振とうした後でデカンテーションする操作を繰り返すことによって置換することができる。ゾルの場合、低沸点の分散媒又は置換すべき分散媒と共沸する分散媒をゾルに加え、元の分散媒を揮発させた後、新しい分散媒を補給することによって置換することができる。
超音波処理により、ゲル状及び/又はゾル状の有機修飾酸化ケイ素をコーティングに好適な状態にすることができる。ゲル状の有機修飾酸化ケイ素の場合、超音波処理により、電気的な力若しくはファンデルワールス力によって凝集していたゲルが解離するか、金属と酸素との共有結合が壊れて、分散状態になると考えられる。ゾル状の場合も、超音波処理によってコロイド粒子の凝集を少なくすることができる。超音波処理には、超音波振動子を利用した分散装置を使用することができる。照射する超音波の周波数は10〜30 kHzとするのが好ましく、超音波照射装置の出力は300〜900 Wとするのが好ましい。
シリカ含有ゾルを緻密層又は多孔質層上に塗布する。シリカ含有ゾルからなる層を設ける方法の例としてスプレーコート法、スピンコート法、ディップコート法、フローコート法及びバーコート法が挙げられる。シリカ含有ゾルをコーティングすると、ゾルの構成要素である分散媒が揮発して、シリカエアロゲル層が生成する。シリカエアロゲル層の空隙率は、分散媒が揮発している間は、毛管圧によって生じるゲルの収縮のために小さくなるが、揮発し終わると、スプリングバック現象によって回復する。このためシリカエアロゲル層の空隙率は、ゲルネットワークの元々の空隙率とほぼ同じであり、大きな値を示す。シリカゲルネットワークの収縮及びスプリングバック現象については、米国特許5,948,482号に詳細に記載されている。
LaFK55からなる平板の表面に下記(1) 及び(2) に示すようにして多層反射防止膜を形成した。
(1) 緻密層の形成
図3に示す成膜装置を使用して、LaFK55ガラスからなる平板(波長550 nmにおける屈折率:1.697)の表面に反射防止膜の緻密層を形成した。基材1の表面11が蒸発源33側になるように、基材1を基材ホルダ32に設置した。酸化アルミニウム(屈折率1.64)を蒸発源33に載置して加熱することにより基材1の表面に酸化アルミニウムを蒸着し、物理層厚91 nmの酸化アルミニウム層を形成した。次いで物理層厚102 nmの酸化ケイ素(屈折率1.46)層、物理層厚108 nmのフッ化マグネシウム(屈折率1.38)層をこの順に形成した。
(i) 有機修飾シリカ含有ゾルの作製
テトラエトキシシラン5.21 gと、エタノール4.38 gとを混合した後、塩酸(0.01 N)0.4 gを加えて90分間撹拌した。エタノール44.3 gと、アンモニア水溶液(0.02 N)0.5 gとを添加して46時間撹拌した後、この混合液を60℃に昇温して46時間エージングしたところ、湿潤ゲルが生成した。溶媒をデカンテーションした後、素早くエタノールを加えて振とうし、デカンテーションすることにより湿潤ゲルの分散媒をエタノールに置換した。さらにヘキサンを加えて振とうし、デカンテーションすることによりエタノール分散媒をヘキサンに置換した。ゲル状のシリカにトリメチルクロロシランのヘキサン溶液(濃度5体積%)を加え、30時間撹拌して、酸化ケイ素末端を有機修飾した。得られた有機修飾シリカゲルは、ヘキサン洗浄した。
上記(1) で得られた第三層(フッ化マグネシウム層)上に、C液をディップコートした後、40℃で5分間風乾した。次にB液をディップコートし、40℃で5分間風乾した後、A液をディップコートして40℃で5分間風乾した。これを150℃で5分間焼成したところ、シリカエアロゲル層が形成した。
下記(1) 及び(2) に示すように、BK7からなる平板の表面に多層反射防止膜を形成した。
(1) 緻密層の形成
(i) 第一層
シリコーンハードコート液(ジーイー東芝シリコーン株式会社製、商品名UVHC 8558)30 mLと、i-プロピルアルコール270 mLを混合し、得られた溶液をBK7からなる平板(波長550 nmにおける屈折率:1.518)の表面にディップコートした。形成したスラリーの層にUV照射装置(フュージョンシステムズ社製)を用いて1500 mJ/cm2で紫外線照射し、第一層を形成した。第一層の屈折率は1.47であり、物理層厚は102 nmであった。
パーフルオロエチレンとフッ化ビニリデンとの共重合体30 g、重合開始剤(2-メチル-1-[4-(メチルチオ)フェニル]-2-モンフォリノプロパノン-1)1.5 g、メチルi-ブチルケトン1000 mLを混合した。得られたフッ素含有重合体溶液を第一層上にディップコートした以外実施例2(1) (i) と同様にして、第二層を形成した。第二層の屈折率は1.39であり、物理層厚は108 nmであった。
有機修飾シリカゲルとヘキサンからなる混合物に、それぞれ100分間、10分間、5分間超音波照射し、超音波照射時間100分間のF液、10分間のE液及び5分間のD液を第二層上にこの順でディップコートした以外、実施例1(2) と同様にして第三層〜第五層を形成した。
実施例1(1) と同様にして、LaFK55からなる平板の表面に蒸着法によって緻密な層のみからなる反射防止膜を形成した。得られた緻密反射防止膜の構成を表4に示す。
表5に示す構成になるように、蒸着法によって酸化チタンとフッ化マグネシウムとを交互に積層した以外実施例1(1) と同様にして、LaFK55からなる平板の表面に緻密な層のみからなる反射防止膜を形成した。
11・・・表面
2・・・反射防止膜
21・・・第一層
22・・・第二層
23・・・第三層
24・・・第四層
25・・・第五層
26・・・第六層
Claims (5)
- 基材の表面に形成された複数の層からなり、前記基材及び各層の屈折率が前記基材から順に小さくなっており、前記層とその隣の層及び前記基材とそれに接触する層との屈折率差が0.02〜0.2であり、各層の物理層厚が15〜200 nmであり、前記複数の層のうち入射媒質側に形成された少なくとも1層が有機修飾シリカからなる多孔質層であり、可視域から赤外域にかけて1200 nm以上の波長範囲で反射率1%以下である反射防止膜を製造する方法であって、
前記多孔質層は、分散媒に対して0.1〜20質量%の疎水化処理シリカゲルを含む分散物に、周波数10〜30 kHzの超音波を5〜120分間照射して調製した疎水化シリカ含有ゾルを塗布、乾燥及び焼成することにより形成し、
前記多孔質層の屈折率は、前記超音波の照射時間により前記分散物の凝集度を調節し、25〜90%の範囲で任意の空隙率を有する前記多孔質層を形成することによって調節することを特徴とする反射防止膜の製造方法。 - 請求項1に記載の反射防止膜の製造方法において、前記複数の層のうち少なくとも1層が無機微粒子と紫外線硬化性のアクリル系バインダとからなる複合層であることを特徴とする反射防止膜の製造方法。
- 請求項1又は2に記載の反射防止膜の製造方法において、前記複数の層のうち少なくとも1層がフッ素含有紫外線硬化樹脂層であることを特徴とする反射防止膜の製造方法。
- 請求項1〜3のいずれかに記載の反射防止膜の製造方法において、前記基材の屈折率が波長550 nmにおいて1.697であり、前記反射防止膜が前記基材側から順に3層の前記緻密層及び3層の前記多孔質層を形成してなることを特徴とする反射防止膜の製造方法。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の反射防止膜の製造方法において、前記基材の屈折率が波長550 nmにおいて1.518であり、前記反射防止膜が前記基材側から順に2層の前記緻密層及び3層の前記多孔質層を形成してなることを特徴とする反射防止膜の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004178779A JP4443318B2 (ja) | 2004-06-16 | 2004-06-16 | 反射防止膜及び反射防止膜を有する光学素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004178779A JP4443318B2 (ja) | 2004-06-16 | 2004-06-16 | 反射防止膜及び反射防止膜を有する光学素子 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006003562A JP2006003562A (ja) | 2006-01-05 |
JP4443318B2 true JP4443318B2 (ja) | 2010-03-31 |
Family
ID=35772008
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004178779A Expired - Fee Related JP4443318B2 (ja) | 2004-06-16 | 2004-06-16 | 反射防止膜及び反射防止膜を有する光学素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4443318B2 (ja) |
Families Citing this family (24)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
FR2896887B1 (fr) * | 2006-02-02 | 2008-05-30 | Essilor Int | Article comportant un revetement mesoporeux presentant un profil d'indice de refraction et ses procedes de fabrication |
JP4974910B2 (ja) * | 2008-01-10 | 2012-07-11 | ペンタックスリコーイメージング株式会社 | 反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置 |
US8199404B2 (en) | 2007-12-27 | 2012-06-12 | Pentax Ricoh Imaging Company, Ltd. | Anti-reflection coating, optical member, exchange lens unit and imaging device |
JP4951500B2 (ja) * | 2007-12-27 | 2012-06-13 | ペンタックスリコーイメージング株式会社 | 反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置 |
JP5096933B2 (ja) * | 2008-01-07 | 2012-12-12 | ペンタックスリコーイメージング株式会社 | 反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置 |
JP4977631B2 (ja) * | 2008-01-15 | 2012-07-18 | ペンタックスリコーイメージング株式会社 | 反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置 |
JP5154971B2 (ja) * | 2008-02-18 | 2013-02-27 | ペンタックスリコーイメージング株式会社 | 反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置 |
JP5509616B2 (ja) | 2008-02-28 | 2014-06-04 | リコーイメージング株式会社 | 反射防止膜、光学部品、交換レンズ及び撮像装置 |
JP5096966B2 (ja) * | 2008-03-03 | 2012-12-12 | ペンタックスリコーイメージング株式会社 | 反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置 |
JP5437662B2 (ja) * | 2008-03-03 | 2014-03-12 | 学校法人慶應義塾 | 反射防止膜及びその形成方法 |
JP5313750B2 (ja) * | 2008-07-31 | 2013-10-09 | 学校法人慶應義塾 | 反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置 |
JP5091043B2 (ja) * | 2008-07-31 | 2012-12-05 | 学校法人慶應義塾 | 反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置 |
US9588262B2 (en) | 2010-10-20 | 2017-03-07 | 3M Innovative Properties Company | Optically diffuse low refractive index element |
JP2012131695A (ja) * | 2010-11-30 | 2012-07-12 | Canon Inc | 多孔質ガラスの製造方法及び撮像装置の製造方法 |
US9128218B2 (en) * | 2011-12-29 | 2015-09-08 | Visera Technologies Company Limited | Microlens structure and fabrication method thereof |
US10556405B2 (en) | 2015-01-27 | 2020-02-11 | Hitachi Chemical Company, Ltd. | Production method for aerogel laminate, and aerogel laminate roll |
KR20170109565A (ko) * | 2015-01-27 | 2017-09-29 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 에어로겔 적층체 및 단열재 |
CN104795430A (zh) | 2015-04-14 | 2015-07-22 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种有机发光显示器件及其制作方法 |
KR20180044882A (ko) * | 2015-08-28 | 2018-05-03 | 히타치가세이가부시끼가이샤 | 피단열체의 제조 방법 및 피단열체 |
JP2017076081A (ja) * | 2015-10-16 | 2017-04-20 | キヤノン株式会社 | 反射防止膜、光学素子、光学系および光学機器 |
WO2019163131A1 (ja) * | 2018-02-26 | 2019-08-29 | 日立化成株式会社 | 構造体、接着用材料、構造体の製造方法、及び被覆方法 |
JP7308475B2 (ja) * | 2019-01-25 | 2023-07-14 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 色変換素子 |
WO2020153144A1 (ja) * | 2019-01-25 | 2020-07-30 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 色変換素子 |
JP7343750B2 (ja) * | 2019-03-18 | 2023-09-13 | 株式会社リコー | 反射防止膜及びその製造方法、及びそれを用いた光学部材 |
-
2004
- 2004-06-16 JP JP2004178779A patent/JP4443318B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2006003562A (ja) | 2006-01-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4443318B2 (ja) | 反射防止膜及び反射防止膜を有する光学素子 | |
JP2006215542A (ja) | 反射防止膜及びこれを有する撮像系光学素子 | |
JP4497460B2 (ja) | 反射防止膜の製造方法 | |
JP5509616B2 (ja) | 反射防止膜、光学部品、交換レンズ及び撮像装置 | |
US20060154044A1 (en) | Anti-reflection coating and optical element having such anti-reflection coating for image sensors | |
JP4828232B2 (ja) | 反射防止膜を有する光学素子及びその製造方法 | |
JP4953426B2 (ja) | シリカエアロゲル膜の製造方法 | |
JP5375247B2 (ja) | 反射防止膜の形成方法及び光学素子 | |
JP4448392B2 (ja) | 反射防止膜を有する光学素子の製造方法 | |
JP5096933B2 (ja) | 反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置 | |
JP4951500B2 (ja) | 反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置 | |
JP2008163205A (ja) | 透明被膜形成用塗料および透明被膜付基材 | |
US20090168184A1 (en) | Anti-reflection coating, optical member, exchange lens unit and imaging device | |
JP2003201443A (ja) | コーティング材組成物及びそれにより形成された被膜を有する物品 | |
JP2006139254A (ja) | 反射防止塗料、これによって形成される反射防止フィルムおよびその製造方法 | |
JP2008233878A (ja) | 防塵性反射鏡及びそれを具備する光学系装置 | |
JP4977631B2 (ja) | 反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置 | |
JP5347145B2 (ja) | 反射防止膜及びこれを有する光学部品、並びに前記光学部品を有する交換レンズ及び撮像装置 | |
JP2007071917A (ja) | 反射防止構造を有する光学素子 | |
JP5154971B2 (ja) | 反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置 | |
TW200934665A (en) | Bilayer anti-reflective films containing nanoparticles in both layers | |
JP4974910B2 (ja) | 反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置 | |
JP5096966B2 (ja) | 反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置 | |
JP6592897B2 (ja) | シリカエアロゲル膜の製造方法 | |
JP3726241B2 (ja) | プラスチック光学物品とその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070515 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712 Effective date: 20080501 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090917 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090930 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20091126 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100106 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100112 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130122 Year of fee payment: 3 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130122 Year of fee payment: 3 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140122 Year of fee payment: 4 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |