KR101209146B1 - 쓰로우 실리콘 비아 브릿지 상호접속부 - Google Patents

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콸콤 인코포레이티드
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Abstract

집적회로 브릿지 상호접속 시스템은 나란한 구성으로 배열되며 브릿지 다이에 의해 서로 전기적으로 상호접속되는 제 1 다이 및 제 2 다이를 포함한다. 브릿지 다이는 브릿지 다이 상의 전도성 상호접속 라인들을 제 1 다이 및 제 2 다이에 접속하기 위해 쓰로우 실리콘 비아(TSV)들을 포함한다. 상호접속 라인들 이외에 능동 회로가 브릿지 다이 상에 제공될 수 있다. 적어도 하나 이상의 추가 다이가 브릿지 다이 상에 적층될 수 있고 브릿지 다이에 상호접속될 수 있다.

Description

쓰로우 실리콘 비아 브릿지 상호접속부{THROUGH SILICON VIA BRIDGE INTERCONNECT}
본 발명은 집적회로(IC) 패키징에 관한 것으로, 특히 기판 패키지 내에서 나란한(side-by-side) 집적회로들 사이의 상호접속부들을 브릿지(bridge)하는 것에 관한 것이다.
IC 패키징에서, 패키지내에 나란한 구성의 반도체 다이들을 제공하고 이들을 상호접속하는 것이 필요하다. 예를 들어, 패키지는 리드 프레임 패키지(lead frame package)일 수 있다.
일 구성에서, 반도체 다이들은 패키지 베이스로부터 떨어져 면하는 각각의 다이의 활성측(active side)으로 패키지된다. 다이들 간의 상호접속부(interconnection)는 와이어 본딩에 의해 달성된다. 그러나, 어셈블리 상호접속부에 대한 디자인 룰들은 와이어 직경 및 와이어-본딩 캐필러리 툴(wire-bonding capillary tool)의 치수들에 의해 제한될 수 있고, 이는 본딩 패드들이 상기 치수들을 수용하도록 충분한 거리를 두고 이격되고 충분히 클 것을 요구한다. 따라서, 상호접속부들의 수는 상호접속부들의 크기에 의해 제한된다. 또한, 다이-대-다이 와이어 본드에서 리드 인덕턴스(lead inductance)는 패키징된 디바이스의 성능을 제한할 수 있다. 또한, 골드(gold) 와이어는 와이어 본딩에 대한 통상의 선택이며, 이는 패지키의 전체 비용(net cost)을 상당히 증가시킨다.
또 다른 구성인 플립-칩 솔더볼(flip-chip solderball) 패키징에서, 다이의 능동 디바이스 영역은 패키지 장착 기판을 면하는, 이를 테면 하향하는 표면상에 있게 된다. 이 구성에서, 인접한 다이들 간의 상호접속부 밀도는 콘택 패드 크기 요구조건들에 의해서도 제한된다.
미국 특허 제 5,225,633호는 나란한 구성에서 브릿지 부재들(elements)을 사용하여 2개의 반도체 다이들을 상호접속하는 것을 개시한다. 각각의 브릿지 부재는 오버행되는 전도성 빔 리드들을 지지하는 강성의 반도체 다이를 포함한다. 브릿지는 2개의 반도체 다이들 사이의 공간에 위치되며 인접한 위치설정 및 각각의 빔 리드의 오버행 범위는 상호접속되는 각각의 반도체 다이들 상에 위치되는 본딩 패드들과의 적절한 결합(mating)을 제공하도록 선택된다. 그러나, 실리콘 브릿지 상에 빔 리드들을 형성하거나 이들을 배치하는 방법은 개시되지 않았다. 또한, 빔 리드들의 핸들링 및 어셈블링이 어려울 수 있고, 브릿지가 2개의 다이들 간의 공간을 점유한다. 또한, 골드가 바람직한 상호접속 금속이기 때문에, 이는 어셈블리된 패키지의 재료 비용에 영향을 미친다.
따라서, 어셈블리 프로세스를 단순화시키고, 상호접속부 재료들의 비용을 감소시키고, 등가의 빔 리드 상호접속부들 및 와이어 본딩으로 통상적으로 허용될 수 있는 파이너 피치(finer pitch)를 갖는 칩들 간의 상호접속부를 가능케하는 인접한 반도체 다이들 간의 패키징 상호접속 시스템이 요구된다.
나란한 구성에서 2개의 다이를 상호접속하는 시스템 및 방법이 개시된다. 제 3 반도체 다이는 2개의 다이를 접속하기 위한 상호접속 브릿지로서의 기능을 한다. 브릿지 다이는 상호접속을 원활하게 하기 위해 쓰로우 실리콘 비아(TSV: through silicon via)들을 포함한다.
집적회로 브릿지 상호접속 시스템은 제 1 면 및 제 2 면을 갖는 제 1 다이 및 제 1 면 및 제 2 면을 갖는 제 2 다이를 포함한다. 이들 다이는 나란한 구성으로 제공된다. 브릿지 다이는 제 1 다이 및 제 2 다이의 제 1 면들 상에 배치된다. 브릿지 다이는 제 1 다이와 제 2 다이를 상호접속한다.
집적회로 패키징 시스템은 반도체 다이들을 함유(contain)하기 위한 패키지 및 반도체 다이들을 수용하기 위해 패키지 내에 배치되는 기판을 포함한다. 모두 제 1 면 및 제 2 면을 갖는 제 1 다이 및 제 2 다이는 나란한 구성으로 기판상에 배치된다. 제 2 다이 및 제 2 다이의 제 2 면들은 기판을 면한다. 브릿지 다이는 제 1 다이 및 제 2 다이의 제 1 면들 상에 배치된다. 브릿지 다이는 제 1 다이 및 제 2 다이를 상호접속한다.
앞에서는 하기의 본 발명에 대한 상세한 설명이 보다 이해될 수 있도록 하기 위해 본 발명의 특징들 및 기술적 장점들을 다소 광범위하게 설명했다. 본 발명의 추가의 특징들 및 장점들이 이후 개시되며 이는 이후 본 발명의 청구항들의 주체를 형성한다. 당업자들은 개시된 개념 및 특정 실시예가 본 발명에 대해 동일한 목적들을 수행하기 위한 다른 구조들을 변경 또는 설계하기 위해 기본적으로 쉽게 이용될 수 있다는 것을 인식해야 한다. 또한, 이러한 등가적인 구성들은 첨부되는 청구항들에 개시된 것처럼 본 발명의 범주 및 사상을 이탈하지 않는다는 것을 당업자들에 의해 인식될 것이다. 본 발명의 동작 방법 및 구성(organization) 모두에 따라 추가의 목적들 및 장점들과 함께, 본 발명의 특징인 것으로 여겨지는 신규한 피처들은 첨부되는 도면들과 관련하여 참조할 때 하기 설명으로부터 보다 이해될 것이다. 그러나, 각각의 도면들은 단지 예시 및 설명을 목적으로 제공되는 것이며 본 발명을 제한하는 한정으로 의도된 것은 아니다.
본 발명의 보다 완벽한 이해를 위해, 첨부되는 도면들과 관련하여 취해진 하기 설명을 참조로 한다.
도 1은 본 발명의 실시예들이 바람직하게 사용될 수 있는 예시적인 무선 통신 시스템을 도시한다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 TSV 브릿지 상호접속부에 대한 평면도를 도시한다.
도 3은 2개의 플립-칩 다이들 간에 브릿지 상호접속부에 대한 예시적인 확대 단면도이다.
도 4는 2개의 와이어-본드 다이들 간의 브릿지 상호접속부에 대한 실시예의 예시적인 확대 단면도이다.
도 5는 플립-칩 다이와 와이어-본드 다이 간의 브릿지 상호접속부에 대한 실시예의 예시적인 확대 단면도이다.
도 6은 브릿지 상호접속부 상에 추가의 다이들이 적층되는 실시예에 대한 예시적인 확대 단면도이다.
기판-기재(substrate-based) 패키지에서 나란한 구성으로 배치되는 2개의 반도체 다이(칩들)를 연결하기 위한 방법들 및 구조들이 개시된다. 접속부들은 모두 나란한 다이들과의 콘택을 구성하기 위해 반도체 상호접속 브릿지 다이(통상적으로 실리콘)를 이용함으로써 달성될 수 있다. 상호접속 브릿지 다이는 상호접속 브릿지 다이의 마주하는 표면에 각각의 다이들 상의 콘택 패드들을 접속하기 위해 쓰로우 실리콘 비아들을 포함한다. 쓰로우 실리콘 비아들 간의 접속들을 완성하기 위해 상호접속 브릿지 다이 상에 상호접속 라인들이 형성된다.
도 1은 본 발명의 실시예가 바람직하게 이용될 수 있는 예시적 무선 통신 시스템(100)을 도시한다. 예시를 목적으로, 도 1은 3개의 원격 유니트들(120, 130, 150) 및 2개의 기지국들(140)을 도시한다. 전형적인 무선 통신 시스템들이 보다 많은 원격 유니트들 및 기지국들을 가질 수 있다는 것이 인식될 것이다. 원격 유니트들(120, 130, 150)은 하기에 추가로 언급되는 것처럼 본 발명의 실시예인 쓰로우 실리콘 비아(TSV) 브릿지 상호접속 멀티-칩 패키지들(125A, 125B, 125C)을 포함한다. 도 1은 기지국들(140) 및 원격 유니트들(120, 130, 150)로부터의 순방향 링크 신호들(180) 및 원격 유니트들(120, 130, 150)에서 기지국들(140)로의 역방향 링크 신호들(190)을 도시한다.
도 1에서, 원격 유니트(120)는 모바일 전화로서 도시되며, 원격 유니트(130)는 휴대용 컴퓨터로서 도시되며, 원격 유니트(150)는 무선 로컬 루프 시스템의 고정된 로케이션 원격 유니트로서 도시된다. 예를 들어, 원격 유니트들은 셀 전화들, 핸드-헬드 개인용 통신 시스템(PCS) 유니트들, 개인용 데이터 보조기들과 같은 휴대용 데이터 유니트들, 또는 미터 판독 장비와 같은 고정된 로케이션 데이터 유니트들일 수 있다. 도 1은 본 발명의 설명에 따른 원격 유니트들을 예시하지만, 본 발명은 예시적으로 도시된 이렇나 유니트들로 제한되지 않는다. 본 발명은 나란한 구성의 칩들을 가지는 멀티-칩 패키지를 포함하는 임의의 디바이스에 사용하기에 적합하다.
도 2는 본 발명의 실시예에 따른 TSV 브릿지 상호접속 구성(200)에 대한 평면도를 도시한다. 구성(200)은 예를 들어 유기 또는 세라믹 기판 인쇄 회로 보드일 수 있는 기판(210)을 포함한다. 각각 제 1 면 및 제 2 면을 갖는 2개 이상의 다이가 기판(210) 상에 배치될 수 있다. 예시적인 도시에 대해, 도 2를 참조하면, 2개의 다이(220, 230)는 나란한 구성으로 배치되게 도시된다. 다이들(220, 230)의 한쪽 표면은 기판(210)에 접속될 수 있고 결국에는 패키지 리드들과 접속될 수 있다.
제 1 면 및 제 2 면을 갖는 브릿지 상호접속 다이(240)는 다이들(220, 230)과 적어도 부분적으로 중첩되며 전기적으로 통신한다. 전도성 금속으로 채워진 쓰로우 실리콘 비아(TSV)들(270)은 브릿지 상호접속 다이(240)의 제 1 면(지면 밖으로 면하는 것으로 도시됨)을 다이들(220, 230) 상의 능동 회로(active circuitry)에 연결한다. 다음 브릿지 상호접속 다이(240)의 제 1 면 상의 상호접속 라인들(272)은 다이들(220, 230) 간의 접속들을 완성한다. 상이한 기능의 애플리케이션들에 대해, 다이들(220, 230)의 특정 기능들이 변경될 경우, 상호접속 라인들(272)은 적절하게 리-라우팅되고 TSV들(270)은 포토마스크들의 변경 및 프로세싱의 웨이퍼 스케일 레벨에서의 제조에 의해 재배치된다(relocated).
또한, 상호접속 라인들(272)은 원칙적으로 수동형(passive) 금속 상호접속부들일 수 있지만, 이들은 보다 복잡한 회로 상호접속부들, 이를 테면 임피던스 컴포넌트들(즉, 레지스터들, 커패시터들 및 인덕터들), 및 능동 디바이스들(즉, 트랜지스터들, 로직, 메모리 등)일 수 있다. 도 2에 도시되지는 않았지만, 브릿지 상호접속 다이(240)의 제 1 면은 상호접속 기능과 관련되지 않는 추가의 능동 회로를 포함할 수 있다.
브릿지 상호접속 다이(240) 상의 상호접속 라인들(272) 및/또는 회로는 웨이퍼 레벨에서 형성될 수 있으며, 웨이퍼가 개별 브릿지 상호접속 다이들(240)로 분리된 후, 종래의 반도체 및 금속배선(metallization) 프로세스들을 사용하여 금속이 채워진 홀들의 TSV들(270)의 형성을 포함한다.
도 3은 2개의 플립-칩 다이들 사이의 브릿지 상호접속부의 구성(300)에 대한 실시예의 예시적 확대 단면도이다. 플립-칩 다이(320, 330)의 능동 회로는 기판(210)을 면하는 제 2 면상에 있다. 다이들(320, 330)은 예를 들어 솔더-볼 본딩 또는 패키징 집적회로들에 사용되는 등가적인 방법들에 의해 기판(210)에 부착될 수 있다.
쓰로우 실리콘 비아(TSV)들(373)은 제 1 면들(도 2에서 위로 면하게 도시됨) 상에 금속성 상호접속부를 그리고 다이들(320, 330)의 제 2 면들 상에 능동 회로를 제공하기 위해 다이들(320, 330)의 두께를 관통하게 형성된다.
다이들(320, 330)의 제 1 면들 및 브릿지 상호접속 다이(240)의 제 2 면 상의 콘택 패드들(371)이 정렬되며, 예를 들어, 솔더-볼 본딩 및 전도성 페이스트와 같은 방법들을 사용하여 본딩될 수 있다. 다이들(320,330, 240) 상에 형성된 콘택 패드들(371)은 대응 TSV들(270, 373) 간의 전도성 콘택을 가능케 한다. 결과적으로, 다이들(320, 330) 상의 능동 회로는 브릿지 상호접속 다이(240)의 제 1 면에 전기적으로 접속되며, 능동 회로 간의 상호접속부는 상호접속 라인들(272)을 이용하여 완료된다. 콘택 패드들(371)은 능동 회로 및 솔더 볼들을 상호접속하는 것으로 도시된다.
도 4는 2개의 와이어 본드 다이들(420, 430) 간의 브릿지 상호접속의 구성(400)에 대한 실시예의 예시적 확대 단면도이다. 브릿지 상호접속 다이(240)는 도 3에 도시된 브릿지 상호접속 다이(240)과 실질적으로 동일하다. 즉, 도 4의 브릿지 상호접속 다이(240)는 TSV들(270), 콘택 패드들(371), 상호접속 라인들(272) 및 선택적으로, 도 3의 브릿지 상호접속 다이(240)의 제 1 면상에 배열되는 임피던스 부재들 및/또는 능동 디바이스들과 동일한 피처들 및 배열들을 갖는다.
반도체 와이어 본드 다이들(420, 430)은 모두 제 1 면 및 제 2 면을 가지며, 다이들(420, 430)의 제 2 면들은 기판(210)을 면하고 기판(210)에 부착된다. 와이어 본딩은 기판(210) 상의 콘택 패드들을 다이들(420, 430)의 제 1 면들 상의 콘택 패드들과 연결한다. 도 3의 플립-칩 구성(300)에서 처럼, 모두 3개의 다이들(420, 430, 240)은 브릿지 상호접속 다이(240)를 통해 다이들(420, 430)의 회로의 상호접속을 가능케하기 위해 대응 위치들에서 콘택 패드들(371)을 갖는다.
다이들(420, 430) 상의 능동 회로는 제 1 표면(즉, 기판(210)으로부터 떨어져 면함) 상에 위치된다. 구성(400)에서, 능동 회로는 제 1 면 상에 있기 때문에, 도 4에 도시된 것처럼, 다이들(420, 430)에 TSV들(373)의 포함은 선택적으로 포함되거나 또는 요구되지 않을 수 있다.
도 5는 플립-칩 다이(320)와 와이어-본드 다이(430) 사이의 브릿지 상호접속부의 구성(500)에 대한 실시예의 예시적 확대 단면도이다. 동일한 높이로 다이들(320, 430) 모두의 제 1 면들을 위치시키기 위해 다이 두께, 볼-본드 높이 등에서의 상대적 차이들에 대한 적절한 보상이 이루어질 수 있다. 플립-칩, 브릿지 및 와이어-본드 다이들 간의 적절한 인터페이스들의 고려는 도 3 및 도 4를 참조로 개시된 것과 동일하다. 예를 들어, 플립-칩 다이(320)는 제 2 면(즉, 기판(210)을 면함)상에 배치되는 능동 회로를 포함하며 브릿지 상호접속 다이(240)에 대한 접속들을 원활하게 하기 위해 제 1 면 상의 콘택 패드들(371)에 접속되는 다수의 TSV들(373)을 요구할 수 있다. 한편, 와이어 본드 다이(430)는 제 1 면(즉, 기판(210)으로부터 떨어져 면함) 상에 배치되는 능동 회로를 포함하며, TSV들(373)을 요구하지 않을 수 있다. 대신, 능동 회로에 연결된 콘택 패드들(371)은 충분할 수 있다.
도 6은 적어도 하나 이상의 추가 다이들(640)(예시를 위해 단지 하나의 다이(640)만이 도시됨)이 브릿지 상호접속 다이(240) 상에 적층되는 구성(600)의 실시예에 대한 예시적 단면도이다. 추가 다이(640)는 기능, 재료 기술 또는 능동 디바이스들을 포함하는 다른 다이들(320, 430)로부터 분리되게 다이(640)를 형성하기 위한 다른 원칙(basis)을 포함할 수 있다. 상호접속부 브릿지 다이(240)는 다이(640) 상에 위치되며 다이(640)를 마주하게 변하는 대응 콘택 패드들(371)과 인터페이스되도록 제 1 면 상에 콘택 패드들(371)을 포함할 수 있다. 다이(640)는 다이(640)의 상부 표면 상의 기능 회로 및/또는 상호접속 라인들(672) 및 상호접속부 브릿지 다이(240) 사이에 상호접속부를 제공하기 위해 다이(640)의 양쪽 면 상의 콘택 패드들(371)과 접속되는 TSV들(674)을 포함할 수 있다. 다이(640)의 기능에 대한 예들로는 메모리, 지연, 증폭기, 로직 등이 포함된다. 기능, 패키징 및 다른 원하는 목적들에 따라, 상호접속부 브릿지 다이(240) 위로 추가의 다이들(640)의 적층이 고려될 수 있다. 볼 본딩이 (수직으로 적층된) 인접한 다이 상의 패드들을 상호접속하기 위해 이용될 때, 다이(640)의 제 1 또는 제 2 면 중 어느 하나에서 회로의 증착이 이루어질 수 있다.
개시되는 실시예들로부터 다수의 장점들이 고안될 수 있다. 브릿지 다이의 사용으로, 반도체 프로세스들을 사용하는 웨이퍼 스케일에서의 양으로(in quantity) 상호접속부 트레이스들이 제조될 수 있다. 금속배선 두께는 수 미크론 또는 그 이하의 정도일 수 있으며, 45nm 이하와 같이 개선되는 기술 노드들에 적합한 라인 폭들을 갖는다. 금속은 골드 이외의 것일 수 있다. 기판들 간의 골드 와이어 본딩과 비교할 때, 상당한(substantial) 재료 절감들이 실현될 수 있다.
부가적으로, 와이어 본딩은 적어도 부분적으로는 와이어 본딩에 사용되는 캐필러리 팁의 크기로 인해, 기판상의 인접한 콘택 패드들 간의 최소 공간을 요구한다. 대조적으로, 브릿지 다이 상의 상호접속부 트레이스들의 상당한 파인 피치(very fine pitch)가 가능하며, 조밀한(dense) 상호접속부들을 구성하는 것이 가능하다. 또한, 와이어 본딩으로, 각각의 본드는 개별적으로 달성되는 반면, 브릿지 상호접속으로, 다수의 본드들이 하나의 칩-레벨 배치 및 예를 들어, 솔더 리플로우(reflow)와 같은 본딩 방법들에 의해 달성된다.
또한, 나란한 멀티-칩 구성이 와이어 본딩에 대해 이전에 설계되었고, 현재의(existing) 콘택 패드들의 사용을 구성하면서, 브릿지 상호접속부는 와이어 본딩을 대체하기 위해 바람직하게 구현될 수 있다. 와이어 본딩에 대한 브릿지 상호접속부 대체는 다수의 개별 와이어 본드 단계들로부터 단일 다이 배치로 어셈블리 단계들의 수를 감소시킨다.
또한, 통상적으로 와이어 본딩은 본딩 패드들 간에 요구되는 최소 간격에 부가하여 2개의 본딩 패드들 간의 와이어의 아크에서의 루프를 수반한다. 결과적으로, 특히 유도성 임피던스가 주파수에 따라 증가하는 고속 디바이스에서, 와이어 인덕턴스는 성능을 경감시킬 수 있다. 리드들로부터의 전자기 방사는 패키지 내의 칩들 상의 어느곳에서든 바람직하지 않게 검출될 수 있다. 브릿지 다이를 이용하여, 접속되는 다이들이 서로 가깝게 배치될 수 있어 방사선을 감소시키고 패키지 활용 효율을 증가시킨다. 브릿지 다이는 상당히 작게 구성될 수 있으며, 대응되게 와이어 본드들이 요구되는 것보다 상호접속부 경로들이 짧다.
또 다른 장점은 각각의 칩의 주문화된(customized) 장점들에 의해 제공되는 "시스템 레벨" 성능을 최적화시키기 위해 상이한 재료들, 프로세스 플로우들 또는 기술 노드들을 요구하는 2개 이상의 집적 회로들을 단일 패키지에 포함시키는 효율적 능력에 있다. 이는 단일 패키지에서 보다 높은 레벨 기능을 가능케한다.
또 다른 장점은 브릿지 다이에 대한 기능을 포함시키는 능력이며, 이는 와이어 본딩 단독으로는 가능하지 못했다.
플립-칩 본딩이 집적회로 다이들을 패키지하기 위해 이용될 때 다수의 동일한 장점들이 적용된다. 플립-칩 다이들 상에 TSV들을 구현함으로써, 와이어 라우팅 공간의 절감(economuy) 및 파인(fine) 피치 상호접속부들이 가능해질 수 있다.
본 발명 및 본 발명의 장점들이 상세하게 개시되었지만, 다양한 변화들, 대체들 및 변경들은 첨부되는 청구항들에 의해 정의되는 것처럼 본 발명의 범주 및 사상을 이탈하지 않고 이루어질 수 있다는 것이 이해될 것이다. 예를 들어, 판독 동작이 설명에서 사용되었지만, 본 발병은 기록 동작들에도 등가적으로 적용될 수 있을 것으로 예상된다. 또한, 본 출원의 범주는 명세서에 개시되는 프로세스, 머신, 제조, 물질의 콤포지션(composition of matter), 수단, 방법들 및 단계들을 제한하도록 의도된 것이 아니다. 예를 들어, TSV는 실리콘 다이들의 비아들로 간주되는 업계에서의 통상적 용어인 반면, 비아들은 다른 재료들, 및 특히 다른 반도체 다이들, 이를 테면, GaAs, SiC, GaN, 또는 다른 적절한 재료들로 형성될 수 있다. TSV란 용어는 임의의 이러한 재료들에 대한 애플리케이션에 적용될 수 있다. 당업자들이 본 발명의 설명을 통해 쉽게 인식할 수 있는 것처럼, 본 발명에 개시된 해당 실시예들과 실질적으로 동일한 결과 또는 실질적으로 동일한 기능을 수행하게 현재 개시되는 또는 이후 전개되는 프로세스들, 머신들, 제조, 물질의 콤포지션들, 수단, 방법들 또는 단계들이 본 발명에 따라 이용될 수 있다. 따라서, 첨부되는 청구항들은 이러한 프로세스들, 머신들, 제조, 물질의 콤포지션들, 수단, 방법들 또는 단계들의 범주내에 포함되도록 의도된다.

Claims (20)

  1. 집적회로 브릿지 상호접속 시스템으로서,
    제 1 면 및 제 2 면을 갖는 제 1 다이;
    제 1 면 및 제 2 면을 가지며, 상기 제 1 다이와 나란한(side-by-side) 구성으로 제공되는 제 2 다이; 및
    제 1 면 및 제 2 면을 가지며, 적어도 부분적으로 상기 제 1 다이 및 상기 제 2 다이의 상기 제 1 면들상에 배치되며, 상기 제 1 다이와 상기 제 2 다이를 전기적으로 상호접속하는 브릿지 다이(bridge die)를 포함하고,
    상기 브릿지 다이는 상기 브릿지 다이의 상기 제 1 면으로부터 상기 브릿지 다이의 상기 제 2 면으로의 브릿지 다이 쓰로우 비아들(bridge die through vias)을 포함하며, 상기 브릿지 다이 쓰로우 비아들은 상호접속(interconnecting)이 가능하도록 상기 브릿지 다이의 상기 제 1 면 상의 전도성 라인들을 접속하기 위해 금속배선들(metallizations)로 채워지는,
    집적회로 브릿지 상호접속 시스템.
  2. 삭제
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 브릿지 다이는 상기 제 1 면 상에 능동 회로(active circuitry)를 더 포함하는, 집적회로 브릿지 상호접속 시스템.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 브릿지 다이의 상기 제 2 면 상의 하나 이상의 콘택 패드들은 상기 제 1 다이 및 상기 제 2 다이의 제 1 면들 상의 대응하는 하나 이상의 콘택 패드들과 콘택(contact)하는, 집적회로 브릿지 상호접속 시스템.
  5. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 다이 및 상기 제 2 다이 중 적어도 하나는,
    상기 제 2 면 상에 배치되는 회로를 갖는 플립-칩 다이(flip-chip die); 및
    상기 플립-칩 다이의 제 1 면으로부터 상기 플립-칩 다이의 제 2 면으로의 플립-칩 쓰로우 비아들을 포함하며,
    상기 플립-칩 쓰로우 비아들은 상기 플립-칩 다이의 상기 제 2 면상의 능동 회로를 상기 플립-칩 다이의 상기 제 1 면 상의 하나 이상의 콘택 패드들과 연결하기 위해 금속배선들로 채워지는, 집적회로 브릿지 상호접속 시스템.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 다이 및 상기 제 2 다이 중 적어도 하나는 상기 다이의 상기 제 1 면상에 배치되는 회로를 포함하는, 집적회로 브릿지 상호접속 시스템.
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 제 1 다이 및 상기 제 2 다이 상에 하나 이상의 콘택 패드들을 더 포함하는, 집적회로 브릿지 상호접속 시스템.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 브릿지 다이는,
    상기 브릿지 다이의 상기 제 2 면 상에서, 상기 브릿지 다이 쓰로우 비아들에 대응하며 상기 제 1 다이 및 상기 제 2 다이 중 적어도 하나의 제 1 면들 상에서의 하나 이상의 콘택 패드들과 마주하게 대응하는 하나 이상의 콘택 패드들을 더 포함하는, 집적회로 브릿지 상호접속 시스템.
  9. 제 8 항에 있어서,
    상기 브릿지 다이 상에 적층되는 적어도 하나의 추가 다이를 더 포함하며,
    상기 적어도 하나의 추가 다이는 수동형 회로, 능동형 회로, 및 상호접속 회로 중 적어도 하나를 더 포함하는, 집적회로 브릿지 상호접속 시스템.
  10. 제 1 항에 있어서,
    상기 브릿지 다이는 상기 제 1 다이 및 상기 제 2 다이 중 적어도 하나에 대응하는 프로세스 플로우(process flow)와 상이한 프로세스 플로우를 이용하여 제조되는, 집적회로 브릿지 상호접속 시스템.
  11. 집적회로 패키징 시스템으로서,
    반도체 다이들을 포함(contain)하는 패키지;
    반도체 다이들을 수용하기 위해 상기 패키지 내에 배치되는 기판;
    제 1 면 및 제 2 면을 갖는 제 1 다이 ?상기 제 1 다이는 상기 기판 상에서 제 2 면이 상기 기판을 면하여 배치됨-;
    상기 제 1 다이와 나란한(side-by-side) 구성으로 제공되며 제 1 면 및 제 2 면을 갖는 제 2 다이 ?상기 제 2 다이는 상기 기판 상에서 제 2 면이 상기 기판을 면하여 배치됨?; 및
    제 1 면 및 제 2 면을 가지며, 적어도 부분적으로 상기 제 1 다이 및 상기 제 2 다이의 상기 제 1 면들상에 배치되며, 상기 제 1 다이와 상기 제 2 다이를 상호접속하는 브릿지 다이를 포함하고,
    상기 브릿지 다이는 상기 브릿지 다이의 상기 제 1 면으로부터 상기 브릿지 다이의 상기 제 2 면으로의 브릿지 다이 쓰로우 비아들을 포함하며, 상기 브릿지 다이 쓰로우 비아들은 상호접속이 가능하도록 상기 브릿지 다이의 상기 제 1 면 상의 전도성 라인들을 접속하기 위해 금속배선들(metallizations)로 채워지는,
    집적회로 패키징 시스템.
  12. 삭제
  13. 제 11 항에 있어서,
    상기 브릿지 다이는 상기 제 1 면 상에 능동 회로(active circuitry)를 더 포함하는, 집적회로 패키징 시스템.
  14. 제 11 항에 있어서,
    상기 브릿지 다이의 상기 제 2 면 상의 하나 이상의 콘택 패드들은 상기 제 1 다이 및 상기 제 2 다이의 상기 제 1 면들 상의 대응하는 하나 이상의 콘택 패드들과 콘택(contact)하는, 집적회로 패키징 시스템.
  15. 제 11 항에 있어서,
    상기 제 1 다이 및 상기 제 2 다이의 적어도 하나는,
    상기 제 2 면 상에 배치되는 회로를 가지며, 볼 본딩(ball bonding), 솔더 범프 본딩(solder bump bonding), 또는 전도성 페이스트(conductive paste)에 의해 상기 기판에 결합되는 플립-칩 다이(flip-chip die); 및
    상기 플립-칩 다이의 제 1 면으로부터 제 2 면으로의 플립-칩 쓰로우 비아들을 포함하며,
    상기 플립-칩 쓰로우 비아들은 상기 플립-칩 다이의 제 1 면 상의 하나 이상의 콘택 패드들에 제 2 면 상의 전도성 라인들을 연결하기 위해 금속배선들로 채워지는, 집적회로 패키징 시스템.
  16. 제 11 항에 있어서,
    상기 제 1 다이 및 상기 제 2 다이 중 적어도 하나는 상기 다이의 상기 제 1 면상에 배치되는 회로를 포함하는, 집적회로 패키징 시스템.
  17. 제 11 항에 있어서,
    상기 제 1 다이 및 상기 제 2 다이는 각각 하나 이상의 콘택 패드들을 갖는, 집적회로 패키징 시스템.
  18. 제 17 항에 있어서,
    상기 브릿지 다이는,
    상기 브릿지 다이의 상기 제 2 면 상에서, 상기 브릿지 다이 쓰로우 비아들에 대응하며 상기 제 1 다이 및 상기 제 2 다이 중 적어도 하나의 제 1 면들 상에서의 하나 이상의 콘택 패드들과 마주하게 대응하는 하나 이상의 콘택 패드들을 더 포함하는, 집적회로 패키징 시스템.
  19. 제 18 항에 있어서,
    상기 브릿지 다이 상에 적층되는 적어도 하나의 추가 다이를 더 포함하며,
    상기 적어도 하나의 추가 다이는 수동형 회로, 능동형 회로 및 상호접속 회로 중 적어도 하나를 더 포함하는, 집적회로 패키징 시스템.
  20. 제 11 항에 있어서,
    상기 브릿지 다이는 상기 제 1 다이 및 상기 제 2 다이 중 적어도 하나에 대응하는 프로세스 플로우와 상이한 프로세스 플로우를 이용하여 제조되는, 집적회로 패키징 시스템.
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Families Citing this family (150)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8058101B2 (en) 2005-12-23 2011-11-15 Tessera, Inc. Microelectronic packages and methods therefor
US8873585B2 (en) 2006-12-19 2014-10-28 Corning Optical Communications Wireless Ltd Distributed antenna system for MIMO technologies
WO2008103375A2 (en) 2007-02-19 2008-08-28 Mobileaccess Networks Ltd. Method and system for improving uplink performance
US20100054746A1 (en) 2007-07-24 2010-03-04 Eric Raymond Logan Multi-port accumulator for radio-over-fiber (RoF) wireless picocellular systems
US8175459B2 (en) 2007-10-12 2012-05-08 Corning Cable Systems Llc Hybrid wireless/wired RoF transponder and hybrid RoF communication system using same
WO2009053910A2 (en) 2007-10-22 2009-04-30 Mobileaccess Networks Ltd. Communication system using low bandwidth wires
US8175649B2 (en) 2008-06-20 2012-05-08 Corning Mobileaccess Ltd Method and system for real time control of an active antenna over a distributed antenna system
WO2009081376A2 (en) 2007-12-20 2009-07-02 Mobileaccess Networks Ltd. Extending outdoor location based services and applications into enclosed areas
US7969009B2 (en) * 2008-06-30 2011-06-28 Qualcomm Incorporated Through silicon via bridge interconnect
WO2010090999A1 (en) 2009-02-03 2010-08-12 Corning Cable Systems Llc Optical fiber-based distributed antenna systems, components, and related methods for monitoring and configuring thereof
JP5480916B2 (ja) 2009-02-03 2014-04-23 コーニング ケーブル システムズ リミテッド ライアビリティ カンパニー 光ファイバベースの分散型アンテナシステム、構成要素、及びその較正のための関連の方法
US9673904B2 (en) 2009-02-03 2017-06-06 Corning Optical Communications LLC Optical fiber-based distributed antenna systems, components, and related methods for calibration thereof
JP5649588B2 (ja) 2009-02-08 2015-01-07 コーニング モバイルアクセス エルティディ. イーサネット信号を搬送するケーブルを用いる通信システム
US9590733B2 (en) 2009-07-24 2017-03-07 Corning Optical Communications LLC Location tracking using fiber optic array cables and related systems and methods
US8548330B2 (en) 2009-07-31 2013-10-01 Corning Cable Systems Llc Sectorization in distributed antenna systems, and related components and methods
JP5635247B2 (ja) * 2009-08-20 2014-12-03 富士通株式会社 マルチチップモジュール
US8280259B2 (en) 2009-11-13 2012-10-02 Corning Cable Systems Llc Radio-over-fiber (RoF) system for protocol-independent wired and/or wireless communication
CN102130098B (zh) * 2010-01-20 2015-11-25 飞思卡尔半导体公司 双管芯半导体封装
US8275265B2 (en) 2010-02-15 2012-09-25 Corning Cable Systems Llc Dynamic cell bonding (DCB) for radio-over-fiber (RoF)-based networks and communication systems and related methods
AU2011232897B2 (en) 2010-03-31 2015-11-05 Corning Optical Communications LLC Localization services in optical fiber-based distributed communications components and systems, and related methods
US8525342B2 (en) * 2010-04-12 2013-09-03 Qualcomm Incorporated Dual-side interconnected CMOS for stacked integrated circuits
US9525488B2 (en) 2010-05-02 2016-12-20 Corning Optical Communications LLC Digital data services and/or power distribution in optical fiber-based distributed communications systems providing digital data and radio frequency (RF) communications services, and related components and methods
US20110268446A1 (en) 2010-05-02 2011-11-03 Cune William P Providing digital data services in optical fiber-based distributed radio frequency (rf) communications systems, and related components and methods
WO2011140082A1 (en) * 2010-05-03 2011-11-10 Georgia Tech Research Corporation Cmut devices and fabrication methods
TWI513301B (zh) * 2010-06-02 2015-12-11 Sony Corp 半導體裝置,固態成像裝置及相機系統
US8482111B2 (en) 2010-07-19 2013-07-09 Tessera, Inc. Stackable molded microelectronic packages
US8570914B2 (en) 2010-08-09 2013-10-29 Corning Cable Systems Llc Apparatuses, systems, and methods for determining location of a mobile device(s) in a distributed antenna system(s)
EP2606707A1 (en) 2010-08-16 2013-06-26 Corning Cable Systems LLC Remote antenna clusters and related systems, components, and methods supporting digital data signal propagation between remote antenna units
US8786066B2 (en) * 2010-09-24 2014-07-22 Intel Corporation Die-stacking using through-silicon vias on bumpless build-up layer substrates including embedded-dice, and processes of forming same
US9160449B2 (en) 2010-10-13 2015-10-13 Ccs Technology, Inc. Local power management for remote antenna units in distributed antenna systems
US9252874B2 (en) 2010-10-13 2016-02-02 Ccs Technology, Inc Power management for remote antenna units in distributed antenna systems
EP2643947B1 (en) 2010-11-24 2018-09-19 Corning Optical Communications LLC Power distribution module(s) capable of hot connection and/or disconnection for distributed antenna systems, and related power units, components, and methods
US11296504B2 (en) 2010-11-24 2022-04-05 Corning Optical Communications LLC Power distribution module(s) capable of hot connection and/or disconnection for wireless communication systems, and related power units, components, and methods
US9190371B2 (en) 2010-12-21 2015-11-17 Moon J. Kim Self-organizing network with chip package having multiple interconnection configurations
WO2012115843A1 (en) 2011-02-21 2012-08-30 Corning Cable Systems Llc Providing digital data services as electrical signals and radio-frequency (rf) communications over optical fiber in distributed communications systems, and related components and methods
US8823133B2 (en) 2011-03-29 2014-09-02 Xilinx, Inc. Interposer having an inductor
CN103609146B (zh) 2011-04-29 2017-05-31 康宁光缆系统有限责任公司 用于增加分布式天线系统中的射频(rf)功率的系统、方法和装置
CN103548290B (zh) 2011-04-29 2016-08-31 康宁光缆系统有限责任公司 判定分布式天线系统中的通信传播延迟及相关组件、系统与方法
KR101128063B1 (ko) 2011-05-03 2012-04-23 테세라, 인코포레이티드 캡슐화 층의 표면에 와이어 본드를 구비하는 패키지 적층형 어셈블리
US9406738B2 (en) 2011-07-20 2016-08-02 Xilinx, Inc. Inductive structure formed using through silicon vias
US8836136B2 (en) 2011-10-17 2014-09-16 Invensas Corporation Package-on-package assembly with wire bond vias
US9330823B1 (en) 2011-12-19 2016-05-03 Xilinx, Inc. Integrated circuit structure with inductor in silicon interposer
US9059179B2 (en) * 2011-12-28 2015-06-16 Broadcom Corporation Semiconductor package with a bridge interposer
US9337138B1 (en) 2012-03-09 2016-05-10 Xilinx, Inc. Capacitors within an interposer coupled to supply and ground planes of a substrate
WO2013142662A2 (en) 2012-03-23 2013-09-26 Corning Mobile Access Ltd. Radio-frequency integrated circuit (rfic) chip(s) for providing distributed antenna system functionalities, and related components, systems, and methods
EP2832012A1 (en) 2012-03-30 2015-02-04 Corning Optical Communications LLC Reducing location-dependent interference in distributed antenna systems operating in multiple-input, multiple-output (mimo) configuration, and related components, systems, and methods
US9613917B2 (en) 2012-03-30 2017-04-04 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Package-on-package (PoP) device with integrated passive device in a via
US9781553B2 (en) 2012-04-24 2017-10-03 Corning Optical Communications LLC Location based services in a distributed communication system, and related components and methods
WO2013162988A1 (en) 2012-04-25 2013-10-31 Corning Cable Systems Llc Distributed antenna system architectures
US8835228B2 (en) 2012-05-22 2014-09-16 Invensas Corporation Substrate-less stackable package with wire-bond interconnect
WO2013181247A1 (en) 2012-05-29 2013-12-05 Corning Cable Systems Llc Ultrasound-based localization of client devices with inertial navigation supplement in distributed communication systems and related devices and methods
US9154222B2 (en) 2012-07-31 2015-10-06 Corning Optical Communications LLC Cooling system control in distributed antenna systems
US9391008B2 (en) * 2012-07-31 2016-07-12 Invensas Corporation Reconstituted wafer-level package DRAM
US9502390B2 (en) 2012-08-03 2016-11-22 Invensas Corporation BVA interposer
WO2014024192A1 (en) 2012-08-07 2014-02-13 Corning Mobile Access Ltd. Distribution of time-division multiplexed (tdm) management services in a distributed antenna system, and related components, systems, and methods
US9165887B2 (en) 2012-09-10 2015-10-20 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Semiconductor device with discrete blocks
US9391041B2 (en) 2012-10-19 2016-07-12 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Fan-out wafer level package structure
US9455784B2 (en) 2012-10-31 2016-09-27 Corning Optical Communications Wireless Ltd Deployable wireless infrastructures and methods of deploying wireless infrastructures
US10257056B2 (en) 2012-11-28 2019-04-09 Corning Optical Communications LLC Power management for distributed communication systems, and related components, systems, and methods
WO2014085115A1 (en) 2012-11-29 2014-06-05 Corning Cable Systems Llc HYBRID INTRA-CELL / INTER-CELL REMOTE UNIT ANTENNA BONDING IN MULTIPLE-INPUT, MULTIPLE-OUTPUT (MIMO) DISTRIBUTED ANTENNA SYSTEMS (DASs)
US9647758B2 (en) 2012-11-30 2017-05-09 Corning Optical Communications Wireless Ltd Cabling connectivity monitoring and verification
US8866308B2 (en) 2012-12-20 2014-10-21 Intel Corporation High density interconnect device and method
US9158864B2 (en) 2012-12-21 2015-10-13 Corning Optical Communications Wireless Ltd Systems, methods, and devices for documenting a location of installed equipment
KR102021077B1 (ko) 2013-01-24 2019-09-11 삼성전자주식회사 적층된 다이 패키지, 이를 포함하는 시스템 및 이의 제조 방법
US9497706B2 (en) 2013-02-20 2016-11-15 Corning Optical Communications Wireless Ltd Power management in distributed antenna systems (DASs), and related components, systems, and methods
US8901748B2 (en) * 2013-03-14 2014-12-02 Intel Corporation Direct external interconnect for embedded interconnect bridge package
JP2014222728A (ja) * 2013-05-14 2014-11-27 凸版印刷株式会社 半導体パッケージ
WO2014199380A1 (en) 2013-06-12 2014-12-18 Corning Optical Communications Wireless, Ltd. Time-division duplexing (tdd) in distributed communications systems, including distributed antenna systems (dass)
EP3008515A1 (en) 2013-06-12 2016-04-20 Corning Optical Communications Wireless, Ltd Voltage controlled optical directional coupler
US9041205B2 (en) * 2013-06-28 2015-05-26 Intel Corporation Reliable microstrip routing for electronics components
US9247543B2 (en) 2013-07-23 2016-01-26 Corning Optical Communications Wireless Ltd Monitoring non-supported wireless spectrum within coverage areas of distributed antenna systems (DASs)
US9661781B2 (en) 2013-07-31 2017-05-23 Corning Optical Communications Wireless Ltd Remote units for distributed communication systems and related installation methods and apparatuses
US9167710B2 (en) 2013-08-07 2015-10-20 Invensas Corporation Embedded packaging with preformed vias
WO2015029028A1 (en) 2013-08-28 2015-03-05 Corning Optical Communications Wireless Ltd. Power management for distributed communication systems, and related components, systems, and methods
US20150076714A1 (en) 2013-09-16 2015-03-19 Invensas Corporation Microelectronic element with bond elements to encapsulation surface
KR20160036666A (ko) * 2013-09-27 2016-04-04 인텔 코포레이션 수동 부품용 중첩체 기판을 구비한 다이 패키지
US9385810B2 (en) 2013-09-30 2016-07-05 Corning Optical Communications Wireless Ltd Connection mapping in distributed communication systems
JP2016533646A (ja) 2013-10-16 2016-10-27 インテル・コーポレーション 集積回路パッケージ基板
EP3064032A1 (en) 2013-10-28 2016-09-07 Corning Optical Communications Wireless Ltd Unified optical fiber-based distributed antenna systems (dass) for supporting small cell communications deployment from multiple small cell service providers, and related devices and methods
US9373527B2 (en) 2013-10-30 2016-06-21 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Chip on package structure and method
US9679839B2 (en) 2013-10-30 2017-06-13 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Chip on package structure and method
US9583456B2 (en) 2013-11-22 2017-02-28 Invensas Corporation Multiple bond via arrays of different wire heights on a same substrate
WO2015079435A1 (en) 2013-11-26 2015-06-04 Corning Optical Communications Wireless Ltd. Selective activation of communications services on power-up of a remote unit(s) in a distributed antenna system (das) based on power consumption
US9275955B2 (en) * 2013-12-18 2016-03-01 Intel Corporation Integrated circuit package with embedded bridge
US9178635B2 (en) 2014-01-03 2015-11-03 Corning Optical Communications Wireless Ltd Separation of communication signal sub-bands in distributed antenna systems (DASs) to reduce interference
US9583411B2 (en) 2014-01-17 2017-02-28 Invensas Corporation Fine pitch BVA using reconstituted wafer with area array accessible for testing
JP2014078760A (ja) * 2014-02-03 2014-05-01 Fujitsu Ltd マルチチップモジュール
US9583460B2 (en) * 2014-02-14 2017-02-28 Qualcomm Incorporated Integrated device comprising stacked dies on redistribution layers
US9775123B2 (en) 2014-03-28 2017-09-26 Corning Optical Communications Wireless Ltd. Individualized gain control of uplink paths in remote units in a distributed antenna system (DAS) based on individual remote unit contribution to combined uplink power
US10381326B2 (en) 2014-05-28 2019-08-13 Invensas Corporation Structure and method for integrated circuits packaging with increased density
US9357551B2 (en) 2014-05-30 2016-05-31 Corning Optical Communications Wireless Ltd Systems and methods for simultaneous sampling of serial digital data streams from multiple analog-to-digital converters (ADCS), including in distributed antenna systems
US9509133B2 (en) 2014-06-27 2016-11-29 Corning Optical Communications Wireless Ltd Protection of distributed antenna systems
US10056352B2 (en) 2014-07-11 2018-08-21 Intel IP Corporation High density chip-to-chip connection
US9525472B2 (en) 2014-07-30 2016-12-20 Corning Incorporated Reducing location-dependent destructive interference in distributed antenna systems (DASS) operating in multiple-input, multiple-output (MIMO) configuration, and related components, systems, and methods
US9730228B2 (en) 2014-08-29 2017-08-08 Corning Optical Communications Wireless Ltd Individualized gain control of remote uplink band paths in a remote unit in a distributed antenna system (DAS), based on combined uplink power level in the remote unit
US9653861B2 (en) 2014-09-17 2017-05-16 Corning Optical Communications Wireless Ltd Interconnection of hardware components
KR102262178B1 (ko) 2014-09-19 2021-06-07 인텔 코포레이션 내장형 브릿지 상호접속부를 가진 반도체 패키지
US9602210B2 (en) 2014-09-24 2017-03-21 Corning Optical Communications Wireless Ltd Flexible head-end chassis supporting automatic identification and interconnection of radio interface modules and optical interface modules in an optical fiber-based distributed antenna system (DAS)
US9420542B2 (en) 2014-09-25 2016-08-16 Corning Optical Communications Wireless Ltd System-wide uplink band gain control in a distributed antenna system (DAS), based on per band gain control of remote uplink paths in remote units
US10659163B2 (en) 2014-09-25 2020-05-19 Corning Optical Communications LLC Supporting analog remote antenna units (RAUs) in digital distributed antenna systems (DASs) using analog RAU digital adaptors
US9184960B1 (en) 2014-09-25 2015-11-10 Corning Optical Communications Wireless Ltd Frequency shifting a communications signal(s) in a multi-frequency distributed antenna system (DAS) to avoid or reduce frequency interference
JP2016535462A (ja) 2014-09-26 2016-11-10 インテル コーポレイション ワイヤボンディングされたマルチダイスタックを有する集積回路パッケージ
WO2016071902A1 (en) 2014-11-03 2016-05-12 Corning Optical Communications Wireless Ltd. Multi-band monopole planar antennas configured to facilitate improved radio frequency (rf) isolation in multiple-input multiple-output (mimo) antenna arrangement
WO2016075696A1 (en) 2014-11-13 2016-05-19 Corning Optical Communications Wireless Ltd. Analog distributed antenna systems (dass) supporting distribution of digital communications signals interfaced from a digital signal source and analog radio frequency (rf) communications signals
US11069734B2 (en) 2014-12-11 2021-07-20 Invensas Corporation Image sensor device
US9729267B2 (en) 2014-12-11 2017-08-08 Corning Optical Communications Wireless Ltd Multiplexing two separate optical links with the same wavelength using asymmetric combining and splitting
WO2016098111A1 (en) 2014-12-18 2016-06-23 Corning Optical Communications Wireless Ltd. Digital- analog interface modules (da!ms) for flexibly.distributing digital and/or analog communications signals in wide-area analog distributed antenna systems (dass)
EP3235336A1 (en) 2014-12-18 2017-10-25 Corning Optical Communications Wireless Ltd. Digital interface modules (dims) for flexibly distributing digital and/or analog communications signals in wide-area analog distributed antenna systems (dass)
US20160249365A1 (en) 2015-02-19 2016-08-25 Corning Optical Communications Wireless Ltd. Offsetting unwanted downlink interference signals in an uplink path in a distributed antenna system (das)
US9888579B2 (en) 2015-03-05 2018-02-06 Invensas Corporation Pressing of wire bond wire tips to provide bent-over tips
US9785175B2 (en) 2015-03-27 2017-10-10 Corning Optical Communications Wireless, Ltd. Combining power from electrically isolated power paths for powering remote units in a distributed antenna system(s) (DASs)
US9681313B2 (en) 2015-04-15 2017-06-13 Corning Optical Communications Wireless Ltd Optimizing remote antenna unit performance using an alternative data channel
US9502372B1 (en) 2015-04-30 2016-11-22 Invensas Corporation Wafer-level packaging using wire bond wires in place of a redistribution layer
US9948349B2 (en) 2015-07-17 2018-04-17 Corning Optical Communications Wireless Ltd IOT automation and data collection system
US9368450B1 (en) 2015-08-21 2016-06-14 Qualcomm Incorporated Integrated device package comprising bridge in litho-etchable layer
US10560214B2 (en) 2015-09-28 2020-02-11 Corning Optical Communications LLC Downlink and uplink communication path switching in a time-division duplex (TDD) distributed antenna system (DAS)
US9935076B1 (en) * 2015-09-30 2018-04-03 Apple Inc. Structure and method for fabricating a computing system with an integrated voltage regulator module
US9490222B1 (en) 2015-10-12 2016-11-08 Invensas Corporation Wire bond wires for interference shielding
US10490528B2 (en) 2015-10-12 2019-11-26 Invensas Corporation Embedded wire bond wires
US10332854B2 (en) 2015-10-23 2019-06-25 Invensas Corporation Anchoring structure of fine pitch bva
US10181457B2 (en) 2015-10-26 2019-01-15 Invensas Corporation Microelectronic package for wafer-level chip scale packaging with fan-out
US9911718B2 (en) 2015-11-17 2018-03-06 Invensas Corporation ‘RDL-First’ packaged microelectronic device for a package-on-package device
US10886228B2 (en) 2015-12-23 2021-01-05 Intel Corporation Improving size and efficiency of dies
US9984992B2 (en) 2015-12-30 2018-05-29 Invensas Corporation Embedded wire bond wires for vertical integration with separate surface mount and wire bond mounting surfaces
US10002100B2 (en) 2016-02-02 2018-06-19 Xilinx, Inc. Active-by-active programmable device
EP3780393A3 (en) * 2016-02-02 2021-06-23 Xilinx, Inc. Active-by-active programmable device
US10042806B2 (en) 2016-02-02 2018-08-07 Xilinx, Inc. System-level interconnect ring for a programmable integrated circuit
US9648580B1 (en) 2016-03-23 2017-05-09 Corning Optical Communications Wireless Ltd Identifying remote units in a wireless distribution system (WDS) based on assigned unique temporal delay patterns
US10236924B2 (en) 2016-03-31 2019-03-19 Corning Optical Communications Wireless Ltd Reducing out-of-channel noise in a wireless distribution system (WDS)
EP3479398A4 (en) * 2016-07-01 2020-02-12 Intel Corporation MOLDED INTEGRATED BRIDGE FOR IMPROVED EMIB APPLICATIONS
US9935075B2 (en) 2016-07-29 2018-04-03 Invensas Corporation Wire bonding method and apparatus for electromagnetic interference shielding
US10299368B2 (en) 2016-12-21 2019-05-21 Invensas Corporation Surface integrated waveguides and circuit structures therefor
US10651126B2 (en) 2017-12-08 2020-05-12 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for wafer-level die bridge
US11508663B2 (en) 2018-02-02 2022-11-22 Marvell Israel (M.I.S.L) Ltd. PCB module on package
US11735570B2 (en) * 2018-04-04 2023-08-22 Intel Corporation Fan out packaging pop mechanical attach method
US10438894B1 (en) 2018-05-30 2019-10-08 Globalfoundries Inc. Chip-to-chip and chip-to-substrate interconnections in multi-chip semiconductor devices
WO2020010265A1 (en) 2018-07-06 2020-01-09 Invensas Bonding Technologies, Inc. Microelectronic assemblies
US20200098692A1 (en) * 2018-09-26 2020-03-26 Intel Corporation Microelectronic assemblies having non-rectilinear arrangements
US11581292B2 (en) 2019-06-10 2023-02-14 Marvell Israel (M.I.S.L) Ltd. IC package with top-side memory module
US11296053B2 (en) 2019-06-26 2022-04-05 Invensas Bonding Technologies, Inc. Direct bonded stack structures for increased reliability and improved yield in microelectronics
US10957650B2 (en) 2019-08-21 2021-03-23 International Business Machines Corporation Bridge support structure
TW202111907A (zh) 2019-09-05 2021-03-16 力成科技股份有限公司 以矽中介層作為互連橋的封裝晶片結構
US11430764B2 (en) * 2019-12-20 2022-08-30 Intel Corporation Overhang bridge interconnect
CN115699326A (zh) 2020-04-03 2023-02-03 沃孚半导体公司 具有源极、栅极和/或漏极导电通孔的基于iii族氮化物的射频晶体管放大器
EP4128333A1 (en) 2020-04-03 2023-02-08 Wolfspeed, Inc. Group iii nitride-based radio frequency amplifiers having back side source, gate and/or drain terminals
EP4128344A1 (en) * 2020-04-03 2023-02-08 Wolfspeed, Inc. Rf amplifier package
US11631647B2 (en) 2020-06-30 2023-04-18 Adeia Semiconductor Bonding Technologies Inc. Integrated device packages with integrated device die and dummy element
US11830817B2 (en) * 2020-08-12 2023-11-28 Advanced Micro Devices, Inc. Creating interconnects between dies using a cross-over die and through-die vias
US11728273B2 (en) 2020-09-04 2023-08-15 Adeia Semiconductor Bonding Technologies Inc. Bonded structure with interconnect structure
US11764177B2 (en) 2020-09-04 2023-09-19 Adeia Semiconductor Bonding Technologies Inc. Bonded structure with interconnect structure

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060095639A1 (en) * 2004-11-02 2006-05-04 Guenin Bruce M Structures and methods for proximity communication using bridge chips

Family Cites Families (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6013737U (ja) * 1983-07-08 1985-01-30 日本電気株式会社 半導体集積回路装置
US5399898A (en) * 1992-07-17 1995-03-21 Lsi Logic Corporation Multi-chip semiconductor arrangements using flip chip dies
US5321277A (en) * 1990-12-31 1994-06-14 Texas Instruments Incorporated Multi-chip module testing
US5225633A (en) 1991-10-04 1993-07-06 The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force Bridge chip interconnect system
US5198963A (en) * 1991-11-21 1993-03-30 Motorola, Inc. Multiple integrated circuit module which simplifies handling and testing
US6728113B1 (en) * 1993-06-24 2004-04-27 Polychip, Inc. Method and apparatus for non-conductively interconnecting integrated circuits
JPH07283364A (ja) * 1994-04-13 1995-10-27 Seiko Instr Inc 電子装置及びその製造方法
JPH09293824A (ja) * 1996-04-26 1997-11-11 Shinko Electric Ind Co Ltd マルチチップモジュール
DE10019483A1 (de) 2000-04-19 2001-10-31 Infineon Technologies Ag Halbleiterbauelement mit mehreren Halbleiterchips
JP4616985B2 (ja) * 2000-11-29 2011-01-19 富士通セミコンダクター株式会社 半導体装置
TW588446B (en) * 2003-03-21 2004-05-21 Advanced Semiconductor Eng Multi-chips stacked package
TWI225291B (en) * 2003-03-25 2004-12-11 Advanced Semiconductor Eng Multi-chips module and manufacturing method thereof
KR100621992B1 (ko) * 2003-11-19 2006-09-13 삼성전자주식회사 이종 소자들의 웨이퍼 레벨 적층 구조와 방법 및 이를이용한 시스템-인-패키지
JP4587676B2 (ja) * 2004-01-29 2010-11-24 ルネサスエレクトロニクス株式会社 チップ積層構成の3次元半導体装置
US7067910B2 (en) * 2004-04-13 2006-06-27 Sun Microsystems, Inc. Method and apparatus for using capacitively coupled communication within stacks of laminated chips
JP4441328B2 (ja) * 2004-05-25 2010-03-31 株式会社ルネサステクノロジ 半導体装置及びその製造方法
JP2006073651A (ja) * 2004-08-31 2006-03-16 Fujitsu Ltd 半導体装置
US20060096639A1 (en) * 2004-11-05 2006-05-11 Gregory Coogle Condensate drain tray connector
JP4581768B2 (ja) * 2005-03-16 2010-11-17 ソニー株式会社 半導体装置の製造方法
JP2007036104A (ja) * 2005-07-29 2007-02-08 Nec Electronics Corp 半導体装置およびその製造方法
JP2007180529A (ja) * 2005-12-02 2007-07-12 Nec Electronics Corp 半導体装置およびその製造方法
US7554195B2 (en) * 2006-01-03 2009-06-30 Sun Microsystems, Inc. Engine with cable direct to outboard memory
US7514289B2 (en) * 2006-03-20 2009-04-07 Sun Microsystems, Inc. Methods and structures for facilitating proximity communication
US7390700B2 (en) * 2006-04-07 2008-06-24 Texas Instruments Incorporated Packaged system of semiconductor chips having a semiconductor interposer
RU2312425C1 (ru) * 2006-04-21 2007-12-10 Юрий Дмитриевич Сасов Трехмерный электронный модуль с шариковыми выводами
US7477535B2 (en) * 2006-10-05 2009-01-13 Nokia Corporation 3D chip arrangement including memory manager
JP2008124072A (ja) * 2006-11-08 2008-05-29 Toshiba Corp 半導体装置
JP2008192853A (ja) * 2007-02-05 2008-08-21 Sharp Corp 複数の半導体素子を備える半導体装置、および半導体装置の製造方法
US7553752B2 (en) * 2007-06-20 2009-06-30 Stats Chippac, Ltd. Method of making a wafer level integration package
TWI344694B (en) * 2007-08-06 2011-07-01 Siliconware Precision Industries Co Ltd Sensor-type package and method for fabricating the same
US8350382B2 (en) * 2007-09-21 2013-01-08 Infineon Technologies Ag Semiconductor device including electronic component coupled to a backside of a chip
US8008764B2 (en) * 2008-04-28 2011-08-30 International Business Machines Corporation Bridges for interconnecting interposers in multi-chip integrated circuits
US7969009B2 (en) * 2008-06-30 2011-06-28 Qualcomm Incorporated Through silicon via bridge interconnect
US8282766B2 (en) * 2008-11-19 2012-10-09 Austriamicrosystems Ag Etch apparatus and method of etching silicon nitride
US8274149B2 (en) * 2010-03-29 2012-09-25 Advanced Semiconductor Engineering, Inc. Semiconductor device package having a buffer structure and method of fabricating the same
US9082869B2 (en) * 2010-09-14 2015-07-14 Terapede Systems, Inc. Apparatus and methods for high-density chip connectivity
US9147672B1 (en) * 2014-05-08 2015-09-29 Macronix International Co., Ltd. Three-dimensional multiple chip packages including multiple chip stacks

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060095639A1 (en) * 2004-11-02 2006-05-04 Guenin Bruce M Structures and methods for proximity communication using bridge chips

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