KR101106861B1 - 유리제 하드디스크 기판용 성형 다이 - Google Patents

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케이사쿠 이노우에
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Abstract

본 발명은 유리와의 반응성이 적고, 내마모성과 내구성이 높으며, 성형한 유리의 성형 다이 표면으로부터의 이형성이 양호한 유리제 하드디스크 기판용 성형 다이를 제공한다. 탄화규소-탄소 복합 세라믹을 포함하는, 유리제 하드디스크 기판용 성형 다이로서, 상기 탄화규소-탄소 복합 세라믹이 탄화규소 100중량부에 대해서 15~50중량부의 탄소를 함유하고, 상기 탄소의 평균 입자지름이 0.3~100㎛의 범위인 성형 다이로 한다.
유리, 하드디스크, 기판, 성형 다이, 탄소, 탄화규소, 세라믹

Description

유리제 하드디스크 기판용 성형 다이 {MOLDING DIE FOR GLASS HARD DISK SUBSTRATE}
본 발명은 유리제 하드디스크 기판용 성형 다이에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 탄화규소-탄소 복합 세라믹을 포함하는, 유리제 하드디스크 기판용 성형 다이, 및 그것을 이용한 유리제 하드디스크 기판의 제조방법에 관한 것이다.
유리제 하드디스크 기판은 정보기록장치에 적합하게 이용되는 자기기록매체용 기판이다. 이 유리제 하드디스크 기판은 통상 성형 다이의 상부다이와 하부다이의 사이에 유리 원료를 배치하여, 열간 프레스에 의해 원하는 형상으로 성형하고, 또한, 필요에 따라 표면을 연마함으로써 제품화된다.
이러한 유리제 하드디스크 기판을 성형하기 위한 성형 다이의 재료로서는 열안정성이 우수한 점에서 여러 가지 세라믹이 사용되고 있다(특허문헌 1).
한편, 특허문헌 2에는, 세라믹, 유리, 금속 등을 성형가공할 때의 성형 다이의 원료로서, 특정 입자지름의 세라믹 재료(탄화규소 등)와 특정 입자지름의 카본을 특정 비율로 배합한 세라믹 복합 소결체가 개시되어 있다.
특허문헌 1: 일본공개특허 2002-230747호 공보
특허문헌 2: 일본공개특허 2004-67432호 공보
그러나, 유리제 하드디스크 기판의 제조에 있어서, 성형의 고속화, 고빈도화에 수반하여, 상기 특허문헌 1에 기재된 바와 같은 성형 다이 재료에서는, 표면이 마모되기 쉽고, 유리 성분이 성형 다이 표면과 고온에서 반응함으로써, 성형된 유리의 표면정밀도가 저하한다고 하는 문제가 있다. 또, 특허문헌 2에 기재된 바와 같은 세라믹 복합 소결체에서는, 포함되는 탄소입자의 입자지름이 미소하므로 유리 성분이 성형 다이 표면과 강하게 밀착하여 상기 성형 다이로부터 박리되기 어렵기 때문에, 연속 성형이 곤란하다는 문제가 있었다.
본 발명은 탄화규소-탄소 복합 세라믹을 포함하는 성형 다이로서, 상기 탄화규소-탄소 복합 세라믹이 탄화규소 100중량부에 대하여 15~50중량부의 탄소입자를 함유하고, 상기 탄소입자의 평균 입자지름이 0.3~100㎛의 범위인 유리제 하드디스크 기판용 성형 다이(이하, '본 발명의 성형 다이'라고도 한다)에 관한 것이다.
본 발명은 성형 다이에 유리 원료를 배치하고, 상기 유리 원료를 가압 성형하는 공정을 포함하는 유리제 하드디스크 기판의 제조방법으로서, 상기 성형 다이가 본 발명의 유리제 하드디스크 기판용 성형 다이인 유리제 하드디스크 기판의 제조방법에 관한 것이다.
도 1은 본 발명의 유리제 하드디스크 기판용 성형 다이의 일례를 나타내는 단면도이다.
도 2는 본 발명의 실시예에 있어서의 유리제 하드디스크 기판용 성형 다이의 상부다이를 나타내는 도면으로서, A는 상기 상부다이의 단면도이며, B는 상기 상부다이의 평면도이다.
(유리제 하드디스크 기판용 성형 다이)
본 발명의 성형 다이는, 상술한 바와 같이, 탄화규소 100중량부에 대하여 15~50중량부의 탄소입자를 함유하면서 또한 상기 탄소입자의 평균 입자지름이 0.3~100㎛의 범위인 탄화규소-탄소 복합 세라믹(이하, '복합 세라믹'이라고도 한다)을 포함한다.
이와 같이, 본 발명의 성형 다이는 상기 복합 세라믹에 탄화규소 100중량부에 대하여 15~50중량부의 탄소입자가 포함되어 있으며, 이 함유량은 종래 기술, 예를 들면 상기 특허문헌 1의 탄화규소 복합 세라믹의 제조에 있어서 소결 조제로서 사용되는 탄소량과 비교해서 다량이다. 이러한 함유량으로 함으로써, 유리 성형시에 있어서의 유리와의 반응성이 억제되어, 높은 내마모성과 내구성을 나타내는 성형 다이가 된다. 또, 특허문헌 2와 같이, 매우 탄소 함유량이 높은 세라믹으로는 달성할 수 없었던 충분한 내구성도 확보할 수 있다.
또, 본 발명의 성형 다이는 상기 복합 세라믹에 포함되는 탄소입자의 평균 입자지름이 0.3~100㎛로서, 이 평균 입자지름은 특허문헌 2의 세라믹에 있어서의 탄소입자와 비교하여 매우 큰 입자지름이다. 이러한 큰 입자지름의 탄소입자를 사용함으로써, 성형한 유리와 성형 다이 표면과의 밀착성이 저감하여, 양호한 이형성(離型性)을 달성할 수 있다.
또, 상기 복합 세라믹에 포함되는 탄소입자의 평균 입자지름은 보다 양호한 이형성을 확보하는 점에서, 바람직하게는 0.5㎛ 이상이며, 보다 바람직하게는 0.7㎛ 이상, 더 바람직하게는 1㎛ 이상이다. 마찬가지로, 보다 양호한 이형성을 확보하는 점에서, 바람직하게는 25㎛ 이하이며, 보다 바람직하게는 5㎛ 이하이다. 구체적으로는, 탄소입자의 평균 입자지름은 바람직하게는 0.5~25㎛이며, 보다 바람직하게는 0.7㎛~5㎛, 더 바람직하게는 1~5㎛이다. 상기 탄소입자의 평균 입자지름은 레이저 회절/산란광식 입자지름 분포 측정장치(상품명 LA720, 호리바세이사쿠쇼 제품)에 의해 측정되는 체적평균 입자지름(D50)이다(이하, 같음).
또한, 본 발명의 성형 다이는 유리제 하드디스크 기판의 제조에 사용하는 성형 다이이지만, 유리제 하드디스크 기판은, 비결정성 유리(아몰퍼스 유리)제의 기판이어도, 결정화 유리(유리 세라믹)제의 기판이어도 되며, 유리계의 기판이면 특별히 제한되지 않는다.
상기 복합 세라믹에 포함되는 탄소입자의 함유량은 보다 높은 내마모성 및 내구성을 확보하는 점에서 바람직하게는 탄화규소 100중량부에 대하여 15~45중량부이며, 보다 바람직하게는 15~30중량부이다.
상기 탄화규소의 원료로서는 α, β 중 어느 쪽의 결정형이어도 된다. 또, 탄화규소 원료의 순도는 특별히 제한되지 않지만, 보다 고밀도로 소결시켜 내마모성 및 내구성을 더욱 향상시킨다는 점에서, 바람직하게는 90중량% 이상, 보다 바람직하게는 95중량% 이상이다. 탄화규소 원료(입자)의 평균 입자지름은 특별히 제한 되지 않지만, 소결성이 보다 양호한 점에서 상기 원료는 0.1~10㎛의 분말인 것이 바람직하다.
상기 복합 세라믹에 포함되는 탄소입자는 바람직하게는 탄소 단체(單體)로서, 결정상(相), 비결정상, 또는, 결정상 및 비결정상의 혼합상으로 이루어진다. 이들 단체들의 결정상은 레이저 라만 분광법에 의해 얻어지는 측정 스펙트럼에 있어서 1580cm-1 부근을 중심으로 하는 1450~1700cm-1에 걸쳐 결정상의 피크를 가지는 것이 바람직하다. 그 결정 구조로서는 특별히 제한되지 않지만, 바람직하게는 그라파이트형 평면 육각형 구조, 능면체(菱面體)형 구조 등을 들 수 있다. 또, 비결정상은 레이저 라만 분광법에 의해 얻어지는 측정 스펙트럼에 있어서 1360cm-1 부근을 중심으로 하는 1300~1450cm-1에 걸쳐 결정상의 피크를 가지는 것이 바람직하다.
상기 복합 세라믹에 포함되는 탄소입자는, 보다 높은 내마모성 및 내구성을 확보하는 점에서, 또한, 보다 높은 강도 및 파괴 인성을 달성하는 점에서, 결정상과 비결정상과의 레이저 라만 분광 강도의 피크 면적비(결정상/비결정상)가 바람직하게는 1~10이며, 보다 바람직하게는 1~5이다. 상기 피크 면적비는 통상 탄소의 흑연화도에 상당한다고 생각되기 때문에, 이 값이 상기 범위에 있으면, 보다 양호한 강도와 파괴 인성을 달성할 수 있다. 또한, 상기 스펙트럼의 측정은 아르곤 레이저 라만 분광 장치(NEC사 제품)를 사용할 수 있다. 이러한 피크 면적비로 하기 위해서는, 탄소원으로서, 바람직하게는 잔탄률 30~95중량%, 더 바람직하게는 잔탄률 40~90중량%의 알킬 변성 페놀 수지, 콜타르 피치를 선택하면 된다. 또한, 잔탄률이 란, JIS K 2425에 의거하여 측정되는 탄소원 중의 고정 탄소의 중량%를 말한다.
상기 복합 세라믹에 포함되는 탄화규소의 평균 입자지름은 보다 높은 내마모성 및 내구성을 확보하는 관점에서 바람직하게는 0.3㎛ 이상이다. 마찬가지로, 보다 높은 내마모성 및 내구성을 확보하는 관점에서, 바람직하게는 100㎛ 이하이며, 보다 바람직하게는 50㎛ 이하이며, 더 바람직하게는 4㎛ 이하이다. 구체적으로는, 탄화규소의 평균 입자지름은 바람직하게는 0.3~100㎛이며, 보다 바람직하게는 0.3~50㎛이며, 더 바람직하게는 0.3~4㎛이다. 또한, 탄화규소의 평균 입자지름은 상기 탄소입자의 평균 입자지름과 마찬가지의 방법에 의해 측정할 수 있다. 탄화규소는 상기 복합 세라믹에 있어서 매트릭스가 되는 것으로서, 그 결정형은 α, β 중 어느 것이어도 된다.
상기 복합 세라믹은 상기 탄화규소와 탄소로 구성되는 것이 바람직하지만, 본 발명의 효과를 손상하지 않는 범위에서, 탄화규소 이외의 탄화물 등의 임의 성분을 더 함유해도 된다.
본 발명에 있어서의 복합 세라믹은 비교적 입자지름이 큰 탄소입자와 바람직하게는 비교적 입자지름이 큰 탄화규소를 함유하기 때문에, 복합 세라믹의 강도를 확보하기 위해서 보이드 지름이 작은 것이 바람직하다. 최대 보이드 지름은 300㎛ 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0~100㎛이며, 더 바람직하게는 50㎛ 이하, 더욱 보다 바람직하게는 25㎛ 이하이다. 또한, 최대 보이드 지름은 이하와 같이 하여 측정할 수 있다. 즉, 복합 세라믹의 표면의 공극 구멍에 대해서, 키엔스사 제품 VH-8000형에 의해 공극 구멍의 상(사진)을 얻고, 얻어진 상을 화상 해석함 으로써 구할 수 있다. 화상해석시에는, 랜덤하게 배향시킨 공극 구멍의 장축지름(mm)과 단축지름(mm)을 측정하여, (장축지름+단축지름)/2을 구하고, 상기 VH-8000형의 배율 100배일 때의 시야 중의 공극 구멍에 대해서, 각각 얻어진 값의 최대값을 최대 보이드 지름으로 한다. 장축지름과 단축지름은 각각 이하와 같이 정의된다. 공극 구멍을 2개의 평행선으로 끼웠을 때, 그 2개의 평행선의 간격이 최소가 되는 공극 구멍의 폭을 단축지름이라고 하고, 한편 이 평행선에 직각인 방향의 2개의 평행선으로 공극 구멍을 끼웠을 때, 그 2개의 평행선의 간격을 장축지름이라고 한다. 또한, 금형 성형, CIP(COLD ISOSTATIC PRESS), HIP(HOT ISOSTATIC PRESS) 등에 있어서 0.5~5t/㎠의 압력으로 성형하면, 복합 세라믹의 최대 보이드 지름을 300㎛ 이하로 할 수 있다
본 발명의 성형 다이는, 유리에 대한 이형성이 높은 점에서, 유리 성형시에 유리가 접촉하는 표면의 적어도 일부가 상기 복합 세라믹으로 구성되어 있는 것이 바람직하지만, 상기 접촉 표면 전체가 상기 복합 세라믹으로 구성되는 것이 더 바람직하다. 또, 상기 성형 다이의 전체가 상기 복합 세라믹으로 구성되어도 된다. 구체예로서는, 본 발명의 성형 다이가 다이스와 펀치로 이루어지는 경우, 다이스 및 펀치 중 어느 한쪽 혹은 양쪽을 상기 복합 세라믹으로 구성해도 된다. 또, 다이스 및 펀치 중 어느 한쪽 또는 양쪽에 대해서, 유리와의 접촉면의 일부 혹은 전면을 상기 복합 세라믹으로 구성해도 된다.
본 발명의 성형 다이의 형상으로서는, 종래 공지의 성형 다이와 같은 형상을 들 수 있다. 본 발명의 성형 다이는 상술한 바와 같은 복합 세라믹을 포함하는 것 이 특징으로서, 상술한 바와 같이, 유리가 접촉하는 표면의 적어도 일부가 상기 복합 세라믹을 포함하면, 유리에 대한 이형성을 향상할 수 있기 때문에, 그 형상 자체는 조금도 제한되지 않는다.
본 발명의 성형 다이를 이용해서 유리제 하드디스크 기판을 제조하는 경우, 상기 성형 다이에 있어서의 유리와의 접촉 표면의 형상이 성형한 유리 표면에 전사되므로, 상기 접촉 표면은 될 수 있는 한 매끈매끈한 것이 바람직하다. 구체적으로는, 성형후의 기판 연마 효율의 관점 및 상기 접촉 표면의 평활성의 관점에서, 상기 접촉 표면의 중심선 평균 거칠기(Ra)는 0.001~10㎛가 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.01~9.5㎛, 더 바람직하게는 0.02~9㎛이다. 또한, 중심선 평균 거칠기(Ra)는 JIS B0651에 의해 구할 수 있다. 중심선 평균 거칠기(Ra)는 소결체의 밀도를 높게 함으로써 상기 범위로 설정할 수 있기 때문에, 후술하는 바와 같은 가소(假燒)한 분말(복합 세라믹)을 사용하면 좋다.
(복합 세라믹의 제조방법)
본 발명의 유리제 하드디스크 기판용 성형 다이에 있어서의 복합 세라믹은 이하와 같이 하여 조제할 수 있다.
상기 복합 세라믹은, 탄화규소 및 탄소원을 포함하는 원료혼합물을 필요에 따라 가소한 후, 원하는 형상으로 성형하고, 이것을 소성함으로써 제조할 수 있다. 후술하지만, 본 발명의 성형 다이 전체를 이 복합 세라믹으로 구성하는 경우에는, 원하는 성형 다이의 형상으로 성형하면 되며, 또, 본 발명의 성형 다이의 일부를 이 복합 세라믹으로 구성하는 경우에는, 성형 다이의 부품으로서 원하는 형상으로 성형하면 된다.
상기 복합 세라믹으로는, 상술한 바와 같이 탄소 단체가 포함되는 것이 바람직한데, 이 탄소 단체는 제조 중에 적당한 탄소원으로부터 생성되는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 탄화규소, 후술하는 탄소원, 및, 원하는 바에 따라 종래 공지의 첨가제를 습식 혼합해서 가소하면 된다. 이 가소공정에 있어서, 통상 탄소원의 탄소는 단체로 변환된다. 상기 각 원료의 혼합 비율은 얻어지는 복합 세라믹이 탄화규소 100중량부에 대하여 15~50중량부의 탄소입자를 함유하도록 적당히 설정하면 된다.
상기 첨가제로서는, 특별히 제한되지 않지만, 공지의 붕소 화합물, 티탄 화합물, 알루미늄, 이트리아 화합물 등의 소결 조제 등을 들 수 있다.
상기 습식 혼합은 볼 밀, 진동 밀, 유성 밀 등을 사용해서 행할 수 있다. 또, 습식 혼합에 사용하는 용제로서는 특별히 제한되지 않지만, 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족계 용제; 메탄올, 에탄올 등의 알코올계 용제; 메틸에틸케톤 등의 케톤계 용제 등의 유기 용제가 바람직하다. 그 밖의 용제로서는, 물, 물과 상기 유기 용제와의 혼합 용제 등도 사용할 수 있다.
습식 혼합한 혼합물의 가소는 특별히 제한되지 않고, 종래 공지의 방법으로 행할 수 있는데, 사용하는 탄소원을 보다 충분히 탄소 단체로 변환시키면서 양호한 분산성을 유지하는 관점에서, 불활성 분위기하(질소 가스, 아르곤 가스 등의 분위기하), 150~800℃에서 열처리해서 행하는 것이 바람직하다.
상기 탄소원으로서는 특별히 제한되지 않고, 습식 혼합에 사용하는 상기 유 기 용제에 가용성 또는 분산성의 것이며, 또한, 상기 가소조건하에서 탄소로 변환되는 것인 것을 사용할 수 있다. 탄소원이 고체분말인 경우는, 그 분산성의 관점에서 평균 입자지름 0.1~100㎛ 정도의 재료가 바람직하다. 또, 상기 탄소원은 가소후에 있어서의 탄소로의 변환률이 높은 점에서 방향족 탄화수소가 바람직하고, 구체적으로는 푸란 수지, 페놀 수지, 콜타르 피치 등을 들 수 있으며, 그 중에서도 페놀 수지, 콜타르 피치가 보다 바람직하다. 또, 가소한 이러한 것들을 탄소원으로서 이용할 수도 있다.
상기 탄화규소 원료(입자)로서는 상술한 바와 같이 α, β 중 어느 쪽의 결정형이어도 된다. 또, 그 탄화규소 원료의 순도는 특별히 제한되지 않지만, 보다 고밀도로 소결시켜 내마모성 및 내구성을 더욱 향상한다는 점에서, 바람직하게는 90중량% 이상, 보다 바람직하게는 95중량% 이상이다. 탄화규소 원료(입자)의 평균 입자지름은 특별히 제한되지 않지만, 소결성이 보다 양호한 점에서 0.1~10㎛의 분말인 것이 바람직하다. 또한, 탄화규소 원료(입자)의 평균 입자지름은, 레이저 회절/산란광식 입자지름 분포 측정장치(상품명 LA720, 호리바세이사쿠쇼 제품)에 의해 측정되는 체적평균 입자지름(D50)이다(이하, 같음).
뒤이어, 가소후의 혼합물을 원하는 바에 따라 조립(造粒)한 후 원하는 형상으로 성형한다. 성형방법은 특별히 제한되지 않고, 금형성형법, 인젝션법, CIP(COLD ISOSTATIC PRESS)법 등으로 블록을 형성하고, 필요에 따라 상기 블록을 기계 가공해서 원하는 형상의 성형체를 제작하면 된다.
계속해서, 얻어진 성형체를 소성공정에 제공한다. 소성방법은 특별히 제한되지 않고, 종래 공지의 방법을 따르면 되지만, 불활성 분위기하 또는 진공하에 있어서 1800~2300℃에서 처리하는 것이 바람직하다. 이러한 소성온도로 처리하면, 소결체의 밀도, 강도나 경도 등의 기계적 특성이 보다 양호해질 수 있다. 상기 소성방법으로서는, 더욱 고밀도화를 달성시키기 위해서, 핫 프레스, HIP(HOT ISOSTATIC PRESS)법 등을 채용하는 것이 바람직하다.
이 복합 세라믹은 용이하게 가공 성형할 수 있는 것에 더해, 그 특성에 의존하여, 본 발명이 해결하고자 하는 과제 중 하나인, 성형 다이에 요구되는 특성의 부여, 구체적으로는 고온의 유리에 대한 화학적 안정성(내산화성, 내식성, 유리에 대한 불활성)이나 내마모성, 유리와의 이형성, 표면평활성 등의 유리제 하드디스크 기판용 성형 다이의 특성의 부여에 크게 공헌한다.
상기 복합 세라믹에 있어서의 탄소입자나 탄화규소의 평균 입자지름을 과도하게 미세하게 하지 않도록 하기 위해서는, 탄소원료의 잔탄률, 입자지름을 상기 적합한 범위로 조정하고, 가소조건을 조정하여, 원료의 용해를 과도하게 행하지 않는 것이 바람직하다. 또, 탄화규소에 대해서는 소성조건을 조정해서 결정성을 향상시켜, 적당히 입자 성장시키는 것이 바람직하다
(본 발명의 성형 다이의 제조방법)
다음으로, 본 발명의 성형 다이의 바람직한 제조방법에 대해서 설명하는데, 본 발명의 성형 다이의 제조방법은 이들에는 한정되지 않는다. 본 발명의 성형 다이의 전체를 상기 복합 세라믹으로 구성하는 경우에는, 상술한 복합 세라믹의 제조 공정에 있어서, 가소한 혼합물을 원하는 성형 다이의 형상으로 성형하여, 소성하면 된다. 또, 본 발명의 성형 다이의 일부를 상기 복합 세라믹으로 구성하는 경우에는, 상술한 바와 같이, 복합 세라믹으로 이루어지는 부품을 제작하고, 이것을 성형 다이의 일부로서 장착함으로써, 본 발명의 성형 다이를 제조할 수 있다.
본 발명의 성형 다이에 있어서, 유리제 하드디스크 기판의 제조에 있어서 유리와 접촉하는 표면은 상술한 바와 같이 매끈매끈한 것이 바람직하다. 이를 위해, 상기 유리와의 접촉 표면은 필요에 따라 연마하는 것이 바람직하다. 연마 방법은 특별히 제한되지 않지만, 상기 복합 세라믹이 고경도 재료인 경우는, 다이아몬드 이외의 연마입자에 의한 연마로는 소요 시간이 길어지기 때문에, 다이아몬드 연마입자에 의해 연마하는 것이 바람직하다. 본 발명의 성형 다이에 있어서의 유리와의 접촉 표면의 표면 평활성을 충분히 확보하는 점에서, 사용하는 다이아몬드 연마입자의 평균 입자지름은 2㎛ 이하가 바람직하다.
본 발명의 성형 다이를 구성하는 상기 복합 세라믹은 HIP법에 의해 소성한 경우, 매우 고밀도의 소결체로서 얻어진다. 성형하는 유리의 표면에 의해 양호한 평활성을 부여할 수 있는 점에서, 성형 다이의 상대밀도는 높은 것이 바람직하다. 구체적으로는 성형 다이의 상대밀도는 95% 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 98% 이상이다. 이 상대밀도는 부피밀도를 이론밀도(진비중)로 나눔으로써 산출할 수 있고, 부피밀도는 JIS R1634에 의거하여 측정할 수 있다. 또한, 세라믹이 복수 성분으로 구성되는 경우에는, 각 성분의 이론밀도×각 성분의 함유량(중량%)÷100을 계산하여, 얻어진 각 성분에 대한 계산값의 합을 상기 세라믹 전체의 이론밀도 로 한다.
(유리제 하드디스크 기판의 제조방법)
본 발명의 유리제 하드디스크 기판의 제조방법은 상술한 바와 같이, 성형 다이에 유리 원료를 배치하고, 필요에 따라 가열 조건 하에서 상기 유리 원료를 가압 성형하는 공정을 포함하는 유리제 하드디스크 기판의 제조방법으로서, 상기 성형 다이가 본 발명의 유리제 하드디스크 기판용 성형 다이이다. 이와 같이 본 발명의 제조방법에 있어서는, 성형 다이로서 본 발명의 성형 다이를 사용하면 되며, 그 밖의 공정이나 처리 조건 등에 대해서는 조금도 제한되지 않는다.
본 발명의 유리제 하드디스크 기판의 제조방법의 일례에 대해서 도 1을 이용해서 설명하는데, 본 발명은 이것에 제한되지 않는다.
도 1은 본 발명의 유리제 하드디스크 기판용 성형 다이의 일례를 나타내는 단면도이다. 동 도면에 나타내는 바와 같이, 성형 다이는, 대향하는 상부다이(10a) 및 하부다이(10b), 이들을 상하로 이동가능하게 연결하는 외주부(12)를 구비하며, 101a는 상부다이(10a)에 있어서의 가공면(유리와의 접촉면)이며, 101b는 하부다이(10b)에 있어서의 가공면(유리와의 접촉면)이다. 그리고, 성형 다이는 적어도 상부다이(10a)의 가공면(101a)과 하부다이(10b)의 가공면(101b)이 상술한 복합 세라믹으로 구성되어 있다. 또한, 성형 다이는 외주부를 구비하지 않아도 된다.
먼저, 성형 다이의 상부다이(10a)와 하부다이(10b)의 사이에 유리 재료(11)를 배치한다(예를 들면, 하부다이(10b)의 가공면(101b) 상에 배치). 그리고, 상부다이(10a)와 하부다이(10b)를 이동시킴으로써 유리 재료(11)를 프레스하고, 그 후 이것을 냉각함으로써 유리제 하드디스크 기판이 성형된다. 그리고, 이 성형된 유리제 하드디스크 기판을 상기 성형 다이로부터 이형하여, 유리제 하드디스크 기판이 얻어진다. 또한, 본 발명의 유리제 하드디스크 기판용 성형 다이의 제조방법에 있어서는, 본 발명의 성형 다이를 사용하는 것이 특징이며, 온도나 가중의 조건 등은 조금도 제한되지 않고, 종래 공지대로 설정할 수 있다.
유리 재료(11)는 미가열의 유리 원료(실온 정도)를 상부다이(10a)와 하부다이(10b)의 사이에 배치하여 가열하면서 프레스 가공을 행해도 되고, 미리 유리 원료(11)를 소정의 온도로 가열해서 용융 유리로 하여, 이것을 용융 유리조로부터 유출 파이프를 통해서 하부다이(10b)의 가공면에 유하(流下)시켜도 된다. 가열 처리의 온도는 특별히 제한되지 않지만 성형성의 관점에서 200~1500℃가 바람직하고, 보다 바람직하게는 400~1500℃, 더 바람직하게는 500~1400℃, 더욱 보다 바람직하게는 600~1400℃이다. 또, 용융 유리의 온도는 유리 원료가 용융하고 있으면 되며, 특별히 제한되지 않지만, 성형성의 관점에서 200~1500℃가 바람직하고, 보다 바람직하게는 400~1500℃이며, 더 바람직하게는 500~1400℃, 더욱 보다 바람직하게는 600~1400℃이다.
프레스시에 인가하는 압력은 특별히 제한되지 않지만 0.2~50MPa가 바람직하고, 프레스 시간을 보다 단축할 수 있는 점에서, 보다 바람직하게는 0.3~40MPa이며, 더 바람직하게는 0.4~30MPa이다. 또한, 프레스는 상부다이(10a)와 하부다이(10b)의 양쪽을 이동시켜서 행해도 되며, 도 1의 화살표로 나타내는 바와 같이 상부다이(10a)에 압력을 가해 행해도 된다.
상기 유리 원료의 종류도 조금도 제한되지 않으며, 성형후의 형태가 아몰퍼스 유리가 되는 원료여도 되며, 결정화 유리(유리 세라믹)가 되는 원료여도 된다.
(정보기록매체)
본 발명에 의하면, 상술한 유리제 하드디스크 기판을 구비한 정보기록매체를 제공할 수도 있다. 이 경우, 상술한 방법에 의해 제작한 유리제 하드디스크 기판을 사용하면 되며, 정보기록매체의 그 밖의 구성 등에 관해서는 조금도 제한되는 것이 아니다.
실시예 1
하기 표 1에 나타내는 탄소원, 평균 입자지름 0.5㎛의 β-탄화규소 입자(순도 98중량%), 및, 소결 조제 B4C(2중량%)를 진동 밀로 에탄올에 의한 습식 혼합을 행하여, 건조 후, 500℃에서 2시간 가소하고, 이 가소물을 에탄올에 의해 습식 분쇄해서 슬러리화 하였다. 이 슬러리를 분무건조기에 의해 조립해서 과립을 얻었다. 이들 과립을 이용해서 CIP법에 의해 블록을 형성하고, 얻어진 블록을 NC(Numerical Control) 가공기로 가공해서 유리 성형 다이를 성형하고, 아르곤 가스 분위기하 2200℃에서 4시간 더 소성하였다. 또한, 이 소성에 의해, 본 발명에 있어서의 탄화규소-탄소 복합 세라믹이 형성된다. 소성후의 성형 다이에 대해서, 유리와 접촉하는 표면을 평균 입자지름 2㎛의 다이아몬드 연마입자로 연마하여, 최종적으로 유리제 하드디스크 기판용의 성형 다이를 얻었다. 또한, 하기 표 1에 있어서, 탄소함유량은 탄화규소 100중량부에 대한 소성후의 탄소함유량을 나타낸다.
얻어진 성형 다이에 대해 이하의 측정 방법에 의해 각 특성을 평가하였다. 이들 결과들을 하기 표 1에 같이 나타낸다.
(1)레이저 라만 비
레이저 라만 비란, 탄소입자의 결정상과 비결정상과의 레이저 라만 분광 강도의 피크 면적비(결정상/비결정상)로서, 아르곤 레이저 라만 분광 장치(NEC사 제품)에 의해 측정하였다.
(2)표면거칠기
상기 성형 다이에 대해서, 유리와 접촉하는 표면의 중심선 평균 거칠기(Ra)를 조도계(고사카키켄 제품)를 이용해서 JIS B 0651에 의거하여 측정하였다.
(3)이형성
제작한 성형 다이를 이용해서 하드디스크 기판을 이하의 조건으로 제작하고, 상기 하드디스크 기판의 하드디스크 기판 성형 다이로부터의 이형성을 이하와 같이 하여 평가하였다. 즉, 상기 성형 다이에 원료가 되는 유리 Gob덩어리(점도 logη: 1~4)를 투입하고, 20MPa의 압력을 인가함으로써, 유리제 하드디스크 기판을 제조하였다. 또한, 유리제 하드디스크 기판의 제조를 동일한 성형 다이를 사용해서 1000개 연속해서 행하고, 각 유리제 하드디스크 기판의 이형성을 하기 평가 기준에 의거하여 평가하였다.
(하드디스크 기판의 제작 조건)
유리 성분: SiO2, Li2O, AL2O3, B2O3, Na2O, K2O
프레스 직전의 유리 온도: 1200~1400℃ (방사 온도계에 의해 측정)
프레스 방법: 다이렉트 프레스법으로 소정 중량의 용융 유리의 온도를 성형온도영역(logη=7~10)까지 강온시켜서, 성형 다이에 의해 유리 덩어리의 프레스 성형을 행한다.
냉각 조건: 프레스 중에 열교환용 유체(물)에 의해 프레스품의 열을 흡수시킨다. 이것에 의해, 프레스면이 냉각됨으로써 고품질이면서 효율적인 유리 성형품이 생긴다.
(평가 기준)
◎: 1000개 모두 양호한 이형을 나타내었다
○: 1000개 중 1개가 이형 불량을 일으켰다
△: 1000개 중 2~4개가 이형 불량을 일으켰다
×: 1000개 중 5개 이상이 이형 불량을 일으켰다
단, 양호한 이형이란, 프레스 직후, 성형 다이의 상부다이를 프레스품으로부터 떼었을 때에 프레스품의 움직임이 없는 것을 양호, 이형 불량이란, 프레스 직후, 성형 다이의 상부다이를 프레스품에서 떼었을 때에 프레스품이 움직이는 것, 또는, 프레스품이 상부다이에 달라 붙어버리는 것을 말한다.
(4)내구성
성형 다이의 내구성은, 상기 (3)의 이형성 시험후의 성형 다이에 대해 표면의 외관 및 그 거칠기의 육안에 의한 관찰, 및, 중심선 평균 거칠기(Ra)의 측정을 행하여, 하기 평가 기준에 기초해서 평가하였다. 중심선 평균 거칠기(Ra)는, 성형 다이(상부다이)의 유리와의 접촉면(프레스면)에 있어서의 중심부와 외주부의 각각 한 점을 측정하여, 두개의 측정값의 차를 구하였다. 도 2에 성형 다이의 상부다이를 모식적으로 나타낸다. 도 2에 있어서, (A)가 성형 다이의 상부다이의 단면도이며, (B)가 성형 다이의 상부다이의 평면도이다. 도 2의 (B)에 나타내는 바와 같이, 상기 중심부에 대해서는, 성형 다이(상부다이)의 프레스면의 중심점을 중심으로 해서 2mm(도 중 화살표 X)를 측정하고, 상기 외주부에 대해서는, 외주(동 도(B)에 있어서 내측의 실선)로부터 내측 10mm의 더 내측 2mm(도 중 화살표 Y)를 측정하였다. 하기 평가 기준에 있어서, '거칠기 변화'란, 상기 중심부와 외주부의 차에 있어서의 거칠기의 차이, 즉, 상기 중심부와 외주부의 차에 대해서 이형성 시험 전후에서 생긴 변화량을 의미한다. 또한, 성형 다이의 내구성이 높은 평가일 경우, 마찬가지로 내마모성도 양호라고 말할 수 있다.
(평가 기준)
◎: 거칠기 변화가 없다.
○: 거칠기 변화가 약간 있다. Ra Δ10% 이하
△: 거칠기 변화가 있다. Ra Δ20% 이하
×: 거칠기 변화가 크게 있다. Ra Δ30% 이하
Figure 112008082315382-pct00001
본 발명의 유리제 하드디스크 기판용 성형 다이에 의하면, 유리와의 반응성이 적고, 내마모성과 내구성이 우수하며, 또한, 성형한 유리의 상기 성형 다이 표면으로부터의 이형성이 양호해진다. 이 때문에, 연속적으로, 또 장기간 본 발명의 성형 다이를 사용해도, 성형 다이의 가공 표면의 거칠어짐이나 이형 불량이 억제되어, 높은 빈도에서의 유리제 하드디스크 기판의 제조가 가능해진다. 또, 얻어지는 유리제 하드디스크 기판의 수율도 향상하고, 성형후의 연마가 실질적으로는 불필요해지는 정도의 표면평활성을 실현하는 것도 가능해진다. 따라서, 본 발명의 성형 다이에 의하면, 유리제 하드디스크 기판의 성형 코스트를 저감할 수도 있다.

Claims (7)

  1. 탄화규소-탄소 복합 세라믹을 포함하는 유리제 하드디스크 기판용 성형 다이로서,
    상기 탄화규소-탄소 복합 세라믹은 탄화규소 100중량부에 대하여 15~50중량부의 탄소입자를 함유하고, 상기 탄소입자의 평균 입자지름이 0.3~100㎛의 범위인 것을 특징으로 하는 유리제 하드디스크 기판용 성형 다이.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 탄화규소-탄소 복합 세라믹 중의 탄화규소의 평균 입자지름은 0.3~100㎛의 범위인 것을 특징으로 하는 유리제 하드디스크 기판용 성형 다이.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 탄소입자의 결정상과 비결정상과의 레이저 라만 분광 강도의 피크 면적비(결정상/비결정상)는 1~10인 것을 특징으로 하는 유리제 하드디스크 기판용 성형 다이.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 복합 세라믹의 최대 보이드 지름은 300㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 유리제 하드디스크 기판용 성형 다이.
  5. 제1항에 있어서,
    유리제 하드디스크 기판의 성형시에 있어서 유리와 접촉하는 상기 성형 다이 표면의 중심선 평균 거칠기(Ra)는 0.001㎛ 이상 10㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 유리제 하드디스크 기판용 성형 다이.
  6. 성형 다이에 유리 원료를 배치하고, 상기 유리 원료를 가압 성형하는 유리 성형공정을 포함하는 유리제 하드디스크 기판의 제조방법으로서,
    상기 성형 다이는 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 기재된 유리제 하드디스크 기판용 성형 다이인 것을 특징으로 하는 유리제 하드디스크 기판의 제조방법.
  7. 제6항에 있어서
    상기 유리 성형공정에 있어서, 상기 유리 원료를 200℃~1500℃로 가열한 상태로, 상기 유리 원료에 대하여 0.2~50MPa의 압력을 인가하여 성형하는 것을 특징으로 하는 유리제 하드디스크 기판의 제조방법.
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Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5033768B2 (ja) * 2008-10-31 2012-09-26 株式会社オハラ 薄板状ガラス成形体の製造方法及びディスク状磁気記録媒体の製造方法
WO2012147371A1 (ja) * 2011-04-27 2012-11-01 Hoya株式会社 磁気ディスク用ガラスブランクの製造方法および磁気ディスク用ガラス基板の製造方法
CN102363552A (zh) * 2011-08-09 2012-02-29 苏州卡波尔模具科技有限公司 一种玻璃成型模具

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03199164A (ja) * 1989-12-28 1991-08-30 Kao Corp 炭化ケイ素炭素複合セラミックス成形体の製造方法
JPH1125523A (ja) 1997-06-27 1999-01-29 Sony Corp 光学記録媒体の製造装置及び製造方法
JP2002326873A (ja) 2001-03-08 2002-11-12 Wacker Chemie Gmbh セラミック複合材料、その製造方法および使用
JP2002338357A (ja) 2001-05-10 2002-11-27 Nippon Pillar Packing Co Ltd 摺動体及びメカニカルシール

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0388730A (ja) * 1989-08-31 1991-04-15 Asahi Glass Co Ltd ガラスのプレス成形型
JPH11255523A (ja) * 1998-03-09 1999-09-21 Taiheiyo Cement Corp ガラスモールド成形用型及びその製造方法
JP2000072453A (ja) * 1998-08-26 2000-03-07 Taiheiyo Cement Corp ガラスモールド成形用型及びその製造方法
JP4540598B2 (ja) * 2004-12-06 2010-09-08 花王株式会社 ガラス成形型用セラミックス

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03199164A (ja) * 1989-12-28 1991-08-30 Kao Corp 炭化ケイ素炭素複合セラミックス成形体の製造方法
JPH1125523A (ja) 1997-06-27 1999-01-29 Sony Corp 光学記録媒体の製造装置及び製造方法
JP2002326873A (ja) 2001-03-08 2002-11-12 Wacker Chemie Gmbh セラミック複合材料、その製造方法および使用
JP2002338357A (ja) 2001-05-10 2002-11-27 Nippon Pillar Packing Co Ltd 摺動体及びメカニカルシール

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Publication number Publication date
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CN101454249B (zh) 2012-12-12
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