JPH1125523A - 光学記録媒体の製造装置及び製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 紫外線樹脂の回転塗布において振り切られた
紫外線硬化樹脂の再利用が可能な光学記録媒体の製造装
置及び製造方法を提供する。 【解決手段】 本発明の光学記録媒体の製造装置は、基
板上に形成された光学的に情報の記録及び／又は再生が
可能な情報記録部上に紫外線硬化樹脂を滴下し、上記基
板を回転させて紫外線硬化樹脂を延伸塗布するとともに
紫外線硬化樹脂の一部を振り切る回転塗布手段と、上記
回転塗布手段によって紫外線硬化樹脂が塗布された上記
基板を回転させながら、上記基板上に紫外線を照射して
紫外線硬化樹脂を硬化させる紫外線照射手段とを備え
る。そして、上記紫外線照射手段は、上記回転塗布手段
で基板上に回転塗布された紫外線硬化樹脂にのみ紫外線
を照射し、上記回転塗布手段で振り切られた紫外線硬化
樹脂には、紫外線を照射しないことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、光学記録媒体の製
造装置及び製造方法に関し、特に光を透過する光透過層
を介してレーザー光が信号記録部に照射され、情報信号
の記録及び／又は再生が行われる光学記録媒体の製造装
置及び製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】各種情報の記録又は再生を光照射によっ
て行う光学記録媒体として、オーディオ用、ビデオ用を
中心とした光ディスクをはじめ、光カード、光磁気ディ
スク、相変化光学記録媒体などが広く用いられている。
光ディスクは再生専用型光ディスク、追記型光ディス
ク、書換型光ディスクに分類できる。再生専用型光ディ
スクでは、情報記録層にプリグループ、位相ピット等の
微細凹凸が形成され、データ情報、トラッキング信号の
記録がなされている。

【０００３】図７は、従来の再生専用型光ディスクの断
面図である。この光ディスクは、ポリカーボネート等の
透明な樹脂を射出成型すると同時に微細凹凸が成型され
てなる基板１０１と、上記基板１０１上にＡｌ蒸着等に
より形成されてなる反射膜１０２とが情報記録部１０３
を形成し、さらに情報記録部１０３上に紫外線硬化樹脂
等が積層されて保護膜１０４が形成されている。

【０００４】これらの光学記録媒体に対する情報記録部
１０３からの情報の読み出しは、図７中の基板１０１側
からの読み出し光の照射によって行う。

【０００５】しかしながら、記録情報量の大容量化に伴
い、高密度記録化を図る必要があり、これによって光ピ
ックアップの対物レンズの開口数をできるだけ大きくす
る必要が生じる。このように対物レンズの開口数を大き
くする場合、対物レンズと情報記録部との間隔は小さく
設定される必要がある。また、この場合、光学記録媒体
の傾き許容度が減少することから、情報記録部と光入射
面との距離、すなわち光透過層の厚さは十分小に、例え
ば０．３ｍｍ以下とする必要が生じてくる。

【０００６】この場合、上述した従来の光学記録媒体
は、透明な基板１０１側から光照射がなされるものであ
り、基板１０１が光透過層となる。したがって、基板を
薄く作製すればよいが、この基板の薄さについては、製
造上の限界がある。

【０００７】すなわち、基板を射出成型によって形成す
る場合、その厚さを例えば０．５ｍｍ以下とすると、射
出成型の際、樹脂が十分に延伸する前に放熱によって硬
化してしまう等の問題が生じる。

【０００８】そこで、情報記録部への光照射を情報記録
部上に形成した光透過層側から行うようにした。この場
合光透過層は、十分薄く、かつ均一な厚さに形成するこ
とが必要となる。

【０００９】この光透過層は、基板上に形成された情報
記録部上に液体の紫外線硬化樹脂を滴下し、基板を回転
させて紫外線硬化樹脂を延伸塗布するとともに紫外線硬
化樹脂の一部を振り切った後、ディスク基板上の紫外線
硬化樹脂に紫外線照射を行うことにより硬化して形成で
きる。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、紫外線
硬化樹脂の回転塗布と紫外線照射とを同一の装置内で行
っていたため、振り切られた紫外線硬化樹脂にまで紫外
線が照射されていた。振り切られた紫外線硬化樹脂が硬
化してしまうため、回収して再利用することができず、
生産コストの削減が困難であった。

【００１１】本発明は、このような従来の実情に鑑みて
提案されたものであり、振り切られた紫外線硬化樹脂の
再利用が可能な光学記録媒体の製造装置及び製造方法を
提供することを目的とする。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明の磁気記録媒体の
製造装置は、基板上に形成された光学的に情報の記録及
び／又は再生が可能な情報記録部上に紫外線硬化樹脂を
滴下し、上記基板を回転させて紫外線硬化樹脂を延伸塗
布するとともに紫外線硬化樹脂の一部を振り切る回転塗
布手段と、上記回転塗布手段によって紫外線硬化樹脂が
塗布された上記基板を回転させながら、上記基板上に紫
外線を照射して紫外線硬化樹脂を硬化させる紫外線照射
手段とを備える。そして、上記紫外線照射手段は、上記
回転塗布手段で基板上に回転塗布された紫外線硬化樹脂
にのみ紫外線を照射し、上記回転塗布手段で振り切られ
た紫外線硬化樹脂には、紫外線を照射しないことを特徴
とする。

【００１３】上記回転塗布手段は、基板上に紫外線硬化
樹脂を滴下し、基板を回転させて紫外線硬化樹脂を延伸
塗布するとともに紫外線硬化樹脂の一部を振り切る。

【００１４】上記紫外線照射手段は、上記回転塗布手段
によって紫外線硬化樹脂が塗布された基板を回転させな
がら、基板上に塗布された紫外線硬化樹脂にのみ紫外線
を照射して紫外線硬化樹脂を硬化させる。

【００１５】また、本発明の磁気記録媒体の製造方法
は、基板上に形成された光学的に情報の記録及び／又は
再生が可能な情報記録部と、情報記録部上に形成された
紫外線硬化樹脂層とを有する光学記録媒体を製造するに
際し、上記情報記録部上に紫外線硬化樹脂を滴下し、上
記基板を回転させて紫外線硬化樹脂を延伸塗布するとと
もに紫外線硬化樹脂の一部を振り切る回転塗布工程と、
上記回転塗布工程で紫外線硬化樹脂が塗布された上記基
板を回転させながら、上記基板上に紫外線を照射して紫
外線硬化樹脂を硬化させて紫外線硬化樹脂層を形成する
紫外線照射工程とを備える。そして上記紫外線照射工程
において、上記回転塗布工程で基板上に塗布された紫外
線硬化樹脂にのみ紫外線を照射し、上記回転塗布工程で
振り切られた紫外線硬化樹脂には、紫外線を照射しない
ことを特徴とする。

【００１６】上記回転塗布工程は、基板上に紫外線硬化
樹脂を滴下し、基板を回転させて紫外線硬化樹脂を延伸
塗布するとともに紫外線硬化樹脂の一部を振り切る。

【００１７】上記紫外線照射工程は、上記回転塗布工程
で紫外線硬化樹脂が塗布された基板を回転させながら、
基板上に塗布された紫外線硬化樹脂にのみ紫外線を照射
して紫外線硬化樹脂を硬化させて紫外線硬化樹脂層を形
成する。

【００１８】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て図面を参照しながら詳細に説明する。

【００１９】本発明に係る光学記録媒体の製造装置の一
構成例を図１、図２及び図３に示す。 この光学記録媒
体の製造装置は、ディスク基板１上に紫外線硬化樹脂２
を回転塗布する回転塗布手段３と、紫外線を照射してデ
ィスク基板１上に塗布された紫外線硬化樹脂２を硬化さ
せる紫外線照射手段４とを備える。

【００２０】回転塗布手段３は、ノズル５と、ターンテ
ーブル６と、チャンバー７と、回収部８とを備える。

【００２１】ノズル５は、紫外線硬化樹脂２の供給口と
なり、ディスク基板１上に紫外線硬化樹脂２を滴下す
る。

【００２２】ターンテーブル６は、ディスク基板１を回
転させる基台となるもので、真空チャックによってディ
スク基板１を固定する。ディスク基板１を回転させ、デ
ィスク基板１上に塗布された紫外線硬化樹脂２を延伸塗
布するとともに、紫外線硬化樹脂２の一部を振り切る。

【００２３】チャンバー７は、上記ターンテーブル６の
周囲を取り囲むように設けられている。チャンバー７の
高さは、回転塗布が行われているディスク基板１の高さ
よりも高くなっている。そのため、振り切られた紫外線
硬化樹脂２が外部へ飛散しない。

【００２４】また、図２に示すように、チャンバー７の
底部は、振り切られた紫外線硬化樹脂２が溜められるよ
うになされている。そして振り切られた紫外線硬化樹脂
２を回収して再利用する回収部８が配されている。

【００２５】回収部８は、ドレイン９と、フィルター１
０と、タンク１１とからなる。

【００２６】ドレイン９は、チャンバー７の底部に設け
られ、チャンバー７の底部に溜められた紫外線硬化樹脂
２を回収する。

【００２７】フィルター１０は、回収された紫外線硬化
樹脂２を精製する。精製された紫外線硬化樹脂２はタン
ク１１へと送り込まれる。

【００２８】タンク１１は、上記フィルター１０で精製
された紫外線硬化樹脂２を貯めるとともに、ノズル５へ
紫外線硬化樹脂２を供給する。

【００２９】ターンテーブル６が上昇し、ディスク基板
１の高さをチャンバー７の高さよりも高くすると、紫外
線照射手段４が移動し、ディスク基板１及びチャンバー
７をカバーする。このようにして、回転塗布手段２から
紫外線照射手段４へディスク基板１の移送がなされる。

【００３０】紫外線照射手段４は、紫外線カバー１２
と、紫外線ランプ１３とを備える。紫外線カバー１２
は、ディスク基板１をカバーする部分と、チャンバー７
をカバーする部分とに分けられる。図３に示すように、
上記２つの部分は、ターンテーブル６の支持棒が通る幅
のみを残して隔てられている。

【００３１】紫外線ランプ１３は、紫外線カバー１２の
上部に取り付けられている。ディスク基板１上に紫外線
を照射して、ディスク基板１上に塗布された紫外線硬化
樹脂２を硬化させる。

【００３２】紫外線照射が行われている際の製造装置を
図４及び図５に示す。

【００３３】図５に示すように、ディスク基板１の高さ
は、チャンバー７の高さよりも高くなっている。

【００３４】そして、図４及び図５に示すように、ディ
スク基板１及びチャンバー７は紫外線カバー１２によっ
てカバーされている。

【００３５】ディスク基板１上への紫外線照射時に紫外
線が外部に漏れないようにするとともに、チャンバー７
を覆い、チャンバー７内の紫外線硬化樹脂２に紫外線が
照射されないようにする。

【００３６】つぎに、上述の構成を有する製造装置を用
いて光ディスクを製造する際の工程について説明する。

【００３７】予め情報記録部が形成されたディスク基板
１がターンテーブル６上に載置されると、ディスク基板
１は真空チャックによってターンテーブル６に固定され
る。

【００３８】ノズル５がディスク基板１の上方に移動
し、紫外線硬化樹脂２がノズル５からディスク基板１上
に滴下される。このとき、紫外線硬化樹脂２は必要な量
よりも過剰に滴下される。ターンテーブル６が回転し、
紫外線硬化樹脂２を延伸塗布するとともに過剰の紫外線
硬化樹脂２を振り切る。

【００３９】具体的には、粘度が４０００ｃｐｓの紫外
線硬化樹脂２を用いた場合、立ち上がり時間２秒で２０
００ｒｐｍまで回転させ、６秒間振り切ることが好まし
い。

【００４０】このとき、図２に示すようにチャンバー７
の高さは、ディスク基板１の高さよりも高くなってお
り、振り切られた紫外線硬化樹脂２が外へ飛び出すこと
はない。

【００４１】そして、振り切られた紫外線硬化樹脂２
は、チャンバー７の底部に設けられたドレイン９により
回収される。回収された紫外線硬化樹脂２はフィルター
１０で精製された後タンク１１へ送られ、再利用され
る。

【００４２】回転塗布が終了すると、ノズル５が元の場
所に戻り、ターンテーブル６が停止する。ターンテーブ
ル６が上昇し、ディスク基板１をチャンバー７の高さよ
りも高くする。紫外線照射手段４が移動し、紫外線カバ
ー１２はディスク基板１を囲むとともにチャンバー７を
覆う。

【００４３】ターンテーブル６が再び回転し、ディスク
基板１上へ紫外線が照射され、ディスク基板１上に塗布
された紫外線硬化樹脂２が硬化する。

【００４４】このときの回転数は、低速の５００ｒｐｍ
で、回転立ち上がり後すぐに紫外線を照射することが好
ましい。低速回転で紫外線照射を行うことで、紫外線硬
化樹脂２の厚さを変化させることなく、最外周部の盛り
上がりを抑制できる。

【００４５】このとき、図４及び図５に示すように、チ
ャンバー７は紫外線カバー１２によって覆われている。
紫外線はディスク基板１上の紫外線硬化樹脂２にのみ照
射され、チャンバー７内部の紫外線硬化樹脂２へ紫外線
は照射されない。したがって振り切られた紫外線硬化樹
脂２が硬化することなく、再利用が可能となる。

【００４６】紫外線照射が終了すると、紫外線照射手段
４が元の場所へ戻り、ターンテーブル６が下降し、真空
チャックが外れてディスクが完成する。

【００４７】紫外線硬化樹脂層をある厚さに形成する場
合、紫外線硬化樹脂の粘度、ターンテーブルの回転数、
回転時間の組み合わせは一義的に決まるものではない。
例えば、紫外線硬化樹脂層を厚さ１００μｍに形成する
場合、粘度１８００ｃｐｓの紫外線硬化樹脂を用いて１
０００ｒｐｍで１０秒間回転塗布を行ってもよいし、ま
た、粘度５８００ｃｐｓの紫外線硬化樹脂を用いて２０
００ｒｐｍで１１秒間回転塗布を行ってもよい。

【００４８】また、本発明に係る光学記録媒体の製造装
置を次のように構成することもできる。

【００４９】本発明に係る光学記録媒体の製造装置の一
構成例を図６に示す。

【００５０】この光学記録媒体の製造装置は、ディスク
基板２１を移送する移送手段２２と、ディスク基板２１
上に紫外線硬化樹脂を塗布する回転塗布手段２３と、紫
外線を照射して、ディスク基板２１上に塗布された紫外
線硬化樹脂を硬化させる紫外線照射手段２４とを備え
る。

【００５１】移送手段２２は、トレイＴ１，Ｔ２，Ｔ
３，Ｔ４と、トレイ支持棒２５と、トレイ回転軸２６
と、ベルトコンベヤー２７，２８とを備える。

【００５２】トレイＴ１，Ｔ２，Ｔ３，Ｔ４は、ディス
ク基板２１を載せて移送するための台となる。

【００５３】トレイ支持棒２５は、トレイＴ１，Ｔ２，
Ｔ３，Ｔ４を支え、トレイＴ１，Ｔ２，Ｔ３，Ｔ４をト
レイ回転軸２６に連結する。

【００５４】トレイ回転軸２６は、ディスク基板２１を
移送する際の軸となる。

【００５５】４個のトレイＴ１，Ｔ２，Ｔ３，Ｔ４がそ
れぞれ９０゜間隔でトレイ回転軸２６に連結されてい
る。そして図６中トレイＴ１，Ｔ２，Ｔ３，Ｔ４と対応
する位置にベルトコンベヤー２７、回転塗布手段２３、
紫外線照射手段２４、ベルトコンベヤー２８がそれぞれ
配設される。

【００５６】ベルトコンベヤー２７は、ディスク基板２
１を製造装置内に運び入れ、またベルトコンベヤー２８
は完成したディスクを運び出す。

【００５７】回転塗布手段２３はノズル２９と、ターン
テーブル３０と、チャンバー３１と、回収部３２とを備
える。

【００５８】ノズル２９は、紫外線硬化樹脂の供給口と
なり、ディスク基板２１上に紫外線硬化樹脂を滴下す
る。

【００５９】ターンテーブル３０は、回転塗布時にディ
スク基板２１を回転させる基台となるもので、真空チャ
ックによってディスク基板２１を固定する。

【００６０】チャンバー３１は、上記ターンテーブルの
周囲を取り囲むように設けられている。振り切られた紫
外線硬化樹脂が外部へ飛散しないようにする。

【００６１】また、チャンバー３１の底部は、振り切ら
れた紫外線硬化樹脂が溜められるようになされている。

【００６２】回収部３２は、ドレイン３６と、フィルタ
ー３７と、タンク３８とからなる。

【００６３】ドレイン３６は、チャンバー３１の底部に
溜められた紫外線硬化樹脂を回収する。

【００６４】フィルター３７は、上記チャンバー３１で
回収された紫外線硬化樹脂を精製する。精製された紫外
線硬化樹脂はタンクへ３８と送り込まれる。

【００６５】タンク３８は、上記フィルター３７で精製
された紫外線硬化樹脂を貯めるとともに、ノズル２９へ
紫外線硬化樹脂を供給する。

【００６６】紫外線照射手段２４は、ターンテーブル３
３と、チャンバー３４と、紫外線ランプ３５とを備え
る。

【００６７】ターンテーブル３３は、紫外線照射時にデ
ィスク基板２１を回転させる基台となるもので、真空チ
ャックによってディスク基板２１を固定する。

【００６８】チャンバー３４は、上記ターンテーブル３
３の周囲を取り囲むように設けられている。照射してい
る紫外線が外部へ漏れないようにする。

【００６９】紫外線ランプ３５は、ディスク基板２１上
に塗布された紫外線硬化樹脂に紫外線を照射し、硬化さ
せる。

【００７０】紫外線照射手段２４で第１のディスク基板
上への紫外線照射を行っているときに、回転塗布手段２
３では、次に紫外線照射が行われる予定の第２のディス
ク基板上への紫外線硬化樹脂の回転塗布を行うことが好
ましい。第１のディスク基板への紫外線照射と、第２の
ディスク基板への回転塗布を同時に行うことにより、デ
ィスクの生産時間を短縮することができる。

【００７１】つぎに、上述の構成を有する製造装置を用
いて光ディスクを製造する際の工程について説明する。

【００７２】まず、ディスク基板２１がベルトコンベヤ
ーによって運び込まれてくる。

【００７３】ディスク基板２１が図６中Ｔ１の場所まで
くると、下からトレイＴ１が上昇し、ディスク基板２１
をとらえる。その後トレイＴ２はチャンバー３１より高
い位置まで上昇し、トレイ回転軸２６により図６中反時
計回りに９０゜移動して、回転塗布手段２３へとディス
ク基板２１を移送する。

【００７４】ディスク基板２１が回転塗布手段２３まで
移送されるとトレイＴ１が下降し、ディスク基板２１
は、真空チャックによってターンテーブル３０に固定さ
れる。ターンテーブル３０が上昇し、ノズル２９から紫
外線硬化樹脂が滴下される。このとき、紫外線硬化樹脂
は必要な量よりも過剰に滴下される。

【００７５】その後ターンテーブル３０が回転し、紫外
線硬化樹脂を回転塗布するとともに過剰の紫外線硬化樹
脂を振り切る。振り切られた紫外線硬化樹脂はドレイン
３６により回収され、フィルター３７で精製した後タン
ク３８に送られて再利用される。

【００７６】回転塗布が終了するとターンテーブル３０
が停止して真空チャックが外れ、ターンテーブル３０が
下降する。トレイＴ１がディスク基板２１をとらえて、
チャンバー３１より高い位置まで上昇し、トレイ回転軸
２６により図６中反時計回りに９０゜移動して、紫外線
照射手段２４へとディスク基板２１を移送する。

【００７７】ディスク基板２１が紫外線照射手段２４ま
で移送されるとトレイが下降し、ディスク基板２１は、
真空チャックによってターンテーブル３３に固定され
る。ターンテーブル３３が上昇し、再びターンテーブル
３３を回転させながら紫外線を照射し、紫外線硬化樹脂
を硬化させる。

【００７８】このとき、回転塗布手段２３では、次に紫
外線照射が行われる予定のディスク基板に対して、回転
塗布が施されている。

【００７９】このように、回転塗布及び紫外線照射の工
程を独立させ、ディスク基板を支えるトレイを複数備え
ることが好ましい。トレイを複数備えることで、別々の
ディスク基板に対する回転塗布及び紫外線照射の工程を
同時に行うことが可能となり、ディスクの生産時間を短
縮することができる。

【００８０】また、紫外線硬化樹脂の回転塗布と、紫外
線照射を別々に行うことで、振り切られた紫外線硬化樹
脂が紫外線で硬化することなく、再利用が可能となり、
生産コストを削減することができる。

【００８１】紫外線照射が終了すると、ターンテーブル
３３が停止して真空チャックが外れ、ターンテーブル３
３が下降する。トレイＴ１がディスク基板２１をとら
え、チャンバーより高い位置まで上昇し、トレイ回転軸
２６により図６中反時計回りに９０゜移動して、ベルト
コンベヤー２８へとディスク基板２１を移送する。

【００８２】完成したディスクはベルトコンベヤー２８
で運び出される。

【００８３】紫外線硬化樹脂層を、ディスクの表面全面
にわたって均一な厚さで形成させたい場合、回転塗布工
程の際、ディスク基板のセンター穴をフィルム、テー
プ、キャップなどで塞いでおき、センターから紫外線硬
化樹脂を滴下してもよい。

【００８４】また、ディスク基板を予め加熱しておき、
ディスク基板外周部の紫外線硬化樹脂の粘度を下げるこ
とによって紫外線硬化樹脂の厚さの均一化をはかっても
よい。

【００８５】そして、本発明は、紫外線硬化樹脂層が光
学記録媒体の光透過層であるときに、特に好適である。

【００８６】

【発明の効果】本発明では、振り切られた紫外線硬化樹
脂に紫外線が照射されないため、振り切られた紫外線硬
化樹脂を回収し、精製することによって再利用が可能と
なる。従って、生産コストを削減でき、光学記録媒体を
安価に生産することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の光学記録媒体の製造装置の一構成例を
模式的に示す斜視図である。

【図２】本発明の光学記録媒体の製造装置の一構成例を
模式的に示す正面図である。

【図３】本発明の光学記録媒体の製造装置の一構成例を
模式的に示す平面図である。

【図４】本発明の光学記録媒体の製造装置の一構成例を
模式的に示す斜視図である。

【図５】本発明の光学記録媒体の製造装置の一構成例を
模式的に示す正面図である。

【図６】本発明の光学記録媒体の製造装置の一構成例を
示す模式図である。

【図７】従来の光ディスクの一構成例を模式的に示す断
面図である。

【符号の説明】

１，２１ ディスク基板、 ５，２９ ノズル、 ６，
３０，３３ ターンテーブル、 ７，３１，３４ チャ
ンバー、 ９，３６ ドレイン、 １０，３７フィルタ
ー、 １１，３８ タンク、 １２ 紫外線カバー、
１３，３５紫外線ランプ

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成９年９月１２日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】０００２

【補正方法】変更

【補正内容】

【０００２】各種情報の記録又は再生を光照射によって
行う光学記録媒体として、オーディオ用、ビデオ用を中
心とした光ディスクをはじめ、光カード、光磁気ディス
ク、相変化光学記録媒体などが広く用いられている。光
ディスクは再生専用型光ディスク、追記型光ディスク、
書換型光ディスクに分類できる。再生専用型光ディスク
では、位相ピット等の微細凹凸が形成され、データ情報
の記録がなされている。

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１２

【補正方法】変更

【補正内容】

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明の光学記録媒体の
製造装置は、基板上に形成された光学的に情報の記録及
び／又は再生が可能な情報記録部上に紫外線硬化樹脂を
滴下し、上記基板を回転させて紫外線硬化樹脂を延伸塗
布するとともに紫外線硬化樹脂の一部を振り切る回転塗
布手段と、上記回転塗布手段によって紫外線硬化樹脂が
塗布された上記基板を回転させながら、上記基板上に紫
外線を照射して紫外線硬化樹脂を硬化させる紫外線照射
手段とを備える。そして、上記紫外線照射手段は、上記
回転塗布手段で基板上に回転塗布された紫外線硬化樹脂
にのみ紫外線を照射し、上記回転塗布手段で振り切られ
た紫外線硬化樹脂には、紫外線を照射しないことを特徴
とする。

【手続補正３】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００１５

【補正方法】変更

【補正内容】

【００１５】また、本発明の光学記録媒体の製造方法
は、基板上に形成された光学的に情報の記録及び／又は
再生が可能な情報記録部と、情報記録部上に形成された
紫外線硬化樹脂層とを有する光学記録媒体を製造するに
際し、上記情報記録部上に紫外線硬化樹脂を滴下し、上
記基板を回転させて紫外線硬化樹脂を延伸塗布するとと
もに紫外線硬化樹脂の一部を振り切る回転塗布工程と、
上記回転塗布工程で紫外線硬化樹脂が塗布された上記基
板を回転させながら、上記基板上に紫外線を照射して紫
外線硬化樹脂を硬化させて紫外線硬化樹脂層を形成する
紫外線照射工程とを備える。そして上記紫外線照射工程
において、上記回転塗布工程で基板上に塗布された紫外
線硬化樹脂にのみ紫外線を照射し、上記回転塗布工程で
振り切られた紫外線硬化樹脂には、紫外線を照射しない
ことを特徴とする。

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板上に形成された光学的に情報の記録
   及び／又は再生が可能な情報記録部上に紫外線硬化樹脂
   を滴下し、上記基板を回転させて紫外線硬化樹脂を延伸
   塗布するとともに紫外線硬化樹脂の一部を振り切る回転
   塗布手段と、 上記回転塗布手段によって紫外線硬化樹脂が塗布された
   上記基板を回転させながら、上記基板上に紫外線を照射
   して紫外線硬化樹脂を硬化させる紫外線照射手段とを備
   え、 上記紫外線照射手段は、上記回転塗布手段で基板上に回
   転塗布された紫外線硬化樹脂にのみ紫外線を照射し、上
   記回転塗布手段で振り切られた紫外線硬化樹脂には、紫
   外線を照射しないことを特徴とする光学記録媒体の製造
   装置。
2. 【請求項２】 上記回転塗布手段によって紫外線硬化樹
   脂が塗布された上記基板を、上記回転塗布手段から上記
   紫外線照射手段へと移送する移送手段を備えることを特
   徴とする請求項１記載の光学記録媒体の製造装置。
3. 【請求項３】 上記回転塗布手段は、上記紫外線照射手
   段で第１の基板上への紫外線照射を行っているときに、
   次に紫外線照射が行われる予定の第２の基板上への紫外
   線硬化樹脂の回転塗布を行うことを特徴とする請求項１
   記載の光学記録媒体の製造装置。
4. 【請求項４】 上記回転塗布手段は、振り切られた紫外
   線硬化樹脂を回収する回収部を備えることを特徴とする
   請求項１記載の光学記録媒体の製造装置。
5. 【請求項５】 基板上に形成された光学的に情報の記録
   及び／又は再生が可能な情報記録部と、情報記録部上に
   形成された紫外線硬化樹脂層とを有する光学記録媒体を
   製造するに際し、 上記情報記録部上に紫外線硬化樹脂を滴下し、上記基板
   を回転させて紫外線硬化樹脂を延伸塗布するとともに紫
   外線硬化樹脂の一部を振り切る回転塗布工程と、 上記回転塗布工程で紫外線硬化樹脂が塗布された上記基
   板を回転させながら、上記基板上に紫外線を照射して紫
   外線硬化樹脂を硬化させて紫外線硬化樹脂層を形成する
   紫外線照射工程とを備え、 上記紫外線照射工程において、上記回転塗布工程で基板
   上に塗布された紫外線硬化樹脂にのみ紫外線を照射し、
   上記回転塗布工程で振り切られた紫外線硬化樹脂には、
   紫外線を照射しないことを特徴とする光学記録媒体の製
   造方法。
6. 【請求項６】 上記回転塗布工程で紫外線硬化樹脂が塗
   布された上記基板を、上記回転塗布工程が行われた場所
   から上記紫外線照射工程が行われる場所へと移送する移
   送工程を備えることを特徴とする請求項５記載の光学記
   録媒体の製造方法。
7. 【請求項７】 上記紫外線照射工程で第１の基板上への
   紫外線照射を行っているときに、次に紫外線照射が行わ
   れる予定の第２の基板に対して、上記回転塗布工程を施
   すことを特徴とする請求項５記載の光学記録媒体の製造
   方法。
8. 【請求項８】 上記回転塗布工程において振り切られた
   紫外線硬化樹脂を回収し、再利用することを特徴とする
   請求項５記載の光学記録媒体の製造方法。
9. 【請求項９】 上記紫外線硬化樹脂層が、光透過層であ
   ることを特徴とする請求項５記載の光学記録媒体の製造
   方法。