KR101078948B1 - 광촉매 박막, 광촉매 박막의 형성방법 및 광촉매 박막 피복 제품 - Google Patents

광촉매 박막, 광촉매 박막의 형성방법 및 광촉매 박막 피복 제품 Download PDF

Info

Publication number
KR101078948B1
KR101078948B1 KR1020097017794A KR20097017794A KR101078948B1 KR 101078948 B1 KR101078948 B1 KR 101078948B1 KR 1020097017794 A KR1020097017794 A KR 1020097017794A KR 20097017794 A KR20097017794 A KR 20097017794A KR 101078948 B1 KR101078948 B1 KR 101078948B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
thin film
photocatalyst thin
niobium
alkali metal
photocatalyst
Prior art date
Application number
KR1020097017794A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20090114418A (ko
Inventor
크리스토퍼 코도니어
테츠야 시치
켄이치 카츠마타
야스히로 카츠마타
아키라 후지시마
Original Assignee
도오까이 료가구 데쓰도오 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 도오까이 료가구 데쓰도오 가부시끼가이샤 filed Critical 도오까이 료가구 데쓰도오 가부시끼가이샤
Publication of KR20090114418A publication Critical patent/KR20090114418A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101078948B1 publication Critical patent/KR101078948B1/ko

Links

Images

Classifications

    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J35/00—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
    • B01J35/30—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties characterised by their physical properties
    • B01J35/39—Photocatalytic properties
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J23/00—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00
    • B01J23/16—Catalysts comprising metals or metal oxides or hydroxides, not provided for in group B01J21/00 of arsenic, antimony, bismuth, vanadium, niobium, tantalum, polonium, chromium, molybdenum, tungsten, manganese, technetium or rhenium
    • B01J23/20—Vanadium, niobium or tantalum
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J35/00—Catalysts, in general, characterised by their form or physical properties
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
    • B01J37/02—Impregnation, coating or precipitation
    • B01J37/0215—Coating
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J37/00—Processes, in general, for preparing catalysts; Processes, in general, for activation of catalysts
    • B01J37/08—Heat treatment
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/22—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with other inorganic material
    • C03C17/23—Oxides
    • C03C17/25—Oxides by deposition from the liquid phase
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C21/00—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface
    • C03C21/001—Treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by diffusing ions or metals in the surface in liquid phase, e.g. molten salts, solutions
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21—Oxides
    • C03C2217/218—V2O5, Nb2O5, Ta2O5
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21—Oxides
    • C03C2217/228—Other specific oxides
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/20—Materials for coating a single layer on glass
    • C03C2217/21—Oxides
    • C03C2217/23—Mixtures
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2217/00—Coatings on glass
    • C03C2217/70—Properties of coatings
    • C03C2217/71—Photocatalytic coatings
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/10—Deposition methods
    • C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
    • C03C2218/111—Deposition methods from solutions or suspensions by dipping, immersion

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)

Abstract

본 발명에 따른 광촉매 박막의 형성방법은, 알칼리금속을 포함하는 기체 표면에 니오브를 포함하는 층을 형성하여 소성함으로써, 니오브-알칼리금속 복합산화물을 포함하는 광촉매 박막을 형성하는 것을 특징으로 한다.

Description

광촉매 박막, 광촉매 박막의 형성방법 및 광촉매 박막 피복 제품{PHOTOCATALYST THIN FILM, METHOD FOR FORMING PHOTOCATALYST THIN FILM, AND PHOTOCATALYST THIN FILM COATED PRODUCT}
본 발명은, 자기정화기능을 가지는 광촉매 박막 및 광촉매 박막을 가지는 제품에 관한 것이다.
종래부터, 자외선 조사에 의해 물질을 분해하는 광촉매 작용과, 빛에 의해 표면이 물에 친화되기 쉬워지는 광유기 초친수화(光誘起超親水化) 작용의 기능을 가지는 광촉매가 있으며, 이러한 2가지 기능을 응용한 광촉매 셀프 클리닝 제품이, 특히 건물의 외벽 소재나 유리 등의 외장용 건축자재로서 널리 이용되고 있다.
즉, 광촉매 셀프 클리닝 제품은, 태양광에 포함되는 자외광에 의해 오염을 분해하고, 또 강우(降雨)시에는 표면의 초친수성에 의해 오염을 떠오르게 하여 씻어버릴 수 있기 때문에, 항상 청정한 외관을 유지하는 것(셀프 클리닝 기능)이 가능하다.
그런데, 광촉매를 코팅한 셀프 클리닝 유리에는 몇 가지의 문제점이 존재한다. 현재, 광촉매의 재료로는 오로지 산화티탄(TiO2)이 이용되고 있지만, 기재(基 材)와 코팅막을 강고하게 밀착시켜 내구성이 높은 피막을 얻기 위해서는, 몇 백℃의 고온으로 소성할 필요가 있다.
그러나, 창문 유리 등에 널리 이용되는 소다라임 유리에는, 다량의 나트륨 이온이 포함되어 있기 때문에, 소성(燒成)시, 상기 나트륨 이온이 표면에 확산되어, 티탄산나트륨 등의 산화티탄과 나트륨의 화합물을 형성하여 광촉매 활성을 상실한다.
상기 알칼리 확산에 의한 광촉매 성능 열화(劣化)의 문제를 피하기 위해, 광촉매 셀프 클리닝 유리의 제조에는 2가지의 방법이 채용되고 있다.
그 하나는, 상온(常溫)경화법이라 불리는 것으로서, 비교적 저온에서 고화(固化)되는 도포액에 산화티탄 광촉매의 미립자를 혼합하고, 이것을 코팅한 후, 150℃정도에서 고화시키는 방법이다(예컨대, 특허문헌 1 참조).
다른 하나는, 2층 코팅법이라 불리는 방법으로서, 소성에 의한 기판으로부터의 알칼리 확산을 막기 위한 실리카(SiO2) 등의 성분으로 이루어진 바탕막을 형성한 후, 광촉매 코팅을 하여 소성하는 방법이다(예컨대, 특허문헌 2 참조).
[특허문헌 1] 일본 특허공개공보 제2001-150586호
[특허문헌 2] 일본 특허공개공보 H10-53439호
그런데, 상온경화법의 경우는, 유리와 코팅막의 밀착성이 높지 않기 때문에, 막의 내(耐)마모성이 낮아, 물리적인 접촉이 거의 없는 부분(예컨대, 고층빌딩의 창문유리) 등, 매우 한정된 용도에만 적용이 가능하다는 문제가 있다.
또한, 2층 코팅법의 경우는, 충분한 코팅막의 내구성을 얻을 수 있지만, 코팅을 2회에 걸쳐 실시해야만 하며, 경우에 따라서는 바탕막도 소성(燒成)이 필요하기 때문에, 2회의 소성공정이 필요해지는 등, 번잡한 공정과 높은 가격이 요구된다는 문제가 있다.
또한, 유약(釉藥)을 바른 도자기 제품, 및 법랑(琺瑯)을 입힌 금속 제품에 있어서도 동일한 문제가 존재한다. 유약 및 법랑은 용융 혹은 매체에 용해시킨 유리의 액체이며, 이것을 도자기나 금속의 표면에 도포하여 고화·소성시킴으로써, 규산을 주성분으로 하는 유리질의 막을 형성할 수 있다. 통상, 유약이나 법랑의 용융점을 낮추기 위해 대량의 나트륨성분을 첨가할 필요가 있기 때문에, 형성된 유리질의 막에는 소다라임 유리와 마찬가지로 대량의 나트륨 이온이 존재한다. 이 때문에, 이들 제품의 표면에 광촉매 박막을 형성하기 위해서는, 상온경화법 혹은 2층 코팅법을 이용해야 한다.
본 발명은, 이러한 문제점을 감안하여 이루어진 것으로서, 적은 공정으로 기체(基體)와의 밀착성이 높고, 내구성이 높으며, 자기정화작용을 가지는 광촉매 박막을 형성할 수 있는 광촉매 박막 형성 방법, 광촉매 박막 및 광촉매 박막을 가지는 제품을 제공하는 것을 목적으로 한다.
이러한 문제를 해결하기 위해 이루어진 본 발명의 제 1 국면에 관련된 광촉매 박막의 형성방법은, 알칼리금속을 포함하는 기체 표면에 니오브를 포함하는 층을 형성하여 500℃ 이상의 온도로 소성함으로써, 니오브-알칼리금속 복합산화물을 포함하는 광촉매 박막을 형성하는 것을 특징으로 한다.
이러한 광촉매 박막의 형성방법에 따르면, 적은 공정으로 기체와의 밀착성이 높고, 내구성이 높으며, 자기정화작용을 가지는 광촉매 박막을 형성할 수 있다. 이하에서는, 이에 대해 설명하기로 한다.
종래의 산화티탄과 같은 광촉매에서는, 알칼리금속을 포함하는 기체, 예컨대, 소다라임 유리나 유약을 바른 도자기 제품, 법랑 제품과 같이 나트륨을 포함하는 것의 표면에 광촉매 피막을 형성한 경우, 기체의 나트륨 이온에 의해 산화티탄의 광촉매 성능이 열화되어 버린다. 이에 종래에는, 나트륨 이온의 확산을 억제하기 위해, 기체와 산화티탄 박막과의 사이에 바탕막이 필요하였다.
그런데, 제 1 국면에 관련된 광촉매 박막의 형성방법에 따르면, 알칼리금속을 포함하는 기체의 표면에 니오브를 포함하는 층을 형성하여 500℃ 이상의 온도에서 소성한다. 이와 같이 하면, 기체에 포함되는 알칼리금속이 가열되어 기체 표면에 석출되고, 기체 표면에 있어서 니오브를 포함하는 층으로 확산된다. 그리고, 알칼리금속과 니오브를 포함하는 반응이 생겨, 기체 표면에 니오브-알칼리금속 복합산화물을 포함하는 광촉매 박막이 형성된다.
예컨대, 도 1에 나타낸 바와 같이, 나트륨을 포함하는 소다라임 유리표면에 니오브를 포함하는 층을 형성하여 500℃ 이상의 온도에서 소성한다. 이와 같이 하면, 소다라임 유리에 포함되는 나트륨이 가열되어 기체 표면에 석출되고, 소다라임 유리표면에 있어서 니오브를 포함하는 층으로 확산된다. 그리고, 소다라임 유리와 니오브를 포함하는 반응이 생겨, 소다라임 유리 표면에 니오브-나트륨 복합산화물(예컨대 NaNbO3)을 포함하는 광촉매 박막이 형성된다.
즉, 제 1 국면에 관련된 광촉매 박막의 형성방법에서는, 종래에는, 광촉매 성능을 열화시킨다 하여 바탕막 등에 의해 반응하지 않도록 하였던, 기체에 포함되는 알칼리금속을 적극적으로 이용하여, 기체 표면에 니오브-알칼리금속 복합산화물을 포함하는 광촉매 박막을 형성시키고 있다.
상기 니오브-알칼리금속 복합산화물이 광촉매 활성을 나타내는 것은, 「H. Kato et. al., J. Phys. Chem. B, 106, 12441-12447(2002).」에 나타나 있다. 즉, 상기 니오브-알칼리금속 복합산화물은 자기정화작용을 가지고 있다.
또한, 상기의 형성방법에 의해 형성된 니오브-알칼리금속 복합산화물을 포함하는 광촉매 박막은, 500℃ 이상의 온도로 소성을 실시하므로, 경도가 높고, 기체와의 밀착성이 높으므로 내구성이 우수하다.
또한, 광촉매 활성을 최적화하기 위해, 알칼리금속성분을, 니오브를 포함하는 층에 첨가하도록 해도 좋다.
그런데, 알칼리금속을 포함하는 기체 표면에 니오브를 포함하는 층을 형성하려면, 스퍼터링이나 화학증착(CVD) 등의 기상법을 이용해도 되고, 니오브의 알콕시드를 원료로 한 졸-겔 용액이나 니오브를 포함하는 유기금속화합물의 용액, 또는, 미립자상(狀) 산화니오브의 분산액 등의 도포액에 의한 액상법을 이용해도 된다.
액상법 코팅의 경우는, 스핀코팅법, 딥 코팅법, 스프레이 코팅법, 롤코팅법등 일반적으로 액상법 코팅에 이용되는 코팅법 모두가 적용가능하다.
본 발명의 제 1 국면에 관련된 광촉매 박막의 형성방법에서는, 상기 액상법 코팅에 있어서는, 상기 니오브를 포함하는 층은, 니오브를 포함하는 코팅제를 도포함으로써 형성하는 것이 바람직하다(본 발명의 제 2 국면).
이와 같이 하면, 니오브를 포함하는 코팅제를 기체의 표면에 도포하는 간이한 방법으로 층을 형성할 수 있다. 따라서, 스퍼터 등에서 필요한 대규모 설비가 불필요해져, 니오브-알칼리금속 복합산화물을 포함하는 광촉매 박막을 저렴한 가격으로 형성할 수 있다.
본 발명의 제 3 국면에 관련된 광촉매 박막의 형성방법은, 알칼리금속을 포함하는 기체 표면에 탄탈을 포함하는 층을 형성하여 500℃ 이상의 온도에서 소성함으로써, 탄탈-알칼리금속 복합산화물을 포함하는 광촉매 박막을 형성하는 것을 특징으로 한다.
상기 제 3 국면에 관련된 광촉매 박막의 형성방법도 제 1 국면에 관련된 광촉매 박막의 형성방법과 마찬가지로, 기체에 포함되는 알칼리금속을 적극적으로 이용하여, 기체 표면에 탄탈-알칼리금속 복합산화물을 포함하는 광촉매 박막을 형성시키는 것이다.
탄탈-알칼리금속 복합산화물이 광촉매 활성을 나타내는 것은, 「H. Kato et. Al., J. Am. Chem. Soc., 125, 3082-3089(2003).」에 나타나 있다. 즉, 상기 탄탈-알칼리금속 복합산화물은, 자기정화 작용을 가지고 있다.
또한, 상기 탄탈-알칼리금속 복합산화물을 포함하는 광촉매 박막은, 전술한 니오브-알칼리금속 복합산화물을 포함하는 광촉매 박막과 마찬가지로 500℃ 이상의 온도로 소성을 실시하므로, 경도가 높고, 기체와의 밀착성이 높아 내구성이 우수하다.
또한, 광촉매 활성을 최적화하기 위해, 알칼리금속성분을, 탄탈을 포함하는 층에 첨가하도록 해도 좋다.
알칼리금속을 포함하는 기체 표면에 탄탈을 포함하는 층을 형성하려면, 스퍼터링이나 화학증착(CVD) 등의 기상법을 이용해도 되고, 탄탈의 알콕시드를 원료로 한 졸-겔 용액이나 탄탈을 포함하는 유기금속화합물의 용액, 또는, 미립자상 산화탄탈의 분산액 등의 도포액에 의한 액상법을 이용해도 된다. 액상법 코팅의 경우는, 스핀코팅법, 딥 코팅법, 스프레이 코팅법, 롤 코팅법 등 일반적으로 액상법 코팅에 이용되는 코팅법 모두가 적용가능하다.
본 발명의 제 3 국면에 관련된 광촉매 박막의 형성방법에 있어서는, 상기 액상법 코팅에 있어서는, 상기 탄탈을 포함하는 층은, 탄탈을 포함하는 코팅제를 도포함으로써 형성하는 것이 바람직하다.
이와 같이 하면, 탄탈을 포함하는 코팅제를 기체의 표면에 도포하는 간이한 방법으로 층을 형성할 수 있다. 따라서, 스퍼터 등에서 필요한 대규모 설비가 불필요해져, 탄탈-알칼리금속 복합산화물을 포함하는 광촉매 박막을 저렴한 가격으로 형성할 수 있다.
그런데, 상기 알칼리금속을 포함하는 기체에는 여러 가지가 있는데, 상기 제 1∼제 4 국면의 발명 중 어느 하나에 있어서는, 상기 알칼리금속을 포함하는 기체는, 소다라임 유리(본 발명의 제 5 국면의 경우), 유약에 의해 도자기의 표면에 형성한 유리질의 막(본 발명의 제 6 국면의 경우), 혹은 법랑에 의해 금속 제품의 표면에 형성한 유리질의 막(본 발명의 제 7 국면의 경우)이어도 좋다. 이들 기체는, 알칼리금속인 나트륨을 함유하고 있으므로, 그 표면에 니오브나 탄탈을 포함하는 층을 형성하여 소성하면, 나트륨이 석출되어 그 층으로 확산된다.
그리고, 나트륨과 니오브나 탄탈을 포함하는 반응이 생겨, 니오브-나트륨 복합산화물(예컨대 NaNbO3) 박막이나 탄탈-나트륨 복합산화물(예컨대 NaTaO3) 박막이 나트륨을 포함하는 기체의 표면에 형성된다.
이와 같이, 대량생산되어 일반적인 유리로서 사용되고 있는 소다라임이나, 일반적으로 사용되고 있는 유약, 법랑 등을 기체로 할 수 있으므로, 염가로 광촉매 박막을 형성할 수 있다.
삭제
또한, 본 발명의 제 1∼제 7 국면의 발명 중 어느 하나에 있어서 상기 소성에 있어서의 온도가 500∼550℃이면(본 발명의 제 8 국면의 경우), 광유기 초친수성이 현저히 발현되는 동시에 현저한 광촉매 활성도 나타낸다. 즉, 500∼550℃에서 나트륨 이온의 석출량이 최적이 되고, 친수화 활성 및 광촉매 활성이 향상된다.
본 발명의 제 9 국면에 관련된 광촉매 박막은, 본 발명의 제 1∼제 8 국면의 발명 중 어느 하나에 관련된 광촉매 박막의 형성방법에 의해 형성된 광촉매 박막으로서, 상기 알칼리금속이 나트륨인 것을 특징으로 하는 광촉매 박막이다.
상기 형성방법에 의해 형성된 광촉매 박막은, 기체와 막이 밀착하는데 충분한 온도로 소성되어 있기 때문에, 경도가 높고, 내구성이 우수하다. 또한, 니오브-나트륨 복합산화물 혹은 탄탈-나트륨 복합산화물을 형성하고 있기 때문에, 초친수성과 광촉매 활성을 겸비하고 있어, 셀프 클리닝 기능을 가진다.
본 발명의 제 10 국면에 관련된 광촉매 박막 피복 제품은, 알칼리금속을 포함하는 기체와, 그 기체의 표면에 형성된 제 9 국면에 관련된 광촉매 박막을 구비하는 광촉매 박막 피복 제품이다.
상기 광촉매 박막 피복 제품은, 광촉매 박막의 경도가 높고, 기체와의 밀착성이 높으므로 내구성이 우수하다. 특히, 광촉매 박막을 높은 온도로 소성한 경우는, 밀착성 및 내구성이 한층 우수하다. 또한, 니오브-나트륨 복합산화물 혹은 탄탈-나트륨 복합산화물의 박막을 가지고 있기 때문에, 초친수성과 광촉매 활성을 겸비하고 있어, 셀프 클리닝 기능이 우수하다.
따라서, 기체가 유리일 경우에는, 쉽게 오염되지 않고, 투명성을 장기간 유지할 수 있는 유리로 만들 수 있다. 또한, 기체가 미러일 경우에는, 쉽게 오염되지 않고, 반사율을 장기간 유지할 수 있는 미러로 만들 수 있다.
또한, 기체가 유약을 바른 도자기 제품일 경우에는, 표면을 항상 청정하게 유지할 수 있는 도자기 제품으로 만들 수 있다. 또한, 기체가 법랑 제품일 경우에는, 표면을 항상 청정하게 유지할 수 있는 법랑 제품으로 만들 수 있다.
도 1은, 소다라임 유리와 니오브를 포함하는 반응이 생겨, 소다라임 유리 표 면에 산화니오브-나트륨 화합물을 포함하는 광촉매 박막이 형성되는 모습을 설명하는 도면이다.
도 2는, 소다라임 유리상에 형성된 니오브산화물 박막의 결정상태를 X선 회절에 의해 분석한 결과를 나타낸 차트이다.
이하에서는, 본 발명을 실시예를 참조하면서 설명한다.
[실시예]
본 발명을 실시예에 근거하여 설명하면 다음과 같다.
(a) 코팅액의 제조
니오브(V)에톡시드(Niobium(V)ethoxide)를, 적당량의 톨루엔에 카테콜을 섞은 것에, 니오브(V)에톡시드와 카테콜의 몰비가 2:5가 되도록, 적하(滴下)하였다. 용매의 총량은 니오브(V)에톡시드의 농도가 0.5M이 되도록 조정하였다.
그 용액의 절반을 증류하였다. 증류시에는 증기온도가 100℃가 되는 것을 확인하고, 증류 후 남은 혼합액의 휘발성분을 회전증발기의 감압하에서 증발시켰다. 남은 고형분은, 추가로 진공건조기를 사용하여, 진공하에서 100℃로 가열함으로써, 나머지 휘발성분을 완전히 제거하였다. 건조는, 이론값에 가까운 양(약 98%)의 고형물(니오브카테콜레이트)을 얻을 때까지 계속하였다.
본 실시예에서는, 니오브(V)에톡시드(50.0g, 0.157mol), 카테콜(43.3g, 0.393mol), 톨루엔(320mL)의 용액으로부터, 56.0g, 98%의 고형물(니오브카테콜레이트)을 얻을 수 있었다.
얻어진 고형물(니오브카테콜레이트)을, 체적비 1:4의 비율로 아세틸아세톤과 톨루엔을 혼합한 혼합액에 용해시켜, 니오브의 농도가 0.10M 혹은 4wt.%가 되도록 조정하여, 도포액으로 하였다.
(b) 박막의 형성
얻어진 도포액 0.4mL를 50×50×3tmm의 소다라임 유리기판(SLG) 또는 파이렉스(등록상표) 유리기판(PYR)에 스핀코팅법(도포시 회전수 750rpm)에 의해 코팅하였다.
도포액이 코팅된 코팅유리기판을, 전기로를 이용하여 소성하여, 니오브산화물 코팅유리를 얻었다. 소성온도는, 400, 450, 500, 550, 600℃로 하고, 소성시간은 1시간(승온 10℃/min, 자연냉각)으로 하여, 대기중에서 소성을 하였다.
소성 후, 코팅유리기판상에 양호한 박막을 얻을 수 있었다.
(c) 제막(製膜)상태의 확인(니오브산화물)
이와 같이 하여 형성된 니오브산화물 코팅유리의 전투과도, 탁도 및 색차를 측정하였다. 참고로, 전투과도(全透過度)와 탁도(濁度)는, 닛뽄덴쇼쿠고교가부시키가이샤(NIPPON DENSHOKU INDUSTRIES CO.,LTD.)의 NDH-500W를 사용하고, JISK7136에 근거하여 측정하였다. 또한, 색차(色差)는 닛뽄덴쇼쿠고교가부시키가이샤의 SE-2000을 사용하고, JISZ8722에 근거하여 측정하였다. 그 결과를 하기의 표 1에 나타내었다.
Figure 112009052314839-pct00001
(d) 질산은의 광유기 환원 반응 시험(니오브산화물)
실시예의 (b)에서 얻어진 니오브산화물 코팅유리에 대해, 0.01M 질산은 수용액의 수면하 5mm에서 인공태양광을 1시간동안 조사하고, 광촉매반응에 의한 금속 은(銀)의 석출 유무에 의해 각 샘플의 광촉매 활성을 비교 평가하였다. 결과를 하기의 표 2에 나타내었다. 참고로, 은의 석출(반응의 유무)은, 육안으로 확인하였다.
Figure 112009052314839-pct00002
※ ○ : 은 석출이 명확히 인정됨.
△ : 은 석출이 약간 인정됨.
× : 은 석출이 인정되지 않음.
(e) 광유기 초친수성의 확인(니오브산화물)
실시예의 (b)에서 얻어진 니오브산화물 코팅유리에 대한 UV조사에 의한 물의 접촉각 변화를 하기의 표 3에 나타내었다. UV조사는, 40WBLB 램프를 이용하여 2.4mW/cm2(빛의 파장이 365nm일 때의 강도)의 강도로 실시하였다.
Figure 112009052314839-pct00003
※ ○ : 접촉각 5°이하까지 초친수화됨.
△ : 친수화됨.
× : 친수화되지 않음.
(f) 결정상태의 확인(니오브산화물)
실시예의 (b)에 있어서, 소다라임 유리상에 형성된 니오브산화물 박막의 결정상태를 X선 회절에 의해 분석하였다. 측정은 브루커에이엑스에스가부시키가이샤(Bruker AXS K.K.)의 박막 X선 회절장치(D8 DISCOVER)를 이용하여 실시하였다. 결과는 도 2에 나타내었다.
[비교예]
(f) 코팅액(티탄(IV)이소프로폭시드(TTIP)와 카테콜의 착체)의 제조
티탄(IV)이소프로폭시드(Titanium(IV)isopropoxide)를, 적당량의 톨루엔에 카테콜을 섞은 것에, TTIP과 카테콜의 몰비가 1:2가 되도록 적하(滴下)하였다. 용매의 총량은, TTIP의 농도가 0.5M이 되도록 조정하였다.
그 후, 용액의 절반을 증류하였다. 증류시는 증기온도가 100℃가 되는 것을 확인하고, 증류 후 남은 혼합액의 휘발성분을 회전증발기의 감압하에서 증발시켰다. 남은 고형분은, 추가로 진공건조기를 사용하여, 진공하에서 100℃로 가열함으로써, 나머지 휘발성분을 완전히 제거하였다. 건조는, 이론값에 가까운 양(약 98%)의 고형물(티탄카테콜레이트)을 얻을 때까지 계속하였다.
본 비교예에서는, TTIP(42.6g, 0.150mol), 카테콜(33.0g, 0.300mol), 톨루엔(300mL)의 용액으로부터, 38.8g, 98%의 고형물(티탄카테콜레이트)을 얻을 수 있었다.
얻어진 고형물(티탄카테콜레이트)을, 체적비 1:4의 비율로 아세틸아세톤과 톨루엔을 혼합한 혼합액에 용해시켜, 티탄의 농도가 0.10M 혹은 3wt.%가 되도록 조정하여, 도포액으로 하였다.
(g) 박막의 형성
얻어진 도포액 0.4mL를 50×50×3tmm의 소다라임 유리기판(SLG) 또는 파이렉스(등록상표) 유리기판(PYR)에 스핀코팅법(도포시 회전수 750rpm)에 의해 코팅하였다.
도포액이 코팅된 코팅유리기판을, 전기로를 이용해 소성하여, 티탄산화물 코팅유리를 얻었다. 소성온도는 500℃로 하고, 소성시간은 1시간(승온 10℃/min, 자연냉각)으로 하여, 대기중에서 소성을 하였다.
소성 후, 코팅유리기판상에 양호한 박막을 얻을 수 있었다.
(h) 제막상태의 확인(티탄산화물)
이와 같이 형성된 티탄산화물 코팅유리의 전투과도, 탁도 및 색차를 측정하였다. 측정은, 전술한 실시예의 (c)와 동일하게 실시하였다. 그 측정 결과를 상기의 표 1에 나타내었다.
(i) 질산은의 광유도 환원 반응 시험(티탄산화물)
비교예의 (g)에서 얻어진 티탄산화물 코팅유리에 대해, 0.01M 질산은 수용액의 수면 하 5mm에서 인공태양광을 1시간동안 조사하여, 광촉매반응에 의한 금속 은의 석출 유무에 의해 각 샘플의 광촉매 활성을 비교 평가하였다. 그 결과를 상기 표 2에 나타내었다. 참고로, 은의 석출(반응의 유무)은, 육안으로 확인하였다.
(j) 광유기 초친수성의 확인(티탄산화물)
비교예의 (g)에서 얻어진 티탄산화물 코팅유리에 대한 UV조사에 의한 물의 접촉각 변화를 상기 표 3에 나타내었다. UV조사는, 40WBLB램프를 이용하여 2.4mW/cm2(빛의 파장이 365nm일 때의 강도)의 강도로 실시하였다.
[비교 결과]
(비교 결과 1)
상기 표 2는, 나트륨 이온을 대량으로 포함하는 소다라임 유리(보통유리)상에 형성된 니오브산화물 박막의 광촉매 활성을 나타내고 있다. 비교대상으로서, 나트륨 이온 함유량이 적은 파이렉스(등록상표) 유리상의 니오브산화물 박막, 보통유리상의 티탄산화물 박막 및 파이렉스(등록상표) 유리상의 티탄산화물 박막의 광촉매 활성을 나타내고 있다. 표 2로부터는, 다음의 3가지를 알 수 있다.
(1) 니오브산화물 박막/보통유리의 경우, 500℃이상에서 광촉매 활성이 발현되는데, 특히 500-550℃의 소성온도에서 광촉매 활성이 현저히 발현된다.
(2) 니오브산화물 박막/파이렉스(등록상표) 유리에서는 광촉매 활성의 발현이 뒤떨어진다.
(3) 티탄산화물 박막의 경우, 파이렉스(등록상표) 유리에서는 양호한 광촉매 활성이 발현되지만, 보통유리에서는 광촉매 활성이 발현되지 않는다.
즉, 티탄산화물 박막에서는 나트륨 이온이 많이 존재하면 광촉매 활성이 상실되는데 반해, 니오브산화물 박막에서는 나트륨 이온을 주입한 쪽이 우수한 광촉매가 된다고 할 수 있다.
저온(450℃이하)에서의 소성에 있어서는, 나트륨의 확산량이 적어, 제막은 가능하더라도 광촉매 활성이 발현되지 않으며, 500℃이상의 소성에 있어서 광촉매 활성이 나타나는데 충분한 나트륨 이온이 확산되는 것으로 생각된다.
상기 도 2는, 소다라임 유리상에 형성된 니오브산화물 박막의 X선 회절상(像)을 나타내고 있다. 400℃에서 1시간동안 소성한 경우는, 회절 피크가 인정되지 않아, 비정질 상태임을 알 수 있다. 이에 반해, 450℃이상의 온도에서 소성한 경우는, ▼로 나타낸 니오브산나트륨(NaNbO3)에 귀속되는 회절 피크가 발생되어 있어, 니오브와 나트륨의 복합산화물이 형성되어 있음을 알 수 있다. 특히, 500℃로 소성한 막이나 550℃로 소성한 막에서는 피크가 크게 관측되고 있으므로, 결정화가 진행되어 높은 광촉매 활성이 발현된 것으로 생각된다.
(비교결과 2)
상기 표 3은, 니오브산화물 박막 및 티탄산화물 박막을 보통유리 및 파이렉스(등록상표) 유리 상에 형성한 경우의 광유기 초친수성에 대해 비교한 것이다. 표 3으로부터, 다음의 2가지를 알 수 있다.
(1) 니오브산화물 박막의 경우, 400℃이상에서 친수화의 경향을 나타내는데, 특히 500∼550℃의 소성온도에서 초친수성을 현저히 나타낸다.
(2) 티탄산화물 박막의 경우, 파이렉스(등록상표) 유리에서는 초친수성을 나타내지만, 보통유리에서는 초친수성을 나타내지 않는다.
티탄산화물 박막에서는, 비교 결과 1에서 나타낸 광촉매 활성과 마찬가지로 초친수성에 있어서도 나트륨 이온에 의한 활성의 저해가 인정되지만, 니오브산화물 박막에서는 나트륨 이온이 존재하더라도 초친수성이 상실되지 않는다. 참고로, 600℃의 소성에서 약간 친수성 활성이 나쁜 이유로는, 다른 결정계로 변화되었을 가능성을 고려할 수 있으나, 현재로서는 확증은 없다.
이상의 결과로부터, 나트륨 이온이 확산되는 기체에 대해, 니오브산화물 박막이 유효한 광 셀프 클리닝용 코팅으로서 유효하다고 할 수 있다.
또한, 본 발명은 상기의 실시예에 한정되는 것이 아니며, 본 발명을 벗어나지 않는 범위내에서 여러 가지의 양태로 실시가 가능함은 말할 필요도 없다.
예컨대, 광촉매 활성을 최적화하기 위해, 나트륨 등의 알칼리금속성분을 도포액 조성에 첨가해도 좋다.

Claims (11)

  1. 알칼리금속을 포함하는 기체(基體) 표면에 니오브를 포함하는 층을 형성하여 500℃ 이상의 온도에서 소성함으로써, 니오브-알칼리금속 복합산화물을 포함하는 광촉매 박막을 형성하는 광촉매 박막의 형성방법.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 니오브를 포함하는 층은, 니오브를 포함하는 코팅제를 도포함으로써 형성되는 것을 특징으로 하는 광촉매 박막의 형성방법.
  3. 알칼리금속을 포함하는 기체 표면에 탄탈을 포함하는 층을 형성하여 500℃ 이상의 온도에서 소성함으로써, 탄탈-알칼리금속 복합산화물을 포함하는 광촉매 박막을 형성하는 광촉매 박막의 형성방법.
  4. 제 3항에 있어서,
    상기 탄탈을 포함하는 층은, 탄탈을 포함하는 코팅제를 도포함으로써 형성되는 것을 특징으로 하는 광촉매 박막의 형성방법.
  5. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 알칼리금속을 포함하는 기체는, 소다라임 유리인 것을 특징으로 하는 광촉매 박막의 형성방법.
  6. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 알칼리금속을 포함하는 기체는, 유약에 의해 도자기의 표면에 형성한 유리질의 막인 것을 특징으로 하는 광촉매 박막의 형성방법.
  7. 제 1항 내지 제 4항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 알칼리금속을 포함하는 기체는, 법랑을 입혀 금속 제품의 표면에 형성한 유리질의 막인 것을 특징으로 하는 광촉매 박막의 형성방법.
  8. 삭제
  9. 제 1항 또는 제 3항에 있어서,
    상기 소성에 있어서의 온도가 500∼550℃인 것을 특징으로 하는 광촉매 박막의 형성방법.
  10. 제 1항 또는 제 3항에 기재된 광촉매 박막의 형성방법에 의해 형성된 광촉매 박막으로서,
    상기 알칼리금속이 나트륨인 것을 특징으로 하는 광촉매 박막 .
  11. 알칼리금속을 포함하는 기체와,
    상기 기체의 표면에 형성된 제 10항에 기재된 광촉매 박막을 구비하는 광촉매 박막 피복 제품.
KR1020097017794A 2007-02-08 2008-02-08 광촉매 박막, 광촉매 박막의 형성방법 및 광촉매 박막 피복 제품 KR101078948B1 (ko)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007029318 2007-02-08
JPJP-P-2007-029318 2007-02-08
PCT/JP2007/058870 WO2008096456A1 (ja) 2007-02-08 2007-04-24 光触媒薄膜、光触媒薄膜の形成方法及び光触媒薄膜被覆製品
PCT/JP2008/052180 WO2008096866A1 (ja) 2007-02-08 2008-02-08 光触媒薄膜、光触媒薄膜の形成方法及び光触媒薄膜被覆製品

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20090114418A KR20090114418A (ko) 2009-11-03
KR101078948B1 true KR101078948B1 (ko) 2011-11-01

Family

ID=39681375

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020097016985A KR101078946B1 (ko) 2007-02-08 2008-02-08 광촉매 박막, 광촉매 박막의 형성방법 및 광촉매 박막 피복제품
KR1020097017794A KR101078948B1 (ko) 2007-02-08 2008-02-08 광촉매 박막, 광촉매 박막의 형성방법 및 광촉매 박막 피복 제품

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020097016985A KR101078946B1 (ko) 2007-02-08 2008-02-08 광촉매 박막, 광촉매 박막의 형성방법 및 광촉매 박막 피복제품

Country Status (6)

Country Link
US (2) US9126193B2 (ko)
EP (2) EP2133147A4 (ko)
JP (2) JP5118068B2 (ko)
KR (2) KR101078946B1 (ko)
CN (2) CN101605606A (ko)
WO (3) WO2008096456A1 (ko)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101575667B1 (ko) * 2008-05-23 2015-12-08 코쿠리츠켄큐카이하츠호징 붓시쯔 자이료 켄큐키코 유전체 막과 유전체 소자 및 그 제조 방법
US8710730B2 (en) * 2008-07-11 2014-04-29 National Institute For Materials Science Luminescent nanosheets, and fluorescent illuminators, solar cells and color displays utilizing the same as well as nanosheet paints
JP5984089B2 (ja) * 2011-10-25 2016-09-06 国立研究開発法人物質・材料研究機構 スピンコート法によりナノシート単層膜からなる薄膜を製造する方法、それによる超親水化材料、酸化物薄膜用基板、および、誘電体材料
CN104043468A (zh) * 2013-03-13 2014-09-17 江南大学 一种具有表面台阶的铌系光催化材料制备
US9450636B2 (en) 2014-12-30 2016-09-20 Motorola Solutions, Inc. Intrinsically safe audio power current circuit and device using same
CN108424114B (zh) * 2018-05-23 2022-08-26 佛山市合新创展陶瓷有限公司 一种室内装饰环保陶瓷砖及其制造方法
CN117088672B (zh) * 2023-07-26 2024-06-04 桂阳县舂陵江镇柏贵陶业有限公司 一种高亮型生态釉瓷器及其制备方法

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001303276A (ja) 2000-04-28 2001-10-31 Kawasaki Steel Corp 琺瑯材

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06104089A (ja) * 1992-09-24 1994-04-15 Fuji Electric Co Ltd 薄膜発光素子
JPH07168001A (ja) * 1993-12-15 1995-07-04 Nikon Corp 黴の発生が抑制された光学機器
FR2730990B1 (fr) * 1995-02-23 1997-04-04 Saint Gobain Vitrage Substrat transparent a revetement anti-reflets
AU718733B2 (en) 1995-03-20 2000-04-20 Toto Ltd. Method for photocatalytically rendering a surface of a substrate superhydrophilic, a substrate with a superhydrophilic photocatalytic surface, and method of making thereof
FR2738813B1 (fr) * 1995-09-15 1997-10-17 Saint Gobain Vitrage Substrat a revetement photo-catalytique
JPH1053439A (ja) 1996-08-02 1998-02-24 Asahi Kagaku Kogyo Co Ltd 酸化チタン光触媒皮膜のアンダーコート層形成用塗布剤およびアンダーコート層形成方法
US7096692B2 (en) * 1997-03-14 2006-08-29 Ppg Industries Ohio, Inc. Visible-light-responsive photoactive coating, coated article, and method of making same
JP3970375B2 (ja) * 1997-03-27 2007-09-05 多木化学株式会社 金属酸化物ゾル用結合剤
US6410173B1 (en) * 1998-11-30 2002-06-25 Denglas Technologies, Llc Antireflection coatings and other multilayer optical coatings for heat-treatable inorganic substrates and methods for making same
JP3622585B2 (ja) * 1999-08-05 2005-02-23 日本板硝子株式会社 光触媒活性を有する物品
JP2003003113A (ja) * 2001-06-19 2003-01-08 Lion Corp 光触媒含有コーティング剤
JP4030045B2 (ja) * 2002-03-08 2008-01-09 株式会社村上開明堂 親水性複合材
CN1248780C (zh) * 2004-02-16 2006-04-05 武汉理工大学 铌钾复合氧化物光催化剂及其制备方法
JP2005259389A (ja) * 2004-03-09 2005-09-22 Toshiba Home Lighting Kk 照明器具
JP4995428B2 (ja) 2004-03-10 2012-08-08 東海旅客鉄道株式会社 酸化チタン塗膜形成方法
CN1311902C (zh) 2005-11-25 2007-04-25 北京工业大学 一种铌酸钾K4Nb6O17薄膜的制备方法

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001303276A (ja) 2000-04-28 2001-10-31 Kawasaki Steel Corp 琺瑯材

Also Published As

Publication number Publication date
CN101605607A (zh) 2009-12-16
WO2008096456A1 (ja) 2008-08-14
WO2008096871A1 (ja) 2008-08-14
EP2133147A4 (en) 2014-06-18
CN101605607B (zh) 2012-09-19
KR101078946B1 (ko) 2011-11-01
EP2133146A1 (en) 2009-12-16
EP2133147A1 (en) 2009-12-16
KR20090114418A (ko) 2009-11-03
WO2008096866A1 (ja) 2008-08-14
US9012354B2 (en) 2015-04-21
US9126193B2 (en) 2015-09-08
JPWO2008096866A1 (ja) 2010-05-27
US20100317512A1 (en) 2010-12-16
JP5118067B2 (ja) 2013-01-16
JP5118068B2 (ja) 2013-01-16
US20100279149A1 (en) 2010-11-04
KR20090113850A (ko) 2009-11-02
CN101605606A (zh) 2009-12-16
EP2133146A4 (en) 2014-06-18
JPWO2008096871A1 (ja) 2010-05-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101078948B1 (ko) 광촉매 박막, 광촉매 박막의 형성방법 및 광촉매 박막 피복 제품
JP5101789B2 (ja) 可視光応答性の光活性の被膜、被覆物品およびその製法
JP4335446B2 (ja) 酸化チタンゾル、薄膜およびそれらの製造法
KR101025122B1 (ko) 도포액，도포액을 이용하여 형성한 산화티탄박막 및 그 형성방법
JP4330661B2 (ja) 高屈折率と機械的耐磨耗性を有する酸化タンタルベースの無機ポリマー材料、その製法、および当該ポリマーを含む光学材料
JP2005507974A6 (ja) 可視光応答性の光活性の被膜、被覆物品およびその製法
CN100450622C (zh) 透明膜形成组合物及其应用
US10099206B2 (en) Catalytically active material, method for producing same, and use thereof
JP6695417B2 (ja) 光触媒構造体及びその製造方法
JPH1160281A (ja) 光触媒ガラス及びその製造方法
JP2001031483A (ja) 光触媒機能を備えるセラミックス建材の製造方法
KR100442919B1 (ko) 높은 투명도와 광활성도를 갖는 광촉매 졸의 제조 방법
JP2012193523A (ja) 建材及びその製造方法
JPH1135342A (ja) 多機能ガラス及びその製法
JPH1060665A (ja) 親水性被膜およびその製造方法
JP2012193251A (ja) コーティング材及び被覆体の製造方法
KR100571053B1 (ko) 텅스텐산화물이 치환된 티타늄산화물 친수성 박막의제조방법
JPH11267517A (ja) 光触媒被覆膜及びその製造方法
JP2001089141A (ja) 無機膜形成用塗布剤、その製造方法及びその無機膜形成方法
JP2001019494A (ja) 防曇ガラス物品
JP2003027000A (ja) 光触媒膜およびその製造方法
JP2006255525A (ja) 光照射によって接触角が小さくなる表面特性を有するインジウム系複合酸化物薄膜とそれを用いたコーティング材料
JPH09194235A (ja) 紫外線遮断機能を有するコーティング被膜とその形成方法
JP2003128481A (ja) 防汚建材の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee