JP4030045B2 - 親水性複合材 - Google Patents

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【0001】
【発明の属する技術分野】
この発明は、親水性複合材関し、光誘起親水性材料として特定の結晶構造を有する光触媒Nb(酸化ニオブ)を用いたものである。
【0002】
【従来の技術】
光触媒TiOにおいて紫外光照射下で水との接触角が0°になる光誘起親水性が発見されて以来、他の光触媒材料においても光誘起親水性の可能性が検討されている。Nbについてはメタノール水溶液からの水素発生反応などで光触媒活性を有することが知られているが、光誘起親水性については報告されていない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
この発明は、上述の点に鑑みてなされたもので、光触媒Nbを用いて光誘起親水性が得られるようにした親水性複合材を提供しようとするものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】
この発明の親水性複合材は、XRDパターンの22°、28°、37°付近にそれぞれピークが観測され、かつ、該28°付近のピーク形状が単峰型を示す結晶構造を有する、光触媒活性および光誘起親水性を呈する光触媒Nb 膜を基材の表面に成膜してなる親水性複合材であって、該親水性複合材が呈する光触媒活性および光誘起親水性が、前記光触媒性Nb 膜が呈する光触媒活性および光誘起親水性によるものである。前記結晶構造を有する光触媒Nb膜によれば、良好な光誘起親水性が得られる。この発明の親水性複合材は、さらに、前記光触媒性Nb 膜が前記XRDパターンの37°付近のピーク形状が単峰型を示す結晶構造を有することができる。この場合も、良好な光誘起親水性が得られる。前記光触媒Nb膜は、例えば200nm以上、より好ましくは300nm以上の膜厚を有することができる。これによれば、より良好な光誘起親水性が得られる。
【0005】
の発明の親水性複合材は、さらに、前記基材の表面と前記光触媒Nb膜との間に適宜の機能を有する中間膜を成膜することができる。中間膜は、例えば、基材がソーダライムガラスの場合は、該ガラス中のナトリウムイオンが光触媒Nb膜に拡散するのを抑制するナトリウム拡散抑制層とすることができる。また、基材が樹脂の場合には、光触媒Nbによる樹脂の劣化を抑制する層とすることができる。また、中間膜は、該親水性複合材の表面反射率特性を調整する反射率特性調整層とすることができる。また、該親水性複合材で表面鏡を構成する場合は、中間膜を反射膜とすることができる。
【0006】
この発明の親水性複合材は、前記基材を透明基板で構成し、厚み方向全体を透明に構成することにより、自動車用ウィンドウ、建材用窓ガラス等を構成することができる。また、前記基材を透明基板で構成し、該透明基板の裏面に反射膜を成膜する(中間膜を設ける場合は、該中間膜を透明に構成する)ことにより、車両用アウターミラー、洗面台用ミラー、浴室用ミラー等を構成することができる。この発明の親水性複合材は、さらに、前記光触媒Nb膜の表面に透明な無機酸化物を島状に点在した状態に付着したものとすることができる。これによれば、光触媒Nb膜の光誘起親水効果と、紫外光照射遮断後の親水性維持効果が併せて得られる。
【0007】
記Nb膜は、例えば、マグネトロンスパッタ法で前記基材の表面に成膜することができる。
【0008】
【発明の実施の形態】
この発明の実施の形態を以下説明する。この発明による親水性複合材の実施の形態を図1〜図5に示す。図1の親水性複合材は、ガラス、樹脂樹脂等の基材(基板)10の片面に光誘起親水性を有する透明な光触媒Nb膜12を最表層として成膜したものである。基材10が透明であれば、防曇ガラスが構成され、自動車用ウィンドウ、建材用窓ガラス等として利用することができる。この場合、室内(車内)側に光触媒Nb膜12を成膜すれば、結露、曇り防止効果が得られ、室外(車外)側に光触媒Nb膜12を成膜すれば、雨水滴を水膜状にする効果が得られる。透明の基材10の裏面に反射膜を成膜すれば、防曇鏡が構成され、車両用アウターミラー、洗面台用ミラー、浴室用ミラー等として利用することができる。
【0009】
図2の親水性複合材は、ガラス、樹脂樹脂等の基材(基板)10の両面に光誘起親水性を有する透明な光触媒Nb膜12,14をそれぞれ最表層として成膜したものである。基材10が透明であれば、防曇ガラスが構成され、自動車用ウィンドウ、建材用窓ガラス等として利用することができる。
【0010】
図3の親水性複合材は、図1の親水性複合材において、基材10と光触媒Nb膜12との間に適宜の機能を有する中間膜16を成膜したものである。中間膜16は、例えばシリカ、アルミナ等の無機酸化物またはシリコン系樹脂等で構成することができ、基材10が樹脂の場合には、例えば光触媒Nb膜12による樹脂基材10の劣化を抑制する働きをし、基材10がガラスの場合には、例えばガラス基材10中のアルカリイオンが光触媒Nb膜12中に拡散するのを抑制する働きをする。また、中間膜16を反射膜で構成すれば、鏡(表面鏡)が構成され、車両用アウターミラー、洗面台用ミラー、浴室用ミラー等として利用することができる。
【0011】
図4の親水性複合材は、図2の親水性複合材において、基材10と光触媒Nb膜12との間に中間膜16を成膜し、基材10と光触媒Nb膜14との間に中間膜18を成膜したものである。中間膜16,18は、図3の中間膜16と同様に、例えばシリカ、アルミナ等の無機酸化物またはシリコン系樹脂等で構成され、基材10が樹脂の場合には、例えば光触媒Nb膜12,14による樹脂基材10の劣化を抑制する働きをし、基材10がガラスの場合には、例えばガラス基材10中のアルカリイオンが光触媒Nb膜12,14中に拡散するのを抑制する働きをする。
【0012】
図5の親水性複合材は、図1の親水性複合材において、光触媒Nb膜12の表面にSiO等の透明な無機酸化物(好ましくは親水性無機酸化物)20を島状に点在した状態に成膜し、基材10(透明基材)の裏面に反射膜22を成膜したもので、防曇鏡を構成するものである。この防曇鏡は、光触媒Nb膜12による光誘起親水性と、光励起が遮断された後の親水性維持効果を併せ持つ。なお、図1〜図4の親水性複合材においても図5と同様に、光触媒Nb膜12,14の表面にSiO等の透明な無機酸化物(好ましくは親水性無機酸化物)を島状に点在した状態に成膜することにより、光触媒Nb膜12,14による光誘起親水性と、光励起が遮断された後の親水性維持効果を併せ持つことができる。
【0013】
この発明の親水性複合材の製造方法を説明する。図6は基材の表面にNb膜を成膜するのに使用するマグネトロンスパッタ装置の内部の模式図である。基材10には石英基板を使用し、ヒータ24により基板温度を200℃に加熱する。基板10に対向してターゲット26としてNb(純度99.9%)を配置する。基板10とターゲット26間に300Wの高周波電圧を印加し、ターゲット26の背後に配置した電磁石28で電極間に直交する磁界を印加するとマグネトロン放電が起こり、円環状にスパッタガスとして導入したArガス(ガス圧力:0.5Pa)のプラズマが生じる。円環状のプラズマの直下でターゲット26がスパッタされ、Nb粒子12aが叩き出されて基材10の表面に堆積され、Nb膜12′が成膜される。Nb膜12′が所定の膜厚に成膜されたら、基材10を装置から取り出して、所定の温度(300℃〜650℃、より好ましくは550℃〜650℃)で所定時間(5時間程度)焼成することにより、Nb膜12′が結晶化されて透明な光触媒Nb膜12となり、この発明による親水性複合材(この場合は図1の親水性複合材)ができ上がる。
【0014】
以上のようにして作られた親水性複合材の、光触媒Nb膜の膜厚や焼成温度による特性の違いについて測定した結果を説明する。図7は、光触媒Nb膜の膜厚(200nm,300nm,400nm)によるUV−Vis(紫外可視)吸収スペクトルの違いを示す。光触媒Nb膜の膜厚は、(a)が200nm、(b)が300nm、(c)が400nmである。焼成温度はいずれも600℃である。これによれば、いずれも高い透明性が得られている。また、いずれも明瞭な干渉縞が見られ、均質な薄膜が形成されていることがわかる。膜厚が厚くなるにつれて吸収端が長波長側へシフトするが、これは膜厚の増加に伴い粒子径が大きくなることを示している。
【0015】
図8は、光触媒Nb膜の膜厚(300nm,400nm,500nm)および焼成温度(500℃,600℃,700℃)による光触媒反応特性の違いを示す。比較のために、光触媒TiO膜の光触媒反応特性を併せて示した。これらは、いずれも、サンプルを入れ真空引きした閉鎖系中に、一定量の酸素とアセトアルデヒド(CHCHO)を導入し、吸着平衡に達するまでしばらく放置し、その後、サンプル表面に紫外光を照射した際のアセトアルデヒド分解により生成されたCO2をガスクロマトグラフィにて測定した結果である。これによれば、膜厚の違いおよび焼成温度の違いによる光触媒Nb膜の光触媒活性の差はそれほどないことがわかる。また、光触媒TiO膜に比べると光触媒Nb膜は光触媒活性が低く、光触媒TiO膜の1/3から1/4程度であることがわかる。
【0016】
図9は、光触媒Nb膜の焼成温度(500℃,600℃,700℃)による水滴接触角の減少過程の違いを示したもので、光誘起されていない初期状態から、紫外光照射を開始した後の水滴接触角の経時変化を示したものである(膜厚は、いずれも300nm)。これによれば、500℃および600℃で焼成した場合は、紫外光照射により水滴接触角が急激に下がり、光誘起親水性を示す。特に600℃で焼成した場合は水滴接触角が0°まで下がる。これに対し、700℃で焼成した場合は、水滴接触角が下がらず、光誘起親水性を示さない。
【0017】
図10は、光触媒Nb膜の焼成温度(500℃,600℃)による水滴接触角の増加過程の違いを示したもので、光触媒Nb膜に紫外光を照射して水滴接触角を一旦最低値に安定させた初期状態から、暗所に放置した後の水滴接触角の経時変化を測定したものである(膜厚は、いずれも300nm)。これによれば、600℃で焼成した場合は、500℃で焼成した場合よりも長時間親水性が維持されることがわかる。
【0018】
表1は、各種焼成温度における光触媒Nb膜の表面粗さ(Ra)を原子間力顕微鏡で測定した値を示す。
Figure 0004030045
【0019】
表1によれば、焼成温度が600℃の場合は、500℃の場合に比べて表面粗さが大きい。焼成温度が600℃の場合は、この表面粗さが大きいことにより、紫外光照射時に水滴接触角が0°まで下がり、かつ、暗所に放置後も親水性が長時間維持されるものと考えられる。以上のことから、600℃前後(550℃〜650℃)で焼成した場合が最も良好な親水性が得られることがわかる。
【0020】
図11は、光触媒Nb膜の膜厚(200nm、400nm)による水滴接触角の減少過程を示したもので(焼成温度は、いずれも600℃)、光誘起されていない初期状態から、紫外光照射を開始した後の水滴接触角の経時変化を示したものである。これによれば、膜厚200nm、400nmのいずれの場合も高い光励起親水効果が得られるが、特に膜厚400nmの場合は、膜厚200nmの場合に比べて親水化速度が速く、しかも水滴接触角が0°まで下がる。
【0021】
図12は、光触媒Nb膜の膜厚(200nm、400nm)による水滴接触角の増加過程を示したもので(焼成温度は、いずれも600℃)、紫外光照射により水滴接触角を一旦最低値に安定させた初期状態から、暗所に放置した後の水滴接触角の経時変化を測定したものである。これによれば、膜厚200nm、400nmのいずれの場合も、ある程度の時間親水性が維持され、特に膜厚400nmの場合は、膜厚200nmの場合に比べて親水性が長時間維持されることがわかる。なお、膜厚300nmの場合も紫外光照射により水滴接触角はほぼ0°まで下がる。また、膜厚300nmの場合の暗所放置後の水滴接触角の増加過程は、膜厚200nmの場合と膜厚400nmの場合の中間の特性(膜厚300nmの場合について示す図10の焼成温度600℃の場合の特性参照)となる。
【0022】
以上から、親水性を維持するには、光触媒Nb膜の膜厚が厚い方が有利であり、300nm以上あれば紫外光照射により水滴接触角をほぼ0°まで下げることができ、かつ暗所に放置後の親水性を長時間維持することができる。
【0023】
図13は、光触媒Nb膜の焼成温度(500℃,600℃,700℃)によるXRD(X線回折)パターンの違いを示す。いずれの焼成温度の場合も、22°、28°、37°付近にNbに特徴的なピークが観測され、これらの薄膜が結晶性の良いNbで構成されていることがわかる。ただし、28°付近のピーク形状は、焼成温度500℃および600℃の場合と、700℃の場合とでは異なり、焼成温度500℃および600℃の場合は単峰型を示し、焼成温度700℃の場合は2つに開裂して双峰型を示す。この結晶構造の違いにより、焼成温度500℃および600℃の場合は光誘起親水性を呈し、焼成温度700℃の場合は光誘起親水性を呈さないものと考えられる。また、37°付近のピーク形状も、同様に、焼成温度500℃および600℃の場合と、700℃の場合とでは異なり、焼成温度500℃および600℃の場合は単峰型を示し、焼成温度700℃の場合は2つに開裂して双峰型を示す。この結晶構造の違いも、焼成温度500℃および600℃の場合は光誘起親水性を呈し、焼成温度700℃の場合は光誘起親水性を呈さないことに関与しているものと考えられる。
【0024】
図14は、図5の構造による親水性維持効果を示すもので、光触媒Nb膜12の表面にSiO膜20を島状に成膜した場合(図5の構造)と、成膜しない場合(図1の構造)について(光触媒Nb膜の膜厚はいずれも300nm、焼成温度はいずれも600℃)、紫外光照射により水滴接触角を一旦最低値に安定させた初期状態から、暗所に放置して水滴接触角の経時変化を測定したものである。これによれば、光触媒Nb膜の表面にSiO膜を島状に成膜することにより、親水性がかなりの長時間にわたり維持されることがわかる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の親水性複合材の実施の形態を示す模式断面図である。
【図2】 この発明の親水性複合材の他の実施の形態を示す模式断面図である。
【図3】 この発明の親水性複合材の他の実施の形態を示す模式断面図である。
【図4】 この発明の親水性複合材の他の実施の形態を示す模式断面図である。
【図5】 この発明の親水性複合材の他の実施の形態を示す模式断面図である。
【図6】 この発明の親水性複合材の製造工程において、基材の表面にNb膜を成膜するのに使用するマグネトロンスパッタ装置の内部の模式図である。
【図7】 光触媒Nb膜の膜厚によるUV−Vis(紫外可視)吸収スペクトルの違いを示す線図である。
【図8】 光触媒Nb膜の膜厚および焼成温度による光触媒反応特性の違いを示す棒グラフである。
【図9】 光触媒Nb膜の焼成温度による水滴接触角の減少過程の違いを示す図で、紫外光照射による水滴接触角の経時変化を示す線図である。
【図10】 光触媒Nb膜の焼成温度による水滴接触角の増加過程の違いを示す図で、暗所放置後の水滴接触角の経時変化を示した線図である。
【図11】 光触媒Nb膜の膜厚による水滴接触角の減少過程の違いを示す図で、紫外光照射による水滴接触角の経時変化を示した線図である。
【図12】 光触媒Nb膜の膜厚による水滴接触角の増加過程の違いを示す図で、暗所放置後の水滴接触角の経時変化を示した線図である。
【図13】 光触媒Nb膜の焼成温度によるXRDパターンの違いを示す線図である。
【図14】 光触媒Nb膜の表面にSiO膜を島状に成膜した構造による親水性維持効果を示す線図である。
【符号の説明】
10…基材、12,14…光触媒Nb膜、16,18…中間膜、20…島状無機酸化物膜、22…反射膜。

Claims (7)

  1. XRDパターンの22°、28°、37°付近にそれぞれピークが観測され、かつ、該28°付近のピーク形状が単峰型を示す結晶構造を有する、光触媒活性および光誘起親水性を呈する光触媒Nb を基材の表面に成膜してなる親水性複合材であって、
    該親水性複合材が呈する光触媒活性および光誘起親水性が、前記光触媒性Nb 膜が呈する光触媒活性および光誘起親水性によるものである親水性複合材
  2. 前記光触媒Nb 膜が前記XRDパターンの37°付近のピーク形状が単峰型を示す結晶構造を有する請求項1記載の親水性複合材
  3. 前記光触媒Nb膜が200nm以上の膜厚を有する請求項1または2記載の親水性複合材
  4. 前記基材の表面と前記光触媒Nb膜との間に適宜の機能を有する中間膜を成膜してなる請求項1から3のいずれか1つに記載の親水性複合材。
  5. 前記基材が透明基板であり、厚み方向全体を透明に構成してなる請求項1から4のいずれか1つに記載の親水性複合材。
  6. 前記基材が透明基板であり、該透明基板の裏面に反射膜を成膜して鏡を構成してなる請求項1から4のいずれか1つに記載の親水性複合材。
  7. 前記光触媒Nb膜の表面に透明な無機酸化物を島状に点在した状態に付着してなる請求項1から6のいずれか1つに記載の親水性複合材。
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