JP2001303276A - 琺瑯材 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】強固に固定された光触媒粒子を含み、基材との
密着性および膜強度に優れるとともに触媒有効面積の広
い琺瑯層を有し、環境浄化用として有用な高い光触媒機
能を発現し、しかも製造も容易な琺瑯材の提供。 【解決手段】基材表面に、分散状態の光触媒粒子を含む
琺瑯層を有し、かつ該琺瑯層の外部表面は該光触媒粒子
の一次粒子径よりは大きい多数のミクロな溝を有する琺
瑯材。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、強固に固定された
光触媒粒子を含み、基材との密着性および膜強度に優れ
るとともに触媒有効面積の広い琺瑯層を有し、環境浄化
用として有用な高い光触媒機能を発現し、その製法も容
易な琺瑯材に関する。

【０００２】

【従来の技術】自動車等の燃焼発生源から大気中に排出
される窒素酸化物（ＮＯ_x ）あるいはイオウ酸化物（Ｓ
Ｏ_x ）などの汚染物質は、人体に呼吸器疾患を誘因した
り、光化学スモッグ、酸性雨などの原因となっている。
とくに道路沿いの窒素酸化物による大気汚染は深刻であ
り、その早急な解決が切望されている。しかしながら汚
染物質とくに窒素酸化物（ＮＯ_x ）の主成分であるＮＯ
は、空気中の酸素により酸化され硝酸として大気中から
除去されるが、その濃度がｐｐｍオーダーになると除去
には何日間もかかる。

【０００３】そこで窒素酸化物などの汚染物質を速やか
に大気中から除去するために、酸化チタンなどの光触媒
による酸化作用を利用することが盛んに研究されてい
る。特にアナターゼ型ＴｉＯ₂ は、酸素および水の存在
下、波長４００ｎｍ以下の光（紫外線）があたると、表
面にスーパーオキサイドイオン（・Ｏ₂ ^- ）、水酸基ラ
ジカル（・ＯＨ）などの強力な酸化作用を示す活性酸素
種が生成するため、この活性酸素種の酸化作用を利用す
れば、上記汚染物質を短時間で大気中から除去すること
ができる。

【０００４】上記のような光触媒の実用化方法として
は、光触媒粒子と、有機または無機バインダーとを基材
上に固定し光触媒膜（層）を形成する方法が多く提案さ
れている。

【０００５】有機バインダーは、通常塗料に汎用される
樹脂では光触媒作用により分解されるため、実用に耐え
るものはフッ素樹脂、シリコーン樹脂などに限定される
が、焼成不要であるため基材が限定されない利点もあ
る。フッ素樹脂をバインダーとして用いたものも提案さ
れており、たとえば基材表面に、フッ素樹脂水系分散体
と、ＴｉＯ₂ 水系分散体またはＴｉＯ₂ 粉末とを塗布し
た防汚消臭構造が提案されている（特開平９−２４９８
７１号）。

【０００６】無機バインダーを用いるものとしては、た
とえばセメント、セッコウなどの難分解性結着剤と、光
触媒粒子との混合物を、基体上に接着させたＮＯ_x ガス
除去用光触媒体が提案されている（特許第２９１８７８
７号）。しかしながらセメント、セッコウなどの無機バ
インダーを用いた光触媒膜は、皮膜強度および基材との
接着性ともに弱く、かつ厚膜化する必要があってコスト
がかかるという問題点がある。

【０００７】バインダーとして琺瑯釉薬を用いることも
提案されている。たとえばオーステナイト系ステンレス
鋼鈑表面に、アナターゼ型ＴｉＯ₂ を含ませた琺瑯被覆
層を設けた雨筋汚れ防止に優れた琺瑯被覆ステンレス鋼
鈑が提案されている（特開平１１−７１６８６号）。該
公報には、このような琺瑯被覆層を有する鋼鈑は、付着
した雨汚れを光触媒作用で分解除去して付着力を弱め、
表面汚れや雨筋汚れが降雨あるいは散水によって容易に
洗い流され、長期間にわたって美麗な表面を維持し、外
装建材として好適であることが記載されている。また該
方法では、外装建材として美麗な表面光沢を得るため
に、フリット１００重量部に対して２〜２０重量部のア
ナターゼ型ＴｉＯ₂ を分散させている。

【０００８】上記のような各種バインダーと光触媒とを
混合状態で基材上に固定する従来の方法では、通常、図
５に示すような光触媒粒子３がバインダー中（琺瑯層
２）に分散した構造の光触媒層が形成される。

【０００９】このように光触媒粒子がバインダー中に分
散した構造の光触媒膜では、光触媒粒子に直接紫外線が
照射されず触媒作用を充分に発揮できない点を改善する
ものとして、基材表面に形成した釉薬層または印刷層か
ら光触媒粒子の一部が露出するように配置した光触媒機
能を有する部材が提案されている（特許第２６６７３３
１号）。具体的には、基材上に予め釉薬またはインクを
塗布した後、この塗布表面にアナターゼ型ＴｉＯ₂ ゾル
を吹付け、釉薬またはインクを加熱溶融し、釉薬層また
は印刷層表面に光触媒粒子を露出させている。

【００１０】しかしながら上記方法は、バインダーと光
触媒との混合物から光触媒膜を形成する方法に比べて煩
雑であり、さらに光触媒膜の形成は実質的にゾルの吹付
けに限定される。また上記最外層に光触媒層を形成した
だけの構造では、環境浄化用として使用しうる充分な光
触媒作用を得ることは依然として困難である。

【００１１】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記のよう
な情況に鑑みてなされたものであって、光触媒粒子とバ
インダーとの混合物から容易に得ることができる琺瑯材
であって、光触媒粒子が強固に固定され、基材との密着
性および膜強度に優れるとともに光触媒機能を発現しう
る有効面積が広く、高い触媒機能を発現し、環境浄化用
として好適な琺瑯材を提供することを目的としている。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明者は、光触媒粒子
が強固に固定され、かつ膜強度も強いとともに優れた光
触媒機能を発現し、しかもその製法も簡便であるような
光触媒膜について検討したところ、とくにバインダーと
して琺瑯を選択し、かつ琺瑯表面をミクロな溝を有する
構造にすることにより、上記課題を一挙に解決すること
ができ、本発明を完成するに至った。なお従来、琺瑯材
は化粧材などの外装材用途で使用されるため、光触媒粒
子を含む琺瑯材であっても表面に光沢があるものが一般
的である。

【００１３】すなわち本発明に係る琺瑯材は、基材表面
に、分散状態の光触媒粒子を含む琺瑯層を有し、かつ該
琺瑯層の外部表面は該光触媒粒子の一次粒子径よりは大
きい多数のミクロな溝を有することを特徴としている。
このようなミクロな溝を有する琺瑯層は、外部表面積に
対する全表面積で示される比表面積が大きく、かつ琺瑯
層中に分散状態で含まれる触媒粒子は、平坦最外部表面
だけでなくミクロな溝を有する表面をも含む全外部表面
に、露出する。したがって本発明の琺瑯材は、触媒粒子
が強固に固定されているとともに触媒有効面積が極めて
広く、環境浄化用として使用しうる高い触媒活性を発現
する。

【００１４】上記琺瑯層は、琺瑯フリットと、一次粒子
径２０ｎｍ未満の光触媒粒子とを含む混合スラリーから
形成することができる。この混合スラリーは、光触媒粒
子をフリット１００ｇに対して２０ｇ越える量で含むこ
とが望ましい。

【００１５】上記琺瑯層は、さらに吸着剤を含有してい
てもよい。また本発明に係る琺瑯材は、琺瑯層と基材表
面との間に、下引き琺瑯層を有していてもよい。

【００１６】

【発明の実施の形態】以下、本発明に係る琺瑯材を図を
参照しながらより具体的に説明する。図１に、本発明の
琺瑯材の一形態を部分断面で模式的に示す。基材１の表
面に形成された琺瑯層２は、光触媒粒子３を分散状態で
含みかつ該琺瑯層２の外部表面２ａは該光触媒粒子３の
一次粒子径よりは大きい多数のミクロな溝２ｂを有す
る。

【００１７】ここで一次粒子径とは、粉体または凝集体
を形成する最小単位の光触媒粒子の平均粒径をいう。ま
たミクロな溝は、光学顕微鏡などで５０倍以上に拡大し
たときに初めて認められる表面の微小なヒビ割れである
（ＪＩＳ Ｚ２３００）。本発明においてこのミクロな
溝は、実質的に琺瑯材自体に生じるヒビ割れ（クラッ
ク）であって、その形状はどのような形状であってもよ
く、楔形状のヒビ割れのみならず凹凸形状であってもよ
いが、外部表面に露出した凝集粒子による凹凸は含まな
い。

【００１８】このような琺瑯層表面のミクロな溝は、通
常は、ＳＥＭ観察により確認することができる。本発明
の琺瑯材の一例として、後述するように一次粒子径６ｎ
ｍの光触媒粒子を含む琺瑯層表面のＳＥＭ写真（×３０
０）を図６に示す。なお図６に示すような倍率（×３０
０）では、粒径６ｎｍの光触媒の一次粒子は確認できな
い。

【００１９】本発明では、琺瑯層表面に上記のようなミ
クロな溝を有することにより、光沢のある通常の琺瑯表
面に比べ、広い表面積を有する。具体的に、光触媒粒子
のみを琺瑯層中に含む場合の琺瑯層において、外部表面
に対する全表面積で示される比表面積は１００（全表面
積ｍ² ／外部表面積ｍ² ）以上であることが望ましい。
この比表面積は、ＢＥＴ法に準拠して測定することがで
きる。なお上記と同量の光触媒粒子と琺瑯とから得られ
る従来の琺瑯材は、凝集した光触媒粒子の凹凸があって
もいわゆる光沢表面を有するものの比表面積は、通常１
ｍ² ／ｍ² 程度である。

【００２０】上記のように光触媒粒子３が分散状態で存
在する琺瑯層の表面に光触媒粒子３よりも大きなサイズ
のミクロな溝があると、光触媒粒子は、外部表面だけで
なくミクロな溝部分の表面を含む全外部表面で露出する
ように固定されていると考えられる。したがって本発明
の琺瑯材は、触媒有効面積が極めて広く、同一量の光触
媒を用いた従来の光沢琺瑯材に比べて極めて高い触媒活
性を示す。

【００２１】また表面にこのようなミクロな溝を有して
いても、光触媒粒子は強固に固定されている。具体的に
本発明の琺瑯層２の被膜強度は、琺瑯層中の光触媒粒子
含有量、琺瑯材質などにもよるが、たとえば鉛筆硬度
（ＪＩＳ Ｋ５４００）でＨ以上であることが望まし
い。次に、上記のような構造の本発明の琺瑯材につい
て、その製造方法を含めてより詳細に説明する。

【００２２】基材１の材質は、特に限定されず基本的に
何でもよいが、光触媒機能を有するる琺瑯材は環境浄化
用などとして屋外で使用されることも多いので、吸水性
の小さい材質が好ましい。たとえば金属、各種樹脂、セ
ラミックス、陶磁器、ガラス、さらにはこれらの複合体
（たとえば鋼、ステンレス、アルミニウムなどの金属表
面を各種樹脂、セラミック、ガラスなどで被覆したも
の）などが挙げられ、このうちでも金属材などが好適で
ある。金属材としては、より具体例として、鉄、鋼、ア
ルミニウム、ステンレスなどの金属材、およびこれら金
属材に、亜鉛メッキ、アルミニウムメッキ、アルミニウ
ム亜鉛合金メッキ、鉄亜鉛合金メッキなどのメッキ処
理、化成処理、クロメート処理などの表面処理を施して
耐食性、耐候性等を備えたものが挙げられる。また基材
１の形状も限定されず、板状であっても立体形状であっ
てもよい。

【００２３】上記のように光触媒粒子３が分散状態で固
定され、かつ表面にミクロな溝を有する琺瑯層２は、琺
瑯フリットと光触媒粒子との混合スラリーを用いて製造
することができる。この際、光触媒粒子の一次粒子径が
微小であるほどミクロな溝が得られやすく、本発明で用
いられる光触媒粒子の一次粒子径は、通常２０ｎｍ未満
であり、好ましくは１５ｎｍ以下、さらに好ましくは１
０ｎｍ以下である。なお光触媒粒子の一次粒子径が２０
ｎｍ以上になると、琺瑯層表面にミクロな溝を生成し難
くなる傾向がある。

【００２４】光触媒の種類は、活性酸素種を生成しうる
程度の光活性を有する粒子であればよく、光触媒機能を
有するものを広く用いることができるが、具体的にはた
とえば、ＴｉＯ₂ 、ＺｎＯ、ＳｒＴｉＯ₃ 、ＳｎＯ₂ 、
ＧａＰ、ＣｄＳ、ＣｄＳｅ、Ｋ₄ ＮｂＯ₁₇、ＫＴａＯ₃
などを用いることができる。これらのうちでも、化学的
に安定で、かつ紫外光で容易に活性酸素種を生成し、光
触媒性を発現しやすいアナターゼ型ＴｉＯ₂ が好まし
い。

【００２５】琺瑯フリットとしては、公知のフリットを
広く用いることができるが、たとえばＴi Ｏ₂ 、Ｓi Ｏ
₂ 、Ｚr Ｏ₂ などのＭＯ₂ 系化合物、Ｐ₂ Ｏ₅ 、Ｖ₂ Ｏ
₅ などのＭ₂ Ｏ₅ 系化合物、Ｓb₂Ｏ₃ 、Ａl₂Ｏ₃ 、Ｂ₂
Ｏ₃ などのＭ₂ Ｏ₃ 系化合物、Ｎa₂Ｏ、Ｋ₂ Ｏ、Ｌi₂Ｏ
などのＭ₂ Ｏ系化合物、Ｚn Ｏ、Ｂa Ｏ、Ｃa Ｏなどの
ＭＯ系化合物、ＺｒＦ₄ 、ＡｌＦ₃ などのフッ化物系化
合物などの鉱物原料から得られるフリットを用いること
ができる。

【００２６】これらのうちでも、軟化温度が４００℃以
上のフリットが好ましい。たとえばＭＯ₂ 系化合物、Ｍ
₂ Ｏ₃ 系化合物、Ｍ₂ Ｏ系化合物、ＭＯ系化合物および
フッ化物系化合物を含むフリットが好ましい。

【００２７】光触媒粒子と琺瑯フリットとから水性スラ
リーを調製する際、光触媒粒子の琺瑯フリットに対する
使用量比を大きくすると琺瑯層表面にミクロな溝が得ら
れやすく、具体的には琺瑯フリット１００ｇに対し、通
常１０ｇ以上の量で用いられ、好ましくは２０ｇを越え
る量で用いられる。一方、光触媒粒子の量が多くなると
琺瑯層の基材への接着強度および膜強度が低下するた
め、琺瑯フリット１００ｇに対し、通常５０ｇ程度を上
限量とすることが望ましい。

【００２８】水性スラリーを基材表面に塗布し、琺瑯フ
リットの軟化点以上に加熱（焼成）して琺瑯層を形成す
るが、本発明では、この焼成温度は光触媒機能を損なわ
ない温度以下であることが望ましく、たとえば光触媒が
アナターゼＴｉＯ₂ である場合はルチル型に結晶転移し
ない８００℃以下の温度が好ましい。

【００２９】また、加熱（焼成）温度が高すぎると、ミ
クロな溝が崩壊したり、琺瑯層の接着強度や琺瑯層の膜
強度が低下し易くなるため、加熱（焼成）温度の好まし
い範囲は、琺瑯フリットの軟化点以上、軟化点＋２００
℃以下であり、さらに好ましくは、琺瑯フリットの軟化
点以上、軟化点＋１００℃以下である。

【００３０】琺瑯層の膜厚は特に限定されないが、表面
にミクロな溝があっても基材を充分に被覆する厚みがあ
ることが望ましく、通常、２０〜５００μｍ程度であれ
ばよい。

【００３１】本発明では、図２に示すように上記琺瑯層
２がさらに吸着剤４を含有していてもよい。吸着剤は、
環境を汚染し、人体に有害な大気汚染物質たとえばＮＯ
_X 、ＳＯ_X、ＶＯＣ、臭気物質、これらに由来する生成
物などを吸着しうるものであり、さらにＮＯ_X 、ＳＯ_X
の酸化により生成する硝酸、硫酸および雨水に対して化
学的に安定であり、ミクロ的に多孔質の物質が好まし
い。このような機能を有する公知の吸着剤を広く用いる
ことができるが、たとえば活性アルミナ、ゼオライト、
珪藻土、シリカゲルなどが好ましい。

【００３２】吸着剤は通常粒子状であり、その粒径は特
に限定されないが、通常は０．１〜３００μｍ好ましく
は１〜１００μｍ程度である。吸着剤の形状は特に限定
されないが、比表面積が１００ｍ² ／ｇ以上の多孔質で
あることが望ましい。また吸着剤は、琺瑯フリット１０
０ｇに対し、通常５０ｇ以下の量で用いることができ、
好ましくは５〜３０ｇの量で用いられる。

【００３３】また本発明の琺瑯材は、図３に示すように
上記琺瑯層２と基材表面１との間に、下引き琺瑯層５を
有していてもよい。琺瑯層２に上記吸着剤４を含み、下
引き琺瑯層５を有する琺瑯材の態様例を図４に示す。下
引き琺瑯層５は、基材１と琺瑯層２との密着性を高める
フリットから形成されることが望ましい。上記琺瑯層フ
リットとして例示したフリットのうちでも、琺瑯層２の
加熱（焼成）温度よりも高い加熱（焼成）温度を有する
ものが好ましく、また得られた琺瑯層の線膨張係数が基
材よりも小さく、かつ琺瑯層２よりも大きいものが好ま
しい。基材（金属）との化学反応を促進するために、釉
薬に酸化コバルト、酸化ニッケル、酸化マンガンを添加
してもよい。下引き琺瑯層５の膜厚は、２０μｍ程度以
上あればよく、通常は３０〜１００μｍ程度が好まし
い。なお、琺瑯層２、下引き琺瑯層５には、顔料や分散
剤などが含有されていても構わない。

【００３４】上記のような本発明の琺瑯材は、光触媒粒
子を含む琺瑯スラリーから容易に製造できる上、光触媒
粒子が強固に固定され、かつ光触媒機能を有する琺瑯層
の被膜強度が強く、しかも触媒有効面積が極めて広い。
このように耐久性があって高い触媒活性を示す琺瑯材
は、厳しい環境下でも使用することができ、環境浄化用
として有用である。たとえば環境中に設置して、大気中
からＮＯ_X 、ＳＯ_X 等の汚染物質を除去したり、臭気を
分解（アンモニア、メチルメルカプタン、アセトアルデ
ヒドなどのＣＯ₂ 、Ｈ₂ Ｏへの分解）することができ
る。

【００３５】

【実施例】次に本発明を実施例により具体的に説明する
が、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。 （実施例１）図１に示す構成の琺瑯材を作製した。７５
μｍ以下（２００メッシュアンダー）に粉砕した軟化点
６００℃の下記組成の琺瑯フリットＢ１００ｇに対し、
一次粒子径６ｎｍのアナターゼ型酸化チタン（ＴｉＯ₂)
（テイカ製ＡＭＴ−１００）を３０ｇ、粘度１１号を３
ｇ、ＫＣｌを０．２ｇの量で含む水性スラリーをステン
レス銅板上に吹き付け、乾燥した後６５０℃で５分間加
熱し、約１５０μｍの琺瑯層をもつ琺瑯材を作製した。

【００３６】得られた琺瑯材の表面ＳＥＭ写真（×３０
０）を図６に示す。表面に無数のミクロな溝が認められ
た。この琺瑯材は、外表面積単位当りの全表面積で示さ
れる比表面積が２４００ｍ ² ／ｍ² であった。

【００３７】（比較例１）上記において、アナターゼ型
酸化チタンを一次粒子径が３０ｎｍのものテイカ製ＡＭ
Ｔ−６００に代えた以外は実施例１と同様にして琺瑯材
を作製した。得られた琺瑯材の表面ＳＥＭ写真（×３０
０）を図７に示す。表面に凝集粒子と思われる光触媒粒
子の凹凸が確認されるが、ミクロな溝がなく、滑らかで
あることが確認でき、表面には光沢があった。この琺瑯
材は、外表面積単位当りの全表面積で示される比表面積
が１．３ｍ²／ｍ² であった。

【００３８】（実施例２）図３に示す構成の琺瑯材を作
製した。まず、７５μｍ以下に粉砕した軟化点６６０℃
の下記組成の琺瑯フリットＡに対し、粘度１１号３ｇ、
ＫＣｌを０．２ｇの量を含む水性スラリーをステンレス
鋼板上に吹き付け、乾燥後、７００℃で熱処理し、約５
０μｍの下引き琺瑯層を形成した。次に、７５μｍ以下
に粉砕した軟化点６００℃の下記組成の琺瑯フリットＢ
１００ｇに対し、一次粒子径９ｎｍの粉末アナターゼ型
酸化チタン（チタン工業製ＰＣ−１０１）を３０ｇ、粘
度１１号３ｇ、ＫＣｌを０．２ｇの量で含む水性スラリ
ーを、上記下引き琺瑯層上に吹き付け、乾燥した後、６
５０℃で５分間加熱し、約１５０μｍの琺瑯層をもつ琺
瑯材を作製した。

【００３９】

【００４０】（実施例３）前記琺瑯フリットＢ１００ｇ
に対する酸化チタン粉末の使用量を５０ｇとした以外
は、実施例２と同様にして琺瑯材を得た。

【００４１】（実施例４）図４に示す構成の琺瑯材を作
製した。前記琺瑯フリットＢ１００ｇに対して、吸着剤
として平均粒径２０μｍの活性アルミナ（Ｍｅｒｃｋ社
製）を１０ｇの割合で添加した以外は、実施例２と同様
にして琺瑯材を得た。

【００４２】（実施例５）吸着剤の種類をゼオライトＺ
ＣＰ−５０Ｓ（触媒化成工業製）に代えた以外は、実施
例４と同様にして琺瑯材を得た。

【００４３】（実施例６）吸着剤の種類を珪藻土（和光
純薬製）に代えた以外は、実施例４と同様にして琺瑯材
を得た。上記実施例２〜６で得られた各琺瑯材の表面
は、ＳＥＭ観察（×３００）により、実施例１と同様な
ミクロな溝が確認された。

【００４４】（比較例２）酸化チタン粉末を、一次粒子
径２１ｎｍのもの（日本エアロジル製Ｐ−２５）に代え
た以外は、実施例２と同様にして琺瑯材を得た。得られ
た琺瑯材は、比較例１と同様の光沢表面を有していた。
したがってこの琺瑯材の断面形態は、図５で示される。

【００４５】（比較例３）酸化チタン粉末を用いず、琺
瑯フリットのみからなる琺瑯層を形成した以外は、実施
例１と同様にして琺瑯材を得た。このサンプルの表面は
光沢を有していた。

【００４６】上記実施例２〜６および比較例２〜３で得
られた琺瑯材について、一酸化窒素（ＮＯ）浄化性能、
琺瑯層の被膜強度および被膜密着性を以下のように評価
した。結果を表２に示す。

【００４７】＜ＮＯ浄化性能の評価＞各琺瑯材のＮＯ酸
化量（硝酸生成量）を測定し、環境浄化能力を評価し
た。琺瑯材を５０ｍｍ×１００ｍｍに切り出して試験片
を作成した。試験片を、ＮＯ濃度５０ｐｐｍの雰囲気下
のチャンバー内に置き、ブラックライトにて光強度が
０．５ｍＷ／ｃｍ² の紫外光を１２時間照射した。次い
で基板を流水で洗浄し、洗浄水から生成した硝酸を回収
してイオンクロマトグラフィにより硝酸イオン（ＮＯ₃
^- ）量を測定することによりＮＯの酸化量を評価した。

【００４８】＜被膜強度＞琺瑯層を、鉛筆強度試験（Ｊ
ＩＳ Ｋ５４００）に準じて、鉛筆の芯で引掻いて被膜
の破れを調べた。破れが認められた鉛筆の一段下位の鉛
筆濃度記号（６Ｂ〜９Ｈ）を鉛筆硬度として表２に示
す。

【００４９】＜被膜密着性＞琺瑯層２が、外側となるよ
うに９０°曲げ、目視にて、曲げ部の琺瑯の欠落の有無
を観察した。結果を表２に示す。

【００５０】

【００５１】表２より、実施例で得られた琺瑯材は、同
量の光触媒を用いた比較例のものに比べても各段に環境
浄化能力が高いことがわかる。また実施例で得られる琺
瑯材は、鉛筆硬度もＨ以上であるため、石、砂などが当
っても剥離するおそれがない。

【００５２】

【発明の効果】本発明に係る琺瑯材は、容易に製造でき
る上、光触媒粒子が有効的に機能しうる状態で、強固に
固定されているため、高い環境浄化能力を示す。このよ
うな琺瑯材は、厳しい環境下でも使用可能であり、たと
えば道路に直面したガードレール、遮音壁および防護壁
などに設置して利用することもできる。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の琺瑯材の一態様例を模式的に示す部
分断面図である。

【図２】 本発明の琺瑯材の他の態様例を模式的に示す
部分断面図である。

【図３】 本発明の琺瑯材の他の態様例を模式的に示す
部分断面図である。

【図４】 本発明の琺瑯材の他の態様例を模式的に示す
部分断面図である。

【図５】 従来の光触媒層の構造を模式的に説明する部
分断面図である。

【図６】 本発明の琺瑯材の表面を示すＳＥＭ写真であ
る。

【図７】 従来の琺瑯材の表面を示すＳＥＭ写真であ
る。

【符号の説明】

１ 基材 ２ 琺瑯層 ２ａ 外部表面 ２ｂ ミクロな溝 ３ 光触媒粒子 ４ 吸着剤 ５ 下引き琺瑯層

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成１２年４月２８日（２０００．４．２
８）

【手続補正１】

【補正対象書類名】図面

【補正対象項目名】図６

【補正方法】変更

【補正内容】

【図６】

【手続補正２】

【補正対象書類名】図面

【補正対象項目名】図７

【補正方法】変更

【補正内容】

【図７】

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｂ０１Ｊ 21/06 Ｂ０１Ｄ 53/36 ＺＡＢＪ 35/02 １０４Ａ (72)発明者 永石 博 千葉県習志野市東習志野２丁目18番13号 川鉄建材株式会社習志野工場内 Ｆターム(参考） 4D048 AA02 AA06 BA03X BA04X BA06X BA07X BA07Y BA12X BA12Y BA14X BA41X BB03 CC04 EA01 EA04 4G069 AA03 AA08 BA01B BA02B BA04A BA04B BA14A BA14B BA48A BB06A BB06B BC02B BC03B BD15B CA02 CA03 CA12 CA13 DA06 EA08 EA14 EB18X EB18Y FA03 FB23 FB30 FB32

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】基材表面に、分散状態の光触媒粒子を含む
   琺瑯層を有し、かつ該琺瑯層の外部表面は該光触媒粒子
   の一次粒子径よりは大きい多数のミクロな溝を有する琺
   瑯材。
2. 【請求項２】前記琺瑯層が、琺瑯フリットと、一次粒子
   径２０ｎｍ未満の光触媒粒子とを含む混合スラリーから
   形成される請求項１に記載の琺瑯材。
3. 【請求項３】前記琺瑯層が、さらに吸着剤を含有する請
   求項１または２に記載の琺瑯材。
4. 【請求項４】前記琺瑯層と基材表面との間に、下引き琺
   瑯層を有する請求項１〜３のいずれかに記載の琺瑯材。