KR100929713B1 - 유체 제어 장치 및 열처리 장치 - Google Patents

유체 제어 장치 및 열처리 장치 Download PDF

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Abstract

하나의 가스 라인(13)에 유량 제어기(13g)를 설치하고, 또한 가스 라인(13)의 유량 제어기(13g)의 상류측에 압력 제어계 영역(14)을 설치한다. 가스 라인(13)의 상류단부로부터 가스 라인(13)과 직교하는 방향으로 연장되는 연장부(15)를 설치하고, 연장부(15)에 다른 종류의 처리 가스(A, B, C)의 공급원을 접속한다.
유량 제어기, 반응 처리로, 퍼지 가스, 압력 센서, 압력 조정기

Description

유체 제어 장치 및 열처리 장치{FLUID CONTROL APPARATUS AND HEAT TREATMENT SYSTEM}
본 발명은 유체 제어 장치 및 상기 유체 제어 장치를 구비한 열처리 장치에 관한 것이다.
반도체 제조 공정의 성막 공정에서는 복수 종류의 가스를 조합하여 사용하여 반도체 웨이퍼 상에 성막이 실시된다. 성막 공정에서는 많은 종류의 가스(예를 들어, H2, O2, SiH4, N2 등)를 시간 경과에 따라 바꾸어 사용하거나, 또는 동일 종류의 가스를 다른 유량으로 사용하는 일이 종종 있다.
도10은 반도체 제조 장치의 반응 처리로 내에 복수 종류의 가스를 공급하는 종래의 가스 공급 시스템의 계통도이다. 가스 공급 시스템은 다른 가스를 각각 공급하는 복수의 처리 가스 라인(a 내지 d)과, 퍼지 가스를 공급하는 퍼지 가스 라인(p)으로 구성되어 있다.
각 처리 가스 라인(a 내지 d)에는 질량 유량 제어기 등의 유량 제어기(1)가 설치되어 있다. 유량 제어기(1)의 상류측에는 절환 밸브(2), 필터(3), 압력 조정기(4) 및 압력 센서(5) 및 제어 밸브(2a)가 설치되어 있다. 또한, 퍼지 가스 라인(p)으로부터 분기한 분기 라인(p')이 유량 제어기(1)의 1차측에 연결되어 있다.
도10에 도시한 가스 공급 시스템에 있어서는 1종류의 가스에 대해 하나의 가스 라인이 설치되고, 또한 하나의 가스 라인에 1개씩 유량 제어기가 설치되어 있다. 즉, 많은 종류의 가스 공급을 행하기 위해, 가스의 종류의 수에 대응한 수의 가스 라인 및 유량 제어기를 사용하고 있다. 이는 가스 공급 시스템의 비용 증가 및 점유 공간(footprint)의 증대 등의 문제로 이어진다.
일본 특허 공보 : 일본 특허 공개 2000-323464호에는, 도11에 도시한 바와 같이 복수의 가스 공급 라인(a, b, c)에서 하나의 유량 제어기(1)를 공용하고 있는 가스 공급 시스템이 개시되어 있다. 도11에 도시한 가스 공급 시스템은 다른 가스를 각각이 공급하는 복수의 처리 가스 라인(a 내지 d)과, 퍼지 가스(p)를 공급하는 퍼지 가스 라인(p)으로 구성되어 있다. 각 가스 라인(a 내지 d)에는 절환 밸브(7), 필터(8), 압력 조정기(10) 및 압력 센서(9)가 설치되어 있다. 가스 라인(a)에는 가스 라인(a 내지 c)에서 공용하는 질량 유량 제어기 등의 유량 제어기(6)가 설치되어 있다. 가스 라인(d)에는 전용의 유량 제어기(6)가 설치되어 있다. 퍼지 가스 라인(p)으로부터 분기하는 라인(p')이 각 유량 제어기(6)의 1차측에 연결되어 있다.
도11에 도시한 구성에 따르면, 가스 라인(a 내지 c)에서 유량 제어기(6)를 공용하고 있으므로, 그 만큼만 가스 공급 시스템의 비용 절감 및 소형화를 달성할 수 있다. 그러나, 도11에 도시한 가스 공급 시스템에서는 각 가스 라인(a 내지 c) 이 절환 밸브(7), 필터(8), 압력 조정기(10) 및 압력 센서(9)를 구비하고 있기 때문에 시스템의 소형화를 충분히 달성할 수 없다.
본 발명은 복수 종류의 가스를 제어하여 공급하는 장치(즉, 유체 제어 장치)의 소형화 및 저비용화를 도모하는 것을 목적으로 하고 있다. 또한, 본 발명은 가스 종류의 증감에 용이하게 대응할 수 있는 유체 제어 장치의 제공을 목적으로 하고 있다. 본 발명의 다른 목적은 상술한 유체 제어 장치를 구비한 열처리 장치를 제공하는 데 있다.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 유량 제어 수단이 배치된 제1 영역과, 상기 제1 영역의 상류측에 위치하는 동시에 압력 조정 수단 및 압력 감시 수단 중 적어도 어느 하나가 배치된 제2 영역을 갖는 가스 라인과, 상기 가스 라인의 상기 제2 영역의 상류측에 설치되고, 각각에 유체 공급원을 접속 가능한 복수의 접속 수단을 구비한 유체 제어 장치를 제공한다.
적합하게는, 상기 가스 라인은 상기 제1 및 제2 영역을 포함하는 제1 부분과, 상기 제1 부분의 상류단으로부터 상기 제1 부분에 직교하는 방향으로 연장되는 제2 부분을 갖고 있고, 상기 복수의 접속 수단은 상기 제2 부분에 설치된다.
또한, 본 발명은 적어도 제1 평면 상에 있어서 서로 평행하게 제1 방향으로 연장되는 복수의 가스 라인이며, 이들 복수의 가스 라인의 각각이, 유량 제어 수단이 배치된 제1 영역과, 상기 제1 영역의 상류측에 위치하는 동시에 압력 조정 수단 및 압력 감시 수단 중 적어도 어느 하나가 배치된 제2 영역을 갖고 있는 복수의 가 스 라인과, 상기 복수의 가스 라인 중 적어도 하나의 가스 라인에 설치되고 각각에 유체 공급원을 접속 가능한 복수의 접속 수단을 구비하고, 상기 적어도 하나의 가스 라인은 상기 제1 영역 및 제2 영역을 포함하는 동시에 상기 제1 평면 상에 있어서 상기 제1 방향으로 연장되는 제1 부분과, 상기 제1 부분의 상류단으로부터 상기 제1 평면과 직교하는 제2 평면 상을 상기 제1 방향과 직교하는 제2 방향으로 연장되는 제2 부분을 갖고 있고, 상기 복수의 접속 수단은 상기 제2 부분에 설치되어 있는 유체 제어 장치를 제공한다.
적합하게는, 상기 접속 수단은 상기 가스 라인에 설치된 복수의 3방향 밸브로 구성된다. 이 경우, 상기 각 3방향 밸브는 각각 제1, 제2 및 제3 포트를 갖고, 상기 각 3방향 밸브의 제1 포트는 각각 유체 공급원에 접속되도록 되어 있고, 서로 인접하는 3방향 밸브 중 상류측 3방향 밸브의 제2 포트는 하류측에 있는 3방향 밸브의 제3 포트에 접속되고, 가장 하류측에 있는 3방향 밸브의 제3 포트는 상기 가스 라인의 제2 영역에 접속되고, 가장 상류측에 있는 3방향 밸브의 제2 포트에 퍼지 가스가 공급되도록 되어 있다.
또한, 본 발명은 상술한 구성을 갖는 유체 제어 장치와, 상기 유체 제어 장치를 거쳐서 유체가 공급되는 반응 처리로를 구비한 열처리 장치를 제공한다.
도1은 본 발명에 따른 유체 제어 장치의 일 실시예를 도시하는 계통도.
도2는 도1에 도시한 유체 제어 장치에 있어서 복수의 가스 공급원이 접속되는 가스 라인의 구성을 도시하는 단면도로서, 가스 라인에 처리 가스가 통과되고 있는 상태를 도시하는 도면.
도3은 도2에 도시한 가스 라인을 화살표 Ⅲ 방향으로부터 본 정면도.
도4는 도2와 동일한 단면도로서, 가스 라인에 퍼지 가스가 통과되고 있는 상태를 도시하는 도면.
도5는 도4에 도시한 가스 라인을 화살표 V 방향으로부터 본 정면도.
도6은 도2에 도시한 가스 라인의 다른 형태를 도시하는 도면으로서, 가스 라인에 처리 가스가 통과되고 있는 상태를 도시하는 도면.
도7은 도6의 Ⅶ-Ⅶ 단면을 도시하는 도면.
도8은 도6과 동일한 단면도로서, 가스 라인에 퍼지 가스가 통과되고 있는 상태를 도시하는 도면.
도9는 도8의 Ⅸ-Ⅸ 단면을 도시하는 도면.
도10은 종래의 가스 공급 시스템을 도시하는 개략 계통도.
도11은 다른 종래의 가스 공급 시스템을 도시하는 개략 계통도.
본 발명의 적합한 실시예를 도면을 기초로 하여 설명한다.
도1은, 본 발명에 따른 유체 제어 장치를 구비한 열처리 장치의 일 실시예를 도시하는 계통도이다. 열처리 장치는 유체 제어 장치(11)를 포함하는 가스 공급 시스템과, 반응 처리로(32)를 구비하고 있다. 반응 처리로(32)는 기판을 수용하여 상기 기판에 산화 처리 또는 CVD 등의 열처리를 행하는 것이고, 공지의 적당한 노를 이용할 수 있다.
유체 제어 장치(11)는 반응 처리로(32)에 가스를 공급하기 위한, 등간격으로 배치된 복수의 가스 라인(12, 13, 23)을 포함한다. 각 가스 라인은 대개 수직으로 연장되는 제1 수직 평면 내에서 연장되어 있다.
도1에 있어서 좌단의 라인(12)은 N2 등의 퍼지 가스(P)를 공급하기 위한 퍼지 가스 라인이다. 퍼지 가스 라인(12)에는 가스 공급구(12a), 수동 밸브(12b), 필터(12c), 압력 조정기(12d), 압력 센서(12e), 제어 밸브(12f), 유량 제어기(12g) 및 필터(12h)가 상류측으로부터 이 순서로 설치되어 있다.
가스 라인(13)은 복수 종류의 처리 가스(예를 들어, H2, O2, N2, SiH4 등)를 공급하기 위한 처리 가스 라인이다. 도1 내지 도5에 도시한 바와 같이, 처리 가스 라인(13)은 유량 제어기(13g)가 설치된 유량 제어계 영역(제1 영역)과, 상기 유량 제어기의 상류측에 설치된 압력 제어계 영역(14)(제2 영역)을 갖는다. 압력 제어계 영역(14)에는 수동 밸브(13b), 필터(13c), 압력 조정기(13d), 압력 센서(13e), 제어 밸브(13f), 필터(13h) 및 제어 밸브(13i)가 설치되어 있다.
가스 라인(13)의 상류측 단부에는 복수의 가스 공급원(A, B, C)이 접속되어 있다. 특히 도2에 도시한 바와 같이, 수직 방향으로 연장되는 가스 라인(13)은 그 상류 단부인 하단부에 있어서, 대략 90도 방향을 바꾸어 상기 제1 수직 평면과 직교하는 방향으로 연장된다. 이하, 가스 라인(13)의 수평 방향 연장 부분을 가스 라인(13)의 연장부(15)로 하는 것으로 한다. 또, 가스 라인(13)의 수직 방향 연신 부분 및 연장부(15)는 상기 제1 수직 평면과 직교하는 동시에 수직 방향으로 연장 되는 제2 수직 평면 내에 위치한다.
가스 라인(13)의 연장부(15)에는 액추에이터가 장착된 3방향 밸브(17, 18, 19)가 직렬로 설치되어 있다. 3방향 밸브(17, 18, 19)의 제1 포트(17a, 18a, 19a)는 가스 공급원(A, B, C)에 각각 접속되는 가스 공급관(16a, 16b, 16c)에 각각 접속되어 있다. 3방향 밸브(18)의 제2 및 제3 포트(18b, 18c)는 3방향 밸브(17)의 제3 포트(17c) 및 3방향 밸브(19)의 제2 포트(19b)에 각각 접속되어 있다. 3방향 밸브(17)의 제2 포트(17b)는 액추에이터가 장착된 2방향 밸브(20) 및 체크 밸브(21)를 거쳐서 퍼지 가스(P)를 공급하는 라인(22)에 접속되어 있다. 3방향 밸브(19)의 제3 포트(19c)는 가스 라인(13)의 수직 방향 연신 부분에 통하고 있다.
3방향 밸브(17, 18, 19)의 제2 및 제3 포트(17b, 17c, 18b, 18c, 19b, 19c)는 항상 연통하고 있다. 각 3방향 밸브(17, 18, 19)의 액추에이터는 상기 3방향 밸브에 내장된 다이어프램 형태의 밸브 부재를 움직여 제1 포트가 제2 및 제3 포트와 연통한 상태와 상기 연통이 차단된 상태를 절환한다.
다시 도1을 참조하면, 가스 라인(13)에 인접하여 가스 라인(23)이 배치되어 있다. 가스 라인(23)에는 가스 공급원(D)으로부터 가스가 공급된다. 가스 공급 라인(23)에도 가스 라인(13)과 마찬가지로 가스 공급구(23a), 수동 밸브(23b), 필터(23c), 압력 조정기(23d), 압력 센서(23e), 제어 밸브(23f) 및 유량 제어기(23g)가 설치되어 있다.
도1 및 도4에 도시한 바와 같이, 퍼지 가스 라인(12)으로부터 전술한 라인(22)이 분기되어 있고, 이 라인(22)은 2방향 밸브(20)를 거쳐서 3방향 밸브(17)의 제2 포트(17b)에 접속되어 있다.
퍼지 가스 라인(12)으로부터, 또한 분기 라인(25)이 분기되어 있다. 분기 라인(25)은 가스 라인(13)의 유량 제어기(13g)의 1차측에, 바꿔 말하면 압력 제어계 영역(14)의 하류측에 접속되어 있다. 분기 라인(25)에는 제어 밸브(25a)와 체크 밸브(25b)가 설치되어 있다. 가스 라인(13)으로부터 반응 처리로(32)에 동일한 종류의 가스를 복수회 공급하는 경우 등의 압력 제어계 영역(14)을 퍼지할 필요가 없는 경우에는, 제어 밸브(13f)를 폐쇄한 상태에서 분기 라인(25)으로부터 가스 라인(13)으로 퍼지 가스를 이송 도입하여 가스 라인(13)의 압력 제어계 영역(14)으로부터 하류측만을 퍼지할 수 있다. 또한, 분기 라인(25)은 도중에 다시 분기되어 가스 라인(23)의 유량 제어기(23g)의 1차측에 접속되어 있다.
상기의 유체 제어 장치(11)는 단일의 집적 구조 유닛(26)으로서 구성되어 있다. 집적 구조 유닛(26)은 상기 제1 수직 평면을 따라서 연장되는 베이스판(27)과, 상기 제2 수직 평면을 따라서 연장되는 베이스판(28)을 갖는다. 베이스판(28)의 폭은 가스 라인(13)의 폭과 동등하다. 베이스판(27, 28) 상에는 복수의 결합 블럭(26a)이 부착되어 있다. 유량 제어기(12g, 13g, 23g), 수동 밸브(12b, 13b, 23b), 필터(12c, 13c, 23c), 압력 조정기(12d, 13d, 23d) 및 3방향 밸브(17, 18, 19) 및 2방향 밸브(20) 등의 기능 부재는 블럭[예를 들어 밸브 블럭(26b)] 상에 탑재된다. 이들 기능 부재용 블럭은 결합 블럭(26a)을 거쳐서 서로 기밀하게 접속된다.
다음에 작용에 대해 설명한다.
처리 가스(B)를 반응 처리로(32)에 공급하는 경우에는 2방향 밸브(20)를 폐쇄한 상태에서 3방향 밸브(18)를 개방한다. 처리 가스(B)는 연장부(15)로부터 가스 라인(13)으로 도입되어 가스 라인(13)의 압력 제어계 영역(14)을 통과할 때에 소정의 압력으로 제어되고, 또한 유량 제어기(13)에 의해 소정의 유량으로 제어되어, 마지막으로 처리 반응로(32) 내로 도입된다(도2 및 도3 참조).
다음에, 처리 가스(B)와는 다른 처리 가스, 예를 들어 처리 가스(A)를 반응 처리로(32)에 공급하는 경우에는, 그에 앞서 가스 라인(13) 및 그 연장부(15) 내부가 퍼지 가스(P)에 의해 퍼지된다. 이 경우, 3방향 밸브(17, 18, 19)를 폐쇄하여 2방향 밸브(20)를 개방하면 퍼지 가스(P)가 가스 라인(13) 및 그 연장부(15)에 공급되고, 이에 의해 가스 라인(13) 및 그 연장부(15)의 전체가 퍼지된다. 이 때, 퍼지 가스(P)가 공급되지 않은 사장 영역(dead area)[그 전에 사용한 처리 가스(B)가 잔존하여 침지되는 영역]은 없고, 처리 가스(B)가 가스 라인(13) 및 그 연장부(15) 내에 잔류하는 일은 없다(도4 및 도5 참조). 퍼지가 종료되면, 2방향 밸브(20)를 폐쇄하고, 3방향 밸브(17)를 개방한다. 이에 의해 처리 가스(A)가 반응 처리로(32)에 공급된다.
이상 설명한 바와 같이, 상기의 실시예에 있어서는 하나의(1계통의) 가스 라인에 유량 제어 영역과 압력 제어계 영역을 제공하고, 이 하나의 가스 공급 라인을 복수 종류의 가스 공급을 위해 공용하고 있다. 이로 인해, 유체 제어 장치의 대폭적인 비용 절감을 달성할 수 있다. 또한, 라인수의 삭감에 의해 유체 제어 장치의 콤팩트화를 도모할 수도 있다. 구체적으로는 도10 및 도11에 도시한 종래 장치에 비해, 도1에 도시한 폭 X만큼 유체 제어 장치를 소형화할 수 있다. 또는, 가스 종류의 증설도 매우 용이하게 행할 수 있다. 또한, 가스 라인의 공용화에는 이하의 조건이 필요하다 : (1) 가스끼리를 혼합해도 가스 라인 내에서는 반응하지 않는 것, (2) 가스가 반응 처리로에 동시에 공급되는 일은 없는 것, (3) 각 가스의 유량 범위가 가까운 것. 예를 들어, 처리 가스(A, B, C)의 조합은 SiH4 가스, Si2H2 Cl 가스, Si2Cl6 가스의 조합, 혹은 NH3 가스, N2H4 가스, NXHY 가스의 조합으로 할 수 있다.
또한, 상기 실시예에 있어서는 하나의 가스 라인(13)에만 복수 종류의 가스 공급원을 접속하고 있지만, 복수의 가스 라인에 각각 복수 종류의 가스 공급원을 접속할 수 있다. 이 경우, 예를 들어 제1 가스 라인(13)에 SiH4 가스 공급원, Si2H2Cl 가스 공급원 및 Si2Cl6 가스 공급원을 접속하고, 제1 가스 라인(13)과 같은 구성을 갖는 제2 가스 라인에 NH3 가스 공급원, N2H4 가스 공급원 및 N XHY 가스 공급원을 접속할 수 있다. 또한, 제2 가스 라인에는 제1 가스 라인(13)과 마찬가지로 퍼지 가스 라인(22)이 접속된다.
또한, 상기 실시예에 있어서는, 압력 제어계 영역에는 압력 조정 수단인 압력 조정기(13d) 및 압력 감시 수단인 압력 센서(13e)의 양쪽이 설치되어 있지만, 이에 한정되지 않는다. 예를 들어, 처리 가스가 저증기압 가스인 경우에는 적극적으로 압력 조정을 행하지 않는 경우가 있고, 이와 같은 경우에는 압력 조정기(13d) 를 설치하지 않아도 좋다.
상기 실시예에 있어서, 유량 제어기(12g, 13g, 23g)로서는 질량 유량 제어기가 사용되지만, 이에 한정되는 일 없이 압력식 유량 제어기를 사용해도 좋다.
또한, 유량 제어기(12g, 13g, 23g)로서 디지털 질량 유량 제어기를 사용하는 것이 적합하다. 그렇게 하면, 각 가스에 요구되는 공급 유량이 어느 정도 달라져 있다고 해도 그에 대응할 수 있다. 디지털 MFC에는 기준 가스와 기준 유량에 대응하는 유량 제어 특성 곡선만이 저장된다. 다른 가스를 다른 유량으로 제어하는 경우에는 1종류의 기준 가스 및 그 기준 유량에 대한 변환 계수를 사전에 실험적으로 구해 둔다. 그리고, 다른 가스를 다른 유량으로 제어하는 경우에는 실제 가스 유량의 측정치와 상기 변환 계수로부터 근사적인 보상치를 연산하고, 상기 보상치를 기초로 하여 유량 제어 특성 곡선을 보정하여 가스의 유량 제어를 행한다. 이에 의해, 다수의 이종 가스 및 넓은 유량 범위에 대응할 수 있다. 물론, 동일한 가스를 다른 유량으로 제어하는 경우도 같은 제어가 가능하다.
도6 내지 도9는 유체 제어 장치의 다른 실시예를 나타내고 있다. 이들 도면에 있어서, 도1 내지 도5에 기재한 부재와 동일한 부재에는 동일 부호를 붙여 중복된 설명은 생략한다. 도6 내지 도9에 도시한 실시예에 있어서도 하나의 가스 라인(13)에, 질량 유량 제어기 등의 유량 제어기(13g)(도6 내지 도9에는 도시하지 않음)를 설치하여 유량 제어기(13g)의 상류측에 압력 제어계 영역(14)을 설치하고 있는 점은 동일하다. 도6 내지 도9에 도시한 실시예에서는, 상기 제1 수직 평면 상을 연장하는 가스 라인(13)은 그 상류 단부인 하단부에 있어서, 대략 90도 방향 을 바꾸지만 계속해서 상기 제1 수직 평면 상을 횡방향으로 연장한다. 이하, 가스 라인(13)의 수평 방향 연장 부분을 연장부(30)라 하는 것으로 한다.
연장부(30)에는, 처리 가스 공급원(A, B, C)에 각각 접속되는 가스 공급관(29a, 29b, 29c)이 접속되어 있다. 연장부(30)의 가장 상류측에는 퍼지 가스 공급원(P)에 접속되는 퍼지 가스 공급관(31)이 접속되어 있다. 각 가스 공급관(29a, 29b, 29c, 31)에는 2방향 밸브(32)(개폐 밸브)가 각각 설치되어 있다.
도6 내지 도9에 도시한 실시예에서는 가스 공급관(29a, 29b, 29c)의 2방향 밸브의 하류측과 가스 라인의 연장부(30) 사이에 사장 영역(V)(가스가 잔존하여 침지되는 영역)이 발생하기 때문에 가스가 잔류한다(도6 및 도7 참조). 그 경우, 도8 및 도9에 도시한 바와 같이 퍼지 가스를 공급하면 사장 영역(V)에 잔류하고 있는 가스는 퍼지할 수 없다.
도6 내지 도9에 도시하는 실시예에 있어서도 다른 종류의 가스를 하나의(1계통의) 가스 라인에서 공급 가능하므로 유체 제어 장치의 저비용화를 도1 내지 도5에 도시한 실시예와 마찬가지로 도모할 수 있다. 그러나, 도6 내지 도9에 도시하는 실시예는 가스 라인의 연장부(30)가 횡방향으로 연장되어 있으므로, 라인수의 삭감 효과는 있지만, 라인수의 삭감을 기초로 하는 유체 제어 장치의 소형화의 효과는 도1 내지 도5에 도시하는 실시예와 비교하면 열화된다. 또한, 사장 영역(V)이 불가피하게 발생해 버리는 점에 있어서도 도6 내지 도9에 도시하는 실시예는 도1 내지 도5에 도시하는 실시예와 비교하여 열화된다.

Claims (12)

  1. 유체 제어 장치에 있어서,
    유량 제어 수단이 배치된 제1 영역과, 상기 제1 영역의 상류측에 위치하는 동시에 압력 조정 수단 및 압력 감시 수단 중 적어도 어느 하나가 배치된 제2 영역을 갖는 가스 라인과,
    상기 가스 라인의 상기 제2 영역의 상류측에 설치되고, 각각에 유체 공급원을 접속 가능한 복수의 접속 수단을 구비하고,
    상기 접속 수단은 상기 가스 라인에 설치된 복수의 3방향 밸브로 이루어지고,
    상기 각 3방향 밸브는 각각 제1, 제2 및 제3 포트를 갖고,
    상기 각 3방향 밸브의 제1 포트는 각각 유체 공급원에 접속되도록 되어 있고,
    서로 인접하는 3방향 밸브 중 상류측 3방향 밸브의 제2 포트는 하류측에 있는 3방향 밸브의 제3 포트에 접속되고,
    가장 하류측에 있는 3방향 밸브의 제3 포트는 상기 가스 라인의 제2 영역에 접속되고,
    가장 상류측에 있는 3방향 밸브의 제2 포트에 퍼지 가스가 공급되도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 유체 제어 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 유량 제어 수단은 질량 유량 제어기 또는 압력식 유량 제어기인 것을 특징으로 하는 유체 제어 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 압력 조정 수단은 압력 조정기이고,
    상기 압력 감시 수단은 압력 센서인 것을 특징으로 하는 유체 제어 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 가스 라인은 상기 제1 및 제2 영역을 포함하는 제1 부분과,
    상기 제1 부분의 상류 단부로부터 상기 제1 부분에 직교하는 방향으로 연장되는 제2 부분을 갖고 있고,
    상기 복수의 접속 수단은 상기 제2 부분에 설치되어 있는 것을 특징으로 하 는 유체 제어 장치.
  5. 삭제
  6. 제1항에 있어서, 상기 유체 제어 장치는 집적 구조 유닛으로서 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 유체 제어 장치.
  7. 유체 제어 장치에 있어서,
    적어도 제1 평면 상에 있어서 서로 평행하게 제1 방향으로 연장되는 복수의 가스 라인이고, 이들 복수의 가스 라인의 각각이, 유량 제어 수단이 배치된 제1 영역과, 상기 제1 영역의 상류측에 위치하는 동시에 압력 조정 수단 및 압력 감시 수단 중 적어도 어느 하나가 배치된 제2 영역을 갖고 있는 복수의 가스 라인과,
    상기 복수의 가스 라인 중 적어도 하나의 가스 라인에 설치되고, 각각에 유체 공급원을 접속 가능한 복수의 접속 수단을 구비하고,
    상기 적어도 하나의 가스 라인은 상기 제1 영역 및 제2 영역을 포함하는 동시에 상기 제1 평면 상에 있어서 상기 제1 방향으로 연장되는 제1 부분과, 상기 제1 부분의 상류 단부로부터 상기 제1 평면과 직교하는 제2 평면 상을 상기 제1 방향과 직교하는 제2 방향으로 연장되는 제2 부분을 갖고 있고,
    상기 복수의 접속 수단은 상기 제2 부분에 제공되어 있고,
    상기 접속 수단은 상기 적어도 하나의 가스 라인에 설치된 복수의 3방향 밸브로 이루어지고,
    상기 각 3방향 밸브는 각각 제1, 제2 및 제3 포트를 갖고,
    상기 각 3방향 밸브의 제1 포트는 각각 유체 공급원에 접속되도록 되어 있고,
    서로 인접하는 3방향 밸브 중 상류측의 3방향 밸브의 제2 포트는 하류측에 있는 3방향 밸브의 제3 포트에 접속되고,
    가장 하류측에 있는 3방향 밸브의 제3 포트는 상기 가스 라인의 제2 영역에 접속되고,
    가장 상류측에 있는 3방향 밸브의 제2 포트에 퍼지 가스가 공급되도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 유체 제어 장치.
  8. 제7항에 있어서, 상기 유량 제어 수단은 질량 유량 제어기 또는 압력식 유량 제어기인 것을 특징으로 하는 유체 제어 장치.
  9. 제7항에 있어서, 상기 압력 조정 수단은 압력 조정기이고,
    상기 압력 감시 수단은 압력 센서인 것을 특징으로 하는 유체 제어 장치.
  10. 삭제
  11. 제7항에 있어서, 상기 유량 제어 수단 및 상기 압력 조정 수단은 집적 구조 유닛으로서 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 유체 제어 장치.
  12. 열처리 장치에 있어서,
    제1항 또는 제7항에 기재된 유체 제어 장치와,
    상기 유체 제어 장치를 거쳐서 유체가 공급되는 반응 처리로를 구비한 것을 특징으로 하는 열처리 장치.
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