JP2546520B2 - 流量制御装置 - Google Patents
流量制御装置Info
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- JP2546520B2 JP2546520B2 JP5287890A JP28789093A JP2546520B2 JP 2546520 B2 JP2546520 B2 JP 2546520B2 JP 5287890 A JP5287890 A JP 5287890A JP 28789093 A JP28789093 A JP 28789093A JP 2546520 B2 JP2546520 B2 JP 2546520B2
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-
- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05D—SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES
- G05D7/00—Control of flow
- G05D7/06—Control of flow characterised by the use of electric means
- G05D7/0617—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials
- G05D7/0629—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means
- G05D7/0635—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means
- G05D7/0641—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means using a plurality of throttling means
- G05D7/0652—Control of flow characterised by the use of electric means specially adapted for fluid materials characterised by the type of regulator means by action on throttling means using a plurality of throttling means the plurality of throttling means being arranged in parallel
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はガス供給装置より一定の
流量で送られるガスの流量を広範囲に調節して導出でき
る流量制御装置に関する。
流量で送られるガスの流量を広範囲に調節して導出でき
る流量制御装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、半導体装置の製造工程には、半導
体基板に薄膜を形成したり、この薄膜を選択的にエッチ
ングしたりする工程が多々含んでおり、これら工程で使
用される設備にはＣＶＤ装置あるいはドライエッチング
装置などがある。これら設備にはそれぞれガスを処理室
に供給するガス供給装置が付設され、種々のガスが使用
されていた。また、条件によっては一種類のガスでも１
〜１００ｃｃ／ｍｉｎのようにガス流量が小さいものか
ら、３００ｃｃ／ｍｉｎといった大きな流量を必要とす
る処理条件もあった。しかも、これらガス流量の精度も
プラスマイナス１パーセントに制御しなければならなか
った。
体基板に薄膜を形成したり、この薄膜を選択的にエッチ
ングしたりする工程が多々含んでおり、これら工程で使
用される設備にはＣＶＤ装置あるいはドライエッチング
装置などがある。これら設備にはそれぞれガスを処理室
に供給するガス供給装置が付設され、種々のガスが使用
されていた。また、条件によっては一種類のガスでも１
〜１００ｃｃ／ｍｉｎのようにガス流量が小さいものか
ら、３００ｃｃ／ｍｉｎといった大きな流量を必要とす
る処理条件もあった。しかも、これらガス流量の精度も
プラスマイナス１パーセントに制御しなければならなか
った。
【０００３】図３は従来の流量制御装置の一例を説明す
るためのガス供給システムの構成を示す模式図、図４は
図３のマスフローコントローラの構造を示す模式図であ
る。従来、この種の流量制御装置は、例えば、図４に示
すように、ガスボンベ２０から供給されるガスを導入し
独立に流量を制御し流量調節範囲が異なる複数の流量制
御装置であるマスフローコントローラ１３ａ，１３ｂ，
１３ｃを並列に繋ぎ、マスフローコントローラ１３ａ，
１３ｂ，１３ｃのそれぞれの後段に開閉バルブ１４を取
付けた構造である。そして、これらバルブ１４を任意に
開閉してマスフローコントローラ１３ａ，１３ｂ，１３
ｃの一系統か二系統かあるいは三系統にするかで流量範
囲を設定し、設定された流量範囲で制御しガスを処理室
２１に供給する。
るためのガス供給システムの構成を示す模式図、図４は
図３のマスフローコントローラの構造を示す模式図であ
る。従来、この種の流量制御装置は、例えば、図４に示
すように、ガスボンベ２０から供給されるガスを導入し
独立に流量を制御し流量調節範囲が異なる複数の流量制
御装置であるマスフローコントローラ１３ａ，１３ｂ，
１３ｃを並列に繋ぎ、マスフローコントローラ１３ａ，
１３ｂ，１３ｃのそれぞれの後段に開閉バルブ１４を取
付けた構造である。そして、これらバルブ１４を任意に
開閉してマスフローコントローラ１３ａ，１３ｂ，１３
ｃの一系統か二系統かあるいは三系統にするかで流量範
囲を設定し、設定された流量範囲で制御しガスを処理室
２１に供給する。
【０００４】独立した一つの流量制御装置であるマスフ
ローコントローラは、図４に示すように、内部に流量抵
抗をもつ主配管４と、この主配管４から分岐されるバイ
パス配管３と、このバイパス配管の上流側と下流側との
外周囲に巻き付けられる二つのヒータ８で構成されるセ
ンサ部２と、ヒータ８の抵抗と基準抵抗とでブリッジに
結線するブリッジ回路１８と、主配管４の下流側に取付
けられた流量制御バルブ７と、ブリッジ回路１８の出力
を入力し流量制御バルブ７の開度を制御する制御・電源
部とから構成されている。
ローコントローラは、図４に示すように、内部に流量抵
抗をもつ主配管４と、この主配管４から分岐されるバイ
パス配管３と、このバイパス配管の上流側と下流側との
外周囲に巻き付けられる二つのヒータ８で構成されるセ
ンサ部２と、ヒータ８の抵抗と基準抵抗とでブリッジに
結線するブリッジ回路１８と、主配管４の下流側に取付
けられた流量制御バルブ７と、ブリッジ回路１８の出力
を入力し流量制御バルブ７の開度を制御する制御・電源
部とから構成されている。
【０００５】このマスフローコントローラ１３ａ〜１３
ｃの動作は、主配管４より導入されたガスの一部はバイ
パス配管３に流れ込み、センサ部２で流量を検知し、ブ
リッジ回路１８より信号を制御・電源部２２ａ〜２２ｃ
に出力し設定値と比較し流量制御バルブ７の開度を制御
し全流量を設定する。センサ部２は、ガスが流れること
によって生じる二つのヒータ８の温度差を電気抵抗の変
化とし、ブリッジ回路１８を用い電気信号に変換する。
また、合流するガスの流量を換算できるように、バイパ
ス配管３と主配管４の流量比（主配管の流量／バイパス
配管の流量）、すなわち分流比は固定されている。
ｃの動作は、主配管４より導入されたガスの一部はバイ
パス配管３に流れ込み、センサ部２で流量を検知し、ブ
リッジ回路１８より信号を制御・電源部２２ａ〜２２ｃ
に出力し設定値と比較し流量制御バルブ７の開度を制御
し全流量を設定する。センサ部２は、ガスが流れること
によって生じる二つのヒータ８の温度差を電気抵抗の変
化とし、ブリッジ回路１８を用い電気信号に変換する。
また、合流するガスの流量を換算できるように、バイパ
ス配管３と主配管４の流量比（主配管の流量／バイパス
配管の流量）、すなわち分流比は固定されている。
【０００６】この分流比は大きくしないことが精度を保
つために必要となるが、センサ部の構造から数ｃｃ／ｍ
ｉｎ〜１０ｃｃ／ｍｉｎしかガスが流せないため、おの
ずから分流比を小さく抑えるには限界がある。従って、
全流量の最大値が大きい方が小さいものに比べ低流量側
での精度が悪くなる。通常、精度は最大流量値の±１％
程度である。ここで、仮に、流量範囲を１〜３００ｃｃ
／ｍｉｎ流すとすると、最大流量値が３００ｃｃ／ｍｉ
ｎの流量制御装置の一台で流す場合は、１±３〜３００
±３ｃｃ／ｍｉｎとなり、低流量側の精度が悪くなる。
つために必要となるが、センサ部の構造から数ｃｃ／ｍ
ｉｎ〜１０ｃｃ／ｍｉｎしかガスが流せないため、おの
ずから分流比を小さく抑えるには限界がある。従って、
全流量の最大値が大きい方が小さいものに比べ低流量側
での精度が悪くなる。通常、精度は最大流量値の±１％
程度である。ここで、仮に、流量範囲を１〜３００ｃｃ
／ｍｉｎ流すとすると、最大流量値が３００ｃｃ／ｍｉ
ｎの流量制御装置の一台で流す場合は、１±３〜３００
±３ｃｃ／ｍｉｎとなり、低流量側の精度が悪くなる。
【０００７】そこで、より高い精度の流量を得るため
に、最大流量値１００ｃｃ／ｍｉｎと最大流量値２００
ｃｃ／ｍｉｎと最大流量値３００ｃｃ／ｍｉｎの流量制
御装置の３台用い、図３に示すように、制御範囲１〜１
００ｃｃ／ｍｉｎでは最大流量値１００ｃｃ／ｍｉｎの
マスフローコントローラ１３ａとバルブ１４を開にし一
系統の流量制御装置を使用し、制御範囲１０１〜２００
ｃｃ／ｍｉｎではマスフローコントローラ１３ａを最大
流量値に設定し、これに並列のマスフローコントローラ
１３ｂとバルブ１４の系統を加え制御する。さらに制御
範囲２０１〜３００ｃｃ／ｍｉｎでは、マスフローコン
トローラ１３ａおよびマスフローコントローラ１３ｂの
系統を最大流量値に設定し、マスフローコトローラ１３
ｃと開かれたバルブ１４の系統で流量を制御する。
に、最大流量値１００ｃｃ／ｍｉｎと最大流量値２００
ｃｃ／ｍｉｎと最大流量値３００ｃｃ／ｍｉｎの流量制
御装置の３台用い、図３に示すように、制御範囲１〜１
００ｃｃ／ｍｉｎでは最大流量値１００ｃｃ／ｍｉｎの
マスフローコントローラ１３ａとバルブ１４を開にし一
系統の流量制御装置を使用し、制御範囲１０１〜２００
ｃｃ／ｍｉｎではマスフローコントローラ１３ａを最大
流量値に設定し、これに並列のマスフローコントローラ
１３ｂとバルブ１４の系統を加え制御する。さらに制御
範囲２０１〜３００ｃｃ／ｍｉｎでは、マスフローコン
トローラ１３ａおよびマスフローコントローラ１３ｂの
系統を最大流量値に設定し、マスフローコトローラ１３
ｃと開かれたバルブ１４の系統で流量を制御する。
【０００８】このように従来の流量制御装置では、マス
フローコントローラ１３ａ，１３ｂ，１３ｃを並列に繋
ぎバルブ１４の開閉によって、一系統から三系統へと切
替えて流量制御を行なえば、低流領域の流量精度を落す
ことなく広範囲の流量制御ができることを特徴としてい
た。ちなみに、この流量精度は、１±１〜１００±１ｃ
ｃ／ｍｉｎ、１０１±２〜２００±２ｃｃ／ｍｉｎおよ
び２０１±３〜３００±３ｃｃ／ｍｉｎであった。
フローコントローラ１３ａ，１３ｂ，１３ｃを並列に繋
ぎバルブ１４の開閉によって、一系統から三系統へと切
替えて流量制御を行なえば、低流領域の流量精度を落す
ことなく広範囲の流量制御ができることを特徴としてい
た。ちなみに、この流量精度は、１±１〜１００±１ｃ
ｃ／ｍｉｎ、１０１±２〜２００±２ｃｃ／ｍｉｎおよ
び２０１±３〜３００±３ｃｃ／ｍｉｎであった。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の流量制御装置では、精度良く流量制御範囲を広
くするために、流量制御装置の複数台を並列に繋げなけ
ればならない。このためガス供給装置とマスフローコン
トローラとの接続にマニホールドを必要となり、これら
への配管の本数および継手が台数に応じて増える。この
ため配管の継手などのガスのリーク事故の発生率が上り
製品の歩留りを低下させる問題がある。また、遠隔制御
および電源への配線も長くなりその分抵抗値が増え正確
に制御が困難になる。さらに、配管や配線が長くなるこ
とやマニホールドの付設などにより装置の周辺にその分
スペースが必要になり小型化が図れないという問題があ
る。そして、このマスフローコントローラの台数増加に
伴なう配管および配線の資材および施工コストが上昇す
るといった欠点がある。
た従来の流量制御装置では、精度良く流量制御範囲を広
くするために、流量制御装置の複数台を並列に繋げなけ
ればならない。このためガス供給装置とマスフローコン
トローラとの接続にマニホールドを必要となり、これら
への配管の本数および継手が台数に応じて増える。この
ため配管の継手などのガスのリーク事故の発生率が上り
製品の歩留りを低下させる問題がある。また、遠隔制御
および電源への配線も長くなりその分抵抗値が増え正確
に制御が困難になる。さらに、配管や配線が長くなるこ
とやマニホールドの付設などにより装置の周辺にその分
スペースが必要になり小型化が図れないという問題があ
る。そして、このマスフローコントローラの台数増加に
伴なう配管および配線の資材および施工コストが上昇す
るといった欠点がある。
【００１０】従って、本発明の目的は、広範囲に精密に
流量制御でき、より小型化が図れるとともに付帯の配管
や配線を安価にする流量制御装置を提供することであ
る。
流量制御でき、より小型化が図れるとともに付帯の配管
や配線を安価にする流量制御装置を提供することであ
る。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、ガス供
給装置より供給されるガスを導入するガス導入主配管
と、この主配管から複数本に分岐される分岐配管と、複
数の前記分岐配管の内一本を残しそれ以外の該分岐配管
に取付けられる開閉弁と、それぞれの該分岐配管から分
岐されるバイパス配管に取付けられる流量センサと、こ
れら分岐配管を集合し該ガスを排出するガス排出主配管
と、このガス排出主配管に取付けられる流量調節弁とを
備え、前記開閉弁を任意に開き該ガスが流れる前記分岐
配管の本数を変えるとともに前記流量調節弁の開度を変
えることによって前記ガス排出主配管から導出される該
ガスの流量を調節する流量制御装置である。
給装置より供給されるガスを導入するガス導入主配管
と、この主配管から複数本に分岐される分岐配管と、複
数の前記分岐配管の内一本を残しそれ以外の該分岐配管
に取付けられる開閉弁と、それぞれの該分岐配管から分
岐されるバイパス配管に取付けられる流量センサと、こ
れら分岐配管を集合し該ガスを排出するガス排出主配管
と、このガス排出主配管に取付けられる流量調節弁とを
備え、前記開閉弁を任意に開き該ガスが流れる前記分岐
配管の本数を変えるとともに前記流量調節弁の開度を変
えることによって前記ガス排出主配管から導出される該
ガスの流量を調節する流量制御装置である。
【００１２】
【実施例】次に、本発明について図面を参照して説明す
る。
る。
【００１３】図１は本発明の流量制御装置の一実施例を
示す模式図である。この流量制御装置は、図１に示すよ
うに、ガスボンベより供給されるガスを導入する導入主
配管１と、この導入主配管１から複数本に分岐される分
岐配管５ａ，５ｂ，５ｃと、これら分岐配管５ａ，５
ｂ，５ｃの内一本を残しそれ以外の分岐配管５ｂ，５ｃ
に取付けられる開閉バルブ６ａ，６ｂと、それぞれの分
岐配管５ａ，５ｂ，５ｃから分岐されるバイパス配管３
ａ，３ｂ，３ｃに取付けられるセンサ部２ａ，２ｂ，２
ｃと、これら分岐配管５ａ，５ｂ，５ｃを集合しガスを
排出する排出主配管９と、この排出主配管９に取付けら
れる流量制御バルブ７とを備えている。
示す模式図である。この流量制御装置は、図１に示すよ
うに、ガスボンベより供給されるガスを導入する導入主
配管１と、この導入主配管１から複数本に分岐される分
岐配管５ａ，５ｂ，５ｃと、これら分岐配管５ａ，５
ｂ，５ｃの内一本を残しそれ以外の分岐配管５ｂ，５ｃ
に取付けられる開閉バルブ６ａ，６ｂと、それぞれの分
岐配管５ａ，５ｂ，５ｃから分岐されるバイパス配管３
ａ，３ｂ，３ｃに取付けられるセンサ部２ａ，２ｂ，２
ｃと、これら分岐配管５ａ，５ｂ，５ｃを集合しガスを
排出する排出主配管９と、この排出主配管９に取付けら
れる流量制御バルブ７とを備えている。
【００１４】ここで、センサ部２ａ，２ｂ，２ｃのある
バイパス配管３ａ，３ｂ，３ｃは１０ｃｃ／ｍｉｎのガ
スが流れるように設計し、それぞれの分岐配管５ａ，５
ｂ，５ｃとの分流比を９とする。従って、分岐配管５
ａ，５ｂ，５ｃの最大流量を１００ｃｃ／ｍｉｎにな
る。また、分流比が総べて等しいので、センサ部２ａ，
２ｂ，２ｃのヒータ８ａ，８ｂ，８ｃは一つのブリッジ
回路に組込むことができ、当然、ブリッジ回路の出力を
入力しバルブを制御するリモート用の制御・電源部も一
つにまとめ装置の制御部に組込むことができる。
バイパス配管３ａ，３ｂ，３ｃは１０ｃｃ／ｍｉｎのガ
スが流れるように設計し、それぞれの分岐配管５ａ，５
ｂ，５ｃとの分流比を９とする。従って、分岐配管５
ａ，５ｂ，５ｃの最大流量を１００ｃｃ／ｍｉｎにな
る。また、分流比が総べて等しいので、センサ部２ａ，
２ｂ，２ｃのヒータ８ａ，８ｂ，８ｃは一つのブリッジ
回路に組込むことができ、当然、ブリッジ回路の出力を
入力しバルブを制御するリモート用の制御・電源部も一
つにまとめ装置の制御部に組込むことができる。
【００１５】次に、この流量制御装置の動作を説明す
る。まず、制御範囲１〜１００ｃｃ／ｍｉｎで制御する
場合は、開閉バルブ６ａ，６ｂを閉じ、分岐配管５ａの
みで流すようにする。そしてセンサ部２ａで流量を検知
し流量制御バルブ７の開度を制御し流量を設定する。
る。まず、制御範囲１〜１００ｃｃ／ｍｉｎで制御する
場合は、開閉バルブ６ａ，６ｂを閉じ、分岐配管５ａの
みで流すようにする。そしてセンサ部２ａで流量を検知
し流量制御バルブ７の開度を制御し流量を設定する。
【００１６】次に、制御範囲１０１〜２００ｃｃ／ｍｉ
ｎで制御する場合は、開閉バルブ６ａを開け開閉バルブ
６ｂを閉じたままにし、分岐配管５ａ，５ｂにガスを流
す。センサ２ａ，２ｃのヒータ８ａ，８ｂは上流側と下
流側とでそれぞれシリーズに接続されているので、分岐
配管５ａと分岐配管５ｂとに流れるガスの総和流量を検
知することになり、流量制御バルブ７で上記制御範囲で
流量を設定できる。また、制御範囲２０１〜３００で制
御する場合は、開閉バルブ６ａ，６ｂを開け、分岐配管
５ａ，５ｂ，５ｃの総べてにガスを流し、流量制御バル
ブ７を制御し流量を設定する。
ｎで制御する場合は、開閉バルブ６ａを開け開閉バルブ
６ｂを閉じたままにし、分岐配管５ａ，５ｂにガスを流
す。センサ２ａ，２ｃのヒータ８ａ，８ｂは上流側と下
流側とでそれぞれシリーズに接続されているので、分岐
配管５ａと分岐配管５ｂとに流れるガスの総和流量を検
知することになり、流量制御バルブ７で上記制御範囲で
流量を設定できる。また、制御範囲２０１〜３００で制
御する場合は、開閉バルブ６ａ，６ｂを開け、分岐配管
５ａ，５ｂ，５ｃの総べてにガスを流し、流量制御バル
ブ７を制御し流量を設定する。
【００１７】このように一つの導入主配管を分岐させ複
数のガス供給系統にし再び集合させ一つの排出配管とす
る構造にすることで一体化し易く、その分、従来、付帯
されていた配管が無くなり、それに伴なって継手やマニ
ホールド等も不要になる。
数のガス供給系統にし再び集合させ一つの排出配管とす
る構造にすることで一体化し易く、その分、従来、付帯
されていた配管が無くなり、それに伴なって継手やマニ
ホールド等も不要になる。
【００１８】図２は図１の流量制御装置を処理装置に適
用した例を示す模式図である。例えば、図２に示すよう
に、ドライエッチング装置のような処理装置に適用した
場合、流量制御装置１０の排出配管を直接処理室２１に
接続することができるし、継手が必要が無くなる。ま
た、入力側もガスボンベ２０に直接接続できるし、従来
のようにマニホールドや配管支え等が必要が無くなる。
さらに、リモートコントロール用の制御・電源部２２も
一つのラックに纏めることができ装置の制御部に収納で
きる。そして制御部を処理室２１に隣接して配置すれ
ば、配線も短くて済み従来のように抵抗分の増加など無
くなり正確に制御できる。
用した例を示す模式図である。例えば、図２に示すよう
に、ドライエッチング装置のような処理装置に適用した
場合、流量制御装置１０の排出配管を直接処理室２１に
接続することができるし、継手が必要が無くなる。ま
た、入力側もガスボンベ２０に直接接続できるし、従来
のようにマニホールドや配管支え等が必要が無くなる。
さらに、リモートコントロール用の制御・電源部２２も
一つのラックに纏めることができ装置の制御部に収納で
きる。そして制御部を処理室２１に隣接して配置すれ
ば、配線も短くて済み従来のように抵抗分の増加など無
くなり正確に制御できる。
【００１９】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、両側に導
入排出口をもつ一つの配管の途中を複数の分岐配管に分
離させ、これら分岐配管のそれぞれに流量センサを設
け、一つの分岐配管を除く総べての分岐配管に開閉バル
ブを、排出口から流れるガス流量を制御する流量制御バ
ルブとを具備させ、開閉バルブを任意に順次開けること
によって、小さな流量から大きい流量まで広い範囲で流
量を精密に設定できるという効果がある。また、導入排
出口を両側にもつ一本の配管から枝別れさせて分岐配管
を形成させることができることから、一体化構造にし易
く小型化が図れるとともに一体化構造にすることにより
直接処理室やガス供給装置に接続できることから、従
来、必要としていた長い配管廻しや配線廻しなどが無く
なり付帯部品コストの低減およびそれに伴なう工事費も
節約できるという効果がある。
入排出口をもつ一つの配管の途中を複数の分岐配管に分
離させ、これら分岐配管のそれぞれに流量センサを設
け、一つの分岐配管を除く総べての分岐配管に開閉バル
ブを、排出口から流れるガス流量を制御する流量制御バ
ルブとを具備させ、開閉バルブを任意に順次開けること
によって、小さな流量から大きい流量まで広い範囲で流
量を精密に設定できるという効果がある。また、導入排
出口を両側にもつ一本の配管から枝別れさせて分岐配管
を形成させることができることから、一体化構造にし易
く小型化が図れるとともに一体化構造にすることにより
直接処理室やガス供給装置に接続できることから、従
来、必要としていた長い配管廻しや配線廻しなどが無く
なり付帯部品コストの低減およびそれに伴なう工事費も
節約できるという効果がある。
【図１】本発明の流量制御装置の一実施例を示す模式図
である。
である。
【図２】図１の流量制御装置を処理装置に適用した例を
示す模式図である。
示す模式図である。
【図３】従来の流量制御装置の一例を説明するためのガ
ス供給システムの構成を示す模式図である。
ス供給システムの構成を示す模式図である。
【図４】図３のマスフローコントローラの構造を示す模
式図である。
式図である。
１ 導入主配管 ２，２ａ，２ｂ，２ｃ センサ部 ３，３ａ，３ｂ，３ｃ バイパス配管 ４ 主配管 ５ａ，５ｂ，５ｃ 分岐配管 ６，１４ 開閉バルブ ７ 流量制御バルブ ８，８ａ，８ｂ，８ｃ ヒータ ９ 排出主配管 １０，１３ 流量制御装置 １８ ブリッジ回路 ２０ ガスボンベ ２１ 処理室 ２２，２２ａ，２２ｂ，２２ｃ 制御・電源部
Claims (1)
- 【請求項１】 ガス供給装置より供給されるガスを導入
するガス導入主配管と、この主配管から複数本に分岐さ
れる分岐配管と、複数の前記分岐配管の内一本を残しそ
れ以外の該分岐配管に取付けられる開閉弁と、それぞれ
の該分岐配管から分岐されるバイパス配管に取付けられ
る流量センサと、これら分岐配管を集合し該ガスを排出
するガス排出主配管と、このガス排出主配管に取付けら
れる流量調節弁とを備え、前記開閉弁を任意に開き該ガ
スが流れる前記分岐配管の本数を変えるとともに前記流
量調節弁の開度を変えることによって前記ガス排出主配
管から導出される該ガスの流量を調節することを特徴と
する流量制御装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5287890A JP2546520B2 (ja) | 1993-11-17 | 1993-11-17 | 流量制御装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5287890A JP2546520B2 (ja) | 1993-11-17 | 1993-11-17 | 流量制御装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07141032A JPH07141032A (ja) | 1995-06-02 |
| JP2546520B2 true JP2546520B2 (ja) | 1996-10-23 |
Family
ID=17723048
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5287890A Expired - Fee Related JP2546520B2 (ja) | 1993-11-17 | 1993-11-17 | 流量制御装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2546520B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0955185A (ja) * | 1995-08-11 | 1997-02-25 | Furontetsuku:Kk | 校正ガス系統を備えたマスフィルター型ガス分析計及びその操作方法 |
| US6074691A (en) * | 1997-06-24 | 2000-06-13 | Balzers Aktiengesellschaft | Method for monitoring the flow of a gas into a vacuum reactor |
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