JP7470375B2 - 流体制御装置及びこれを用いた流体制御システム - Google Patents
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Description
10 下段通路ブロック
10a 流体通路
2 流体制御システム
20 中段通路ブロック
20a 流体通路
21 液体流入ポート
22 ガス流出ポート
25 シール部材
30 上流側開閉バルブ
30a 流入通路
30b 流出通路
31 駆動エア流出入口
40 液体流量制御器
40’ 液体流量制御器
40a 流入通路
40b 流出通路
41 駆動エア流出入口
50 気化器
51 液体加熱室
51a 流入通路
51b 流出通路
52 気化室
52a 流入通路
52b 流出通路
53 ガス加熱室
53a 流入通路
53b 流出通路
60 気体流量制御器
60a 流入通路
60b 流出通路
61 演算制御部
61a 増幅・AD変換部
61b 流量演算部
61c 設定入力部
61d 比較部
62 オリフィス
63 コントロール弁
64 駆動部
65 圧力検出器
66 温度検出器
70 下流側開閉バルブ
70a 流入通路
70b 流出通路
71 駆動エア流出入口
80 流路結合ブロック
90 流路分岐ブロック
100 開閉バルブ
Claims (4)
- 液体材料を受け入れる液体流入ポートと、
内部に流体通路を有し、少なくとも一面に前記流体通路の開口部を有し、下段層に配置される複数の下段通路ブロックと、
複数の前記下段通路ブロックの上の中段層に配置され、当該下段通路ブロックにより流路が連結される、上流側開閉バルブ、当該上流側開閉バルブの下流に配置される気化器、当該気化器の下流に配置される気体流量制御器、及び当該気体流量制御器の下流に配置される下流側開閉バルブと、
前記下流側開閉バルブからのガスを外部に流出させるガス流出ポートと、
前記気化器の上の上段層に配置され、前記気化器に送り込む前記液体材料の流量を調整する液体流量制御器と、を有し、
前記上流側開閉バルブ、気体流量制御器及び、下流側開閉バルブの流路は、前記下段通路ブロックの前記流体通路と直接に連通している流体制御装置。 - 前記気化器は、気化室を有し、
前記液体流量制御器は、予め加熱する液体加熱室で加熱された前記液体材料を受け入れる液体流量制御器流入通路と、前記気化室に前記液体材料を流出する液体流量制御器流出通路を有している請求項1に記載の流体制御装置。 - 下段通路ブロックの上に載置され、前記液体流入ポートと前記上流側開閉バルブとの間、前記上流側開閉バルブと前記液体加熱室との間、前記気化室と前記気体流量制御器との間、前記気体流量制御器と前記下流側開閉バルブとの間及び前記下流側開閉バルブと前記ガス流出ポートとの間の少なくともいずれか1つに、前記中段層に配置され、流体流路を連結するための流体通路が形成された中段流路ブロックが備えられている請求項2に記載の流体制御装置。
- 複数の流体が流れる複数のラインを有する流体制御システムであって、
前記ラインの少なくとも1つには、請求項1~3に記載のいずれか1つの流体制御装置が配置され、
前記流体制御装置の流路の途中または当該流体制御装置の外部に、流体の流路を結合する流体結合通路が形成された流路結合ブロック及び/または流体の流路を分岐する流体分岐通路が形成された流路分岐ブロックが備えられている流体制御システム。
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JP2021157701A JP2021157701A (ja) | 2021-10-07 |
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JP2009252147A (ja) | 2008-04-10 | 2009-10-29 | Tokyo Electron Ltd | 流体分流供給ユニット |
JP2014114463A (ja) | 2012-12-06 | 2014-06-26 | Fujikin Inc | 原料気化供給装置 |
JP2016122841A (ja) | 2014-12-22 | 2016-07-07 | 株式会社堀場エステック | 気化システム |
WO2019021949A1 (ja) | 2017-07-25 | 2019-01-31 | 株式会社フジキン | 流体制御装置 |
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- 2020-03-30 JP JP2020059757A patent/JP7470375B2/ja active Active
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