JP2003086579A

JP2003086579A - ガス供給集積ユニット

Info

Publication number: JP2003086579A
Application number: JP2001279879A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Bando; 寛板藤
Original assignee: CKD Corp
Current assignee: CKD Corp
Priority date: 2001-09-14
Filing date: 2001-09-14
Publication date: 2003-03-20
Anticipated expiration: 2021-09-14
Also published as: JP4597440B2

Abstract

(57)【要約】【課題】ガスの汚染のおそれがある溶接箇所を廃した
ガス供給集積ユニットを提供すること。【解決手段】カセットボックス１９の中において、一
次側ストップバルブ１３及びパージバルブ１４が一次側
バルブ機能ブロック２１にボルトＢ４，Ｂ５で着脱自在
に配設され、二次側ストップバルブ１８が二次側バルブ
機能ブロック２２にボルトＢ７で着脱自在に配設され、
さらに、一次側バルブ機能ブロック２１及び二次側バル
ブ機能ブロック２２が流体制御機能ブロック２８にボル
トＢ８，Ｂ９で着脱自在に連結されることにより、ガス
フロー（一次側ストップバルブ１３又はパージバルブ１
４、圧力調整バルブ１５、圧力トランスデューサ１６、
オリフィス１７、二次側ストップバルブ１８）を形成す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造装置の
エッチング装置などで使用されるガス供給集積ユニット
に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、半導体製造装置のエッチング装置
で使用されるガス供給機器には、反応ガスや不活性ガス
などの数種類のガスを適切な流量に調節し、混合し、供
給する機能がある。この点、個々のガスは、毒性や腐食
性を有するものがあり、外部への漏洩を防ぐため、厳重
に管理される必要があるが、混合されても、パーティク
ル汚染の原因となるような反応が起こることはないの
で、流量が調節された後は、一つの出口配管にて合流さ
れ、エッチング装置のプロセスチャンバーに供給され
る。

【０００３】そのため、これらのガス源からエッチング
装置のプロセスチャンバーまでのガスフローは、画一化
・共通化されやすく、例えば、図７に示すように、工場
内配管１０１、分岐Ｔ、手動弁１１１、前段フィルタ１
１２、レギュレータ１１３、圧力計１１４、自動バルブ
１１５、パージガス導入分岐Ｓ（パージバルブ１１
６）、流量調節器１１７、ストップバルブ１１８、ガス
合流点Ｍ、出口配管１０６、最終フィルタ１０４、プロ
セスチャンバー１０５の順となる。

【０００４】このうち、図６や図７に示すように、手動
弁１１１及び前段フィルタ１１２が一つの手動弁ボック
ス１０２に収装される一方で、レギュレータ１１３及
び、圧力計１１４、自動バルブ１１５、パージバルブ１
１６、流量調節器１１７、ストップバルブ１１８、出口
配管１０６の一部がガス供給ボックス１０３に収装され
るのが通常である。尚、図８は、分岐Ｔ及び、手動弁１
１１、前段フィルタ１１２を収装した手動弁ボックス１
２２を示す。

【０００５】さらに、ガス供給ボックス１０３の中は、
例えば、図９のガス供給集積ユニット２０９のように、
レギュレータ１１３と、圧力計１１４、自動バルブ１１
５、パージバルブ１１６、流量調節器１１７、ストップ
バルブ１１８などがブロック構造で連結されることが多
い。

【０００６】そこで、ここでは、図９のガス供給集積ユ
ニット２０９について説明する。もっとも、図９のガス
供給集積ユニット２０９では、手動弁１１１及び前段フ
ィルタ１１２もブロック構造で連結される。すなわち、
図９に示すように、ガス供給集積ユニット２０９におい
ては、図示しないシステム本体のガス供給口が、入力ブ
ロック２２１、入力パイプ２２４、レギュレータ入力ブ
ロック２２６、レギュレータ入力パイプ２３０、レギュ
レータブロック２３３を介して、レギュレータ１１３の
入力ポートに接続している。さらに、レギュレータ１１
３の出力ポートは、レギュレータブロック２３３、レギ
ュレータ出力パイプ２４０、レギュレータ出力ブロック
２３１を介して、流路方向変換ブロック２２９に接続し
ている。

【０００７】また、流路方向変換ブロック２２９は、圧
力計１１４と流路ブロック２３２を介して、手動弁１１
１の入力ポートに接続している。さらに、手動弁１１１
の出力ポートは、流路ブロック２３２を介して、前段フ
ィルタ１１２の入力ポートに接続している。さらに、前
段フィルタ１１２の出力ポートは、自動バルブ１１５の
入力ポートに接続している。さらに、自動バルブ１１５
の出力ポートは、流路方向変換ブロック２２９を介し
て、流量調節器１１７の入力ポートに接続している。

【０００８】一方、図示しないシステム本体のパージガ
ス供給口が、パージ入力ブロック２３６、パージガスパ
イプ２３５を介して、パージバルブ１１６の入力ポート
に接続している。さらに、パージバルブ１１６の出力ポ
ートは、流路方向変換ブロック２２９を介して、流量調
節器１１７の入力ポートに接続している。

【０００９】また、流量調節器１１７の出力ポートは、
流路方向変換ブロック２２７、出力ブロック２２５を介
して、ストップバルブ１１８の入力ポートに接続してい
る。さらに、ストップバルブ１１８の出力ポートは、出
力パイプ２２３、出力ブロック２２２を介して、出力共
通流路ブロック２２０に接続している。

【００１０】そして、図９のガス供給集積ユニット２０
９では、レギュレータ１１３、圧力計１１４、自動バル
ブ１１５、パージバルブ１１６、流量調節器１１７、ス
トップバルブ１１８などの各部品をブロックでつなぎ、
それぞれをボルトとガスケットで連結している。但し、
この方法では、シール箇所が多く、それらのすべてのシ
ールに対して厳重な漏洩処置がされていることを現場で
確認するための作業に手間がかかり、その結果、漏洩を
見落としてしまうおそれがあるが、図９のガス供給集積
ユニット２０９では、メンテナンスの単位を個々の部品
から、図９に示す各部品を一つのカセット単位でするこ
とで回避している。

【００１１】尚、ガス供給集積ユニット２０９の上述し
た技術は、特開平８−３１２９００号にも詳しく記載さ
れている。また、図９では、一つのガスラインに限り示
されているが、実際は、８ラインから１２ライン程度で
ある。また、ガス供給ボックス１０３は、エッチング装
置内に設けられるの通常であるが、エッチング装置の設
置面積を減らすため、図６に示すように、エッチング装
置（のプロセスチャンバー１０５）と切り離して、グレ
ーチング床１００に単独で設置することもある。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図９の
ガス供給集積ユニット２０９では、汚染の原因となる溶
接箇所が多く、例えば、図１０に示すように、出力パイ
プ２２３のエルボの前後には溶接箇所Ｗが２つあり、こ
の点は、入力パイプ２２４のエルボでも同様であり（図
９参照）、さらに、図１１に示すように、レギュレータ
入力パイプ２３０及びレギュレータ出力パイプ２４０に
も溶接箇所Ｗが１つずつあり、性能的に課題となってい
た。

【００１３】そこで、本発明は、上述した問題点を解決
するためになされたものであり、ガスの汚染のおそれが
ある溶接箇所を廃したガス供給集積ユニットを提供する
ことを課題とする。

【００１４】

【課題を解決するための手段】この課題を解決するため
に成された請求項１に係る発明は、一次側ストップバル
ブを介して流入させた制御流体を、又は、パージバルブ
を介して流入させたパージガスを、圧力制御機能及び流
量制御機能を用いて、二次側ストップバルブを介して流
出させるガス供給集積ユニットであって、前記一次側ス
トップバルブ及び前記パージバルブを着脱自在に配設さ
せた一次側バルブ機能ブロックと、前記一次側バルブ機
能ブロックに着脱自在に連結されるとともに、前記圧力
制御機能及び前記流量制御機能を有した流体制御機能ブ
ロックと、前記流体制御機能ブロックに着脱自在に連結
されるとともに、前記二次側ストップバルブを着脱自在
に配設させた二次側バルブ機能ブロックと、前記圧力制
御機能又は前記流量制御機能をコントロールするための
電子回路基板と、前記一次側バルブ機能ブロック及び、
前記流体制御機能ブロック、前記二次側バルブ機能ブロ
ック、前記電子回路基板を内蔵したカセットボックス
と、を備えたこと、を特徴としている。

【００１５】また、請求項２にかかる発明は、請求項１
に記載するガス供給集積ユニットであって、前記カセッ
トボックスから突き出た前記一次側バルブ機能ブロック
の突出部分に、前記パージバルブに連通するパージポー
トを形成するとともに、前記カセットボックスから突き
出た前記一次側バルブ機能ブロックの突出部分を一次側
マニホールドに着脱自在に連結することにより、前記一
次側マニホールドに形成されたパージ流路と前記パージ
ポートとを接続させる一方、前記カセットボックスから
突き出た前記二次側バルブ機能ブロックの突出部分に、
前記二次側ストップバルブに連通する出力ポートを形成
するとともに、前記カセットボックスから突き出た前記
二次側バルブ機能ブロックの突出部分を二次側マニホー
ルドに着脱自在に連結することにより、前記二次側マニ
ホールドに形成された出力流路と前記出力ポートとを接
続させること、を特徴としている。

【００１６】また、請求項３に係る発明は、請求項１又
は請求項２に記載するガス供給集積ユニットであって、
前記流量制御機能を、一次側圧力制御バルブとオリフィ
スで構成すること、を特徴としている。

【００１７】また、請求項４に係る発明は、請求項１乃
至請求項３のいずれか一つに記載するガス供給集積ユニ
ットであって、圧力計を装備した入力管が突設された入
力機能ブロックを備え、前記カセットボックスから突き
出た前記一次側バルブ機能ブロックの突出部分に、前記
一次側ストップバルブに連通する入力ポートを形成する
とともに、前記入力機能ブロックが前記一次側バルブ機
能ブロックに着脱自在に連結されることにより、前記入
力管と前記入力ポートとを接続させること、を特徴とし
ている。

【００１８】また、請求項５に係る発明は、請求項１乃
至請求項４のいずれか一つに記載するガス供給集積ユニ
ットであって、半導体製造装置で使用されること、を特
徴としている。

【００１９】すなわち、本発明のガス供給集積ユニット
では、一次側バルブ機能ブロック及び、流体制御機能ブ
ロック、二次側バルブ機能ブロック、電子回路基板を内
蔵したカセットボックスの中において、一次側ストップ
バルブ及びパージバルブが一次側バルブ機能ブロックに
着脱自在に配設されるとともに、二次側ストップバルブ
が二次側バルブ機能ブロックに着脱自在に配設され、さ
らに、一次側バルブ機能ブロック及び二次側バルブ機能
ブロックが流体制御機能ブロックに着脱自在に連結され
ることにより、ガスフロー（一次側ストップバルブ又は
パージバルブ、圧力制御機能及び流量制御機能、二次側
ストップバルブ）を形成しているので、ガスの汚染のお
それがある溶接箇所を廃することができる。

【００２０】また、本発明のガス供給集積ユニットにお
いて、パージバルブを介して流入させたパージガスを、
圧力制御機能及び流量制御機能を用いて、二次側ストッ
プバルブを介して流出させるために、カセットボックス
から突き出た一次側バルブ機能ブロックの突出部を一次
側マニホールドに着脱自在に連結させるとともに、カセ
ットボックスから突き出た二次側バルブ機能ブロックの
突出部分を二次側マニホールドに着脱自在に連結させれ
ば、ガスの汚染のおそれがある溶接箇所を廃しつつも、
ガスフロー（一次側ストップバルブ又はパージバルブ、
圧力制御機能及び流量制御機能、二次側ストップバル
ブ）を形成しているカセットボックスを増減・交換させ
ることができるので、便宜である。

【００２１】特に、半導体製造装置では、毒性や腐食性
を有する反応ガスを扱うことから、本発明のガス供給集
積ユニットを半導体製造装置で使用すれば、上述した効
果は大きく発揮される。

【００２２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照にして説明する。先ず、本実施の形態のガス供給
集積ユニットが使用されている半導体製造装置のガスフ
ローについて説明する。本実施の形態のガス供給集積ユ
ニットが使用されている半導体製造装置のガスフロー
は、例えば、図４や図５に示すように、工場内配管１０
１、分岐Ｔ、手動弁１１、インラインフィルタ４１、圧
力計１２、一次側ストップバルブ１３、パージガス導入
分岐Ｓ（パージバルブ１４）、圧力調整バルブ１５
（「一次側圧力制御バルブ」に相当するもの）、圧力ト
ランスデューサ１６、オリフィス１７、二次側ストップ
バルブ１８、ガス合流点Ｍ、出口配管１０６、最終フィ
ルタ１０４、半導体製造装置のエッチング装置のプロセ
スチャンバー１０５の順となる。

【００２３】このうち、図４や図５に示すように、、手
動弁１１及びインラインフィルタ４１は、一つの手動弁
ボックス９に収装される一方で、圧力計１２及び、一次
側ストップバルブ１３、パージバルブ１４、圧力調整バ
ルブ１５、圧力トランスデューサ１６、オリフィス１
７、二次側ストップバルブ１８、ガス合流点Ｍ、出口配
管１０６の一部は、一つのガス供給ボックス１０に収装
される。

【００２４】そして、ガス供給ボックス１０の中は、図
１に示すように、本実施の形態のガス供給集積ユニット
１として、一次側ストップバルブ１３及び、パージバル
ブ１４、圧力調整バルブ１５、圧力トランスデューサ１
６、オリフィス１７、二次側ストップバルブ１８など
が、ブロック構造で連結されており、さらに、カセット
ボックス１９の内部に収蔵されている。

【００２５】すなわち、本実施の形態のガス供給集積ユ
ニット１は、入力機能ブロック４２と、一次側バルブ機
能ブロック２１、流体制御機能ブロック２８、二次側バ
ルブ機能ブロック２２などを有している。この点、入力
機能ブロック４２には、圧力計１２を装備した入口管２
０が設けられている。また、一次側バルブ機能ブロック
２１には、一次側ストップバルブ１３がボルトＢ４で固
定されるとともに、パージバルブ１４がボルトＢ５で固
定されている。また、流体制御機能ブロック２８には、
圧力調整バルブ１５がボルトＢ６で固定されるととも
に、圧力トランスデューサ１６が設けられている。ま
た、二次側バルブ機能ブロック２２には、二次側ストッ
プバルブ１８がボルトＢ３で固定されている。

【００２６】そして、入力機能ブロック４２は、カセッ
トボックス１９から突き出た一次側バルブ機能ブロック
２１の突出部分に対して、ボルトＢ２で固定されてい
る。また、一次側バルブ機能ブロック２１は、流体制御
機能ブロック２８に対して、ボルトＢ８で固定されてい
る。また、二次側バルブ機能ブロック２２は、流体制御
機能ブロック２８に対して、ボルトＢ９で固定されてい
る。

【００２７】さらに、カセットボックス１９から突き出
た一次側バルブ機能ブロック２１の突出部分は、ガス供
給ボックス１０の内部に設けられた一次側マニホールド
２４に対して、ボルトＢ１で固定されている。また、カ
セットボックス１９から突き出た二次側バルブ機能ブロ
ック２２の突出部分は、ガス供給ボックス１０の内部に
設けられた二次側マニホールド３２に対して、ボルトＢ
３で固定されている。

【００２８】この点、図３に示すように、一次側マニホ
ールド２４の上面には、一対の取付穴２５が多数設けら
れており、一対のボルト穴３５にそれぞれ挿通させた一
対のボルトＢ１をねじ込むことにより、カセットボック
ス１９から突き出た一次側バルブ機能ブロック２１の突
出部分が一次側マニホールド２４に固定される。また、
二次側マニホールド３２の上面には、一対の取付穴３３
が多数設けられており、一対のボルト穴４３にそれぞれ
挿通させた一対のボルトＢ３をねじ込むことにより、カ
セットボックス１９から突き出た二次側バルブ機能ブロ
ック２２の突出部分が二次側マニホールド３２に固定さ
れる。

【００２９】尚、図３に示すように、一次側マニホール
ド２４の一対のボルト穴３５の間には、一次側マニホー
ルド２４の内部に設けられたパージ流路４５（図２参
照）と連通するポート２６が設けられている。また、二
次側マニホールド３２の一対のボルト穴３３の間には、
二次側マニホールド３２の内部に設けられた出口流路４
６（図２参照）と連通するポート３４が設けられてい
る。さらに、入力機能ブロック４２の入力管２０に対し
ては、工場内配管１０１の一つの配管２７（インライン
フィルタ４１が内装されたもの）が螺合される。尚、二
次側マニホールド３２の内部に設けられた出口流路４６
（図２参照）は、一つの出口配管１０６（図４、図５参
照）に接続されている。

【００３０】そして、入力機能ブロック４２と、一次側
バルブ機能ブロック２１、流体制御機能ブロック２８、
二次側バルブ機能ブロック２２、一次側マニホールド２
４、二次側マニホールド３２、さらに、一次側ストップ
バルブ１３と、パージバルブ１４、圧力調整バルブ１
５、二次側ストップバルブ１８が、ボルトＢ１，Ｂ２，
Ｂ３，Ｂ４，Ｂ５，Ｂ６，Ｂ７，Ｂ８，Ｂ９でそれぞれ
固定されると、図２に示すように、入力機能ブロック４
２の入力管２０又は一次側マニホールド２４のパージ流
路４５から二次側マニホールド３２の出口流路４６まで
の流路が形成される。

【００３１】この点、カセットボックス１９から突き出
た一次側バルブ機能ブロック２１の突出部分の下面に
は、パージバルブ１４に連通するパージポートＰ１が形
成されており、カセットボックス１９から突き出た一次
側バルブ機能ブロック２１の突出部分の下面を一次側マ
ニホールド２４の上面にボルトＢ１（図１参照）で固定
することにより、一次側マニホールド２４に形成された
パージ流路４５とパージポートＰ１とが接続される。ま
た、カセットボックス１９から突き出た二次側バルブ機
能ブロック２２の突出部分の下面には、二次側ストップ
バルブ１８に連通する出力ポートＰ２が形成されてお
り、カセットボックス１９から突き出た二次側バルブ機
能ブロック２２の突出部分の下面を二次側マニホールド
３２の上面にボルトＢ３（図１参照）で固定することに
より、二次側マニホールド３２に形成された出力流路４
６と出力ポートＰ２とが接続される。さらに、カセット
ボックス１９から突き出た一次側バルブ機能ブロック２
１の突出部分の側面には、一次側ストップバルブ１３に
連通する入力ポートＰ３が形成されており、入力機能ブ
ロック４２の側面が一次側バルブ機能ブロック２１の側
面にボルトＢ２（図１参照）で固定されることにより、
入力管２０と入力ポートＰ３とを接続させる。

【００３２】また、図２に示すように、入力機能ブロッ
ク４２と一次側バルブ機能ブロック２１の連結部分及
び、一次側バルブ機能ブロック２１と一次側マニホール
ド２４の連結部分、一次側バルブ機能ブロック２１と一
次側ストップバルブ１３の連結部分、一次側バルブ機能
ブロック２１とパージバルブ１４の連結部分、一次側バ
ルブ機能ブロック２１と流体制御機能ブロック２８の連
結部分、流体制御機能ブロック２８と圧力調整バルブ１
５の連結部分、二次側バルブ機能ブロック２２と二次側
ストップバルブ１８の連結部分、二次側バルブ機能ブロ
ック２２と二次側マニホールド３２の連結部分には、ガ
スケットがそれぞれ装着されている。

【００３３】さらに、流体制御機能ブロック２８と二次
側バルブ機能ブロック２２の連結部分にはオリフィス１
７が装着されている。従って、一次側ストップバルブ１
３及び二次側ストップバルブ１８を開け且つパージバル
ブ１４を閉じた状態において、圧力調整バルブ１５及び
圧力トランスデューサ１６により、流体制御機能ブロッ
ク２８の流路の圧力を調節すれば、入力機能ブロック４
２の入力管２０から流入するものであってオリフィス１
７を通過する反応ガスの流量を制御することができる。

【００３４】このとき、オリフィス１７を通過した反応
ガスは、二次側マニホールド３２の出口流路４６を介し
て、出口配管１０６に流入するので、オリフィス１７を
通過する反応ガスの流量を制御することにより、プロセ
スチャンバー１０５（図４、図５参照）に供給する反応
ガスの流量を制御することができる。さらに、このと
き、一次側マニホールド２４と二次側マニホールド３２
の間に、複数のカセットボックス９が固設されていれ
ば、各々のカセットボックス９で流量が制御された反応
ガスが、二次側マニホールド３２の出口流路４６を介し
て、出口配管１０６に合流するので、プロセスチャンバ
ー１０５（図４、図５参照）に供給する反応ガスの流量
を混合させながら制御することもできる。

【００３５】一方、一次側ストップバルブ１３及び二次
側ストップバルブ１８を閉じ且つパージバルブ１４を開
けた状態において、圧力調整バルブ１５及び圧力トラン
スデューサ１６により、流体制御機能ブロック２８の流
路の圧力を調節すれば、一次側マニホールド２４のパー
ジ流路４５から流入するものであってオリフィス１７を
通過するパージガスの流量を制御することができる。こ
のとき、オリフィス１７を通過したパージガスは、二次
側マニホールド３２の出口流路４６を介して、出口配管
１０６に流入するので、オリフィス１７を通過するパー
ジガスの流量を制御することにより、プロセスチャンバ
ー１０５（図４、図５参照）に供給するパージガスの流
量を制御することができる。

【００３６】尚、一次側ストップバルブ１３及び、二次
側ストップバルブ１８、パージバルブ１４は、外部から
の空気圧入力によりＯＮ・ＯＦＦさせられる。さらに、
流体制御機能ブロック２８の流路の圧力を調節して、オ
リフィス１７を通過する反応ガスの流量を制御するた
め、すなわち、圧力トランスデューサ１６を介して圧力
調整バルブ１５の開度を制御するため、接続端子２３を
設けた電子回路基板３０がカセットボックス１９に内設
されている。そして、圧力調整バルブ１５の開度を空気
圧でＰＷＭ制御するための比例弁３１がカセットボック
ス１９に内設されている。従って、流体制御機能ブロッ
ク２８には、圧力調整バルブ１５とオリフィス１７など
で構成される流量制御機能、及び、圧力調整バルブ１５
と圧力トランスデューサ１６などで構成される圧力制御
機能が備わっている。

【００３７】以上詳細に説明したように、本実施の形態
のガス供給集積ユニット１では、図１に示すように、一
次側バルブ機能ブロック２１及び、流体制御機能ブロッ
ク２８、二次側バルブ機能ブロック２２、電子回路基板
３０を内蔵したカセットボックス１９の中において、一
次側ストップバルブ１３及びパージバルブ１４が一次側
バルブ機能ブロック２１にボルトＢ４，Ｂ５でそれぞれ
着脱自在に配設されるとともに、二次側ストップバルブ
１８が二次側バルブ機能ブロック２２にボルトＢ７で着
脱自在に配設され、さらに、一次側バルブ機能ブロック
２１及び二次側バルブ機能ブロック２２が流体制御機能
ブロック２８にボルトＢ８，Ｂ９でそれぞれ着脱自在に
連結されることにより、ガスフロー（一次側ストップバ
ルブ１３又はパージバルブ１４、圧力調整バルブ１５、
圧力トランスデューサ１６、オリフィス１７、二次側ス
トップバルブ１８）を形成しているので、ガスの汚染の
おそれがある溶接箇所を廃することができる。

【００３８】また、本実施の形態のガス供給集積ユニッ
ト１において、パージバルブ１４を介して流入させたパ
ージガスを、流体制御機能ブロック２８の圧力制御機能
及び流量制御機能を用いて、二次側ストップバルブ１８
を介して流出させるために、カセットボックス１９から
突き出た一次側バルブ機能ブロック２１の突出部を一次
側マニホールド２４にボルトＢ１で着脱自在に連結させ
るとともに、カセットボックス１９から突き出た二次側
バルブ機能ブロック２２の突出部分を二次側マニホール
ド３２にボルトＢ３で着脱自在に連結させており、ガス
の汚染のおそれがある溶接箇所を廃しつつも、ガスフロ
ー（一次側ストップバルブ１３又はパージバルブ１４、
圧力調整バルブ１５、圧力トランスデューサ１６、オリ
フィス１７、二次側ストップバルブ１８）を形成してい
るカセットボックス１９を増減・交換させることができ
るので、便宜である。

【００３９】特に、半導体製造装置のエッチング装置
（のプロセスチャンバー１０５）では、毒性や腐食性を
有する反応ガスを扱うことから、図４や図５に示すよう
にして、本実施の形態のガス供給集積ユニット１が収装
されたガス供給ボックス１０を半導体製造装置のエッチ
ング装置（のプロセスチャンバー１０５）に使用するこ
とは、上述した効果を大きく発揮させることになる。

【００４０】また、本実施の形態のガス供給集積ユニッ
ト１が収装されたガス供給ボックス１０は、エッチング
装置の設置面積をより減らすため、今後、作業性の悪い
場所に設置される可能性が高くなっている。そこで、本
実施の形態では、図５に示すように、ガス供給ボックス
１０を手動弁ボックス９と合体させて、クリーンルーム
のグレーチング床１００の下に設置している。これによ
り、ガス供給ボックス１０のアクセスは、クリーンルー
ム階下の天井付近となるが、本実施の形態のガス供給集
積ユニット１では、カセットボックス１９の単位の交換
でメンテナンスが行えるため、ガス供給ボックス１０へ
のアクセスの不便さを補うことが可能であり。

【００４１】尚、本発明は上記実施の形態に限定される
ものでなく、その趣旨を逸脱しない範囲で様々な変更が
可能である。例えば、本実施の形態のガス供給集積ユニ
ット１では、圧力調整バルブ１５とオリフィス１７など
で、流体制御機能ブロック２８の流量制御機能を構成し
ていたが、この点、ＭＦＣなどの熱式流量計で、流体制
御機能ブロック２８の流量制御機能を構成してもよい。

【００４２】

【発明の効果】本発明のガス供給集積ユニットでは、一
次側バルブ機能ブロック及び、流体制御機能ブロック、
二次側バルブ機能ブロック、電子回路基板を内蔵したカ
セットボックスの中において、一次側ストップバルブ及
びパージバルブが一次側バルブ機能ブロックに着脱自在
に配設されるとともに、二次側ストップバルブが二次側
バルブ機能ブロックに着脱自在に配設され、さらに、一
次側バルブ機能ブロック及び二次側バルブ機能ブロック
が流体制御機能ブロックに着脱自在に連結されることに
より、ガスフロー（一次側ストップバルブ又はパージバ
ルブ、圧力制御機能及び流量制御機能、二次側ストップ
バルブ）を形成しているので、ガスの汚染のおそれがあ
る溶接箇所を廃することができる。

【００４３】また、本発明のガス供給集積ユニットにお
いて、パージバルブを介して流入させたパージガスを、
圧力制御機能及び流量制御機能を用いて、二次側ストッ
プバルブを介して流出させるために、カセットボックス
から突き出た一次側バルブ機能ブロックの突出部を一次
側マニホールドに着脱自在に連結させるとともに、カセ
ットボックスから突き出た二次側バルブ機能ブロックの
突出部分を二次側マニホールドに着脱自在に連結させれ
ば、ガスの汚染のおそれがある溶接箇所を廃しつつも、
ガスフロー（一次側ストップバルブ又はパージバルブ、
圧力制御機能及び流量制御機能、二次側ストップバル
ブ）を形成しているカセットボックスを増減・交換させ
ることができるので、便宜である。

【００４４】特に、半導体製造装置では、毒性や腐食性
を有する反応ガスを扱うことから、本発明のガス供給集
積ユニットを半導体製造装置で使用すれば、上述した効
果は大きく発揮される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のガス供給集積ユニットが収装されてい
るガス供給ボックスの断面図であって、本発明のガス供
給集積ユニットの連結構造を示した図である。

【図２】本発明のガス供給集積ユニットが収装されてい
るガス供給ボックスの断面図であって、本発明のガス供
給集積ユニットの流路を示した図である。

【図３】本発明のガス供給集積ユニットの斜視図であ
る。

【図４】本発明のガス供給集積ユニットが使用されてい
る半導体製造装置のガスフローを示した図ある。

【図５】本発明のガス供給集積ユニットが使用されてい
る半導体製造装置のガスラインを示した斜視図ある。

【図６】半導体製造装置のエッチング装置のプロセスチ
ャンバーまでのガスラインを示した従来技術の斜視図あ
る。

【図７】半導体製造装置のエッチング装置のプロセスチ
ャンバーまでのガスフローを示した従来技術の図ある。

【図８】従来技術の手動弁ボックスの一例を示した斜視
図である。

【図９】従来技術のガス供給集積ユニットの側面図であ
る。

【図１０】従来技術のガス供給集積ユニットの溶接箇所
を示した図である。

【図１１】従来技術のガス供給集積ユニットの溶接箇所
を示した図である。

【符号の説明】

１ガス供給集積ユニット１２圧力計１３一次側ストップバルブ１４パージバルブ１５圧力調整バルブ１７オリフィス１８二次側ストップバルブ１９カセットボックス２０入力管２１一次側バルブ機能ブロック２２二次側バルブ機能ブロック２４一次側マニホールド２８流体制御機能ブロック３０電子回路基板３２二次側マニホールド４２入力機能ブロック４５パージ流路４６出力流路１０５エッチング装置Ｐ１パージポートＰ２出力ポートＰ３入力ポート

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】一次側ストップバルブを介して流入させ
た制御流体を、又は、パージバルブを介して流入させた
パージガスを、圧力制御機能及び流量制御機能を用い
て、二次側ストップバルブを介して流出させるガス供給
集積ユニットであって、前記一次側ストップバルブ及び前記パージバルブを着脱
自在に配設させた一次側バルブ機能ブロックと、前記一次側バルブ機能ブロックに着脱自在に連結される
とともに、前記圧力制御機能及び前記流量制御機能を有
した流体制御機能ブロックと、前記流体制御機能ブロックに着脱自在に連結されるとと
もに、前記二次側ストップバルブを着脱自在に配設させ
た二次側バルブ機能ブロックと、前記圧力制御機能又は前記流量制御機能をコントロール
するための電子回路基板と、前記一次側バルブ機能ブロック及び、前記流体制御機能
ブロック、前記二次側バルブ機能ブロック、前記電子回
路基板を内蔵したカセットボックスと、を備えたこと、
を特徴とするガス供給集積ユニット。
【請求項２】請求項１に記載するガス供給集積ユニッ
トであって、前記カセットボックスから突き出た前記一次側バルブ機
能ブロックの突出部分に、前記パージバルブに連通する
パージポートを形成するとともに、前記カセットボック
スから突き出た前記一次側バルブ機能ブロックの突出部
分を一次側マニホールドに着脱自在に連結することによ
り、前記一次側マニホールドに形成されたパージ流路と
前記パージポートとを接続させる一方、前記カセットボ
ックスから突き出た前記二次側バルブ機能ブロックの突
出部分に、前記二次側ストップバルブに連通する出力ポ
ートを形成するとともに、前記カセットボックスから突
き出た前記二次側バルブ機能ブロックの突出部分を二次
側マニホールドに着脱自在に連結することにより、前記
二次側マニホールドに形成された出力流路と前記出力ポ
ートとを接続させること、を特徴とするガス供給集積ユ
ニット。
【請求項３】請求項１又は請求項２に記載するガス供
給集積ユニットであって、前記流量制御機能を、一次側圧力制御バルブとオリフィ
スで構成すること、を特徴とするガス供給集積ユニッ
ト。
【請求項４】請求項１乃至請求項３のいずれか一つに
記載するガス供給集積ユニットであって、圧力計を装備した入力管が突設された入力機能ブロック
を備え、前記カセットボックスから突き出た前記一次側バルブ機
能ブロックの突出部分に、前記一次側ストップバルブに
連通する入力ポートを形成するとともに、前記入力機能
ブロックが前記一次側バルブ機能ブロックに着脱自在に
連結されることにより、前記入力管と前記入力ポートと
を接続させること、を特徴とするガス供給集積ユニッ
ト。
【請求項５】請求項１乃至請求項４のいずれか一つに
記載するガス供給集積ユニットであって、半導体製造装置で使用されること、を特徴とするガス供
給集積ユニット。