JP3350642B2 - 半導体製造装置のガス供給装置 - Google Patents

半導体製造装置のガス供給装置

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JP3350642B2 JP28399897A JP28399897A JP3350642B2 JP 3350642 B2 JP3350642 B2 JP 3350642B2 JP 28399897 A JP28399897 A JP 28399897A JP 28399897 A JP28399897 A JP 28399897A JP 3350642 B2 JP3350642 B2 JP 3350642B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造装置のガス
供給装置に係るもので、詳しくは、多様な種類のガス
を、交差しないように配設されたガス供給管を介して、
複数の半導体製造用の各装置に選択的に供給し、空間部
の活用度及び生産性の向上を図る技術に関するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】一般に、半導体の製造工程においては、
酸化工程、拡張工程、イオン注入工程、金属蒸着工程及
び食刻工程を施すようになっており、それら工程を施す
ときは、ガス供給装置を用いて半導体製造用の各装置に
多様なガスを供給するようになっている。
【０００３】従来の半導体製造装置のガス供給装置は、
図５に示すように、ＳｉＨ４，ＰＨ３，ＮＦ３及びＣＦ
４のようなガスを夫々貯蔵した複数のガス桶２が収納さ
れるガスキャビネット１と、該ガスキャビネット１の各
ガス桶２に一端が連結されたガスライン３を案内する案
内ダクト４と、ガスライン３の他端に夫々連結され、ガ
スライン３から供給されるガスを後述する装置８に調整
して供給するガス調整ボックス５と、ガス調整ボックス
５と収納部７の各装置８とに夫々連結されたガス供給管
９と、を備えていた。
【０００４】そして、このように構成された従来の半導
体製造装置のガス供給装置では、ガスキャビネット１内
の各ガス桶２からガスが供給されると、ガスライン３を
通って各調整ボックス５内に流入され、ここでガスが分
岐されて、各ガス供給管９を通って該当する装置８に供
給されるようになっていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】然るに、このように構
成された従来の半導体製造装置のガス供給装置において
は、各ガス桶２に対応してガス桶２と同数のガス調整ボ
ックス５を夫々設置するようになっているため、ガス調
整ボックス５がガスの種類に応じて複数必要となり、占
有面積が増加して空間の利用度が低下するという不都合
な点があった。
【０００６】また、各ガス調整ボックス５と各装置８と
の間にガス供給管９を夫々連結するようになっているた
め、装置８とガス調整ボックス５とのレイアウトによっ
ては、ガス供給管９が交差し、配管構造が極めて複雑に
なるという不都合な点があった。そこで、本発明は、半
導体製造装置に供給されるガスの種類が３種類以上の場
合においても、通常１つ、多くて２つのガス調整ボック
スを用いてガスを供給し得るようにした半導体製造装置
のガス供給装置を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】このため、請求項１記載
の発明は、収納部に収納された複数の半導体製造用の装
置に、複数種類のガスを供給する半導体製造装置のガス
供給装置を、前記収納部の外側に配置され、前記各ガス
が種類別に夫々貯蔵されたガス桶を収納するガスキャビ
ネットと、ガスラインを介して該ガスキャビネットの各
ガス桶から夫々供給されるガスを、ガス供給管を介して
前記収納部の各装置に選択的に供給するガス調整ボック
スと、を含んで構成した。
【０００８】かかる構成によれば、ガス桶から供給され
るガスは、ガス調整ボックスにより各装置に選択的に供
給されるので、ガス桶と同じ数のガス調整ボックスを使
用しなくとも、各装置には選択的にガスが供給される。
従って、ガス調整ボックスの設置数が減り、ガス調整ボ
ックスの占有面積が減少する。また、ガス調整ボックス
に設置数が減ることで、ガス調整ボックスから各装置に
ガスを供給するガス供給管が、相互に交差しないように
容易にレイアウトでき、配管構造が複雑になることが防
止される。
【０００９】請求項２記載の発明は、前記ガス調整ボッ
クスは、並列して２個設置される構成とした。かかる構
成によれば、ガス調整ボックスは、並列して２個設置さ
れるので、ガス調整ボックスから各装置にガスを供給す
るガス供給管のレイアウトがより自由になる。
【００１０】請求項３記載の発明は、前記ガス調整ボッ
クスを、前記ガスキャビネットのガス桶から供給される
ガスを多様な方向に分岐するように前記ガスラインの所
定部位に介装された拡張バルブと、該拡張バルブの下流
側のガスラインに介装され、ガスの漏出を防止するスト
ップバルブと、該ストップバルブと隣接したガスライン
に介装され、前記拡張バルブに流入するガスの圧力をチ
ェックする第１センサーと、該第１センサー及びストッ
プバルブの下流側のガスラインに所定間隔を置いて複数
介装され、流入ガスを分岐して各装置に供給する供給バ
ルブと、該供給バルブの下流側のガスラインに介装さ
れ、該ガスライン内の不純物を除去するためのパージ用
ガスの供給量を調節するガス調整バルブと、前記供給バ
ルブの下流側に介装され、パージ用ガスの流入及び遮断
を行うパージ用バルブと、該パージ用バルブの下流側に
介装され、ガス量を調節する調整弁と、該調整弁の下流
側に介装され、ガスの最終圧力をチェックする第２セン
サーと、該第２センサーの下流側に介装され、ガスを清
浄するガスフィルターと、該ガスフィルターの下流側に
介装され、 ガスの供給を調節する最終供給バルブと、を
含んで構成した。
【００１１】かかる構成によれば、ガス桶からガス調整
ボックスに供給されたガスは、拡張バルブを通過した
後、複数の供給バルブによって各装置へと分岐される。
分岐されたガスは、吐出量を調整する供給バルブ及びガ
スの供給を調整する最終供給バルブによって、その吐出
量及び圧力が調整された後、各装置に供給される。ま
た、供給バルブと最終供給バルブとの間には、ガスフィ
ルターが介装されているので、各装置に供給されるガス
に含まれる異物が取り除かれる。さらに、パージ用ガス
の供給量を調整するパージ用バルブが介装されているの
で、定期的にガスラインにパージガスを流通させると共
に、ストップバルブを開放することで、ガスライン内の
不純物がストップバルブから大気中に排出され、各装置
に供給されるガスの純度が向上する。
【００１２】この他には、第１センサー及び第２センサ
ーは、入力時のガス圧力及び最終供給圧力を夫々チェッ
クする役割を果たし、使用者がかかるデータをモニタリ
ングすることで、ガス供給装置の誤動作が防止される。
請求項４記載の発明は、前記拡張バルブの吐出側には、
別の供給管が前記ガスラインに連結され、増設される装
置にガスを供給可能な構成とした。
【００１３】かかる構成によれば、拡張バルブの吐出側
には、別の供給管が連結されているので、ガス供給装置
の設置後、装置の増設が必要となっても、かかる供給管
を使用して容易に装置の増設が行われる。
【００１４】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態に対し
図面を用いて説明する。本発明に係る半導体製造装置の
ガス供給装置は、図１に示すように、半導体製造用の各
装置８０が収納される収納部７０と、該収納部７０の外
側にＳｉＨ４，ＰＨ３，ＮＦ３及びＣＦ４のような多種
類のガスが夫々貯蔵されるガス桶２０が複数収納される
ガスキャビネット１０と、ガスライン３０を介して該ガ
スキャビネット１０の各ガス桶２０から夫々供給される
ガスを、ガス供給管９０を介して前記収納部７０の各装
置８０に選択的に供給するガス調整ボックス５０と、ガ
スライン３０を囲い、ガスライン３０をガス調整ボック
ス５０に導く案内ダクト４０と、を含んで構成される。
ガス調整ボックス５０は、通常１個、多くて２個配設さ
れ、また、ガス調整ボックス５０と各装置８０とを接続
するガス供給管９０は、図１に示すように、配管が交差
しないようにレイアウトされている。
【００１５】そして、前記ガス調整ボックス５０の内部
構造は、図２に示すように、前記ガスライン３０の所定
部位に、前記ガスキャビネット１０の各ガス桶２０から
供給されたガスを複数の方向（本実施形態では、２方
向）に分岐させる拡張バルブ５１が介装され、該拡張バ
ルブ５１の下流側にガスの漏出を防止するストップバル
ブ５２が介装され、該ストップバルブ５２に隣接して前
記拡張バルブ５１に供給されるガスの圧力をチェックす
る第１センサー５３が介装され、第１センサー５３及び
ストップバルブ５２の下流側のガスライン３０には、ガ
スを分岐して収納部７０内の各装置８０に供給する複数
の供給バルブ５４が夫々所定間隔を置いて介装されてい
る。また、該ガス調整ボックス５０内の所定部位の前記
ガスライン３０には、前記ガス供給管９０内部の不純物
を除去するためのパージ用ガスの供給量を調節する調整
バルブ５５が介装され、前記供給バルブ５４の下流側に
はパージ用ガスの流入及び遮断を行うパージ用バルブ５
６が介装され、該パージ用バルブ５６の下流側にはガス
の量を調節する調整弁５７が介装され、該調整弁５７の
下流側にはガスの最終圧力をチェックする第２センサー
５８が介装され、該第２センサー５８の下流側には、ガ
スを清浄するガスフィルター５９が介装され、該ガスフ
ィルター５９の下流側にはガスの供給を調節する最終供
給バルブ６０が介装されている。
【００１６】又、前記拡張バルブ５１の吐出側には、別
の供給管６１がガスライン３０に連結され、前記収納部
７０内に装置８０が増設されるとき、該増設した装置８
０にガスを供給し得るようになっている。更に、このよ
うなガス調整ボックス５０を応用して、３種類のガスを
調整し得るガス調整ボックス５０の構造が図３に表示さ
れており、図３に示すように、パージ用ガスを各ガス供
給管９０に分岐して供給し得るようにパージ用ガス供給
管６２が連結され、ガスの供給を調整する最終供給バル
ブ６０が相互に重畳せずに、交互に介装されている。
【００１７】そして、このような３種類のガスを調整し
得るガス調整ボックス５０を２個使用した構成が図４に
表示されており、このように構成されたガス調整ボック
ス５０を用いると、多様な種類の供給ガスを増設された
収納部７０の該当装置８０に選択的に供給することがで
きる。次に、このように構成された本発明に係る半導体
製造装置のガス供給装置の作用を説明する。
【００１８】先ず、供給管９０内の不純物を除去するた
め、パージ用ガス調整弁５５を開放し、パージ用ガスを
供給管９０内に流入させる。次いで、ガス桶２０から供
給されたガスが、ガスライン３０を通って拡張バルブ５
１に流入され、第１センサー５３によりガスの圧力がチ
ェックされる。また、ガスはガスライン３０の各供給バ
ルブ５４を通って、分岐して流れ、パージ用バルブ５６
の一方側が閉鎖してパージ用ガスの流入が遮断され、パ
ージ用バルブ５６の他方側が開放してガスはガスライン
３０の所定経路を通って流通する。
【００１９】そして、パージ用バルブ５６の下流側の調
整弁５７によりガスの量が調整され、第２センサー５８
によりガスの最終圧力がチェックされ、ガスフィルター
５９によりフィルターリングされた後、供給バルブ６０
を通って供給管９０に流入され、収納部７０内の各装置
８０に供給され、工程に従う作用が行われる。即ち、３
種類の供給ガスを供給する場合は、以上の経路にしたが
い相互に交差しないガス供給管９０を通って各装置８０
にガスを供給し、また、ガスを供給すべき装置８０が増
設されてガスの需要が増加する場合は、拡張バルブ５１
に連結された別の供給管６１にガス供給管９０を連結し
て、増設された各装置８０にガスを供給する。
【００２０】また、一層多い種類及び量のガスを供給す
る場合は、図４に示すような、ガス調整ボックス５０を
用いてガスを供給する。
【００２１】
【発明の効果】以上説明したように、請求項１記載の発
明によれば、ガスの種類と同じ数のガス調整ボックスを
使用しなくとも、各装置には選択的にガスが供給される
ので、ガス調整ボックスの占有面積を減らして空間の活
用度を向上することができる。また、ガス調整ボックス
から各装置にガスを供給するガス供給管が、相互に交差
しないように容易にレイアウトできるので、配管構造が
複雑にならず、配管設置作業及び配管交換作業等を容易
に行うことができる。
【００２２】請求項２記載の発明によれば、ガス調整ボ
ックスは、並列して２個設置されるので、ガス調整ボッ
クスから各装置にガスを供給するガス供給管のレイアウ
トがをより自由に行うことができる。請求項３記載の発
明によれば、一般的な機器を使用してガス調整ボックス
を構成することができるので、コスト上昇及び信頼性の
低下を防止することができる。また、第１センサー及び
第２センサーをモニタリングすることで、ガス供給装置
の誤動作を未然に防止することができる。
【００２３】請求項４記載の発明によれば、拡張バルブ
の吐出側には、別の供給管が連結されているので、ガス
供給装置の設置後、装置の増設が必要となっても、かか
る供給管を使用して容易に装置の増設を行うことができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明に係る半導体製造装置のガス供給装備
を示した斜視図である。
【図２】 本発明に係るガス調整ボックスの配管構造を
示した構成図である。
【図３】 本発明に係る３種類のガスを調整し得るガス
調整ボックスの配管構造を示した構造図である。
【図４】 本発明に係る２個のガス調整ボックスを用い
る場合の構造を示した構成図である。
【図５】 従来の半導体製造装置のガス供給装備を示し
た斜視図である。
【符号の説明】
１０：ガスキャビネット ２０：ガス桶 ３０：ガスライン ５０：ガス調整ボックス ５１：拡張バルブ ５２：ストップバルブ ５３：第１センサー ５４：供給バルブ ５５：ガス調整バルブ ５６：パージ用バルブ ５７：調整弁 ５８：第２センサー ５９：ガスフィルター ６０：最終供給バルブ ６１：供給管 ６２：ガス供給管 ７０：収納部 ８０：装置 ９０：ガス供給管
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ // Ｈ０１Ｌ 21/31 Ｈ０１Ｌ 21/302 Ｂ (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) F17D 1/02 B01J 4/00 102 H01L 21/02 H01L 21/3065

Claims (4)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】収納部（７０）に収納された複数の半導体
    製造用の装置（８０）に、複数種類のガスを供給する半
    導体製造装置のガス供給装置であって、 前記収納部（７０）の外側に配置され、前記各ガスが種
    類別に夫々貯蔵されたガス桶（２０）を収納するガスキ
    ャビネット（１０）と、 ガスライン（３０）を介して該ガスキャビネット（１
    ０）の各ガス桶（２０）から夫々供給されるガスを、ガ
    ス供給管（９０）を介して前記収納部（７０）の各装置
    （８０）に選択的に供給するガス調整ボックス（５０）
    と、 を含んで構成されたことを特徴とする半導体製造装置の
    ガス供給装置。
  2. 【請求項２】前記ガス調整ボックス（５０）は、並列し
    て２個設置されることを特徴とする請求項１記載の半導
    体製造装置のガス供給装置。
  3. 【請求項３】前記ガス調整ボックス（５０）は、 前記ガスキャビネット（１０）のガス桶（２０）から供
    給されるガスを多様な方向に分岐するように前記ガスラ
    イン（３０）の所定部位に介装された拡張バルブ（５
    １）と、 該拡張バルブ（５１）の下流側のガスライン（３０）に
    介装され、ガスの漏出を防止するストップバルブ（５
    ２）と、 該ストップバルブ（５２）と隣接したガスライン（３
    ０）に介装され、前記拡張バルブ（５１）に流入するガ
    スの圧力をチェックする第１センサー（５３）と、 該第１センサー（５３）及びストップバルブ（５２）の
    下流側のガスライン（３０）に所定間隔を置いて複数介
    装され、流入ガスを分岐して各装置（８０）に供給する
    供給バルブ（５４）と、 該供給バルブ（５４）の下流側のガスライン（３０）に
    介装され、該ガスライン（３０）内の不純物を除去する
    ためのパージ用ガスの供給量を調節するガス調整バルブ
    （５５）と、 前記供給バルブ（５４）の下流側に介装され、パージ用
    ガスの流入及び遮断を行うパージ用バルブ（５６）と、 該パージ用バルブ（５６）の下流側に介装され、ガス量
    を調節する調整弁（５７）と、 該調整弁（５７）の下流側に介装され、ガスの最終圧力
    をチェックする第２センサー（５８）と、 該第２センサー（５８）の下流側に介装され、ガスを清
    浄するガスフィルター（５９）と、 該ガスフィルター（５９）の下流側に介装され、 ガスの
    供給を調節する最終供給バルブ（６０）と、 を含んで構成されたことを特徴とする請求項１又は２に
    記載の半導体製造装置のガス供給装置。
  4. 【請求項４】前記拡張バルブ（５１）の吐出側には、別
    の供給管（６１）が前記ガスライン（３０）に連結さ
    れ、増設される装置（８０）にガスを供給可能な構成で
    あることを特徴とする請求項３記載の半導体製造装置の
    ガス供給装置。
JP28399897A 1996-10-17 1997-10-16 半導体製造装置のガス供給装置 Ceased JP3350642B2 (ja)

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