KR100892861B1 - 섬유 반응성 아조 염료, 이의 제조방법 및 이를 사용하는 염색 또는 날염 방법 - Google Patents

섬유 반응성 아조 염료, 이의 제조방법 및 이를 사용하는 염색 또는 날염 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR100892861B1
KR100892861B1 KR1020047005404A KR20047005404A KR100892861B1 KR 100892861 B1 KR100892861 B1 KR 100892861B1 KR 1020047005404 A KR1020047005404 A KR 1020047005404A KR 20047005404 A KR20047005404 A KR 20047005404A KR 100892861 B1 KR100892861 B1 KR 100892861B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
formula
radical
sulfo
alkyl
alkoxy
Prior art date
Application number
KR1020047005404A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20050033533A (ko
Inventor
치카스아타나씨오스
뮐러베른하르트
Original Assignee
시바 홀딩 인크
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 시바 홀딩 인크 filed Critical 시바 홀딩 인크
Publication of KR20050033533A publication Critical patent/KR20050033533A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100892861B1 publication Critical patent/KR100892861B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B62/00—Reactive dyes, i.e. dyes which form covalent bonds with the substrates or which polymerise with themselves
    • C09B62/44—Reactive dyes, i.e. dyes which form covalent bonds with the substrates or which polymerise with themselves with the reactive group not directly attached to a heterocyclic ring
    • C09B62/4401—Reactive dyes, i.e. dyes which form covalent bonds with the substrates or which polymerise with themselves with the reactive group not directly attached to a heterocyclic ring with two or more reactive groups at least one of them being directly attached to a heterocyclic system and at least one of them being directly attached to a non-heterocyclic system
    • C09B62/4403—Reactive dyes, i.e. dyes which form covalent bonds with the substrates or which polymerise with themselves with the reactive group not directly attached to a heterocyclic ring with two or more reactive groups at least one of them being directly attached to a heterocyclic system and at least one of them being directly attached to a non-heterocyclic system the heterocyclic system being a triazine ring
    • C09B62/4411—Azo dyes
    • C09B62/4415—Disazo or polyazo dyes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B62/00—Reactive dyes, i.e. dyes which form covalent bonds with the substrates or which polymerise with themselves
    • C09B62/44—Reactive dyes, i.e. dyes which form covalent bonds with the substrates or which polymerise with themselves with the reactive group not directly attached to a heterocyclic ring
    • C09B62/503—Reactive dyes, i.e. dyes which form covalent bonds with the substrates or which polymerise with themselves with the reactive group not directly attached to a heterocyclic ring the reactive group being an esterified or non-esterified hydroxyalkyl sulfonyl or mercaptoalkyl sulfonyl group, a quaternised or non-quaternised aminoalkyl sulfonyl group, a heterylmercapto alkyl sulfonyl group, a vinyl sulfonyl or a substituted vinyl sulfonyl group, or a thiophene-dioxide group
    • C09B62/507—Azo dyes
    • C09B62/51—Monoazo dyes
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09B—ORGANIC DYES OR CLOSELY-RELATED COMPOUNDS FOR PRODUCING DYES, e.g. PIGMENTS; MORDANTS; LAKES
    • C09B62/00—Reactive dyes, i.e. dyes which form covalent bonds with the substrates or which polymerise with themselves
    • C09B62/44—Reactive dyes, i.e. dyes which form covalent bonds with the substrates or which polymerise with themselves with the reactive group not directly attached to a heterocyclic ring
    • C09B62/503—Reactive dyes, i.e. dyes which form covalent bonds with the substrates or which polymerise with themselves with the reactive group not directly attached to a heterocyclic ring the reactive group being an esterified or non-esterified hydroxyalkyl sulfonyl or mercaptoalkyl sulfonyl group, a quaternised or non-quaternised aminoalkyl sulfonyl group, a heterylmercapto alkyl sulfonyl group, a vinyl sulfonyl or a substituted vinyl sulfonyl group, or a thiophene-dioxide group
    • C09B62/507—Azo dyes
    • C09B62/513—Disazo or polyazo dyes

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Coloring (AREA)
  • Treatments For Attaching Organic Compounds To Fibrous Goods (AREA)

Abstract

화학식 1의 구조 단위를 하나 이상 함유하는 반응성 염료는 셀룰로즈 또는 아미드 그룹 함유 섬유재료의 염색에 적합하다.
화학식 1
Figure 112004014999336-pct00150
위의 화학식 1에서,
Y는 비닐 또는 라디칼 -CH2-CH2-U(여기서, U는 알칼리 조건하에 제거 가능한 그룹이다)이다.
섬유 반응성 아조 염료, 셀룰로즈 또는 아미드 그룹 함유 섬유재료, 염색, 날염, 알칼리 조건, 디아조화 아민

Description

섬유 반응성 아조 염료, 이의 제조방법 및 이를 사용하는 염색 또는 날염 방법{Fibre-reactive azo dyes, their preparation and a method for dyeing or printing using the same}
본 발명은 섬유 반응성 염료, 이의 제조방법 및 직물 섬유재료의 염색 또는 날염에 있어서의 이의 용도에 관한 것이다.
반응성 염료를 사용하는 염색을 실시하는 데 있어서 최근 염색물의 품질 및 염색 공정의 유용성이 보다 많이 요구되고 있다. 그 결과, 특히 당해 염료의 적용에 관하여 개선된 특성을 갖는 신규한 반응성 염료가 여전히 요구되고 있다.
오늘날, 염색은 직접 염색성이 충분하고 비고착성 염료의 세탁에 의한 제거 용이성이 우수한 반응성 염료를 필요로 한다. 염색은 또한 착색률이 우수하고 반응성이 높아야 하며, 이의 목적은 특히 고착도가 높은 염색물을 제공하는 것이다. 공지된 염료는 모든 특성에 있어 이러한 요건들을 충족시키지 못한다.
따라서, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는, 섬유재료의 염색 및 날염에 있어서, 위와 같은 점을 특징으로 하는 품질을 갖는 고도로 개선된 신규한 반응성 염료를 발견하는 것이다. 신규한 염료는 특히 고착률이 높고 섬유-염료 결합 안정성이 높음을 특징으로 하여야 하며, 또한 섬유에 고착되지 않은 염료가 세탁에 의해 용이하게 제거될 수 있어야 한다. 염료는 또한 다방면에 걸친 견뢰도 특성, 예를 들면, 광견뢰도 및 습윤 견뢰도 특성이 우수한 염색물을 수득할 수 있어야 한다.
부과된 과제는 아래에 정의하는 신규한 염료에 의해 대부분 해결되는 것으로 보여진다.
따라서, 본 발명은 화학식 1, 바람직하게는 화학식 1a의 반응성 염료에 관한 것이다.
Figure 112004014999336-pct00001
Figure 112004014999336-pct00002
위의 화학식 1 및 화학식 1a에서,
Y는 비닐 또는 라디칼 -CH2-CH2-U(여기서, U는 알칼리 조건하에 제거할 수 있는 그룹이다)이다.
본 발명에 따르는 아조 염료는 바람직하게는 화학식 1aa 또는 화학식 1ab에 상응한다.
Figure 112004014999336-pct00003
Figure 112004014999336-pct00004
위의 화학식 1aa 및 화학식 1ab에서,
D1 및 D2는 각각 서로 독립적으로 디아조 성분, 벤젠 또는 나프탈렌 계열의 라디칼이고,
D3은 방향족 테트라아조 성분의 라디칼이고,
Y는 위에서 정의한 바와 같다.
라디칼 D1 및 D2의 적합한 치환체는 아조 염료에 통상적인 치환체를 포함한다. 다음을 예로서 언급할 수 있다: 메틸, 에틸, n- 또는 이소-프로필, 및 n-, 이소-, 2급- 또는 3급 부틸일 것으로 이해되는 C1-C4알킬; 메톡시, 에톡시, n- 또는 이소-프로폭시, 및 n-, 이소, 2급- 또는 3급 부톡시일 것으로 이해되는 C1-C4알콕시; 하이드록시-C1-C4알콕시; 페녹시; 치환되지 않거나 알킬 잔기가 하이드록시 또는 C1-C4알콕시, 예를 들면, 아세틸아미노, 하이드록시아세틸아미노, 메톡시아세틸아미노 또는 프로피오닐아미노에 의해 치환된 C2-C6알카노일아미노; 치환되지 않거나 페닐 잔기가 하이드록시, 설포, 할로겐, C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시에 의해 치환된 벤조일아미노; 치환되지 않거나 알킬 잔기가 하이드록시, C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시에 의해 치환된 C1-C6알콕시-카보닐아미노; 치환되지 않거나 페닐 잔기가 하이드록시, C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시에 의해 치환된 페녹시카보닐아미노; 아미노; 치환되지 않거나 알킬 잔기가 하이드록시, C1-C4알콕시, 카복시, 시아노, 할로겐, 설포, 설페이토, 페닐 또는 설포페닐에 의해 치환된 N-C1-C4알킬- 또는 N,N-디-C1-C4알킬-아미노, 예를 들면, 메틸아미노, 에틸아미노, N,N-디메틸아미노, N,N,-디에틸아미노, β-시아노에틸아미노, β-하이드록시에틸아미노, N,N-디-β-하이드록시에틸아미노, β-설포에틸아미노, γ-설포-n-프로필아미노, β-설페이토에틸아미노, N-에틸-N-(3-설포벤질)-아미노, N-(β-설포에틸)-N-벤질아미노; 사이클로헥실아미노; 치환되지 않거나 페닐 잔기가 니트로, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 카복시, 할로겐 또는 설포에 의해 치환된 N-페닐아미노 또는 N-C1-C4알킬-N-페닐아미노; C1-C4알콕시카보닐, 예를 들면, 메톡시- 또는 에톡시-카보닐; 트리플루오로메틸; 니트로; 시아노; 일반적으로, 예를 들면, 불소, 브롬, 또는 특히 염소일 것으로 이해되는 할로겐; 우레이도; 하이드록시; 카복시; 설포; 설포메틸; 카바모일; 카바미도; 설파모일; 치환되지 않거나 페닐 잔기가 설포 또는 카복시에 의해 치환된 N-페닐설파모일 또는 N-C1-C4알킬-N-페닐설파모일; 메틸- 또는 에틸-설포닐.
라디칼 D1 및 D2의 적합한 치환체는 또한 섬유 반응성 라디칼을 포함한다.
섬유 반응성 라디칼은 셀룰로즈의 하이드록시 그룹, 모(wool) 및 견(silk)에서 아미노, 카복시, 하이드록시 및 티올 그룹과 반응하거나 합성 폴리아미드의 아미노 및 가능한 카복시 그룹과 반응하여 화학 공유 결합을 형성할 수 있는 라디칼인 것으로 이해된다. 섬유 반응성 라디칼은 일반적으로 직접적으로 또는 브릿지 구성원(bridging member)을 통해 염료 라디칼과 결합한다. 적합한 섬유 반응성 라디칼은, 예를 들면, 지방족, 방향족 또는 헤테로사이클릭 라디칼에서 하나 이상의 제거 가능한 치환체를 갖는 라디칼, 또는 언급된 라디칼이 섬유재료와 반응하기에 적합한 라디칼, 예를 들면, 비닐 라디칼을 포함하는 라디칼이다.
D1 및 D2에 존재하는 섬유 반응성 라디칼은, 예를 들면, 화학식 2a, 화학식 2b, 화학식 2c, 화학식 2d, 화학식 2e, 화학식 2f 또는 화학식 2g에 상응한다.
-SO2-Y
-NH-CO-(CH2)l-SO2-Y
-CONR2-(CH2)m-SO2-Y
-NH-CO-CH(Hal)-CH2-Hal
-NH-CO-C(Hal)=CH2
Figure 112004014999336-pct00005
Figure 112004014999336-pct00006
위의 화학식 2a 내지 화학식 2g에서,
Hal은 염소 또는 브롬이고,
X1은 할로겐, 3-카복시피리딘-1-일 또는 3-카바모일피리딘-1-일이고,
T1은 독립적으로 X1과 동일한 의미이거나, 화학식 3a, 화학식 3b, 화학식 3c, 화학식 3d, 화학식 3e 또는 화학식 3f의 섬유 반응성 라디칼 또는 섬유 비반응성 치환체이고,
R1a 및 R1b는 각각 서로 독립적으로 수소 또는 C1-C4알킬이고,
R2는 수소이거나, 치환되지 않거나 하이드록시, 설포, 설페이토, 카복시 또는 시아노에 의해 치환된 C1-C4알킬, 또는 라디칼
Figure 112007071389830-pct00007
이고,
Y는 비닐 또는 라디칼 -CH2-CH2-U(여기서, U는 알칼리 조건하에 제거 가능한 그룹이다)이고,
l 및 m은 각각 서로 독립적으로 1 내지 6의 정수이고,
X2는 할로겐 또는 C1-C4알킬설포닐이고,
X3은 할로겐 또는 C1-C4알킬이고,
T2는 수소, 시아노 또는 할로겐이다.
Figure 112004014999336-pct00008
Figure 112004014999336-pct00009
Figure 112004014999336-pct00010
Figure 112004014999336-pct00011
Figure 112004014999336-pct00012
Figure 112004014999336-pct00013
위의 화학식 3a 내지 화학식 3f에서,
R1은 수소 또는 C1-C4알킬이고,
R2, Y 및 l은 위에서 정의한 바와 같고,
R3은 수소, 하이드록시, 설포, 설페이토, 카복시, 시아노, 할로겐, C1-C4알콕시카보닐, C1-C4알카노일옥시, 카바모일 또는 그룹 -SO2-Y이고,
alk 및 alk1은 각각 서로 독립적으로 직쇄 또는 측쇄 C1-C6알킬렌이고,
아릴렌은 치환되지 않거나 설포, 카복시, C1-C4알킬, C1-C4알콕시 또는 할로겐에 의해 치환된 페닐렌 또는 나프틸렌 라디칼이고,
Q는 라디칼 -O- 또는 -NR1-(여기서, R1은 위에서 정의한 바와 같다)이고,
W는 그룹 -SO2-NR2-, -CONR2- 또는 -NR2CO-(여기서, R2 는 위에서 정의한 바와 같다)이고,
Y1은 그룹 -CH(Hal)-CH2-Hal 또는 -C(Hal)=CH2(여기서, Hal은 염소 또는 브롬이다)이고,
n은 0 또는 1이다.
알칼리 조건하에 제거 가능한 그룹 U로서, 예를 들면, -Cl, -Br, -F, -OSO3H, -SSO3H, -OCO-CH3, -OPO3H2, -OCO-C6 H5, -OSO2-C1-C4알킬 및 -OSO2-N(C1 -C4알킬)2가 고려될 수 있다. U는 바람직하게는 화학식 -Cl, -OSO3H, -SSO3H, -OCO-CH 3, -OCO-C6H5 또는 -OPO3H2, 특히 -Cl 또는 -OSO3H, 보다 특히 -OSO3H의 그룹이다.
따라서, 적합한 라디칼 Y의 예로는 비닐, β-브로모 또는 β-클로로-에틸, β-아세톡시-에틸, β-벤조일옥시에틸, β-포스페이토에틸, β-설페이토에틸 및 β-티오설페이토에틸이다. Y는 바람직하게는 비닐, β-클로로에틸 또는 β-설페이토에틸, 특히 비닐 또는 β-설페이토에틸이다.
R1, R1a 및 R1b는 바람직하게는 각각 서로 독립적으로 수소, 메틸 또는 에틸, 특히 수소이다.
R2는 바람직하게는 수소 또는 C1-C4알킬, 예를 들면, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, 2급 부틸 및 3급 부틸, 특히 수소, 메틸 또는 에틸이다. R2는 보다 특히 수소이다.
R3은 바람직하게는 수소이다.
l 및 m은 바람직하게는 각각 서로 독립적으로 2, 3 또는 4, 특히 2 또는 3이다.
보다 특히, l은 3이고, m은 2이다.
섬유 비반응성 치환체 T1의 경우, 예를 들면, 다음 라디칼이 고려될 수 있다:
하이드록시;
치환되지 않거나 알킬 잔기가, 예를 들면, C1-C4알콕시, 하이드록시, 설포 또는 카복시에 의해 치환된 C1-C4알콕시, 예를 들면, 메톡시, 에톡시, n- 또는 이소-프로폭시, n-, 2급-, 이소- 또는 3급 부톡시, 특히 메톡시 또는 에톡시;
치환되지 않거나 알킬 잔기가, 예를 들면, C1-C4알콕시, 하이드록시, 설포 또는 카복시에 의해 치환된 C1-C4알킬티오, 예를 들면, 메틸티오, 에틸티오, n- 또는 이소-프로필티오, 또는 n-부틸티오;
아미노;
치환되지 않거나 알킬 잔기가, 예를 들면, C2-C4알카노일아미노, C1-C4알콕시, 하이드록시, 설포, 설페이토, 카복시, 시아노, 카바모일 또는 설파모일에 의해 치환되고 알킬 잔기의 쇄 중간에 산소가 개입될 수 있는 N-모노- 또는 N,N-디-C1-C6알킬아미노, 바람직하게는 N-모노- 또는 N,N-디-C1-C4알킬아미노; 예를 들면, N-메틸아미노, N-에틸아미노, N-프로필아미노, N,N-디메틸아미노, N,N-디에틸아미노, N-β-하이드록시에틸아미노, N,N-디-β-하이드록시에틸아미노, N-2-(β-하이드록시-에톡시)에틸아미노, N-2-[2-(β-하이드록시에톡시)에톡시]에틸아미노, N-β-설페이토에틸아미노, N-β-설페이토에틸아미노, N-카복시메틸아미노, N-β-카복시에틸아미노, N-α,β-디카복시에틸아미노, N-α,γ-디카복시프로필아미노 및 N-에틸-N-β-하이드록시에틸아미노 또는 N-메틸-N-β-하이드록시에틸아미노;
치환되지 않거나 사이클로알킬 환이, 예를 들면, C1-C4알킬, 특히 메틸 또는 카복시에 의해 치환된 C5-C7사이클로알킬아미노, 예를 들면, 사이클로헥실아미노;
치환되지 않거나 페닐 환이, 예를 들면, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, C1-C4알카노일아미노, 카복시, 카바모일, 설포 또는 할로겐, 예를 들면, 2-, 3- 또는 4-클로로페닐아미노, 2-, 3- 또는 4-메틸페닐아미노, 2-, 3- 또는 4-메톡시페닐아미노, 2-, 3- 또는 4-설포페닐아미노, 디설포페닐아미노 또는 2-, 3- 또는 4-카복시페닐아미노에 의해 치환된 페닐아미노 또는 N-C1-C4알킬-N-페닐아미노;
치환되지 않거나 나프틸 환이, 예를 들면, 설포에 의해, 바람직하게는 1 내지 3개의 설포 그룹에 의해 치환된 나프틸아미노, 예를 들면, 1- 또는 2-나프틸아미노, 1-설포-2-나프틸아미노, 1,5-디설포-2-나프틸아미노 또는 4,8-디설포-2-나프틸아미노; 또는
치환되지 않거나 페닐 환이, 예를 들면, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 카복시, 설포 또는 할로겐에 의해 치환된 벤질아미노.
섬유 비반응성 라디칼로서, T1은 바람직하게는 치환되지 않거나 알킬 잔기가 하이드록시, 설페이토 또는 설포에 의해 치환된 C1-C4알콕시, C1-C4알킬티오, 하이드록시, 아미노, N-모노- 또는 N,N-디-C1-C4알킬아미노; 모르폴리노; 치환되지 않거나 페닐 환이 설포, 카복시, 아세틸아미노, 염소, 메틸 또는 메톡시에 의해 치환된 페닐아미노 또는 N-C1-C4알킬-N-페닐아미노(여기서, 알킬은 치환되지 않거나 하이드록시, 설포 또는 설페이토에 의해 치환된다); 또는 치환되지 않거나 1 내지 3개의 설포 그룹에 의해 치환된 나프틸아미노이다.
특히 바람직한 섬유 비반응성 라디칼 T1은 아미노, N-메틸아미노, N-에틸아미노, N-β-하이드록시에틸아미노, N-메틸-N-β-하이드록시에틸아미노, N-에틸-N-β-하이드록시에틸아미노, N,N-디-β-하이드록시에틸아미노, 모르폴리노, 2-, 3- 또는 4-카복시페닐아미노, 2-, 3- 또는 4-설포페닐아미노 또는 N-C1-C4알킬-N-페닐아미노이다.
X1은 바람직하게는 할로겐, 예를 들면, 불소, 염소 또는 브롬, 특히 염소 또는 불소이다.
T2, X2 및 X3은 할로겐, 예를 들면, 불소, 염소 또는 브롬, 특히 염소 또는 브롬이다.
X2는 C1-C4알킬설포닐, 예를 들면, 에틸설포닐 또는 메틸설포닐, 특히 메틸설포닐이다.
X3은 C1-C4알킬, 예를 들면, 메틸, 에틸, n- 또는 이소-프로필, n-, 이소- 또는 3급 부틸, 특히 메틸이다.
X2 및 X3은 바람직하게는 각각 서로 독립적으로 염소 또는 불소이다.
T2는 바람직하게는 시아노 또는 염소이다.
Hal은 바람직하게는 불소이다.
alk 및 alk1은 각각 서로 독립적으로, 예를 들면, 메틸렌, 에틸렌, 1,3-프로필렌, 1,4-부틸렌, 1,5-펜틸렌 또는 1,6-헥실렌 라디칼, 또는 이들의 분지된 이성체이다.
alk 및 alk1은 바람직하게는 각각 서로 독립적으로 C1-C4알킬렌 라디칼, 특히 에틸렌 라디칼 또는 프로필렌 라디칼이다.
아릴렌은 바람직하게는, 치환되지 않거나, 예를 들면, 설포, 메틸, 메톡시 또는 카복시에 의해 치환된 1,3- 또는 1,4-페닐렌 라디칼, 특히 치환되지 않은 1,3- 또는 1,4-페닐렌 라디칼이다.
Q는 바람직하게는 -NH- 또는 -O-이고, 특히 -O-이다.
W는 바람직하게는 화학식 -CONH- 또는 -NHCO-의 그룹, 특히 화학식 -CONH-의 그룹이다.
n은 바람직하게는 0이다.
화학식 3a 내지 화학식 3f의 반응성 라디칼은 바람직하게는 W가 화학식 -CONH-의 그룹이고, R1, R2 및 R3이 각각 수소이고, Q가 라디칼 -O- 또는 -NH-이고, alk 및 alk1이 각각 서로 독립적으로 에틸렌 또는 프로필렌이고, 아릴렌이 치환되지 않거나 메틸, 메톡시, 카복시 또는 설포에 의해 치환된 페닐렌이고, Y가 비닐 또는 β-설페이토에틸이고, Y1이 -CHBr-CH2Br 또는 -CBr=CH2이고, n이 0인 라디칼이다.
D1 및 D2에 존재하는 섬유 반응성 라디칼은 특히 Y가 비닐, β-클로로에틸 또는 β-설페이토에틸이고, Hal이 브롬이고, R2 및 R1a가 수소이고, m이 2 또는 3이고, X1이 할로겐이고, T1이 C1-C4알콕시; C1-C4알킬티오; 하이드록시; 아미노; 치환되지 않거나 알킬 잔기가 하이드록시, 설페이토 또는 설포에 의해 치환된 N-모노- 또는 N,N-디-C1-C4알킬아미노; 모르폴리노; 치환되지 않거나 페닐 환이 설포, 카복시, 아세틸아미노, 염소, 메틸 또는 메톡시에 의해 치환된 페닐아미노 또는 N-C1-C4알킬-N-페닐아미노(여기서, 알킬은 치환되지 않거나 하이드록시, 설포 또는 설페이토에 의해 치환된다); 치환되지 않거나 1 내지 3개의 설포 그룹에 의해 치환된 나프틸아미노인 화학식 2a, 2c, 2d, 2e 또는 2f의 라디칼이거나 화학식 3a', 화학식 3b', 화학식 3c', 화학식 3d' 또는 화학식 3f', 특히 화학식 3c' 또는 화학식 3d'의 섬유 반응성 라디칼이다.
[화학식 3a']
Figure 112007071389830-pct00014
[화학식 3b']
Figure 112007071389830-pct00015
[화학식 3c']
Figure 112007071389830-pct00016
[화학식 3d']
Figure 112007071389830-pct00017
[화학식 3f']
Figure 112007071389830-pct00018

위의 화학식 3a' 내지 3f'에서,
Y는 위에서 정의한 바와 같고,
Y1은 그룹 -CH(Br)-CH2-Br 또는 -C(Br)=CH2이다.
화학식 3a' 및 화학식 3b'의 라디칼의 경우, Y는 바람직하게는 β-클로로에틸이다. 화학식 3c' 및 화학식 3d'의 라디칼의 경우, Y는 바람직하게는 비닐 또는 β-설페이토에틸이다.
본 발명의 특별한 양태는 D1 및 D2에 존재하는 라디칼이 화학식 2h에 상응하 는 염료에 관한 것이다:
Figure 112004014999336-pct00019
위의 화학식 2h에서,
R1a 및 X1은 위에서 정의한 바와 같고 위에서 언급한 바람직한 의미를 가지며,
T3은 화학식 4 또는 화학식 5의 모노아조아미노 또는 디스아조아미노 라디칼이다.
Figure 112004014999336-pct00020
Figure 112004014999336-pct00021
위의 화학식 4 및 화학식 5에서,
D는 디아조 성분, 벤젠 또는 나프탈렌 계열의 라디칼이고,
M은 중심(central) 성분, 벤젠 또는 나프탈렌 계열의 라디칼이고,
K는 커플링 성분, 벤젠, 나프탈렌, 피라졸론, 6-하이드록시피리드-2-온 또는 아세토아세트산 아릴아미드 계열의 라디칼이고,
R1은 위에서 정의한 바와 같으며 위에서 언급한 바람직한 의미를 가지며
u는 0 또는 1이다(여기서, D, M 및 K는 아조 염료에 대해 통상적인 치환체를 가질 수 있다).
용어 "아조 염료에 대해 통상적인 치환체"란 섬유 반응성 및 섬유 비반응성 치환체, 예를 들면, D1 및 D2에 대해 위에서 언급한 치환체를 모두 포함할 것으로 이해된다.
T3에서 D, M 및 K에 대한 섬유 비반응성 치환체로서, 치환되지 않거나 특히 하이드록시, 설포 또는 설페이토에 의해 추가로 치환된 C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시; 할로겐, 카복시, 설포, 니트로, 시아노, 트리플루오로메틸, 설파모일, 카바모일, 아미노, 우레이도, 하이드록시, 설포메틸 또는 C2-C4알카노일아미노; 치환되지 않거나 페닐 환이 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 할로겐 또는 설포에 의해 치환된 벤조일아미노; 또는 치환되지 않거나 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 할로겐, 카복시 또는 설포에 의해 치환된 페닐이 고려된다.
화학식 4 또는 화학식 5의 모노아조아미노 또는 디스아조아미노 라디칼은 바람직하게는 하나 이상의 설포 그룹을 포함한다.
바람직한 모노아조아미노 또는 디스아조아미노 라디칼 T3은 화학식 6a 내지 6p의 라디칼이다.
Figure 112004014999336-pct00022
Figure 112004014999336-pct00023
Figure 112004014999336-pct00024
Figure 112004014999336-pct00025
Figure 112004014999336-pct00026
Figure 112004014999336-pct00027
위의 화학식 6a 내지 화학식 6f에서,
(R4)0-3은 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 할로겐, 카복시 및 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 0 내지 3개의 동일하거나 상이한 치환체를 나타내고,
(R5)0-3은 할로겐; 니트로; 시아노; 트리플루오로메틸; 설파모일; 카바모일; C1-C4알킬; 치환되지 않거나 하이드록시, 설페이토 또는 C1-C4알콕시에 의해 치환된 C1-C4알콕시; 아미노; C2-C4알카노일아미노; 우레이도; 하이드록시; 카복시; 설포메틸; C1-C4알킬설포닐아미노; 및 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 0 내지 3개의 동일하거나 상이한 치환체를 나타내고,
Z1은 화학식 2a, 화학식 2c, 화학식 2d, 화학식 2e, 화학식 2f 또는 화학식 2g, 바람직하게는 화학식 2a, 화학식 2c, 화학식 2d 또는 화학식 2e, 특히 화학식 2a의 라디칼이며, 위에서 언급한 정의 및 바람직한 의미를 갖는다.
Figure 112004014999336-pct00028
Figure 112004014999336-pct00029
Figure 112004014999336-pct00030
Figure 112004014999336-pct00031
Figure 112004014999336-pct00032
Figure 112004014999336-pct00033
Figure 112004014999336-pct00034
Figure 112004014999336-pct00035
Figure 112004014999336-pct00036
Figure 112004014999336-pct00037
위의 화학식 6g 내지 화학식 6p에서,
R6은 C2-C4알카노일 또는 벤조일이고,
(R7)0-3은 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 할로겐, 카복시 및 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 0 내지 3개의 동일하거나 상이한 치환체를 나타내고,
R8 및 R10은 각각 서로 독립적으로 수소, C1-C4알킬 또는 페닐이고,
R9는 수소, 시아노, 카바모일 또는 설포메틸이고,
(R4)0-3, (R5)0-3 및 (R7)0-3은 각각 위에서 정의한 바와 같고,
(R11)0-3 및 (R12)0-3은 각각 서로 독립적으로 그룹 C1 -C4알킬, C1-C4알콕시, 할로겐, 카복시 및 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 0 내지 3개의 동일하거나 상이한 치환체를 나타내고,
Z1은 위에서 정의한 바와 같으며 위에서 언급한 바람직한 의미를 갖는다.
화학식 6a, 화학식 6b, 화학식 6c, 화학식 6d, 화학식 6e, 화학식 6g 및 화학식 6h의 라디칼 중의 나프틸 환 상의 숫자는 가능한 결합 위치를 나타낸다.
화학식 6n 및 화학식 6p의 디스아조아미노 라디칼에서 (R4)0-3은 바람직하게는 0 내지 3개의 설포 그룹을 나타낸다.
특히 바람직한 모노아조아미노 또는 디스아조아미노 라디칼 T3은 화학식 6a, 6b, 6d, 6e, 6k 및 6m, 특히 6b, 6k 및 6m의 라디칼이다.
바람직하게는, 라디칼 D1 및 D2 중 단 하나만이 R1a, X1 및 T3이 위에서 정의한 바와 같고 위에서 언급한 바람직한 의미를 갖는 화학식 2h의 라디칼을 함유한다.
D1 및 D2는 각각 서로 독립적으로 치환되거나 치환되지 않은 디아조 성분, 벤젠 또는 나프탈렌 계열의 라디칼이고, 예를 들면, 페닐 또는 나프틸이고, 이들 각각은 치환되지 않거나, 예를 들면, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 할로겐, 설포, 니트로, 카복시, 또는 화학식 2a, 화학식 2b, 화학식 2c, 화학식 2d, 화학식 2e, 화학식 2f 또는 화학식 2g, 특히 화학식 2a, 화학식 2c, 화학식 2d, 화학식 2e 또는 화학식 2f의 섬유 반응성 라디칼(이는 위에서 언급한 정의 및 바람직한 의미를 갖는다)에 의해 치환된다.
D1 및 D2는 각각 서로 독립적으로 치환되거나 치환되지 않은 디아조 성분, 벤젠 또는 나프탈렌 계열의 라디칼이며, 또한 모노아조 라디칼, 예를 들면, 화학식 7 또는 화학식 8의 라디칼, 바람직하게는 화학식 8의 라디칼을 포함한다.
Figure 112004014999336-pct00038
Figure 112004014999336-pct00039
위의 화학식 7 및 화학식 8에서,
D*는 디아조 성분, 벤젠 또는 나프탈렌 계열의 라디칼이고,
K*는 커플링 성분, 벤젠, 나프탈렌, 피라졸론, 6-하이드록시피리드-2-온 또는 아세토아세트산 아릴아미드 계열의 라디칼이고,
K**는 커플링 성분, 벤젠 또는 나프탈렌 계열의 라디칼이고,
D*, K* 및 K**는 아조 염료에 통상적인 치환체를 가질 수 있다.
섬유 비반응성 치환체 D*, K* 및 K**로서, 바람직하게는 치환되지 않거나 하이드록시, C1-C4알콕시, 설포, 설페이토, 할로겐, 카복시, 설포, 니트로, 시아노, 트리플루오로메틸, 설파모일, 카바모일, 아미노, 우레이도, 하이드록시, 설포메틸, C2-C4알카노일아미노, C1-C4알킬설포닐아미노에 의해 추가로 치환된 C1-C4알킬 또는 C1-C4알콕시; 치환되지 않거나 페닐 환이 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 할로겐 또는 설포에 의해 치환된 벤조일아미노; 치환되지 않거나 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 할로겐, 카복시 또는 설포에 의해 치환된 페닐이 고려된다.
섬유 반응성 치환체 D*, K* 및 K**로서, 바람직하게는 화학식 2a, 화학식 2c, 화학식 2d, 화학식 2e 및 화학식 2f, 특히 화학식 2a 및 화학식 2f, 보다 특히 화학식 2a의 라디칼(이는 위에서 언급한 정의 및 바람직한 의미를 갖는다)이 고려된다. 유리한 양태에서, 섬유 반응성 치환체 D*로서 화학식 2a의 라디칼 및 섬유 반응성 치환체 K**로서 화학식 2f의 라디칼이 바람직하다.
바람직하게는, 라디칼 D1 및 D2 중 단 하나만이 D*, K* 및 K**가 위에서 정의한 바와 같고 위에서 언급한 바람직한 의미를 갖는 화학식 7 또는 화학식 8의 모노아조 라디칼을 포함한다.
화학식 7 및 화학식 8의 모노아조 라디칼은 바람직하게는 하나 이상의 설포 그룹을 포함한다.
화학식 8의 바람직한 모노아조 라디칼 D1 및 D2는 화학식 8a, 화학식 8b, 화학식 8c, 화학식 8d, 화학식 8e, 화학식 8f, 화학식 8g, 화학식 8h, 화학식 8i 및 화학식 8j의 라디칼에 상응한다.
Figure 112004014999336-pct00040
Figure 112004014999336-pct00041
Figure 112004014999336-pct00042
Figure 112004014999336-pct00043
Figure 112004014999336-pct00044
Figure 112004014999336-pct00045
Figure 112004014999336-pct00046
Figure 112004014999336-pct00047
Figure 112004014999336-pct00048
Figure 112004014999336-pct00049
위의 화학식 8a 내지 화학식 8j에서,
(R4)0-3은 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 할로겐, 카복시 및 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 0 내지 3개의 동일하거나 상이한 치환체를 나타내고,
Z1은 화학식 2a, 화학식 2c, 2d, 2e, 2f 또는 2g, 바람직하게는 2a, 2c, 2d 또는 2e, 특히 2a의 섬유 반응성 라디칼(이는 위에서 언급한 정의 및 바람직한 의미를 갖는다)이고,
(R'5)0-3은 할로겐, 니트로, 시아노, 트리플루오로메틸, 설파모일, 카바모일; 치환되지 않거나 하이드록시, 설페이토 또는 C1-C4알콕시에 의해 치환된 C1-C4알킬 및 C1-C4알콕시; 아미노, C2-C4알카노일아미노, 우레이도, 하이드록시, 카복시, 설포메틸, C1-C4알킬설포닐아미노, 설포 및 화학식 2f의 섬유 반응성 라디칼(여기서, 라디칼 R1a, T1 및 X1은 위에서 정의한 바와 같고 위에서 언급한 바람직한 의미를 갖는다)로 이루어진 그룹으로부터 선택된 0 내지 3개의 동일하거나 상이한 치환체를 나타낸다.
화학식 8a, 화학식 8b, 화학식 8e 및 화학식 8f의 라디칼 중의 나프틸 환 상의 숫자는 가능한 결합 위치를 나타낸다.
본 발명에 따르는 화학식 1aa 및 화학식 1ab의 염료에서 라디칼 D1 및 D2는 동일하거나 상이하다.
방향족 테트라아조 성분으로서, D3은, 예를 들면, 치환되지 않거나 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, C2-C4알카노일아미노, 설포, 할로겐 또는 카복시에 의해 치환된 페닐렌 또는 나프틸렌, 또는 화학식 9의 라디칼이다.
Figure 112004014999336-pct00050
위의 화학식 9에서,
벤젠 환 I 및 II는 치환되지 않거나 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, C2-C4알카노일아미노, 설포, 할로겐 또는 카복시에 의해 치환되며,
L은 직접 결합이거나, 1개, 2개 또는 3개의 산소원자가 쇄 중간에 개입될 수 있는 C2-C10알킬렌 라디칼이거나,
L은 화학식 -CH=CH-, -N=N-, -NH-, -CO-, -NH-CO-, -NH-SO2-, -NH-CO-NH-, -O-, -S- 또는 -SO2-의 브릿지 부재이다.
바람직하게는, D3으로서 언급된 테트라아조 성분은 치환되지 않거나 설포에 의해 치환된다.
방향족 테트라아조 성분으로서, 또한 D3으로서 화학식 10의 라디칼이 고려된다.
Figure 112004014999336-pct00051
위의 화학식 10에서,
D3은 1 내지 3개, 바람직하게는 2개의 설포 그룹, 화학식 10의 라디칼, 또는 벤젠 환 I 및 II가 치환되지 않거나 1 또는 2개의 설포 그룹에 의해 치환되며, L이 직접 결합, C2-C4알킬렌 라디칼, 또는 화학식 -CH=CH-, -NH-, -CO-, -NH-CO-, -NH-SO2-, -NH-CO-NH-, -O-, -S- 또는 -SO2-의 브릿지 부재인 화학식 9의 라디칼에 의해 치환된 나프틸렌이다.
화학식 1의 구조 단위를 하나 이상 함유하는 본 발명에 따르는 반응성 염료에서 Y는 위에서 정의한 바와 같고 위에서 언급한 바람직한 의미를 갖는다.
바람직한 양태에서, 화학식 1의 반응성 염료는 화학식 1aa에 상응한다.
라디칼 D1 및 D2는 바람직하게는 각각 서로 독립적으로 화학식 11 또는 화학식 12의 라디칼에 상응한다.
Figure 112004014999336-pct00052
Figure 112004014999336-pct00053
위의 화학식 11 및 화학식 12에서,
(R4)0-3 및 (R13)0-3은 각각 서로 독립적으로 할로겐, C1 -C4알킬, C1-C4알콕시, 카복시 및 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 0 내지 3개의 동일하거나 상이한 치환체를 나타내고,
K는 화학식 13a 또는 화학식 13b의 커플링 성분의 라디칼이고,
Z 및 Z1은 각각 서로 독립적으로 화학식 2a, 화학식 2c, 화학식 2d, 화학식 2e 또는 화학식 2f의 라디칼[여기서, R1a 및 R2는 수소이고, Hal은 브롬이고, Y는 비닐, β-클로로에틸 또는 β-설페이토에틸이고, T1은 C1-C4알콕시; C1-C4알킬티오; 하이드록시; 아미노; 치환되지 않거나 알킬 잔기가 하이드록시, 설페이토 또는 설포에 의해 치환된 N-모노- 또는 N,N-디-C1-C4알킬아미노; 모르폴리노; 치환되지 않거나 페닐 환이 설포, 카복시, 아세틸아미노, 염소, 메틸 또는 메톡시에 의해 치환된 페닐아미노 또는 N-C1-C4알킬-N-페닐아미노(여기서, 알킬은 치환되지 않거나 하이드록시, 설포 또는 설페이토에 의해 치환된다); 또는 치환되지 않거나 1 내지 3개의 설포 그룹에 의해 치환된 나프틸아미노이고, Y는 위에서 정의한 바와 같고, X1은 염소 또는 불소이고, m은 2 또는 3이다]이다.
Figure 112004014999336-pct00054
Figure 112004014999336-pct00055
위의 화학식 13a 및 화학식 13b에서,
R'5는 수소 또는 설포이거나, 치환되지 않거나 알킬 잔기가 하이드록시 또는 설페이토에 의해 치환된 C1-C4알콕시이고,
R'5a는 수소, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, C2 -C4알카노일아미노, 우레이도 또는 화학식 2f의 라디칼(여기서, 라디칼 R1a, T1 및 X1은 아래에서 정의하는 바와 같다)이다.
C1-C4알킬로서, R4, R'5a 및 R13은 각각 서로 독립적으로, 예를 들면, 메틸, 에틸, n-프로필, 이소프로필, n-부틸, 2급 부틸, 3급 부틸 또는 이소부틸, 바람직하게는 메틸 또는 에틸, 특히 메틸일 수 있다.
C1-C4알콕시로서, R4, R'5, R'5a 및 R13은 각각 서로 독립적으로, 예를 들면, 메톡시, 에톡시, n-프로폭시, 이소프로폭시, n-부톡시 또는 이소부톡시, 바람직하게는 메톡시 또는 에톡시, 특히 메톡시일 수 있다. R'5는 알킬 잔기가 하이드록시 또는 설페이토에 의해 치환되지 않거나 치환될 수 있다.
할로겐으로서, R4 및 R13은 각각 서로 독립적으로, 예를 들면, 불소, 염소 또는 브롬, 바람직하게는 염소 또는 브롬, 특히 염소일 수 있다.
C2-C4알카노일아미노로서, R'5a는, 예를 들면, 아세틸아미노 또는 프로피오닐아미노, 특히 아세틸아미노일 수 있다.
화학식 2f의 라디칼로서, R'5a는 바람직하게는
R1a가 수소이고,
T1이 아미노; 치환되지 않거나 알킬 잔기가 하이드록시, 설페이토 또는 설포에 의해 치환된 N-모노- 또는 N,N-디-C1-C4알킬아미노; 모르폴리노; 치환되지 않거나 페닐 환이 설포, 카복시, 아세틸아미노, 염소, 메틸 또는 메톡시에 의해 치환된 페닐아미노 또는 N-C1-C4알킬-N-페닐아미노(여기서, 알킬은 치환되지 않거나 하이드록시, 설포 또는 설페이토에 의해 치환된다); 또는 치환되지 않거나 1 내지 3개의 설포 그룹에 의해 치환된 나프틸아미노이고,
X1이 불소 또는 염소인 라디칼이다.
화학식 13b의 커플링 성분의 라디칼에서, 환 ii의 설포 그룹은 바람직하게는 3- 또는 4-위치에서 결합된다. 환 ii가 설포 그룹을 포함하는 경우, 화학식 13b의 라디칼은 바람직하게는 환 ii의 1-, 2- 또는 3-위치에서 결합된다. 환 ii가 설포 그룹을 포함하지 않는 경우, 화학식 13b의 라디칼은 바람직하게는 환 ii의 2- 또는 3-위치에서 결합된다.
라디칼 D1 및 D2는 특히, 각각 서로 독립적으로, 화학식 11a, 화학식 11b, 화학식 11c, 화학식 11d 또는 화학식 12a의 라디칼에 상응한다.
Figure 112004014999336-pct00056
Figure 112004014999336-pct00057
Figure 112004014999336-pct00058
Figure 112004014999336-pct00059
Figure 112004014999336-pct00060
위의 화학식 11a 내지 화학식 11d 및 화학식 12a에서,
R'5는 수소 또는 설포이거나, 치환되지 않거나 알킬 잔기가 하이드록시 또는 설페이토에 의해 치환된 에톡시이고,
R'5a는 수소, 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 아세틸아미노, 프로피오닐아미노 또는 우레이도이고,
(R13)0-2는 할로겐, C1-C4알킬, C1-C4알콕시 및 설포, 특히 메틸, 메톡시 및 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 0 내지 2개의 동일하거나 상이한 치환체를 나타내고,
Y1은 그룹 -CH(Br)-CH2-Br 또는 -C(Br)=CH2이고,
Y는 비닐, β-클로로에틸 또는 β-설페이토에틸, 특히 비닐 또는 β-설페이토에틸이고,
m은 2 또는 3, 특히 2이다.
화학식 11a, 화학식 11b 및 화학식 11d의 라디칼 수는 섬유 반응성 라디칼의 가능한 결합 위치를 나타낸다.
바람직하게는, D1 및 D2는 각각 서로 독립적으로 화학식 11a, 화학식 11b 또는 화학식 12a의 라디칼이다.
D1 및 D2에 존재하는 라디칼이 화학식 2h에 상응하는 본 발명의 위에서 언급한 특정 양태에서, 라디칼 D1 및 D2 중의 하나는 바람직하게는 화학식 14의 라디칼이고, D1 및 D2 중의 나머지는 화학식 11a, 화학식 11b, 화학식 11c 또는 화학식 11d의 라디칼(여기서, 라디칼 (R13)0-2, Y, Y1 및 m은 위에서 언급한 정의 및 바람직한 의미를 갖는다)이다
Figure 112004014999336-pct00061
위의 화학식 14에서,
X1은 염소, 불소, 특히 염소이고,
T3은 화학식 6a, 화학식 6b, 화학식 6d, 화학식 6e, 화학식 6f, 화학식 6k 또는 화학식 6m의 모노아조아미노 또는 디스아조아미노 라디칼(여기서, 라디칼 (R4)0-3, (R5)0-3, R8, R9, R10 및 (R11)0-3은 위에서 정의한 바와 같고, Z1은 화학식 2a, 화학식 2c', 화학식 2d' 또는 화학식 2e', 바람직하게는 화학식 2a의 라디칼이다)이다.
화학식 2a
-SO2-Y
[화학식 2c']
-CONH-(CH2)2-3-SO2-Y
[화학식 2d']
-NH-CO-CH(Br)-CH2-Br
[화학식 2e']
-NH-CO-C(Br)=CH2
위의 화학식 2a 및 화학식 2c' 내지 화학식 2e'에서,
Y는 비닐, β-클로로에틸 또는 β-설페이토에틸, 특히 비닐 또는 β-설페이토에틸이다.
Y가 비닐, β-클로로에틸 또는 β-설페이토에틸이고,
D1 및 D2가 각각 서로 독립적으로 화학식 11 또는 화학식 12의 라디칼(여기서, K는 화학식 13a 또는 화학식 13b의 커플링 성분의 라디칼이고, 라디칼 (R4)0-3, (R13)0-3, Z, Z1, R'5 및 R'5a는 위에서 언급한 정의 및 바람직한 의미를 갖는다)인 화학식 1aa의 반응성 염료가 바람직하다.
본 발명은 또한
하나 이상의 디아조화 아민을 함께 또는 임의의 순서로 화학식 15의 구조 단위를 하나 이상 함유하는 화합물에 커플링시켜 화학식 1의 구조 단위를 하나 이상 함유하는 반응성 염료를 수득함을 포함하는, 당해 발명에 따르는 반응성 염료의 제조방법에 관한 것이다.
Figure 112004014999336-pct00062
'하나 이상의 디아조화 아민'은, 예를 들면, 2 또는 3개의 디아조화 아민이다.
본 발명에 따르는 반응성 염료의 제조에 적합한 아민은, 예를 들면, 문헌[참조: Venkataraman "The Chemistry of Synthetic Dyes" Volume 1, pages 210-214 and 409-441, Academic Press, New York, London 1952]에 기재된 바와 같은, 자체 공지된 방법에 따라 디아조화되고 커플링될 수 있는, 예를 들면, 벤젠 또는 나프탈렌 계열의 방향족 아민이다.
아민의 디아조화는, 예를 들면, -5 내지 40℃, 바람직하게는 -5 내지 10℃, 특히 0 내지 5℃의 온도에서 무기산 매질, 예를 들면, 염산 함유 매질 속에서, 예를 들면, 니트라이트, 예를 들면, 알칼리 금속 니트라이트(예: 아질산나트륨)를 사용하여 통상의 방식으로 수행된다.
화학식 15의 커플링 성분에 커플링시키는 것은 산성 또는 중성 내지 약 알칼리성 pH에서, 예를 들면, pH 1 내지 10에서, 유리하게는 3 내지 7, 바람직하게는 4.5 내지 6.5에서, 예를 들면, -5 내지 40℃, 바람직하게는 0 내지 30℃의 온도에서 자체 공지된 방식으로 수행된다.
본 발명에 따르는 화학식 1aa의 반응성 염료는, 예를 들면, 화학식 16a 및 화학식 16b의 아민을 디아조화하고 임의 순서로 화학식 15a의 화합물과 커플링시킴으로써 화학식 15a의 화합물, 화학식 16a의 화합물 및 화학식 16b의 화합물을 각각 약 1몰 당량으로 서로 반응시켜 제조한다.
Figure 112007071389830-pct00063
Figure 112004014999336-pct00064
Figure 112007071389830-pct00065
위의 화학식 15a, 화학식 16a 및 화학식 16b에서,
변수는 위에서 정의한 바와 같으며 위에서 언급한 바람직한 의미를 갖는다.
화학식 16a 및 화학식 16b의 디아조화 화합물을 화학식 15a의 화합물과 커플링하는 순서는 화학식 1aa의 반응성 염료 속에서 2차 아미노 그룹의 위치를 좌우한다. 1차 디아조 성분은 일반적으로 화학식 15a의 화합물의 6위치에 커플링되고 2차 디아조 성분은 이의 2위치에 커플링된다.
따라서, 본 발명은 화학식 15b의 반응성 염료에 관한 것이다.
Figure 112004014999336-pct00066
위의 화학식 15b에서,
D1은 디아조 성분, 벤젠 또는 나프탈렌 계열의 라디칼이고,
Y는 비닐 또는 라디칼 -CH2-CH2-U(여기서, U는 알칼리 조건하에 제거 가능한 그룹이다)이다.
화학식 15b의 반응성 염료는 화학식 16a의 화합물 약 1몰 당량을 화학식 15a의 화합물 약 1몰 당량과 커플링시켜 수득한다.
D1=D2인 본 발명에 따르는 화학식 1ab의 반응성 염료는, 예를 들면, 화학식 16c의 테트라아조화 디아민 약 1몰 당량을 화학식 15a의 화합물 약 2몰 당량과 먼저 반응시켜 화학식 17의 화합물을 형성시키고, 화학식 17의 화합물을 화학식 16a의 디아조화 아민 약 2몰 당량과 반응시킴으로써 제조한다.
Figure 112007071389830-pct00067
Figure 112004014999336-pct00068
위의 화학식 16c 및 화학식 17에서,
변수는 위에서 언급한 정의 및 바람직한 의미를 갖는다.
D1≠D2인 본 발명에 따르는 화학식 1ab의 반응성 염료는, 예를 들면, 위에서 언급한 바와 같은 과정에 따르되, 화학식 16a의 디아조화 아민 1개 대신에, 화학식 16a의 디아조화 아민과 화학식 16b의 디아조화 아민과의 혼합물, 예를 들면, 1:1의 몰 비의 이들 디아조화 아민 2개의 혼합물 등몰량을 사용하여 수득할 수 있다. 이러한 염료는 통상 혼합물 형태로 수득한다.
화학식 15 또는 화학식 15a의 화합물과 화학식 16a의 화합물, 화학식 16b의 화합물 및 화학식 16c의 화합물은 공지되어 있거나 공지된 화합물과 유사하게 제조할 수 있다.
화학식 15 또는 화학식 15a의 화합물은, 예를 들면, 미국 특허 제4,897,469호 및 미국 특허 제5,424,405호에 기재되어 있으며, 예를 들면, 그 자체로 공지되어 있는 화학식 18의 화합물을 2-머캅토에탄올과 먼저 반응시키고, 생성된 화합물을 산화시켜 화학식 19의 설포닐 화합물을 형성시키고, 적합한 이탈 그룹 U를 도입시키고, 2개의 니트로 그룹을 환원시켜 아미노 그룹을 형성시킴으로써 제조한다.
Figure 112004014999336-pct00069
Figure 112004014999336-pct00070
화학식 18의 공지된 화합물과 2-머캅토에탄올과의 반응은, 예를 들면, 50 내지 100℃의 승온에서 불소화칼륨의 존재하에, 예를 들면, 적합한 용매 속에서 수행한다. 이를 위한 적합한 용매는, 예를 들면, 물, 저급 알콜, 디옥산, 톨루엔, 크실렌, 모노- 또는 디-클로로벤젠, N,N-디메틸포름아미드 및 N-메틸피롤리돈이다.
티오에테르 화합물의 산화에 의한 설폰의 형성은, 예를 들면, 각각의 경우 수성, 수성 유기 또는 유기 매질 속에서, 적합한 촉매(예: 텅스텐 또는 바나듐 화합물)의 첨가 또는 부재하에 과산화수소를 사용하거나, 과아세트산, 과망간산칼륨 또는 크롬산을 사용하거나, 염소/염산을 사용하여 다양한 방법으로 수행할 수 있다.
하이드록시에틸설포닐 라디칼을 적합한 반응성 라디칼, 예를 들면, 설페이토에틸설포닐, 티오설페이토에틸설포닐, 포스페이토에틸설포닐 또는 비닐설포닐 라디칼로 전환시키는 것은 자체 공지된 통상의 방법에 따라 수행한다.
니트로 그룹의 환원은 마찬가지로 자체 공지된 방식으로, 예를 들면, 실온 내지 약 40℃에서 에탄올, 에틸 아세테이트 또는 테트라하이드로푸란 속에서 Pd/카본을 사용하거나, 수용액 속에서 Fe/염산 또는 Fe/아세트산을 사용하는 촉매적 수소화에 의해 수행한다.
본 발명에 따르는 반응성 염료는 유리산 형태로 존재하거나, 바람직하게는 염 형태로 존재한다. 적합한 염은, 예를 들면, 알칼리 금속염, 알칼리 토금속염, 암모늄염 또는 유기 아민의 염이다. 언급할 수 있는 예는 나트륨염, 리튬염, 칼륨염, 암모늄염, 또는 모노-, 디- 또는 트리-에탄올아민 염이다.
본 발명에 따르는 반응성 염료는 각종 재료, 특히 하이드록실 그룹 함유 또는 질소 함유 섬유재료의 염색 및 날염에 적합하다. 예로는 종이, 견, 가죽, 모, 폴리아미드 섬유 및 폴리우레탄, 특히 각종 셀룰로즈 섬유재료를 포함한다. 이러한 섬유재료는, 예를 들면, 천연 셀룰로즈 섬유(예: 면, 아마 및 대마)와 셀룰로즈 및 재생 셀룰로즈이다. 본 발명에 따르는 염료는 또한 혼방물, 예를 들면, 면 혼방물 및 폴리에스테르 섬유 또는 폴리아미드 섬유에 존재하는 하이드록실 그룹 함유 섬유의 염색 또는 날염에 적합하다.
따라서, 본 발명은 또한 하이드록실 그룹 함유 또는 질소 함유, 특히 면 함유 섬유재료의 염색 또는 날염시 화학식 1의 반응성 염료의 용도에 관한 것이다.
본 발명에 따르는 반응성 염료는 섬유재료에 적용되고 각종 방식으로, 특히 수성 염액 또는 날염 페이스트의 형태로 섬유에 고착될 수 있다. 반응성 염료는 흡착 공정과 패드 염색 공정에 따른 염색 공정에 적합하다; 이는 낮은 염색 온도에서 사용될 수 있고 패드-스팀 공정에서 단지 짧은 스티밍 시간만을 필요로 한다. 고착도는 높고 고착되지 않은 염료는 세척에 의해 용이하게 제거될 수 있고, 흡착도와 고착도와의 차가 현저하게 적으며, 즉 비누화 손실이 매우 작아진다. 본 발명에 따르는 반응성 염료는 또한 특히 면에서의 날염에 적합하고, 또한 질소 함유 섬유, 예를 들면, 모 또는 견이나 모 혼방물의 날염에 적합하다.
본 발명에 따르는 반응성 염료를 사용하여 제조한 염색물 및 날염물은 산성 및 알칼리성 범위에서 착색 강도가 높고 섬유-염료 결합 안정성이 높으며, 또한 광견뢰도가 우수하고 세탁견뢰도, 물견뢰도, 해수견뢰도, 혼염 견뢰도 및 발한 견뢰도와 같은 습윤 견뢰도 특성이 매우 우수하다. 수득한 염색물은 섬유 균염성 및 표면 균염성을 나타낸다.
다음 실시예는 본 발명을 설명하고자 제공한다. 달리 지시하지 않는 한, 온도는 ℃이고, 부는 중량부이며, %는 중량%를 의미한다. 중량부에 대한 용적부의 관계는 ㎏에 대한 ℓ의 비에 따른다.
실시예 1:
(a) 불소화칼륨 217부를 N,N-디메틸포름아미드(DMF) 590부 중의 2,4-디니트로-1-클로로벤젠 500부의 용액에 도입시키고, 반응 혼합물을 실온에서 5시간 동안 교반한다. 2-머탑토에탄올 350부를 적가하고, 이때 내부 온도가 60에서 65℃로 상승하고, 동일한 온도에서 약 15시간 동안 계속 교반한다. 이어서, 여전히 존재하는 임의의 출발 물질은 탄산칼륨 34부를 가하여 반응시킨다. 최종적으로, 혼합물을 실온으로 냉각시키고, 염을 여과하여 제거한 다음, 여액을 농축시킨다. 유성의 조악한 생성물을 물로 배출시키고, 이때 황색 결정성 침전물을 분리시킨다. 흡인여과하여 제거한 후, 세척하고, 건조시켜 2-[2,4-디니트로페닐설파닐]에탄올을 거의 정량적인 수율 및 높은 순도로 수득한다.
(b) 물 150부 중의 옥손(Oxone)R 220부의 현탁액을 메탄올 1,100부 중의 2-[2,4-디니트로페닐설파닐]에탄올 140부의 용액 속으로 도입시키고, 반응 혼합물을 약 1시간 동안 교반하면서 환류시킨다. 이어서, 소량의 물에 용해시킨 암모늄 헵타몰리브데이트 3.5부와 30% 과산화수소 30부를 가하고, 반응이 종료될 때까지 환류하에 교반을 수행한다. 반응을 완결한 후, 과산화물이 더 이상 검출되지 않을 때까지 포화 중아황산나트륨 용액을 가하고, 혼합물을 0℃에서 5℃로 냉각시킨 다음, 염을 여과하여 제거하고, 여액을 농축시킨다. 결정화된 생성물을 흡인여과하여 제거하고, 세척한 다음, 건조시킨다. 2-[2,4-디니트로페닐설포닐]에탄올을 우수한 수율로 수득한다.
(c) 2-[2,4-디니트로페닐설포닐]에탄올 105부를 0 내지 5℃에서 황산 1수화물 380부에 도입시키고, 동일한 온도에서 14시간 동안 교반을 수행한다. 수득한 갈색 용액을 얼음과 20% 염화나트륨 용액과의 혼합물로 서서히 방출시키고, 갈색 현탁액을 수득한다. 침전물을 여과하여 제거하고, 차가운 20% 염화나트륨 용액 1,000부로 먼저 세척하고, 얼음물 200부로 세척한다. 건조시킨 후, 2-[2,4-디니트로페닐설포닐]에틸 하이드로겐 설페이트를 매우 우수한 수율 및 매우 우수한 순도로 수득한다.
(d) 아세트산 19부를 80℃에서 물 500부 중의 철 180부의 현탁액에 가하고, 5분 동안 교반한다. 이어서, 혼합물을 60℃로 냉각시키고, 2-[2,4-디니트로페닐설포닐]에틸 하이드로겐 설페이트 150부를 서서히 도입시킨다. 30분 후, 반응 혼합물을 0℃에서 5℃로 냉각시키고, 불용성 성분을 여과하여 제거한다. 여액을 농축시킨다. 건조시킨 후, 화학식 101의 화합물을 수득한다.
Figure 112004014999336-pct00071
실시예 2:
(a) 시아누르산 클로라이드 36.9부를 얼음/물 및 소량의 습윤제 150부 속에서 교반한다. 0 내지 2℃에서, 물 50부 중의 타우린 25.25부의 용액을 40분에 걸쳐서 유동시키고, 2N 수산화나트륨 용액을 적가하여 pH 7 내지 8에서 농축시킨다. 시아누르산 클로라이드가 더 이상 검출되지 않을 때까지 0 내지 5℃ 및 pH 7 내지 7.5에서 교반을 수행한다. 물 100부 중의 1,3-페닐렌디아민-4-설폰산 39.48부의 중성 용액을 가한다. 5 내지 20℃의 온도에서 축합시키고, 2N 수산화나트륨 용액을 가하여 pH가 8 내지 9로 되도록 유지시킨다. 축합을 완료한 후, 반응 용액을 KCl을 사용하여 침전시키고, 여과한 다음, 농축시킨 KCl 용액으로 세척한다. 건조시킨 후, 화학식
Figure 112007071389830-pct00072
의 중간체를 수득한다.
(b) 과정(a)에 따르는 화합물 89.3부를 물 400부에 현탁시킨다. 이어서, 0 내지 5℃에서, 통상의 과정(다음 실시예 5 참조)에 의해 디아조화된 2-(4-아미노-페닐설포닐)에틸 하이드로겐 설페이트 41.4부를 10분에 걸쳐서 가하고, 20% 탄산나트륨 용액을 사용하여 pH가 6 내지 8.5로 되도록 유지시킨다. 커플링을 완료한 후, KCl을 사용하여 황색 염색물을 침전시키고, 생성된 현탁액을 여과한 다음, 진공하에 건조시킨다. 화학식
Figure 112004014999336-pct00073
의 모노아조 화합물을 수득한다.
실시예 3:
화학식 D10-NH2의 아민(여기서, D10은 화학식
Figure 112004014999336-pct00074
의 라디칼이다) 17.3부를 물 215부에 도입시키고, 잘 교반한다. 0℃에서, 4N 아질산나트륨 용액 25부를 수득한 용액에 가하고, 농축된 염산 20부를 0 내지 5℃에서 서서히 적가한다. 동일한 온도에서 1시간 동안 교반한다.
실시예 4:
화학식 D11-NH2의 아민(여기서, D11은 화학식
Figure 112004014999336-pct00075
의 라디칼이다) 56.2부를 물 220부에 도입시키고, 잘 교반한다. 10℃에서, 먼저 4N 아질산나트륨 용액 50부 및 이어서 31% 나프탈렌설폰산 용액 90부를 수득한 현탁액에 가한다. 15 내지 20℃에서 3시간 동안 교반한다.
실시예 5 내지 36:
표 1에 기재한 아민의 디아조 화합물을, 실시예 3 또는 4에 기재한 화학식 D10-NH2 또는 화학식 D11-NH2의 아민 대신에, 표 1에 기재한 화학식 Dxy-NH2의 아민 등몰량을 사용하여 실시예 3 또는 4에서 기재한 과정과 유사하게 제조할 수 있다.
Figure 112004014999336-pct00076
Figure 112004014999336-pct00077
Figure 112004014999336-pct00078
Figure 112004014999336-pct00079
Figure 112004014999336-pct00080
Figure 112004014999336-pct00081
Figure 112004014999336-pct00082
Figure 112004014999336-pct00083
Figure 112004014999336-pct00084
Figure 112004014999336-pct00085
Figure 112004014999336-pct00086
실시예 37:
화학식 H2N-D43-NH2의 디아민(여기서, D43은 화학식
Figure 112004014999336-pct00087
의 라디칼이다) 16부를 중성 pH의 물 160부에 도입시킨다. 0℃에서, 진한 염산 13부 및 이어서 4N 아질산나트륨 용액 19.5부를 서서히 가한다. 디아민을 반응시켜 상응하는 테트라아조 화합물을 수득한 후, 과량의 아질산염을 설팜산을 가하여 분해시킨다.
실시예 38 내지 40:
표 2에 기재한 디아민의 테트라아조 화합물을, 실시예 37에 기재한 화학식 H2N-D43-NH2의 디아민 대신에, 표 2에 기재한 화학식 H2N-D xy-NH2의 디아민 등몰량을 사용하여 실시예 37에서 기재한 과정과 유사하게 제조할 수 있다.
Figure 112004014999336-pct00088
Figure 112004014999336-pct00089
실시예 41:
(a) 실시예 2(b)에 따르는 화합물 123부를 물 700부에 용해시키고, 통상의 과정을 사용하여 0 내지 5℃에서 아질산나트륨 및 HCl을 사용하여 디아조화한다. 30분에 걸쳐서 디아조 현탁액을 2 내지 5℃에서 물 300부 중의 실시예 1에 따르는 화학식 101의 화합물 39.5부의 중성 용액에 가한다. 20% 탄산나트륨 용액을 사용하여 pH가 4.5 내지 5.5로 되도록 유지시킨다. 커플링을 완결한 후, 염료를 KCl을 사용하여 침전시키고, 생성된 현탁액을 여과한다. 화학식
Figure 112004014999336-pct00090
의 갈색 염료를 수득한다.
(b) 2차 커플링: 과정(a)에 따르는 염료 118.5부를 물 400부에 용해시킨다. 이어서, 15분에 걸쳐서, 실시예 4에 따라 디아조화된 화학식 D11-NH2의 아민 32.3부를 0 내지 10℃에서 가한다. 20% 탄산나트륨 용액을 사용하여 pH가 5.5 내지 7.0으로 되도록 유지시킨다. 커플링을 완결한 후, KCl을 사용하여 침전시키고, 여과한다. 건조시킨 후, 전반적인 견뢰도 특성이 우수하게 면 및 양모를 갈색으로 염색시키는 화학식 102
Figure 112004014999336-pct00091
의 염료를 수득한다.
실시예 42:
실시예 41에 기재한 과정과 유사한 방식으로, 전반적인 견뢰도 특성이 우수하게 면을 황색으로 염색시키는 화학식 103
Figure 112004014999336-pct00092
의 반응성 염료를 제조할 수 있다.
실시예 43 내지 145:
실시예 41에 기재한 과정과 유사하게, 실시예 3 내지 36에 기재한 디아조 화합물로부터 화학식
Figure 112004014999336-pct00093
의 염료[여기서, D1 xy 및 D2 xy는, 각각의 경우, 표 3에 기재한 라디칼(이는 실시예 3 및 4와 표 1에 기재한 의미를 갖는다)에 상응하다]를 제조할 수 있다. 당해 염료는 전반적인 견뢰도 특성이 우수하게 면 및 양모를 표 3에 기재한 색으로 염색시킨다.
Figure 112004014999336-pct00094
Figure 112004014999336-pct00095
Figure 112004014999336-pct00096
Figure 112004014999336-pct00097
실시예 146:
(a) 1차 커플링: 30분에 걸쳐서, 실시예 37에 따라 수득한 테트라아조 화합물의 산 현탁액을 2 내지 5℃에서 물 300부 중의 실시예 1에 따르는 화학식 101의 화합물 32.9부의 중성 용액에 가한다. 20% 탄산나트륨 용액을 사용하여 pH가 4.5 내지 5.5로 되도록 유지시킨다. 커플링을 완료한 후, 화학식
Figure 112004014999336-pct00098
의 화합물을 수득한다.
(b) 2차 커플링: 15분에 걸쳐서, 실시예 4에 따라 디아조화된 화학식 D11-NH2의 아민 31.3부를 과정(a)에 따라 수득한 현탁액에 가한다. 20% 탄산나트륨 용액을 사용하여 pH가 5.5 내지 7.0으로 되도록 유지시킨다. 커플링을 완료한 후, KCl을 사용하여 침전시키고, 여과한다. 건조시킨 후, 전반적인 견뢰도 특성이 우수하게 면 및 양모를 갈색빛 오렌지색으로 염색시키는 화학식 104
Figure 112004014999336-pct00099
의 염료를 수득한다.
실시예 147 내지 150:
실시예 146에 기재한 과정과 유사하게, 표 2에 기재한 테트라아조 화합물 및 실시예 6에 기재한 디아조 화합물로부터 화학식
Figure 112004014999336-pct00100
의 염료[여기서, D1 xy 및 D2 xy는, 각각의 경우, 표 4에 기재한 라디칼(이는 표 2 및 실시예 6에 기재한 의미를 갖는다)에 상응하다]를 제조할 수 있다. 당해 염료는 전반적인 견뢰도 특성이 우수하게 면 및 양모를 표 4에 기재한 색으로 염색시킨다.
Figure 112004014999336-pct00101
염색 과정 I
면직물 100부를 60℃에서 실시예 41에 따라 수득한 반응성 염료 2부 및 염화나트륨 45g/l을 함유하는 염욕 1,500부에 놓는다. 60℃에서 45분 후, 하소된 소다 20g/l를 가한다. 동일한 온도에서 추가로 45분 동안 계속 염색시킨다. 이어서, 염색물을 세정하고, 비이온성 세제로 15분 동안 비등 세탁한 다음, 다시 세정하고, 건조시킨다.
동일한 과정에 대한 대안으로서, 60℃ 대신에 80℃에서 염색시킨다.
염색 과정 II
실시예 41에 따르는 염료 0.1부를 물 200부에 용해시키고, 황산나트륨 0.5부, 균염제 0.1부(고급 지방산 아민 및 에틸렌 옥사이드의 축합 생성물을 기준으로 함) 및 아세트산나트륨 0.5부를 가한다. 아세트산(80%)을 사용하여 pH가 5.5로 되도록 조절한다. 염욕을 50℃에서 10분 동안 가열하고, 모직물을 10부 가한다. 염욕을 약 50분에 걸쳐서 100℃의 온도로 가열하고, 동일한 온도에서 60분 동안 염색시킨다. 이어서, 염욕을 90℃로 냉각시키고, 염색물을 꺼낸다. 모직물을 온수 및 냉수로 세척하고, 회전 탈수시킨 다음, 건조시킨다.
날염 과정
신속하게 교반하면서, 실시예 41에 따라 수득한 염료 3부를 5% 나트륨 알기네이트 증점제 50부, 물 27.8부, 우레아 20부, 나트륨 m-니트로벤젠설포네이트 1부 및 탄산수소나트륨 1.2부를 함유하는 스톡 증점제 100부에 흩뿌린다. 이렇게 하여 수득한 날염 페이스트로 면직물을 날염하고, 건조시킨 다음, 수득한 날염된 직물을 102℃에서 2분 동안 포화된 스팀 속에서 스티밍한다. 이어서, 날염된 직물을 세정하고, 경우에 따라, 비등 세탁한 다음, 다시 세정하고, 건조시킨다.
















Claims (12)

  1. 화학식 1의 구조 단위를 하나 이상 함유하는 반응성 염료.
    화학식 1
    Figure 112004014999336-pct00102
    위의 화학식 1에서,
    Y는 비닐 또는 라디칼 -CH2-CH2-U(여기서, U는 알칼리 조건하에 제거 가능한 그룹이다)이다.
  2. 제1항에 있어서, 화학식 1aa 또는 화학식 1ab의 반응성 염료.
    화학식 1aa
    Figure 112007071389830-pct00103
    화학식 1ab
    Figure 112007071389830-pct00104
    위의 화학식 1aa 및 화학식 1ab에서,
    D1 및 D2는 각각 서로 독립적으로 디아조 성분, 벤젠 또는 나프탈렌 계열의 라디칼이고,
    D3은 방향족 테트라아조 성분의 라디칼이고,
    Y는 제1항에서 정의한 바와 같다.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, Y가 비닐, β-클로로에틸 또는 β-설페이토에틸인 반응성 염료.
  4. 제2항에 있어서, 화학식 1aa의 반응성 염료.
  5. 제2항 또는 제4항에 있어서, D1과 D2가, 각각 서로 독립적으로, 화학식 11 또는 화학식 12의 라디칼인 반응성 염료.
    화학식 11
    Figure 112007071389830-pct00105
    화학식 12
    Figure 112007071389830-pct00106
    위의 화학식 11 및 화학식 12에서,
    (R4)0-3 및 (R13)0-3은 각각 서로 독립적으로 할로겐, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 카복시 및 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 0 내지 3개의 동일하거나 상이한 치환체를 나타내고,
    K는 화학식 13a 또는 화학식 13b의 커플링 성분의 라디칼이고,
    Z 및 Z1은 각각 서로 독립적으로 화학식 2a, 화학식 2c, 화학식 2d, 화학식 2e 또는 화학식 2f의 라디칼이다.
    화학식 13a
    Figure 112007071389830-pct00107
    화학식 13b
    Figure 112007071389830-pct00108
    화학식 2a
    -SO2-Y
    화학식 2c
    Figure 112007071389830-pct00109
    화학식 2d
    Figure 112007071389830-pct00110
    화학식 2e
    Figure 112007071389830-pct00111
    화학식 2f
    Figure 112007071389830-pct00112
    위의 화학식 13a, 화학식 13b, 화학식 2a 및 화학식 2c 내지 화학식 2f에서,
    R1a 및 R2는 수소이고,
    Hal은 브롬이고,
    Y는 비닐, β-클로로에틸 또는 β-설페이토에틸이고,
    T1은 C1-C4알콕시; C1-C4알킬티오; 하이드록시; 아미노; 치환되지 않거나 알킬 잔기가 하이드록시, 설페이토 또는 설포에 의해 치환된 N-모노- 또는 N,N-디-C1-C4알킬아미노; 모르폴리노; 치환되지 않거나 페닐 환이 설포, 카복시, 아세틸아미노, 염소, 메틸 또는 메톡시에 의해 치환된 페닐아미노 또는 N-C1-C4알킬-N-페닐아미노(여기서, 알킬은 치환되지 않거나 하이드록시, 설포 또는 설페이토에 의해 치환된다); 또는 치환되지 않거나 1 내지 3개의 설포 그룹에 의해 치환된 나프틸아미노이거나, 화학식 3c' 또는 화학식 3d'의 섬유 반응성 라디칼이고,
    X1은 염소 또는 불소이고,
    m은 2 또는 3이고,
    R'5는 수소 또는 설포이거나, 치환되지 않거나 알킬 잔기가 하이드록시 또는 설페이토에 의해 치환된 C1-C4알콕시이고,
    R'5a는 수소, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, C2-C4알카노일아미노, 우레이도 또는 화학식 2f의 라디칼(여기서, 라디칼 R1a, T1 및 X1은 위에서 정의한 바와 같다)이다.
    화학식 3c'
    Figure 112007071389830-pct00113
    화학식 3d'
    Figure 112007071389830-pct00114
    위의 화학식 3c' 및 화학식 3d'에서,
    Y는 위에서 정의한 바와 같다.
  6. 제5항에 있어서, 라디칼 D1과 D2가, 각각 서로 독립적으로, 화학식 11a, 화학식 11b, 화학식 11c, 화학식 11d 또는 화학식 12a의 라디칼인 반응성 염료.
    화학식 11a
    Figure 112007071389830-pct00115
    화학식 11b
    Figure 112007071389830-pct00116
    화학식 11c
    Figure 112007071389830-pct00117
    화학식 11d
    Figure 112007071389830-pct00118
    화학식 12a
    Figure 112007071389830-pct00119
    위의 화학식 11a 내지 화학식 11d 및 화학식 12a에서,
    R'5는 수소 또는 설포이거나, 치환되지 않거나 알킬 잔기가 하이드록시 또는 설페이토에 의해 치환된 에톡시이고,
    R'5a는 수소, 메틸, 에틸, 메톡시, 에톡시, 아세틸아미노, 프로피오닐아미노 또는 우레이도이고,
    (R13)0-2는 할로겐, C1-C4알킬, C1-C4알콕시 및 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 0 내지 2개의 동일하거나 상이한 치환체를 나타내고,
    Y1은 그룹 -CH(Br)-CH2-Br 또는 -C(Br)=CH2이고,
    Y는 비닐, β-클로로에틸 또는 β-설페이토에틸이고,
    m은 2 또는 3이다.
  7. 제2항 또는 제4항에 있어서, 라디칼 D1과 D2 중의 하나가 화학식 14의 라디칼이고, 라디칼 D1과 D2 중의 나머지가 화학식 11a, 화학식 11b, 화학식 11c 또는 화학식 11d의 라디칼인 반응성 염료.
    화학식 14
    Figure 112008081766178-pct00120
    화학식 11a
    Figure 112008081766178-pct00121
    화학식 11b
    Figure 112008081766178-pct00122
    화학식 11c
    Figure 112008081766178-pct00123
    화학식 11d
    Figure 112008081766178-pct00124
    위의 화학식 14 및 화학식 11a 내지 화학식 11d에서,
    X1은 염소 또는 불소이고,
    T3은 화학식 6a, 화학식 6b, 화학식 6d, 화학식 6e, 화학식 6f, 화학식 6k 또는 화학식 6m의 라디칼이고,
    (R13)0-2는 할로겐, C1-C4알킬, C1-C4알콕시 및 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 0 내지 2개의 동일하거나 상이한 치환체를 나타내고,
    Y1은 그룹 -CH(Br)-CH2-Br 또는 -C(Br)=CH2이고,
    Y는 비닐, β-클로로에틸 또는 β-설페이토에틸이고,
    m은 2 또는 3이다.
    화학식 6a
    Figure 112008081766178-pct00125
    화학식 6b
    Figure 112008081766178-pct00126
    화학식 6d
    Figure 112008081766178-pct00127
    화학식 6e
    Figure 112008081766178-pct00128
    화학식 6f
    Figure 112008081766178-pct00129
    화학식 6k
    Figure 112008081766178-pct00130
    화학식 6m
    Figure 112008081766178-pct00131
    위의 화학식 6a, 화학식 6b, 화학식 6d 내지 화학식 6f, 화학식 6k 및 화학식 6m에서,
    (R4)0-3은 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 할로겐, 카복시 및 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 0 내지 3개의 동일하거나 상이한 치환체를 나타내고,
    (R5)0-3은 할로겐; 니트로; 시아노; 트리플루오로메틸; 설파모일; 카바모일; C1-C4알킬; 치환되지 않거나 하이드록시, 설페이토 또는 C1-C4알콕시에 의해 치환된 C1-C4알콕시; 아미노; C2-C4알카노일아미노; 우레이도; 하이드록시; 카복시; 설포메틸; C1-C4알킬설포닐아미노; 및 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 0 내지 3개의 동일하거나 상이한 치환체를 나타내고,
    R8 및 R10은 각각 서로 독립적으로 수소, C1-C4알킬 또는 페닐이고,
    R9는 수소, 시아노, 카바모일 또는 설포메틸이고,
    (R11)0-3은 C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 할로겐, 카복시 및 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 0 내지 3개의 동일하거나 상이한 치환체를 나타내고,
    Z1은 화학식 2a, 화학식 2c', 화학식 2d' 또는 화학식 2e'의 라디칼이다.
    화학식 2a
    Figure 112008081766178-pct00132
    화학식 2c'
    -CONH-(CH2)2-3-SO2-Y
    화학식 2d'
    Figure 112008081766178-pct00151
    화학식 2e'
    Figure 112008081766178-pct00152
    위의 화학식 2a 및 화학식 2c' 내지 화학식 2e'에서,
    Y는 위에서 정의한 바와 같다.
  8. 제2항 또는 제4항에 있어서, 화학식 1aa의 반응성 염료.
    화학식 1aa
    Figure 112007071389830-pct00136
    위의 화학식 1aa에서,
    Y는 비닐, β-클로로에틸 또는 β-설페이토에틸이고,
    D1 및 D2는 각각 서로 독립적으로 화학식 11 또는 화학식 12의 라디칼이다.
    화학식 11
    Figure 112007071389830-pct00137
    화학식 12
    Figure 112007071389830-pct00138
    위의 화학식 11 및 화학식 12에서,
    (R4)0-3 및 (R13)0-3은 각각 서로 독립적으로 할로겐, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, 카복시 및 설포로 이루어진 그룹으로부터 선택된 0 내지 3개의 동일하거나 상이한 치환체를 나타내고,
    K는 화학식 13a 또는 화학식 13b의 커플링 성분의 라디칼이고,
    Z 및 Z1은 각각 서로 독립적으로 화학식 2a, 화학식 2c, 화학식 2d, 화학식 2e 또는 화학식 2f의 라디칼이다.
    화학식 13a
    Figure 112007071389830-pct00139
    화학식 13b
    Figure 112007071389830-pct00140
    화학식 2a
    Figure 112007071389830-pct00141
    화학식 2c
    Figure 112007071389830-pct00142
    화학식 2d
    Figure 112007071389830-pct00143
    화학식 2e
    Figure 112007071389830-pct00144
    화학식 2f
    Figure 112007071389830-pct00145
    위의 화학식 13a, 화학식 13b, 화학식 2a 및 화학식 2c 내지 화학식 2f에서,
    R1a 및 R2는 수소이고,
    Hal은 브롬이고,
    Y는 위에서 정의한 바와 같고,
    T1은 C1-C4알콕시; C1-C4알킬티오; 하이드록시; 아미노; 치환되지 않거나 알킬 잔기가 하이드록시, 설페이토 또는 설포에 의해 치환된 N-모노- 또는 N,N-디-C1-C4알킬아미노; 모르폴리노; 치환되지 않거나 페닐 환이 설포, 카복시, 아세틸아미노, 염소, 메틸 또는 메톡시에 의해 치환된 페닐아미노 또는 N-C1-C4알킬-N-페닐아미노(여기서, 알킬은 치환되지 않거나 하이드록시, 설포 또는 설페이토에 의해 치환된다); 치환되지 않거나 1개 내지 3개의 설포 그룹에 의해 치환된 나프틸아미노; 또는 화학식 3c' 또는 화학식 3d'의 섬유 반응성 라디칼이고,
    X1은 염소 또는 불소이고,
    m은 2 또는 3이고,
    R'5는 수소 또는 설포이거나, 치환되지 않거나 알킬 잔기가 하이드록시 또는 설페이토에 의해 치환된 C1-C4알콕시이고,
    R'5a는 수소, C1-C4알킬, C1-C4알콕시, C2-C4알카노일아미노, 우레이도 또는 화학식 2f의 라디칼(여기서, 라디칼 R1a, T1 및 X1은 위에서 정의한 바와 같다)이다.
    화학식 3c'
    Figure 112007071389830-pct00146
    화학식 3d'
    Figure 112007071389830-pct00147
    위의 화학식 3c' 및 화학식 3d'에서,
    Y는 위에서 정의한 바와 같다.
  9. 하나 이상의 디아조화 아민을 화학식 15의 구조 단위를 하나 이상 함유하는 화합물에 커플링시켜 화학식 1의 구조 단위를 하나 이상 함유하는 반응성 염료를 수득함을 포함하는, 제1항에 따르는 반응성 염료의 제조방법.
    화학식 15
    Figure 112008081766178-pct00148
    위의 화학식 15에서,
    Y는 제1항에서 정의한 바와 같다.
  10. 제1항에 따르는 반응성 염료 또는 제9항에 따라 수득한 반응성 염료를 사용하는, 하이드록실 그룹 함유 또는 질소 함유 섬유재료의 염색 방법.
  11. 제10항에 있어서, 섬유재료가 셀룰로즈인 염색 방법.
  12. 화학식 15b의 반응성 염료.
    Figure 112004014999336-pct00149
    위의 화학식 15b에서,
    D1은 디아조 성분, 벤젠 또는 나프탈렌 계열의 라디칼이고,
    Y는 비닐 또는 라디칼 -CH2-CH2-U(여기서, U는 알칼리 조건하에 제거 가능한 그룹이다)이다.
KR1020047005404A 2001-10-12 2002-10-04 섬유 반응성 아조 염료, 이의 제조방법 및 이를 사용하는 염색 또는 날염 방법 KR100892861B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP01810994 2001-10-12
EP01810994.2 2001-10-12

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20050033533A KR20050033533A (ko) 2005-04-12
KR100892861B1 true KR100892861B1 (ko) 2009-04-15

Family

ID=8184187

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020047005404A KR100892861B1 (ko) 2001-10-12 2002-10-04 섬유 반응성 아조 염료, 이의 제조방법 및 이를 사용하는 염색 또는 날염 방법

Country Status (8)

Country Link
US (1) US7038024B2 (ko)
EP (1) EP1470195B1 (ko)
KR (1) KR100892861B1 (ko)
CN (1) CN1268690C (ko)
AT (1) ATE316990T1 (ko)
DE (1) DE60209035T2 (ko)
ES (1) ES2256567T3 (ko)
WO (1) WO2003033599A1 (ko)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
MY136589A (en) * 2003-02-05 2008-10-31 Ciba Sc Holding Ag Mixtures of reactive dyes and their use
CH695613A5 (de) * 2005-06-08 2006-07-14 Bezema Ag Mischungen von schwermetallfreien faserreaktiven Farbstoffen auf der Basis von Triazo-Verbindungen, deren Herstellung und Verwendung.
DE102006028229A1 (de) * 2006-06-20 2008-01-10 Dystar Textilfarben Gmbh & Co Deutschland Kg Farbstoffmischungen von faserreaktiven Azofarbstoffen, ihre Herstellung und ihre Verwendung
CN101235216B (zh) * 2008-01-22 2010-07-21 天津德凯化工股份有限公司 一种橙色活性染料及其制备方法
CN101235217B (zh) * 2008-01-22 2012-12-19 天津德凯化工股份有限公司 一种黑色活性染料及其制备方法
CN102575394B (zh) * 2009-06-09 2014-09-17 博凯技术公司 染色纤维素碎片、染色非织造材料和它们的生产方法
US8961621B2 (en) 2011-12-14 2015-02-24 Huntsman International Llc Azo dyes
KR20150023403A (ko) 2012-06-18 2015-03-05 다이스타 컬러스 디스트리뷰션 게엠베하 반응성 염료, 이의 제조 방법 및 이의 용도
PT2861673T (pt) * 2012-06-18 2023-11-13 Dystar Colours Distrib Gmbh Corantes reactivos sem metal, processo para a sua produção e sua utilização
CN106349745A (zh) * 2016-08-25 2017-01-25 浙江劲光实业股份有限公司 一种活性偶氮染料及其制备方法和应用
CN106518736A (zh) * 2016-10-11 2017-03-22 浙江劲光实业股份有限公司 4‑(β‑羟乙基砜硫酸酯)‑1,3‑苯二胺及其脱酯产物的制备方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4897469A (en) 1987-04-07 1990-01-30 Basf Aktiengesellschaft Aniline series azo reactive dyes ortho- or para-substituted by vinyl sulfonyl reactive groups
EP0785237A1 (de) * 1996-01-19 1997-07-23 Ciba SC Holding AG Reaktivfarbstoffe, ihre Herstellung und Verwendung
EP1035171A1 (de) * 1999-03-11 2000-09-13 Ciba SC Holding AG Azofarbstoffe, deren Herstellung und deren Verwendung

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2432403A (en) * 1944-02-02 1947-12-09 Chem Ind Basel Monoazo dyes
DE2032927C3 (de) 1970-07-03 1979-06-13 Hoechst Ag, 6000 Frankfurt Wasserlösliche Metallkomplex-Disazofarbstoffe, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung zum Färben oder Bedrucken von Wolle, Seide, Leder, Polyamidoder Polyurethanfasern oder nativen oder regenerierten Cellulosefasern
DE3512340A1 (de) 1985-04-04 1986-10-16 Bayer Ag, 5090 Leverkusen Azoreaktivfarbstoffe
KR910001342B1 (ko) 1988-08-12 1991-03-04 서울애드 네온 주식회사 네온 트랜스의 보호장치
DE59310038D1 (de) 1992-11-23 2000-06-15 Ciba Sc Holding Ag Azoreaktivfarbstoffe
DE19619239A1 (de) 1996-05-13 1997-11-20 Basf Ag Azoreaktivfarbstoffe mit einer reaktivankertragenden Diazokomponente aus der Reihe des m-Phenylendiamins

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4897469A (en) 1987-04-07 1990-01-30 Basf Aktiengesellschaft Aniline series azo reactive dyes ortho- or para-substituted by vinyl sulfonyl reactive groups
EP0785237A1 (de) * 1996-01-19 1997-07-23 Ciba SC Holding AG Reaktivfarbstoffe, ihre Herstellung und Verwendung
EP1035171A1 (de) * 1999-03-11 2000-09-13 Ciba SC Holding AG Azofarbstoffe, deren Herstellung und deren Verwendung

Also Published As

Publication number Publication date
DE60209035D1 (de) 2006-04-13
WO2003033599A1 (en) 2003-04-24
EP1470195A1 (en) 2004-10-27
ES2256567T3 (es) 2006-07-16
US20040255404A1 (en) 2004-12-23
CN1268690C (zh) 2006-08-09
KR20050033533A (ko) 2005-04-12
ATE316990T1 (de) 2006-02-15
DE60209035T2 (de) 2006-09-28
US7038024B2 (en) 2006-05-02
CN1568353A (zh) 2005-01-19
EP1470195B1 (en) 2006-02-01

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4778600B2 (ja) アゾ染料、その調製方法及びその用途
US20040261199A1 (en) Fibre-reactive dyes their preparation and their use
KR100892861B1 (ko) 섬유 반응성 아조 염료, 이의 제조방법 및 이를 사용하는 염색 또는 날염 방법
KR20060133035A (ko) 섬유 반응성 염료, 이의 제조방법 및 이의 용도
KR100483733B1 (ko) 섬유반응성염료,이의제조방법및당해염료를사용한염색또는날염방법
US6146430A (en) Asymmetric dioxazine compound and method for dyeing or printing fiber Material using the same
JP3074796B2 (ja) 非対称ジオキサジン化合物及びそれを用いて繊維材料を染色又は捺染する方法
KR100622457B1 (ko) 반응성 염료, 이의 제조방법 및 이를 사용한 섬유재료의 염색 또는 날염 방법
JPH09165525A (ja) 繊維反応性染料及びその製造方法
JP3739415B2 (ja) 反応性染料類、それらの製造方法及びそれらの用途
KR100232551B1 (ko) 비대칭 디옥사진 화합물 그리고 이 화합물을 사용하는 섬유 재료의 염색 또는 날염방법
JPH04255762A (ja) 反応染料、その製造方法および使用
KR20080093113A (ko) 반응성 염료, 이의 제조방법 및 이의 용도
US6451072B1 (en) Reactive dyes, process for their preparation and their use
JPH09202788A (ja) 非対称ジオキサジン化合物、その中間体化合物及び非対称ジオキサジン化合物の適用
JPH07324171A (ja) 反応性染料、その製造方法及び用途
KR100622456B1 (ko) 아조 염료, 이의 제조방법 및 이의 용도
JPH05222308A (ja) 反応性染料、その製法及び用途
EP1041122B1 (en) Reactive dyes, process for their preparation and their use
JP3739416B2 (ja) 反応性染料類、それらの製造方法及びそれらの用途
US6015885A (en) Polyazo compound and method for dyeing or textileprinting fiber material using the same
JP2754659B2 (ja) 非対称ジオキサジン化合物及びそれを用いて繊維材料を染色又は捺染する方法
JP2002003737A (ja) ビスアゾ化合物又はその塩、及び、それらの繊維への適用
JP2001106935A (ja) ビスアゾ化合物又はその塩及びこれらの繊維材料への適用
JPH02238063A (ja) ジオキサジン化合物及びそれを用いて繊維材料を染色又は捺染する方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee