KR100891631B1 - 포토레지스트 제거 처리 장치 및 방법 - Google Patents

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아키코 사이토
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유키노부 니시베
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Abstract

본 발명에 따른 처리 장치는, 물을 저장하도록 된 탱크와, 이 탱크로부터 공급된 물을 증기로 전환하도록 된 증기 발생 유닛과, 이 증기 발생 유닛으로부터 공급된 증기를 피처리체로부터 잔류물을 제거하는 데에 사용하는 처리 챔버와, 냉각 유닛과, 필터링 유닛을 포함한다. 냉각 유닛은 처리 챔버로부터 배출된 폐액을 냉각시킨다. 필터링 유닛은 냉각 유닛과 탱크 사이에 마련되어 냉각 유닛에서 냉각된 폐액을 여과한다. 본 발명에 따른 처리 방법은, 처리 챔버 내에 증기를 공급하는 단계와, 이 증기를 사용하여 피처리체로부터 잔류물을 제거하는 단계와, 제거된 잔류물을 함유한 폐액을 냉각시켜 그 잔류물을 고형물로 침전시키는 단계와, 침전물을 함유한 폐액을 여과하는 단계를 포함한다.
Figure R1020070006076
처리 챔버, 피처리체, 폐액, 물, 필터링 유닛

Description

포토레지스트 제거 처리 장치 및 방법{APPARATUS AND METHOD FOR PHOTORESIST REMOVAL PROCESSING}
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 처리 장치의 구성을 도시하는 개략도이며,
도 2는 도 1에 도시한 처리 챔버의 내부 구성을 도시하는 개략도이고,
도 3은 피처리체가 고온의 증기로 처리되고, 폐액이 냉각되지 않은 채 고온(75℃)으로 필터를 통과하였을 경우에, 폐액이 통과한 필터의 사진 화상이며,
도 4는 도 3의 75℃의 여과된 폐액을 30℃의 액체 온도로 냉각시켜 다시 통과시킨 경우에, 다른 유사한 필터의 사진 화상이고,
도 5는 도 4의 30℃의 여과된 폐액을 25℃의 액체 온도로 더 냉각시켜 다시 통과시킨 경우에, 또 다른 유사한 필터의 사진 화상이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
1 : 처리 챔버
5 : 노즐
6 : 반송 롤러
10 : 피처리체
26 : 증기 발생기
27 : 증기 재가열기
35 : 탱크
37 : 원심분리기
39 : 냉각기
38a, 38b : 필터
42 : 유압 펌프
43 : 탱크
본 발명은 처리 장치 및 처리 방법에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 리소그래피(lithography)에 사용된 포토레지스트를 제거하는 데에 적합한 처리 장치 및 처리 방법에 관한 것이다.
예를 들면, 반도체 소자나 액정 패널의 제조 과정 중 리소그래피 단계에서, 패터닝 마스크(patterning mask)로서 통상 유기 레지스트 막이 사용되고 있다. 이 레지스트 막은 패터닝이 완료된 후에 제거될 필요가 있다. 레지스트 막을 제거하는 방법으로는 유기 용제 등으로 레지스트 막을 가열 용해시키는 방법이 있다. 그러나, 유기 용제의 사용은 폐액 처리 설비에 추가적인 비용을 수반한다. 특히, 최근 반도체 웨이퍼 및 액정 패널의 대형화는 레지스트 박리 과정에서 생성되는 폐액의 양의 증가를 가져왔다. 이는 처리비용 및 환경적 부담에 있어서의 관련 문제점을 증가시켰다.
예를 들면, JP 2001-250773A에는 레지스트 막을 박리시켜 제거하기 위해 기판에 70℃ 내지 200℃의 수증기를 분사하는 기법이 개시되어 있다.
그러나, 특히 유기 레지스트에서의 저분자량의 성분은 고온에서 물에 용해된 상태로 남게 된다. 따라서, 폐액으로부터 물을 회수하여 재사용하기 위해, 폐액을 필터를 통과시키더라도, 레지스트는 필터에 의해 걸리지 않고, 물과 함께 필터를 통과하게 된다. 그 결과, 불행히도 레지스트로 오염된 물이 레지스트 박리를 위한 증기로서 다시 사용된다.
본 발명의 하나의 양태에 따르면, 물을 저장하도록 된 탱크와, 이 탱크로부터 공급된 물을 증기로 전환하도록 된 증기 발생 유닛과, 이 증기 발생 유닛으로부터 공급된 증기를 피처리체로부터 잔류물을 제거하는 데에 사용하는 처리 챔버와, 이 처리 챔버로부터 배출된 폐액을 냉각시키도록 된 냉각 유닛과, 이 냉각 유닛과 탱크 사이에 마련되어 냉각 유닛에서 냉각된 폐액을 여과하도록 된 필터링 유닛을 포함하는 처리 장치가 제공된다.
본 발명의 다른 하나의 양태에 따르면, 처리 챔버 내에 증기를 공급하는 단계와, 이 증기를 사용하여 피처리체로부터 잔류물을 제거하는 단계와, 제거된 잔류물을 함유한 폐액을 냉각시켜 그 잔류물을 고형물로 침전시키는 단계와, 침전물을 함유한 폐액을 여과하는 단계를 포함하는 처리 방법이 제공된다.
이하, 도면을 참조하여, 본 발명의 실시예에 대해 설명할 것이다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 처리 장치의 구성을 도시하는 개략도이다.
본 실시예에 따른 처리 장치는 대체로, 물을 저장하는 탱크(39)와, 이 탱크(39) 내의 물을 증기로 전환하는 증기 발생기(26)와, 이 증기 발생기(26)에서 생성된 증기를 가열하는 증기 재가열기(27)와, 이 증기 재가열기(27)로부터 공급된 증기를 피처리체로부터 잔류물(제거 대상물)을 제거하는 데에 사용되는 처리 챔버(1)와, 이 처리 챔버(1)로부터 배출된 폐액을 냉각시키는 냉각기(35)와, 이 냉각기(35)에서 냉각된 폐액을 여과하도록 냉각기(35)와 탱크(39) 사이의 배관을 따라 마련된 필터(38a, 38b)를 포함한다.
처리 챔버(1)에서 처리된 피처리체는 예를 들면 액정 패널용 유리 기판이다. 그러나, 피처리체는 그에 한정되는 것이 아니라 플랫 패널 디스플레이용 기판, 반도체 웨이퍼, 리드 프레임(lead frame), 인쇄 회로 기판 등일 수도 있다.
탱크(39) 내에는 초순수 또는 탈이온수와 같은 물이 저장된다. 증기 발생기(26)는 초순수 또는 탈이온수의 증기를 생성한다. 증기 재가열기(27)는 증기 발생기(26)에서 생성된 증기를 소정 온도로 가열한다. 가열된 증기는 처리 챔버(1) 내에 공급된다.
도 2는 처리 챔버(1)의 내부 구성을 도시하는 개략도이다.
처리 챔버(1)에는, 피처리체(10)의 이동 방향(A)을 따라 복수 개의 반송 롤러(6)가 마련되어 있다. 이 반송 롤러(6)는 피처리체(10)를 지지한 채로 회전할 수 있다. 피처리체(10)는 반송 롤러(6) 상에서 이동 방향(A)으로 이동한다. 예를 들면, 폭이 1.1m에 이르는 피처리체(10)가 반송 롤러(6)에 의해 반송될 수 있다. 반송 속도는 1 내지 10 m/min으로 달리할 수 있다.
반송 롤러(6) 상의 피처리체(10)의 이동 경로 위에는 노즐(5)이 배치되어 있다. 이 노즐(5)은 피처리체(10)의 이동 경로에 대향한 토출 포트를 갖고 있다. 증기 발생기(26)에서 생성되어 증기 재가열기(27)에서 가열된 증기가 노즐(5)의 토출 포트를 통해 피처리체(10)를 향해 토출된다.
증기의 생성을 위해 탱크(39)로부터 증기 발생기(26)로 도입되는 초순수 또는 탈이온수의 유량은 예를 들면 4 내지 10 ℓ/min이다. 노즐(5)로부터 토출되는 증기의 온도는 예를 들면 100 내지 140℃의 범위로 제어될 수 있다.
이 경우, 수증기가 대기압 중으로 토출될 때에 발생하는 단열 팽창으로 인한 온도 감소를 고려하여, 증기 발생기(26) 및 증기 재가열기(27)는 수증기가 처리되는 기판의 표면에서 100 내지 140℃의 온도를 갖도록 수증기를 180 내지 300℃로 가열하는 데에 사용된다.
처리 챔버(1)의 저부에는 물 유출구(14)가 형성되어 있다. 도시하지 않은 폐수 배관이 물 유출구(14)에 연결된다. 폐수 배관은 처리 챔버(1) 외부에 배치된 냉각기(35)에 연결된다. 이 냉각기(35)에는 칠러(chiller)(36)로부터 냉각수와 같은 냉각 유체가 공급된다. 이 냉각 유체는 냉각기(35)와 칠러(36) 사이에서 순환한다. 냉각기(35)는 물 유출구(14)를 통해 처리 챔버(1)로부터 배출된 폐액을 냉각시킨다.
냉각기(35)는 원심분리기(37)에 연결된다. 이 원심분리기(37)는 원심력을 사용하여 냉각기(35)에 의해 냉각된 폐액 내에 함유된 상이한 질량을 갖는 성분들 을 분리한다.
원심분리기(37)의 유출 배관은 필터(38a, 38b)에 각각 연결된 2개의 배관(45a, 45b)으로 분할된다. 필터(38a, 38b)는 예를 들면 중공 섬유 맴브레인(中空絲膜) 필터로서, 원심분리기(37)에서 무거운 고형물이 제거된 폐액을 여과한다.
필터(38a)의 유입측과 원심분리기(37)의 유출측 사이에는 밸브(44a)가 마련되어 있다. 필터(38b)의 유출측은 밸브(55a)를 통해 탱크(39)에 연결된다.
마찬가지로, 필터(38b)의 유입측과 원심분리기(37)의 유출측 사이에는 밸브(44b)가 마련된다. 필터(38b)의 유출측은 밸브(55b)를 통해 탱크(39)에 연결된다.
즉, 2개의 필터(38a, 38b)가 원심분리기(37)와 탱크(39) 사이의 배관에서 병렬로 연결되어 있다.
필터(38a)의 유입측은 배관(46) 및 밸브(48)를 통해 탱크(43)에 연결된다. 마찬가지로, 필터(38b)의 유입측은 배관(47) 및 밸브(49)를 통해 탱크(43)에 연결된다. 탱크(43)는 피처리체의 처리에 사용되는 물을 저장하는 전술한 탱크(39)와는 다른 것으로서, 필터(38a, 38b)에 의해 걸린 고형물을 제거하는 처리액을 저장한다.
필터(38a)의 유출측은 배관(51) 및 밸브(53)를 통해 유압 펌프(42)의 토출 포트에 연결된다. 마찬가지로, 필터(38b)의 유출측은 배관(52) 및 밸브(54)를 통해 유압 펌프(42)의 토출 포트에 연결된다. 유압 펌프(42)의 흡입 포트는 탱크(43)에 연결된다.
유압 펌프(42), 탱크(43), 배관(46, 47, 51, 52) 및 밸브(48, 49, 53, 54)는 필터(38a, 38b)에 의해 걸린 고형물을 씻어내고 용해시키는 필터 세정 기구를 구성한다.
각 밸브는 제어기(도시 생략)로부터의 신호에 의해 개폐되는 전자기 밸브이다. 밸브의 개폐는 필터(38a, 38b) 각각을 이하의 상태 중 하나로 전환시키도록 제어될 수 있다. 하나의 상태에서, 필터(38a, 38b)는 원심분리기(37) 및 탱크(39)와 연통하며, 유압 펌프(42) 및 탱크(43)를 포함한 필터 세정 기구로부터 차단된다. 다른 상태에서, 필터(38a, 38b)는 필터 세정 기구와 연통하며, 원심분리기(37) 및 탱크(39)로부터는 차단된다.
이어서, 본 발명의 실시예에 따른 처리 장치를 사용한 피처리체의 처리 과정에 대해 설명한다.
피처리체(10)는 처리 챔버(1) 안으로 반송되어, 도 2에 도시한 반송 롤러(6)의 회전에 의해 처리 챔버(1) 내에서 이동 방향(A)을 따라 이동한다. 이 때, 증기 발생기(26)에서 생성되어 증기 재가열기(27)에서 가열된 수증기가 노즐(5)로부터 피처리체(10)를 향해 토출된다. 이 수증기의 온도 및 충돌은 피처리체(10) 상에 형성된 포토레지스트 또는 기타 잔류물을 부풀어오르게 하여 박리시킨다. 박리된 레지스트는 물과 함께 피처리체(10)에서부터 처리 챔버(1)의 저부로 흘러내려, 물 유출구(14)를 통해 처리 챔버(1)의 외부로 배출된다. 이 폐액은 냉각기(35)에 주입된다.
본 실시예에서, 노즐(5)로부터 토출되는 수증기에는 포토레지스트의 용해를 촉진시키는 화학 물질이 첨가될 수 있다. 이 경우, 수증기 및 처리후에 수증기의 응축으로 인해 생성된 물은 포토레지스트 성분이 내부에 용해되어 있는 상태로 피처리체의 처리된 부분 상에 남아 있게 된다. 그러한 수증기 및 물은 자연적으로 냉각되어, 기판 또는 기타 피처리체의 표면상에 다시 응고될 수 있다.
이와 관련하여, 전술한 처리 장치(도 2에 도시)에는 노즐(5)의 바로 하류측 위치와 같은 소정 위치에 별도의 노즐이 배치되며, 이 별도의 노즐로부터 분사되는 온수가 기판 또는 다른 피처리체에 공급된다. 그러면, 포토레지스트 성분이 용해되어 있는 물은 전술한 바와 같이 물에 용해되어 잔류하는 포토레지스트 성분이 다시 응고하기 전에 기판 또는 피처리체로부터 씻겨 제거될 수 있다.
냉각기(35)에 주입된 폐액은 칠러(36)로부터 공급된 냉각수에 의해 냉각된다. 이러한 냉각에 의해, 피처리체(10)로부터 제거되어 폐액 내에 함유된 레지스트는 고형물로 침전(석출)될 수 있다.
고형물로서 침전(석출)된 레지스트를 함유하고 있는 냉각기(35)에서 냉각된 폐액은 원심분리기(37)로 주입되어, 고형물이 무거운 성분과 가벼운 성분으로 분리된다. 여기서 무거운 성분은 회수되어, 후속 단계의 필터(38a, 38b)로 주입되지는 않는다. 대안적으로, 원심 분리기 대신에, 중력 침강(gravity settling)에 기초한 분리기가 폐액 성분을 무거운 성분과 가벼운 성분으로 분리하는 데에 사용될 수 있다.
무거운 성분을 원심분리기(37)에서 제거한 폐액은 필터(38a, 38b)로 주입된다. 필터(38a, 38b) 2개 모두 또는 어느 하나가 사용될 수 있다. 필터(38a, 38b) 2개 모두가 사용되는 경우, 밸브(44a, 44b, 55a, 55b)가 개방된다. 필터(38a)만이 사용되는 경우에는 밸브(44a, 55a)가 개방되며, 밸브(44b, 55b)는 폐쇄된다. 필터(38b)만이 사용되는 경우에는 밸브(44b, 55b)가 개방되며 밸브(44a, 55a)는 폐쇄된다. 임의의 경우에, 폐액이 필터(38a, 38b)를 통과할 때에 밸브(48, 49, 53, 54)는 폐쇄된다.
폐액이 필터(38a, 38b)를 통과하는 경우, 이전 단계에서 원심분리기(37)에 의해 회수되지 않은 가벼운 고형물은 걸리게 되고, 피처리체(10)로부터 제거된 레지스트를 함유하지 않는 물만이 탱크(39)로 복귀될 수 있다.
탱크(39)로 복귀한 물은 다시 증기로 되어 노즐(5)로부터 토출되며, 이에 의해 피처리체(10)로부터 레지스트를 제거하는 데에 다시 사용된다. 고형물은 전술한 바와 같이 탱크(39)로 복귀되기 전에 폐액으로부터 완전히 제거된다. 따라서, 탱크(39)에서부터 증기 발생기(26), 증기 재가열기(27) 및 노즐(5)에 이르는 배관은 고형물로 인해 오염되는 일이 없게 된다. 따라서, 증기를 생성하고 그 증기에 의해 피처리체를 처리하는 효율이 향상될 수 있다.
예를 들면, 노볼락 수지(novolac resin)로 된 포토레지스트가 도포되어 있는 유리 기판 100개가 피처리체로서 전술한 바와 같이 원심분리기(37) 및 필터(38a, 38b)를 사용하지 않고 냉각기(35)만을 사용하여 처리되었다. 그 때, 잔류 포토레지스트 고형물 3.28g가 탱크(39)로 복귀한 폐액에서 관찰되었다.
냉각기(35)에 추가로 원심분리기(37)를 사용하여 유사한 처리를 행한 경우, 탱크(39)로 복귀한 폐액 내의 잔류 고형물의 양은 0.11g이었다. 따라서, 원심분리 기(37)가 잔류 고형물을 중량으로 96% 이상 제거할 수 있음이 확인되었다.
또한, 냉각기(35) 및 원심분리기(37)에 추가로 필터[필터(38a, 38b) 중 어느 하나]를 사용하여 유사한 처리를 행한 경우, 탱크(39)로 복귀한 폐액 내의 고형물의 양은 측정할 수 없을 정도로 소량이거나, 거의 관찰되지 않았다.
도 3에는 예를 들면 노볼락 수지로 된 포토레지스트가 도포된 유리 기판이 고온의 증기로 처리되고, 폐액이 냉각되지 않은 채 고온(75℃)으로 필터를 통과하였을 경우에, 폐액이 통과한 필터의 사진 화상이 도시되어 있다.
그 사진 화상에는, 필터에 걸린 고형물(레지스트)의 존재가 명확히 관찰된다.
도 4에는 도 3의 75℃의 여과된 폐액을 30℃의 액체 온도로 냉각시켜 다시 통과시킨 경우에, 다른 유사한 필터(동일한 메쉬 크기를 가짐)의 사진 화상이 도시되어 있다.
여기에서도, 이전보다 적은 양이기는 하지만 고형물(레지스트)이 필터에 걸렸다. 즉, 고온(75℃)의 폐액에서는 용해된 레지스트 성분이 30℃로 냉각됨으로써 고형물로 침전(석출)되었다.
도 5에는 도 4의 30℃의 여과된 폐액을 25℃의 액체 온도로 더 냉각시켜 다시 통과시킨 경우에, 또 다른 유사한 필터(동일한 메쉬 크기를 가짐)의 사진 화상이 도시되어 있다.
이 경우, 필터에 의해 걸린 고형물(레지스트)은 검출되지 않았다. 결과적으로, 고온 증기 처리에 의해 생성된 폐액이 냉각되는 경우, 레지스트 성분은 후속 단계에서 필터에 의해 확실하게 걸릴 수 있는 고형물로서 확실하게 침전(석출)될 수 있어, 물이 레지스트 성분이 용해되어 있는 상태로 탱크(39)로 바로 복귀하지 않게 된다.
필터(38a, 38b)에 걸린 고형물은 필터 세정 기구에 의해 제거될 수 있다.
예를 들면, 필터(38a)를 세정하는 경우, 유압 펌프(42)가 밸브(44a, 55a)는 폐쇄되고 밸브(48, 53)는 개방된 상태에서 작동한다. 필터 세정 탱크(43) 내의 세정액(예를 들면, 물)이 전술한 바와 같이 폐액이 처리되는 동안의 방향과 반대 방향, 즉 필터(38a)의 유출측에서 유입측으로의 방향으로 필터(38a)를 통과한다. 따라서, 필터(38a)에 걸린 고형물이 필터(38a)로부터 제거될 수 있다. 필터(38a)로부터 제거된 고형물은 탱크(43)로 회수된다.
이 때, 다른 필터(38b)가 밸브(49, 54)를 폐쇄하고 밸브(44b, 55b)를 개방함으로써 통상의 폐액 처리에 사용될 수 있다. 따라서, 필터 세정을 위해 통상의 폐액 처리를 중단할 필요가 없다.
다른 필터(38b)를 세정하는 경우, 유압 펌프(42)는 밸브(44b, 55b)가 폐쇄되고 밸브(49, 54)가 개방된 상태에서 작동한다. 필터 세정 탱크(43) 내의 세정액은 필터(38b)의 유출측에서부터 유입측으로 필터(38b)를 통과한다. 이 때, 필터(38a)는 밸브(48, 53)를 폐쇄하고 밸브(44a, 55a)를 개방함으로써 통상의 폐액 처리에 사용될 수 있다.
예를 들면, 노볼락 수지로 된 포토레지스트가 도포된 약 2,000개의 유리 기판을 처리한 경우, 고형물(레지스트)에 의한 필터의 막힘으로 인해 압력 손실이 증 가되었다. 그러나, 필터가 유압 펌프(42)에 의해 세정액으로 역류 세정된 후에는 압력 손실이 2,000개의 유리 기판의 처리를 시작하기 전의 수준으로 돌아왔다.
세정액은 물에 한정되는 것이 아니라, 포토레지스트 등이 용해될 수 있는 임의의 용제를 포함할 수 있다. 이 경우, 세정액이 반드시 필터를 반대 방향으로 통과할 필요는 없다.
본 발명의 실시예를 구체예를 참조하여 설명하였다. 그러나, 본 발명은 그에 한정되는 것이 아니라, 본 발명의 사상 내에서 다양한 변형예가 이루어질 수 있다.
증기에 의해 제거되는 잔류물이 포토레지스트에 한정되는 것은 아니다. 또한, 피처리체, 특정 처리 조건 등도 전술한 것에 한정되지 않는다.
필터는 3단 이상으로 병렬로 연결될 수 있다. 대안적으로, 하나의 필터를 갖는 구성이 사용될 수도 있다. 또한, 상이한 메쉬 크기를 갖는 필터가 다단으로 직렬 연결될 수 있다. 필터를 다단으로 직렬 연결하는 것은 또한 레지스트 또는 다른 잔류물이 확실하게 걸릴 수 있게 해준다.
본 발명에 따르면, 기판과 같은 피처리체로부터 제거된 포토레지스트 등의 잔류물을 함유한 폐액을 다시 사용하는 데에 있어서, 그 폐액 내에 함유된 잔류물을 확실하게 제거할 수 있다.

Claims (26)

  1. 물을 저장하는 탱크와,
    상기 탱크 내의 물을 증기로 전환하는 증기 발생 유닛과,
    상기 증기 발생 유닛으로부터 공급되는 증기를 이용하여, 피처리체로부터 제거 대상물을 제거하는 처리가 행하여지는 처리 챔버와,
    상기 처리 챔버로부터 배출된 폐액을 냉각하는 냉각 유닛과,
    상기 냉각 유닛과 상기 탱크 사이에 마련되어, 상기 냉각 유닛에서 냉각된 상기 폐액을 여과하는 필터링 유닛과,
    상기 필터링 유닛의 출구측으로부터 입구측을 향해 세정액을 공급하여, 상기 필터링 유닛에 포획된 고형물을 상기 필터링 유닛으로부터 제거하는 세정 기구
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 처리 장치.
  2. 물을 저장하는 탱크와,
    상기 탱크 내의 물을 증기로 전환하는 증기 발생 유닛과,
    상기 증기 발생 유닛으로부터 공급되는 증기를 이용하여, 피처리체로부터 제거 대상물을 제거하는 처리가 행하여지는 처리 챔버와,
    상기 처리 챔버로부터 배출된 폐액을 냉각하는 냉각 유닛과,
    상기 냉각 유닛과 상기 탱크 사이에 마련되어, 상기 냉각 유닛에서 냉각된 상기 폐액을 여과하는 필터링 유닛과,
    상기 필터링 유닛에 포획된 고형물을 용해시키는 세정액을 공급하는 세정 기구
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 처리 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 냉각 유닛과 상기 탱크의 사이에 복수개의 필터링 유닛이 병렬로 접속되고, 각 필터링 유닛이 상기 세정 기구에 접속되며,
    각각의 필터링 유닛은, 각 필터링 유닛을 상기 냉각 유닛 및 상기 탱크와 연통시키는 상태와, 각 필터링 유닛을 상기 세정 기구와 연통시키는 상태로 전환 가능한 것을 특징으로 하는 처리 장치.
  4. 제2항에 있어서, 상기 냉각 유닛과 상기 탱크의 사이에 복수개의 필터링 유닛이 병렬로 접속되고, 각 필터링 유닛이 상기 세정 기구에 접속되며,
    각각의 필터링 유닛은, 각 필터링 유닛을 상기 냉각 유닛 및 상기 탱크와 연통시키는 상태와, 각 필터링 유닛을 상기 세정 기구와 연통시키는 상태로 전환 가능한 것을 특징으로 하는 처리 장치.
  5. 처리 챔버 내에 증기를 공급하는 단계와,
    상기 증기를 사용하여 피처리체로부터 제거 대상물을 제거하는 단계와,
    상기 제거된 제거 대상물을 함유하는 폐액을 냉각시켜, 상기 제거 대상물을 고형물로서 석출시키는 단계와,
    상기 석출물을 함유하는 폐액을 여과하는 단계와,
    상기 폐액을 여과하는 필터링 유닛의 출구측으로부터 입구측을 향해 세정액을 공급하여, 상기 필터링 유닛에 포획된 고형물을 상기 필터링 유닛으로부터 제거하는 단계
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 처리 방법.
  6. 처리 챔버 내에 증기를 공급하는 단계와,
    상기 증기를 사용하여 피처리체로부터 제거 대상물을 제거하는 단계와,
    상기 제거된 제거 대상물을 함유하는 폐액을 냉각시켜, 상기 제거 대상물을 고형물로서 석출시키는 단계와,
    상기 석출물을 함유하는 폐액을 여과하는 단계와,
    상기 폐액을 여과하는 필터링 유닛에, 상기 필터링 유닛에 포획된 고형물을 용해시키는 세정액을 공급하는 단계
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 처리 방법.
  7. 물을 저장하는 탱크와,
    상기 탱크 내의 물을 증기로 전환하는 증기 발생 유닛과,
    상기 증기 발생 유닛으로부터 공급된 증기를 이용하여, 피처리체로부터 제거 대상물을 제거하는 처리가 행하여지는 처리 챔버와,
    상기 처리 챔버로부터 배출되는, 상기 제거 대상물이 용해된 폐액을 냉각하는 냉각 유닛과,
    상기 냉각 유닛과 상기 탱크 사이에 마련되어, 상기 냉각 유닛에서 냉각되어 고형물로서 석출된 상기 제거 대상물을 함유하는 상기 폐액을 여과하는 필터링 유닛과,
    상기 필터링 유닛의 출구측으로부터 입구측을 향하여 세정액을 공급하여, 상기 필터링 유닛에 포획된 고형물을 상기 필터링 유닛으로부터 제거하는 세정 기구
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 처리 장치.
  8. 물을 저장하는 탱크와,
    상기 탱크 내의 물을 증기로 전환하는 증기 발생 유닛과,
    상기 증기 발생 유닛으로부터 공급된 증기를 이용하여, 피처리체로부터 제거 대상물을 제거하는 처리가 행하여지는 처리 챔버와,
    상기 처리 챔버로부터 배출되는, 상기 제거 대상물이 용해된 폐액을 냉각하는 냉각 유닛과,
    상기 냉각 유닛과 상기 탱크 사이에 마련되어, 상기 냉각 유닛에서 냉각되어 고형물로서 석출된 상기 제거 대상물을 함유하는 상기 폐액을 여과하는 필터링 유닛을 포함하고,
    상기 필터링 유닛에, 상기 필터링 유닛에 포획된 고형물을 용해시키는 세정액을 공급하는 세정 기구
    를 마련한 것을 특징으로 하는 처리 장치.
  9. 제7항에 있어서, 상기 냉각 유닛과 상기 탱크의 사이에 복수개의 필터링 유닛이 병렬로 접속되고, 각 필터링 유닛이 상기 세정 기구에 접속되며,
    각각의 필터링 유닛은, 각 필터링 유닛을 상기 냉각 유닛 및 상기 탱크와 연통시키는 상태와, 각 필터링 유닛을 상기 세정 기구와 연통시키는 상태로 전환 가능한 것을 특징으로 하는 처리 장치.
  10. 제8항에 있어서, 상기 냉각 유닛과 상기 탱크의 사이에 복수개의 필터링 유닛이 병렬로 접속되고, 각 필터링 유닛이 상기 세정 기구에 접속되며,
    각각의 필터링 유닛은, 각 필터링 유닛을 상기 냉각 유닛 및 상기 탱크와 연통시키는 상태와, 각 필터링 유닛을 상기 세정 기구와 연통시키는 상태로 전환 가능한 것을 특징으로 하는 처리 장치.
  11. 처리 챔버 내에 증기를 공급하는 단계와,
    상기 증기를 사용하여 피처리체로부터 제거 대상물을 제거하는 단계와,
    상기 제거된 제거 대상물이 용해된 폐액을 냉각시켜, 상기 제거 대상물을 고형물로서 석출시키는 단계와,
    상기 제거 대상물의 상기 석출물을 함유하는 폐액을 필터링 유닛으로 여과하는 단계와,
    상기 필터링 유닛의 출구측으로부터 입구측을 향해 세정액을 공급하여 상기 필터링 유닛에 포획된 고형물을 상기 필터링 유닛으로부터 제거하는 단계
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 처리 방법.
  12. 처리 챔버 내에 증기를 공급하는 단계와,
    상기 증기를 사용하여 피처리체로부터 제거 대상물을 제거하는 단계와,
    상기 제거된 제거 대상물이 용해된 폐액을 냉각시켜, 상기 제거 대상물을 고형물로서 석출시키는 단계와,
    상기 제거 대상물의 상기 석출물을 함유하는 폐액을 필터링 유닛으로 여과하는 단계와,
    상기 필터링 유닛에, 상기 필터링 유닛에 포획된 고형물을 용해시키는 세정액을 공급하는 단계
    를 포함하는 것을 특징으로 하는 처리 방법.
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