KR100855777B1 - 기판 처리장치와 기판 처리방법 - Google Patents
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Abstract
Description
참고로, 분위기는 어느 한정된 공간 내에 존재하는 물질로 정의한다.
Claims (43)
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- 기판을 처리하는 기판 처리장치로서,복수의 기판에 대하여 동일의 도포(塗布)처리를 행하는 복수의 처리유닛;상기 복수의 처리유닛의 각각으로 기판을 반송하는 반송요소; 및상기 반송요소에 의해 반송된 복수의 기판에 대한 상기 복수의 처리유닛에서의 처리결과가 대략 동일하게 되도록 상기 복수의 처리유닛에서의 기압을 제어하는 기압 제어요소를 구비하며,상기 복수의 처리유닛은:기판을 유지하면서 회전시키는 회전기구;상기 회전기구에 의해 유지된 상기 기판을 덮는 컵; 및상기 회전기구에 의해 회전하는 상기 기판의 표면에 상기 소정의 처리액을 토출하는 노즐을 구비하고,상기 기압 제어요소는, 상기 컵내의 기압을 제어하는 기판 처리장치.
- 제23항에 있어서,상기 기압 제어요소는, 미리 설정된 값에 따라, 상기 복수의 처리 유닛에서의 기압을 제어하는 기판 처리장치.
- 제23항 또는 제24항에 있어서,상기 복수의 처리유닛 내의 기압을 계측하는 센서를 더 구비하고,상기 기압 제어요소는, 상기 센서의 검출결과에 따라, 상기 복수의 처리유닛에서의 기압이 대략 동일하게 되도록 상기 복수의 처리유닛 내의 기압을 제어하는 기판 처리장치.
- 제23항 또는 제24항에 있어서,상기 복수의 처리유닛은, 서로 높이 위치가 다른 것을 포함하는 기판 처리장치.
- 제23항에 있어서,상기 기압 제어요소는:상기 복수의 처리유닛에 기체를 공급하는 공급요소를 구비하고;상기 기압 제어요소는, 상기 공급요소에 의하여 기체의 공급량을 제어하는 기판 처리장치.
- 제27항에 있어서,상기 공급요소는:상기 복수의 처리유닛에 공급하는 상기 기체의 온도 및 습도를 조정하는 조정요소를 구비하는 기판 처리장치.
- 제27항에 있어서,상기 공급요소는, 상기 복수의 처리유닛에 대하여 상방(上方)으로부터 상기 기체를 공급하는 기판 처리장치.
- 제23항에 있어서,상기 기압 제어요소가:상기 복수의 처리유닛 내의 가스 분위기를 배출하는 배출요소를 더 구비하고;상기 기압 제어요소는, 상기 배출요소에 의한 상기 가스 분위기의 배출량을 제어하는 기판 처리장치.
- 제30항에 있어서,상기 배출요소는, 상기 복수의 처리유닛의 하방(下方)으로부터 상기 가스 분위기를 배출하는 기판 처리장치.
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- 기판에 도포처리를 행하는 기판 처리방법으로서:(a) 복수의 처리유닛의 각각으로 기판을 반송하는 공정;(b) 상기 (a) 공정에 있어서 반송된 복수의 기판에 대한 상기 복수의 처리유닛에서의 처리결과가 대략 동일하게 되도록, 상기 복수의 처리유닛에서의 기압을 제어하는 공정; 및(c) 상기 복수의 처리유닛에 의해서, 복수의 기판에 대하여 도포처리를 행하는 공정을 가지며,상기 (c)공정은:(c-1) 기판을 덮는 컵내에서 기판을 유지하면서 회전시키는 공정; 및(c-2) 상기 (c-1)공정이 실행되고 있는 동안에, 회전하는 상기 기판의 표면에 상기 소정의 처리액을 토출하는 공정을 갖고,상기 (b)공정에서, 상기 컵내의 기압을 제어하는 기판 처리방법.
- 제33항에 있어서,상기 (b)공정에서, 미리 설정된 값에 따라, 상기 복수의 처리유닛에서의 기압을 제어하는 기판 처리방법.
- 제33항에 있어서,(d) 상기 (b)공정을 실행하기 전에, 상기 복수의 처리 유닛내의 기압을 계측하는 공정;을 더 갖고,상기 (b)공정에서, 상기 (d)공정에서의 검출결과에 따라, 상기 복수의 처리유닛에서의 기압이 대략 동일하게 되도록, 상기 복수의 처리유닛에서의 기압을 제어하는 기판 처리방법.
- 제33항 또는 제35항에 있어서,상기 복수의 처리유닛은, 서로 높이 위치가 다른 것을 포함하는 기판 처리방법.
- 제33항 내지 제35항 중 어느 한 항에 있어서,상기 (b)공정에서, 상기 복수의 처리유닛에 공급하는 기체의 공급량을 제어하는 기판 처리방법.
- 제37항에 있어서,(e) 상기 (b)공정을 실행하기 전에, 상기 복수의 처리유닛에 공급하는 상기 기체의 온도 및 습도를 조정하는 공정을 더 갖는 기판 처리방법.
- 제37항에 있어서,상기 (b)공정에서, 상기 복수의 처리유닛에 대하여 상방으로부터 상기 기체를 공급하는 기판 처리방법.
- 제33항에 있어서,상기 (b)공정에서, 상기 복수의 처리유닛으로부터 배출하는 가스 분위기의 배출량을 제어하는 기판 처리방법.
- 제40항에 있어서,상기 (b)공정에서, 상기 복수의 처리유닛의 하방으로부터 상기 가스 분위기를 배출하는 기판 처리방법.
- 제25항에 있어서,상기 복수의 처리유닛은, 서로 높이 위치가 다른 것을 포함하는 기판 처리장치.
- 제36항에 있어서,상기 (b)공정에서, 상기 복수의 처리유닛에 공급하는 기체의 공급량을 제어하는 기판 처리방법.
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