KR100584602B1 - 화상형성장치의 환경 변화에 따른 링 오실레이터 설정장치및 방법 - Google Patents

화상형성장치의 환경 변화에 따른 링 오실레이터 설정장치및 방법 Download PDF

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Abstract

화상형성장치의 환경 변화에 따른 링 오실레이터 설정장치 및 방법이 개시된다. 이 장치는 서로 다른 발진 주파수를 각각 생성하는 링 오실레이터들, 링 오실레이터들 중 임의의 링 오실레이터에서 생성되는 발진 주파수의 소정 단위시간에 발진하는 펄스 수를 나타내는 루프스피드값을 검출하는 루프스피드값 검출부, 화상 형성장치의 시스템 환경의 상태를 감지하는 상태 감지부 및 상태 감지부의 감지된 결과에 응답하여, 루프스피드값 검출부에서 검출된 루프스피드값의 변화에 대응하는 링 오실레이터를 링 오실레이터들 중 검출하여 설정하는 설정 제어부를 구비하는 것을 특징으로 한다. 따라서, 본 발명에 따르면, 화상형성장치에서 온도, 전압 등의 외부 환경이 변화하더라도 비디오 클럭의 생성을 위한 최적의 루프스피드값을 갖는 링 오실레이터를 설정할 수 있도록 함으로써, 외부 환경 변화에 따른 화상 품질의 저하를 최소화시킨다.

Description

화상형성장치의 환경 변화에 따른 링 오실레이터 설정장치 및 방법{Apparatus and method for setting a ring oscillator responding to environmental change of an image forming apparatus}
도 1은 본 발명에 의한 화상형성장치의 환경 변화에 따른 링 오실레이터 설정장치를 설명하기 위한 일 실시예의 블록도이다.
도 2는 도 1에 도시된 본 발명에 따른 설정 제어부를 설명하기 위한 일 실시예의 블록도이다.
도 3은 본 발명에 의한 화상형성장치의 환경 변화에 따른 링 오실레이터 설정방법을 설명하기 위한 일 실시예의 플로차트이다.
도 4는 도 3에 도시된 본 발명에 따른 제304 단계를 설명하기 위한 일 실시예의 플로차트이다.
〈도면의 주요 부호에 대한 간단한 설명〉
100: 링 오실레이터들 120: 루프스피드값 검출부
140: 상태 감지부 160: 설정 제어부
200: 온도 변화 검사부 220: 루프스피드값 변화 검사부
240: 링 오실레이터 설정부
본 발명은 다수의 레이저 스캐닝 유닛을 구비한 레이저 프린터, 복합기 등을 포함하는 화상 형성장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 비디오 클럭의 생성을 위한 최적화된 루프스피드값을 갖는 링 오실레이터를 설정하기 위한 화상형성장치의 환경 변화에 따른 링 오실레이터 설정장치 및 방법에 관한 것이다.
종래의 화상 형성장치에 있어서, 레이저 프린터 변조기는 링 오실레이터(Ring oscillator), 루프스피드값(loopspeed value) 검출부 및 변조기를 구비하며, 클럭 발생기는 링 오실레이터, 루프스피드값 검출부 및 클럭 발생부를 구비한다.
링 오실레이터는 소정의 주파수를 발진시킨다. 링 오실레이터는 홀수개의 인버터 체인으로 구성된다. 보통 3개 또는 5개의 인버터를 직렬로 연결하여 하나의 인버터 블록을 형성하여 하나의 탭을 형성한다. 링 오실레이터는 설계시 공정, 온도, 전압 변화에 따라 발진주파수가 바뀌게 되는 노이즈 에 민감한 성질을 갖는다. 루프스피드값은 링 오실레이터에서 생성되는 발진 주파수가 소정 단위시간 사이에 발진하는 펄스의 수를 나타낸다.
비디오 클럭 생성과 변조를 위한 회로는 링 오실레이터를 이용하고 있으며 주파수 가변과 변조에 있어 링 오실레이터의 루프스피드값과 밀접한 관련을 갖고 있다. 온도, 전압 등의 외부 환경 변화에 따라 링 오실레이터의 발진 주파수가 변동하게 되며 이에 화상의 화질도 품질이 악화되는 경향이 있다. 이에 따라, 링 오실레이터의 발진 주파수 변동을 최소화하기 위하여, 링 오실레이터의 전원부에 정 전류 구동과 같은 방법을 할 수 있으나 외부 온도에 의한 변화는 대처하기는 어려운 실정이다. 또한 다양한 비디오 클럭을 사용하는 경우 광대역의 주파수 범위를 모두 대응하기 위해서는 변조기와 비디오 클럭 발생기의 내부 연산회로의 구조가 커져야 하는 부담을 갖게 된다. 따라서, 온도 등의 변화 등 화상 형성장치의 시스템 환경변화로 인한 링 오실레이터의 루프스피드값 변화에 의해 변조기를 통한 비디오 데이터의 손상 등 화상품질의 저하가 발생하게 되는 문제점이 있어 이를 해결할 필요성이 있다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 화상형성장치의 외부 환경이 변화하더라도 최적의 루프스피드값을 갖는 링 오실레이터를 설정할 수 있도록 하는 화상형성장치의 환경 변화에 따른 링 오실레이터 설정장치를 제공하는데 있다.
본 발명이 이루고자 하는 다른 기술적 과제는, 화상형성장치의 외부 환경이 변화하더라도 최적의 루프스피드값을 갖는 링 오실레이터를 설정할 수 있도록 하는 화상형성장치의 환경 변화에 따른 링 오실레이터 설정방법을 제공하는데 있다.
상기의 과제를 이루기 위해, 본 발명에 따른 화상형성장치의 환경 변화에 따른 링 오실레이터 설정장치는 서로 다른 발진 주파수를 각각 생성하는 링 오실레이터들, 링 오실레이터들 중 임의의 링 오실레이터에서 생성되는 발진 주파수의 소정 단위시간에 발진하는 펄스 수를 나타내는 루프스피드값을 검출하는 루프스피드값 검출부, 화상 형성장치의 시스템 환경의 상태를 감지하는 상태 감지부 및 상태 감 지부의 감지된 결과에 응답하여, 루프스피드값 검출부에서 검출된 루프스피드값의 변화에 대응하는 링 오실레이터를 링 오실레이터들 중 검출하여 설정하는 설정 제어부로 구성됨이 바람직하다.
상기의 다른 과제를 이루기 위해, 본 발명에 따른 화상형성장치의 환경 변화에 따른 링 오실레이터 설정방법은 화상 형성장치의 시스템 환경의 상태를 감지하는 단계, 기설정 링 오실레이터에서 생성되는 발진 주파수의 소정 단위시간에 발진하는 펄스 수를 나타내는 루프스피드값을 검출하는 단계 및 검출된 루프스피드값의 변화에 대응하는 링 오실레이터를 서로 다른 발진 주파수를 각각 생성하는 링 오실레이터들 중 검출하여 설정하는 단계로 구성됨이 바람직하다.
이하, 본 발명에 의한 화상형성장치의 환경 변화에 따른 링 오실레이터 설정장치를 첨부된 도면을 참조하여 다음과 같이 설명한다.
도 1은 본 발명에 의한 화상형성장치의 환경 변화에 따른 링 오실레이터 설정장치를 설명하기 위한 일 실시예의 블록도로서, 링 오실레이터들(100), 루프스피드값 검출부(120), 상태 감지부(140) 및 설정 제어부(160)로 구성된다.
링 오실레이터들(100)은 각각 서로 다른 발진 주파수를 생성한다. 각각의 링 오실레이터들(100)은 루프스피드값이 각각 다른 발진 수파수들을 생성하므로, 이에 따라 생성되는 비디오 클럭들도 각각 상이하다. 즉, 각각의 링 오실레이터들(100)은 루프스피드값이 빠른 링 오실레이터들과 루프스피드값이 느린 링 오실레이터들을 구비한다. 루프스피드값은 링 오실레이터에서 생성되는 발진 주파수의 소정 단위시간에 발진하는 펄스 수를 나타낸다. 여기서 소정 단위시간이라 함은, 화상 형 성장치에서 생성되는 시스템 클럭의 한주기 동안의 시간을 의미한다.
각각의 링 오실레이터들(100)은 홀수개의 인버터 체인으로 구성된다. 이상적으로는 하나의 인버터가 1개의 탭(tap)을 이루어 동작할 수 있으나 로직 상태에 따른 천이시간 차로 인하여 정확한 탭 간의 신호를 구할 수 없으며 이러한 각각의 탭 신호를 이용하여 변조기 내부의 다른 소자를 구동하는 경우, 특히 플립플롭(flip-flop)과 같은 메모리 셀의 셋업/홀드 타임(setup/hold time)의 위반을 초래하게 된다. 이러한 조건을 만족하기 위해 보통 3개 또는 5개의 인버터를 직렬로 연결하여 하나의 인버터 블록을 형성하여 하나의 탭을 형성한다. 각각의 링 오실레이터들(100)은 설계시 공정, 온도, 전압 변화에 따라 발진주파수가 바뀌게 되는 노이즈 에 민감한 성질을 갖는다.
루프스피드값 검출부(120)는 링 오실레이터들(100) 중 기설정된 링 오실레이터에서 생성되는 발진 주파수의 루프스피드값을 검출하고, 검출한 결과를 설정 제어부(160)의 요청신호에 의해 설정 제어부(160)로 출력한다.
상태 감지부(140)는 화상 형성장치의 시스템 환경의 상태를 감지하고, 감지한 결과를 설정 제어부(160)로 출력한다. 특히, 상태 감지부(140)는 시스템 환경 중 화상 형성장치의 온도를 감지하는 것을 특징으로 한다. 전술한 바와 같이, 각각의 링 오실레이터들(100)은 설계시 온도 변화에 따라 발진주파수가 바뀌게 되는 노이즈 에 민감한 성질을 갖는다. 따라서, 상태 감지부(140)가 온도를 감지하여, 설정 제어부(160)로 하여금 온도 변화를 검출할 수 있도록 한다.
설정 제어부(160)는 상태 감지부(140)의 감지된 결과에 응답하여, 루프스피 드값 검출부(120)에서 검출된 루프스피드값의 변화에 대응하는 링 오실레이터를 링 오실레이터들(100) 중 검출하여 설정한다. 상태 감지부(140)로부터 감지된 결과를 입력받으면, 설정 제어부(160)는 루프스피드값 검출부(120)로 기설정된 링 오실레이터의 루프스피드값을 요청하고, 루프스피드값 검출부(120)로부터 전송된 루프스피드값의 변화에 대응하는 링 오실레이터를 검출하고, 검출된 링 오실레이터를 설정하도록 하는 설정신호를 링 오실레이터들(100)로 출력한다.
도 2는 도 1에 도시된 본 발명에 따른 설정 제어부를 설명하기 위한 일 실시예의 블록도로서, 온도 변화 검사부(200), 루프스피드값 변화 검사부(220) 및 링 오실레이터 설정부(240)로 구성된다.
온도 변화 검사부(200)는 상태 감지부(140)에서 감지된 화상 형성장치의 온도 변화가 기설정 온도보다 소정 온도 이상 변화하는가를 검사한다. 상태 감지부(140)에서 감지된 화상 형성장치의 온도를 입력단자 IN1을 통해 입력받으면, 온도 변화 검사부(200)는 입력된 화상 형성장치의 온도가 이전에 링 오실레이터가 설정되었을 당시의 온도보다 소정 온도(예를 들어, 10도) 이상 변화하는가를 검사하고, 검사한 결과를 루프스피드값 변화 검사부(220) 및 링 오실레이터 설정부(240)로 출력한다.
루프스피드값 변화 검사부(220)는 온도 변화 검사부(200)의 검사된 결과에 응답하여, 루프스피드값 검출부(120)에서 검출된 기설정 링 오실레이터의 실제 루프스피드값이 기설정 링 오실레이터의 이상적인 루프스피드값보다 소정 루프스피드값 이상 변화하는가를 검사한다. 온도 변화 검사부(200)로부터 화상 형성장치의 온 도가 이전에 링 오실레이터가 설정되었을 당시의 온도보다 소정 온도 이상 변화되었다는 검사 결과를 입력받으면, 루프스피드값 변화 검사부(220)는 입력단자 IN2를 통해 입력된 루프스피드값 검출부(120)의 기설정 링 오실레이터의 실제 루프스피드값이 기설정 링 오실레이터의 이상적인 루프스피드값보다 소정 루프스피드값(예를 들어, 기설정 링 오실레이터의 이상적인 루프스피드값의 20%) 이상 변화하는가를 검사하고, 검사한 결과를 링 오실레이터 설정부(240)로 출력한다. 이를 위해, 루프스피드값 변화 검사부(220)는 링 오실레이터들(100) 각각의 이상적인 루프스피드값을 정보로서 구비하고 있다.
링 오실레이터 설정부(240)는 루프스피드값 변화 검사부(220)의 검사된 결과에 응답하여, 기설정 온도보다 소정 온도 이상 온도가 상승할 경우에 기설정 링 오실레이터보다 큰 값의 루프스피드값을 갖는 링 오실레이터를 검출하여 설정하고, 기설정 온도보다 소정 온도 이상 온도가 하강할 경우에 기설정 링 오실레이터보다 작은 값의 루프스피드값을 갖는 링 오실레이터를 검출하여 설정한다. 루프스피드값 변화 검사부(220)로부터 기설정 링 오실레이터의 실제 루프스피드값이 기설정 링 오실레이터의 이상적인 루프스피드값보다 소정 루프스피드값 이상 변화하였다는 검사 결과를 입력받으면, 링 오실레이터 설정부(240)는 온도 변화 검사부(200)로부터 기설정 온도보다 소정 온도 이상 온도가 상승하였다는 검사 결과에 따라 기설정 링 오실레이터보다 큰 값의 루프스피드값을 갖는 링 오실레이터를 검출하고, 검출한 결과를 설정신호로서 출력단자 OUT1을 통해 링 오실레이터들(100)로 출력한다.
또한, 루프스피드값 변화 검사부(220)로부터 기설정 링 오실레이터의 실제 루프스피드값이 기설정 링 오실레이터의 이상적인 루프스피드값보다 소정 루프스피드값 이상 변화하였다는 검사 결과를 입력받으면, 링 오실레이터 설정부(240)는 온도 변화 검사부(200)로부터 기설정 온도보다 소정 온도 이상 온도가 하강하였다는 검사 결과에 따라 기설정 링 오실레이터보다 작은 값의 루프스피드값을 갖는 링 오실레이터를 검출하고, 검출한 결과를 설정신호로서 출력단자 OUT1을 통해 링 오실레이터들(100)로 출력한다.
화상 형성장치의 온도가 상승하면, 점차적으로 링 오실레이터의 루프수피드값이 감소되는 것이 일반적이므로, 온도 상승에 따라 감소된 루프스피드값을 보상해 줄 수 있는 보다 빠른 루프스피드값을 갖는 링 오실레이터를 링 오실레이터들(100) 중에서 검출하여 설정하는 것이다. 또한, 화상 형성장치의 온도가 하강하면, 이전보다 루프스피드값이 작은 링 오실레이터에 의한 클럭 생성이나 주파수 변조가 요구되므로, 온도 하강에 따라 작은 루프스피드값이 요구되는 링 오실레이터를 설정해 주는 것이다.
한편, 링 오실레이터 설정부(240)는 링 오실레이터의 설정 시에, 상태 감지부(140)에서 감지된 화상 형성장치의 온도를 새로운 기설정 온도로서 설정하는 것을 특징으로 한다. 새롭게 설정된 온도가 이후의 기설정 온도로서 온도 변화의 판단기준이 된다.
링 오실레이터들(100)은 기설정 링 오실레이터를 설정신호에 따라 새로운 링 오실레이터로 재설정한다.
전술한 링 오실레이터 설정부(240)가 설정한 링 오실레이터에 의해 생성된 발진 주파수를 이용해, 비디오 클럭을 생성하거나 주파수 변조를 하는 것을 특징으로 한다. 즉, 레이저 프린터 변조기(미도시)는 링 오실레이터 설정부(240)가 설정한 링 오실레이터에 의해 생성된 발진 주파수를 이용해, 주파수를 변조한다. 또한, 클럭 발생기(미도시)는 링 오실레이터 설정부(240)가 설정한 링 오실레이터에 의해 생성된 발진 주파수를 이용해, 비디오 클럭을 생성한다. 따라서, 온도 등의 환경 변화에 불구하고, 화질의 품질 악화를 방지할 수 있다.
이하, 본 발명에 의한 화상형성장치의 환경 변화에 따른 링 오실레이터 설정방법을 첨부된 도면을 참조하여 다음과 같이 설명한다.
도 3은 본 발명에 의한 화상형성장치의 환경 변화에 따른 링 오실레이터 설정방법을 설명하기 위한 일 실시예의 플로차트이다.
먼저, 화상 형성장치의 시스템 환경의 상태를 감지한다(제300 단계). 전술한 바와 같이, 각각의 링 오실레이터들(100)은 설계시 온도 변화에 따라 발진주파수가 바뀌게 되는 노이즈에 민감한 성질을 갖으므로, 시스템 환경 중 화상 형성장치의 온도를 감지하는 것을 특징으로 한다.
제300 단계 후에, 기설정 링 오실레이터에서 생성되는 발진 주파수의 소정 단위시간에 발진하는 펄스 수를 나타내는 루프스피드값을 검출한다(제302 단계). 링 오실레이터들(100) 중 기설정된 링 오실레이터에서 생성되는 발진 주파수의 루프스피드값을 검출한다.
제302 단계 후에, 검출된 루프스피드값의 변화에 대응하는 링 오실레이터를 서로 다른 발진 주파수를 각각 생성하는 링 오실레이터들 중 검출하여 설정한다(제 304 단계).
도 4는 도 3에 도시된 본 발명에 따른 제304 단계를 설명하기 위한 일 실시예의 플로차트이다.
먼저, 화상 형성장치의 온도 변화가 기설정 온도보다 소정 온도 이상 변화하는가를 검사한다(제400 단계). 입력된 화상 형성장치의 온도가 이전에 링 오실레이터가 설정되었을 당시의 온도보다 소정 온도(예를 들어, 10도) 이상 변화하는가를 검사한다.
만일, 화상 형성장치의 온도 변화가 기설정 온도보다 소정 온도 이상 변화하지 않았다면, 다시 제400 단계로 진행하여 전술한 과정을 반복한다.
그러나, 화상 형성장치의 온도 변화가 기설정 온도보다 소정 온도 이상 변화한다면, 기설정 링 오실레이터의 검출된 실제 루프스피드값이 기설정 링 오실레이터의 이상적인 루프스피드값보다 소정 루프스피드값 이상 변화하는가를 검사한다(제402 단계). 전술한 루프스피드값 검출부(120)의 기설정 링 오실레이터의 실제 루프스피드값이 기설정 링 오실레이터의 이상적인 루프스피드값보다 소정 루프스피드값(예를 들어, 기설정 링 오실레이터의 이상적인 루프스피드값의 20%) 이상 변화하는가를 검사한다.
만일, 기설정 링 오실레이터의 검출된 실제 루프스피드값이 기설정 링 오실레이터의 이상적인 루프스피드값보다 소정 루프스피드값 이상 변화하지 않는다면, 다시 제400 단계로 진행하여 전술한 과정을 반복한다.
그러나, 검출된 실제 루프스피드값이 이상적인 루프스피드값보다 소정 루프 스피드값 이상 변화한다면, 기설정 온도보다 소정 온도 이상 온도가 상승할 경우에 기설정 링 오실레이터보다 큰 값의 루프스피드값을 갖는 링 오실레이터를 검출하여 설정하고, 기설정 온도보다 소정 온도 이상 온도가 하강할 경우에 기설정 링 오실레이터보다 작은 값의 루프스피드값을 갖는 링 오실레이터를 검출하여 설정한다(제404 단계).
온도 변화 검사부(200)로부터 기설정 온도보다 소정 온도 이상 온도가 상승하였다는 검사 결과에 따라 기설정 링 오실레이터보다 큰 값의 루프스피드값을 갖는 링 오실레이터를 검출하여 설정한다. 또한, 온도 변화 검사부(200)로부터 기설정 온도보다 소정 온도 이상 온도가 하강하였다는 검사 결과에 따라 기설정 링 오실레이터보다 작은 값의 루프스피드값을 갖는 링 오실레이터를 검출하여 설정한다.
이러한 본원 발명인 화상형성장치의 환경 변화에 따른 링 오실레이터 설정장치 및 방법은 이해를 돕기 위하여 도면에 도시된 실시예를 참고로 설명되었으나, 이는 예시적인 것에 불과하며, 당해 분야에서 통상적 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위에 의해 정해져야 할 것이다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 의한 화상형성장치의 환경 변화에 따른 링 오실레이터 설정장치 및 방법은 다수의 레이저 스캐닝 유닛(LSU:Laser Scanning Unit)을 사용하는 레이저 프린터 등의 화상형성장치에서 온도, 전압 등의 외부 환경이 변화하더라도 비디오 클럭의 생성을 위한 최적의 루프스피드값을 갖는 링 오실레이터를 설정할 수 있도록 함으로써, 외부 환경 변화에 따른 화상 품질의 저하를 최소화시키는 효과가 있다.

Claims (10)

  1. 서로 다른 발진 주파수를 각각 생성하는 링 오실레이터들;
    상기 링 오실레이터들 중 임의의 링 오실레이터에서 생성되는 발진 주파수의 소정 단위시간에 발진하는 펄스 수를 나타내는 루프스피드값을 검출하는 루프스피드값 검출부;
    화상 형성장치의 시스템 환경의 상태를 감지하는 상태 감지부; 및
    상기 상태 감지부의 감지된 결과에 응답하여, 상기 루프스피드값 검출부에서 검출된 루프스피드값의 변화에 대응하는 링 오실레이터를 상기 링 오실레이터들 중 검출하여 설정하는 설정 제어부를 구비하는 것을 특징으로 하는 화상형성장치의 환경 변화에 따른 링 오실레이터 설정장치.
  2. 제1 항에 있어서, 상기 상태 감지부는
    상기 시스템 환경 중 상기 화상 형성장치의 온도를 감지하는 것을 특징으로 하는 화상형성장치의 환경 변화에 따른 링 오실레이터 설정장치.
  3. 제2 항에 있어서, 상기 설정 제어부는
    상기 상태 감지부에서 감지된 상기 화상 형성장치의 온도 변화가 기설정 온도보다 소정 온도 이상 변화하는가를 검사하는 온도 변화 검사부;
    상기 온도 변화 검사부의 검사된 결과에 응답하여, 상기 루프스피드값 검출부에서 검출된 기설정 링 오실레이터의 실제 루프스피드값이 상기 기설정 링 오실레이터의 이상적인 루프스피드값보다 소정 루프스피드값 이상 변화하는가를 검사하는 루프스피드값 변화 검사부;
    상기 루프스피드값 변화 검사부의 검사된 결과에 응답하여, 상기 기설정 온도보다 상기 소정 온도 이상 온도가 상승할 경우에 상기 기설정 링 오실레이터보다 큰 값의 루프스피드값을 갖는 링 오실레이터를 검출하여 설정하고, 상기 기설정 온도보다 상기 소정 온도 이상 온도가 하강할 경우에 상기 기설정 링 오실레이터보다 작은 값의 루프스피드값을 갖는 링 오실레이터를 검출하여 설정하는 링 오실레이터 설정부를 구비하는 것을 특징으로 하는 화상형성장치의 환경 변화에 따른 링 오실레이터 설정장치.
  4. 제3 항에 있어서, 상기 링 오실레이터 설정부는
    링 오실레이터의 설정 시에, 상기 상태 감지부에서 감지된 상기 화상 형성장치의 온도를 새로운 기설정 온도로서 설정하는 것을 특징으로 하는 화상형성장치의 환경 변화에 따른 링 오실레이터 설정장치.
  5. 제3 항에 있어서, 상기 화상형성장치의 환경 변화에 따른 링 오실레이터 설 정장치는
    상기 링 오실레이터 설정부가 설정한 링 오실레이터에 의해 생성된 발진 주파수를 이용해, 비디오 클럭이 생성되거나 변조되는 것을 특징으로 하는 화상형성장치의 환경 변화에 따른 링 오실레이터 설정장치.
  6. (a) 화상 형성장치의 시스템 환경의 상태를 감지하는 단계;
    (b) 기설정 링 오실레이터에서 생성되는 발진 주파수의 소정 단위시간에 발진하는 펄스 수를 나타내는 루프스피드값을 검출하는 단계; 및
    (c) 상기 검출된 루프스피드값의 변화에 대응하는 링 오실레이터를 서로 다른 발진 주파수를 각각 생성하는 링 오실레이터들 중 검출하여 설정하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 환경 변화에 따른 링 오실레이터 설정방법.
  7. 제6 항에 있어서, 상기 (a) 단계는
    상기 시스템 환경 중 상기 화상 형성장치의 온도를 감지하는 것을 특징으로 하는 환경 변화에 따른 링 오실레이터 설정방법.
  8. 제7 항에 있어서, 상기 (c) 단계는
    (c1) 상기 화상 형성장치의 온도 변화가 기설정 온도보다 소정 온도 이상 변화하는가를 검사하는 단계;
    (c2) 상기 화상 형성장치의 온도 변화가 상기 기설정 온도보다 상기 소정 온 도 이상 변화한다면, 상기 기설정 링 오실레이터의 검출된 실제 루프스피드값이 상기 기설정 링 오실레이터의 이상적인 루프스피드값보다 소정 루프스피드값 이상 변화하는가를 검사하는 단계; 및
    (c3) 상기 검출된 실제 루프스피드값이 상기 이상적인 루프스피드값보다 상기 소정 루프스피드값 이상 변화한다면, 상기 기설정 온도보다 상기 소정 온도 이상 온도가 상승할 경우에 상기 기설정 링 오실레이터보다 큰 값의 루프스피드값을 갖는 링 오실레이터를 검출하여 설정하고, 상기 기설정 온도보다 상기 소정 온도 이상 온도가 하강할 경우에 상기 기설정 링 오실레이터보다 작은 값의 루프스피드값을 갖는 링 오실레이터를 검출하여 설정하는 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 화상형성장치의 환경 변화에 따른 링 오실레이터 설정방법.
  9. 제8 항에 있어서, 상기 (c3) 단계는
    링 오실레이터의 설정 시에, 상기 화상 형성장치의 감지된 온도를 새로운 기설정 온도로서 설정하는 것을 특징으로 하는 화상형성장치의 환경 변화에 따른 링 오실레이터 설정방법.
  10. 제8 항에 있어서, 상기 화상형성장치의 환경 변화에 따른 링 오실레이터 설정방법은
    상기 설정된 링 오실레이터에 의해 생성된 발진 주파수를 이용해, 비디오 클럭이 생성되거나 변조되는 것을 특징으로 하는 화상형성장치의 환경 변화에 따른 링 오실레이터 설정방법.
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