KR100517215B1

KR100517215B1 - 부분 간섭성을 공간적으로 조정가능한 광학소자, 이미징 장치 및 포토리소그래피 장치

Info

Publication number: KR100517215B1
Application number: KR1019970062663A
Authority: KR
Inventors: 그래그 잘라틴; 앤드류 더블유. 맥컬로우
Original assignee: 에스브이지 리도그래피 시스템즈, 아이엔씨.
Priority date: 1996-11-25
Filing date: 1997-11-25
Publication date: 2005-12-06
Also published as: JPH10233362A; JP4222650B2; CA2222110A1; DE69739228D1; EP0844529A3; US6259513B1; KR19980042721A; EP0844529B1; EP0844529A2

Abstract

본 발명은 반도체 제조용 포토리소그래피에 사용되는 조명 장치에 관한 것으로서, 상이한 조명 영역이 레티클상의 상이한 형상 패턴 영역과 정합되게 하는 어레이 광학소자를 지니는 조명 장치에 관한 것이다. 상기 어레이 광학소자로서는 필터, 회절 광학소자, 또는 마이크로렌즈 어레이가 사용될 수 있으며, 상기 어레이 광학소자의 조명 영역에 의해 특히 4중극(重極;quadrupole), 원형(annular), 또는 톱 해트(top hat)형과 같은 상이한 유형의 조명 성질 또는 특성이 얻어질 수 있다. 상기 조명 영역 각각은 감광 레지스트로 도포된 웨이퍼의 노광을 최적화시키도록 레티클상의 각각의 패턴 영역에 정합 또는 대응된다. 본 발명의 광학소자는 특정 레티클의 독특한 특성을 종래의 조명 장치에 적응시키는 데 사용될 수 있다. 더욱이, 포토리소그래피 장치의 광학기기에서의 어떤 불완전성이 있더라도 상기 광학소자에 의해 보완될 수 있다. 이로 인해 품질이 개선되고 수율(收率)이 증가되면서 피처 크기(feature size)가 감소된 반도체소자의 제조가 용이하게 된다.

Description

부분 간섭성을 공간적으로 조정가능한 광학소자, 이미징 장치 및 포토리소그래피 장치{Optical element, imaging system and photolithography tool with spatially controllable partial coherence}

관련 출원

본원 출원은 1996년 11월 25일자 미국 가출원(假出願) 제60/03l,725호를 기초로 한 출원이다.

기술 분야

본 발명은 일반적으로는 반도체 제조에 관한 것이며, 보다 구체적으로 기술하면, 공간적으로 조정가능하고 레티클(reticle)에 정합되는 조명 장치에 관한 것이다.

종래 기술

반도체의 제조에는 포토리소그래피(photolithography)가 종종 사용된다. 회로 패턴을 상부에 지니는 레티클은 웨이퍼와 같은 감광 기판상에 투영된다. 그후, 상부에 패턴들을 형성하도록 웨이퍼가 처리된다. 이같은 처리는 복수 개의 층을 형성하도록 일반적으로 수회 반복된다. 당해 기술이 발전하고 반도체소자의 요소 크기가 더욱 작아짐에 따라, 감광 기판상에 레티클의 이미지를 투영하기 위해 조명 광원이 개선될 필요가 있다. 이에 따라, 감광 기판상에의 레티클의 이미징을 향상시키려는 노력의 일환으로 다수의 조명 장치가 개시되어 왔다. 그같은 조명 장치의 일례가 본원 명세서에 참고가 되며 발명의 명칭이「조명 장치 및 이같은 조명 장치를 구비한 투영 노광 장치(ILLUMINATING APPARATUS AND PROJECTION EXPOSURE APPARATUS PROVIDED WlTH SUCH ILLUMINATION APPARATUS)」이고 1994년 3월 22일자"모리(Mori)" 명의로 허여된 미국 특허 제5,296,892호의 명세서에 개시되어 있다. 상기 미국 특허 제5,296,892호의 명세서에는 집광기에 인접 배치된 광학 적분기, 또는 플라이아이(fly's eye) 렌즈를 지니는 조명 장치가 개시되어 있다. 광학 적분기, 또는 플라이아이 렌즈는 교환가능하게 설계되어 있기 때문에, 조명 장치의 출사(出射;emission)측상의 개구수를 변하게 하는 것이 가능하다. 또 다른 조명 장치는 본원 명세서에 참고가 되며 발명의 명칭이「포토리소그래피용 노광 장치의 조명 장치(ILLUMINATING SYSTEM IN EXPOSURE APPARATUS FOR PHOTOLITHOGRAPHY)』이고 1994년 10월 18일자 "토우나이(Tounai)" 명의로 허여된 미국 특허 제5,357,312호의 명세서에 개시되어 있다. 상기 미국 특허 제5,357,312호의 명세서에는 바람직하게는 균일화된 광 빔을 형성하여 조명 광의 손실을 개구 조리개의 규제로 저감시키는 조명 장치가 개시되어 있다. 더욱이, 광 빔의 단면을 원형으로 되게 하는 것이 가능하다. 또 다른 조명 장치는 발명의 명칭이「노광 방법 및 장치(EXPOSURE METHOD AND APPARATUS)」이고 1994년 7월 12일자 "히라노(Hirano)"와 그의 동료 명의로 허여된 미국 특허 제5,329,336호의 명세서에 개시되어 있다. 상기 미국 특허 제5,329,336호의 명세서에는 노광 장치에서의 간섭 변화로 인해 보완되는 검출기를 지니는 노광 장치가 개시되어 있다. 더욱이, 레티클 패턴의 이미지를 최적화시키기 위한 존(zone) 및 변형 광원 조명의 기법이 개시되어 있다. 이와같이, 상이한 레티클 형상 또는 패턴마다 서로 다른 조명 특성을 제공할 필요가 있다. 그러나, 조명 광원이 복잡하고, 또한 광원을 특정의 레티클 패턴 또는 형상에 정합하도록 변형시키는 것이 난해하기 때문에, 특정의 레티클에 대하여 최적화된 조명 패턴을 제공하기란 때때로 용이하지 않다. 그 결과, 레티클의 어떤 부분은 적절하게 조명될 수 있지만, 그 이외의 부분은 적절하게 조명되지 않는 사태가 생길 수 있다. 다시 말하면, 웨이퍼의 부분에 따라 이미지 결과가 서로 다르게 나타날 수 있다. 따라서, 상이한 레티클 패턴 또는 그의 형상에 관계없이, 감광 기판의 노광을 최적화시키는 조명 장치가 필요하다.

본 발명의 제1목적은 레티클의 패턴 또는 그의 형상에 관계없이, 조명 장치의 성능을 최적화시키는 것이다.

본 발명의 제2 목적은 포토리소그래피 장치를 구성하는 광학 기기에서의 어떤 불완전성이 있더라도 용이하게 보완될 수 있게 하는 것이다.

본 발명은 복수 개의 서로 다른 조명 영역으로 분할되어, 각각의 영역마다 서로 다른 조명 특성 또는 프로파일(profile)을 제공하는 마이크로렌즈 어레이일 수 있는 광학소자를 사용하는 것에 관한 것이다. 이같은 복수 개의 서로 다른 영역을 갖는 광학소자는, 서로 다른 형상 또는 패턴이 상부에 공간적으로 배치된 복수개의 서로 다른 패턴 영역을 지니는 레티클에 정합된다. 광학소자상의 복수 개의 서로 다른 조명 영역 각각이 레티클상의 복수 개의 서로 다른 패턴 영역 각각에 정합되어, 조명 패턴이 전체적으로 최적화됨으로써, 상이한 패턴 또는 그의 형상에 관계없이 레티클의 이미징을 개선시킬 수 있다.

본 발명의 이점은 조명 장치가 특정의 레티클과 정합하도록 용이하게 변경될 수 있다는 점이다.

본 발명의 특징은 광학소자의 서로 다른 조명 영역이 레티클의 서로 다른 패턴 영역에 정합된다는 점이다.

이들 및 다른 목적, 이점, 및 특징은 이하 본 발명의 바람직한 실시예의 상세한 설명을 고려하면 용이하게 알 수 있을 것이다.

실시예

도1은 포토리소그래피 장치(10)를 개략적으로 예시한 것이다. 조명 광원(12)으로부터는 전자기 방사 광이 광학소자(14)를 통해 레티클(16)상에 투사되어, 조명평면이 레티클(16)에 형성된다. 레티클(16)의 이미지는 투영 광학기기(18)에 의해 웨이퍼(20)상에 투영된다. 웨이퍼(20)는 상부에 감광 레지스트 피막을 지니며, 이러한 피막은 레티클(16)의 이미지에 의해 노광된다. 웨이퍼(20)는 X 및 Y 방향으로 이동가능한 웨이퍼 스테이지(22)상에 설치된다. 어떤 포토리소그래피 방법에 있어서는, 웨이퍼 스테이지(22)가 한 축방향으로만 스캐닝될 수 있다. 조명 광원(12)은, 본원 명세서에 참고가 되며 발명의 명칭이「포토리소그래피용 하이브리드 조명장치(HYBRID ILLUMINATION SYSTEM FOR USE IN PHOTOLITHOGRAPHY)」이고 1995년 5월 24일자 출원된 미국 특허출원 제08/449,301호의 명세서에 개시된 바와 같은 조명 광원 또는 조명 장치일 수 있다.

도2는 도1에 예시된 조명 광원(12)에 의해 형성되는 조명 강도 프로파일(24)을 예시한 것이다. 일반적으로는, 조명 강도 프로파일(24)이 비교적 균일한 것이 바람직스럽다. 이와 같은 비교적 균일한 조명 강도 프로파일(24)은 광학소자(14)를 통해 투사되어, 광학소자(14)에 의해 레티클(16)에나 또는 레티클(16)에 인접하여 조명 필드 또는 평면이 형성된다. 레티클(16)에 형성된 조명 평면에 의해 레티클(16)의 이미지가 도1에 예시된 감광 레지스트로 도포된 웨이퍼(20)상에 투영된다. 선(15)으로 표시되어 있는 전자기 방사광은, 광학소자(14)에 의해 레티클의 한 영역상에 제공되는 개구수(numerical aperture), 필 형상(fill geometry) 및 기타의 조명 특성을 보여준다. 선(17)으로 표시되어 있는 전자기 방사광은 선(15)으로 표시된 조명 특성 이외의 조명 특성을 보여준다. 도면에는 다양한 조명 특성 중 몇가지 조명 특성만이 예시되어 있지만, 분명한 점은, 레티클(16)상에는 광학소자(14)에 의해 여러 상이한 조명 특성이 공간적으로 배치될 수 있다는 점이다. 상이한 조명 영역의 개수는 레티클(14)과 원하는 정합의 정도에 의존한다.

도3은 도1 및 도2에 예시된 광학소자(14)를 개략적으로 도시한 것이다. 광학 소자(14)는 상부에 여러 개의 조명 영역(26, 28, 30, 및 32)을 지니고 있다. 이들 조명 영역(26, 28, 30, 및 32)은 필터, 회절 광학소자, 또는 바람직하게는 마이크 로렌즈 어레이에 의해 형성될 수 있다. 복수 개의 상이한 조명 영역(26, 28, 30, 및 32) 각각은 조명 특성의 조정에 사용되는 데, 예를 들면 도1 및 도2에 예시된 감광 레지스트로 도포된 웨이퍼(20)상에 레티클(16)의 이미지를 투영하기 위한 조명의 개구수, 간섭성, 필, 및 새그(sag) 등의 조명 특성의 조정에 사용된다. 이들 조명 영역(26, 28, 30, 및 32) 각각은 공지의 방법에 의해 형성됨으로써, 특정의 조명 영역에 대하여 원하는 조명 프로파일 또는 특성을 얻는 것이 가능하다. 예를 들면, 조명 영역(26)은 4중극(quadrupole) 조명을 예시한 것이다. 4중극 조명은, 중심 축으로부터 벗어난 여러 개의 원형의 밝은 부분(36)과 이들을 에워싸고 있는 어두운 부분(34)에 의해 특징지워진다. 4중극 조명은, 마이크로렌즈 어레이내에 구성된 각추(角鑛)형의 렌즈에 의해 실현될 수 있다. 조명 영역(28)은 원형 조명 영역을 예시한 것이고, 밝은 부분(38)에 의해 에워싸여진 어두운 원형 링 부분(40)을 지니고 있으며, 어두운 원형 링 부분(40)은 내부에 밝은 원형 부분(39)을 지니고 있다. 조명 영역(30)은, 밝은 원형 부분(44)에 의해 에워싸여진 중앙의 어두운 부분(46)과 이들을 에워싸는 어두운 부분(42)을 지니고 있다. 조명 영역(30 및 28)에 예시된 원형 조명 패턴은 마이크로렌즈 어레이내의 원추형의 렌즈에 의해 형성될 수 있다. 조명 영역(32)는 밝은 원형 부분(50)을 에워싸고 있는 어두운 부분(48)을 지니고 있으며, 톱 해트(top hat)형으로 구성된다. 톱 해트 영역(32)으로 예시되어 있는 조명 패턴은 마이크로렌즈 어레이내에서 구성된 육방 최밀(最密) 구조의 포물선 렌즈에 의해 얻어지는 것이 가능하다. 상기 조명 영역(26, 28, 30, 및 32)은 원하는 몇개의 상이한 조명 특성을 시각적으로 나타낸 것이며, 실제로는 도3에 시각적으로 예시된 조명 특성을 얻기 위해 사용되는 광학소자가 외견상 도시된 것과는 물리적으로 극히 다른 경우도 있다.

도4는 복수 개의 상이한 패턴 영역(52, 54, 56, 및 58)을 지니는 레티클을 예시한 평면도이다. 복수 개의 상이한 패턴 영역(52, 54, 56, 및 58) 각각은 상부에 상이한 형상 패턴을 지니고 있다. 예를 들면, 패턴 영역(52)의 상부에는 직각 그리드 패턴(60)이 형성되어 있다. 패턴 영역(54)은 상부에 경사 패턴(62)을 지니고 있다. 패턴 영역(56)은 상부에 직각 및 경사 패턴의 혼합 패턴(64)을 지니고 있다. 패턴 영역(58)은 상부에 만곡 패턴을 지니고 있다. 패턴 영역(60, 62, 64, 및 68)으로 예시된 상이한 패턴은, 단지 예를 든 것 뿐이며, 단일의 레티클(16)상에는 때때로 상이한 패턴 또는 형상 구성이 존재하고 이같은 상이한 패턴 또는 형상 구성이 상이한 영역으로 분할될 수 있음을 예시한 것이다. 기타의 상이한 패턴 또는 형상 구성도 사용될 수 있다. 형상 구성은 상이한 패턴을 시각적으로 예시한 것이다. 실제의 패턴은 외견상 도4에 예시된 패턴과는 물리적으로 극히 다른 경우도 있다.

도1 내지 도4를 참조하면, 본 발명의 이점 및 기능이 용이하게 이해될 수 있을 것이다. 광학소자(14)에 의해 형성된 각각의 조명 영역(26, 28, 30, 및 32)으로 부터 얻어지는 조명 프로파일은, 레티클(16)상의 대응하는 패턴 영역(52, 54, 56, 및 58)에 대하여 최적화된 이미지를 제공하도록 정합되는 간섭성 및 필 형상을 지닌다. 따라서, 단일의 레티클상에 형성된 상이한 패턴 형상과는 무관하게, 보다 균일한 이미지를 얻는 것이 가능하다. 이리하여 포토리소그래피 장치의 이미징 성능이 개선되며, 간섭성 및 기타의 조명 특성이 조명 필드 또는 평면내의 공간적 위치의 함수로서 변형됨으로써, 레티클상의 상이한 공간 위치에 있는 상이한 패턴에 따라 최적화될 수 있다. 더욱이, 간섭성과 같은 조명 특성은, 조명 필드 또는 평면의 원하는 작용으로부터의 일탈을 보완하기 위하여 장소에 따라 공간적으로 변경될 수 있다. 예를 들면, 레티클상에서 직사각형의 조명 필드가 스캐닝되는 스캐닝식의 포토리소그래피 장치에서는, 조명 특성은 투영 광학기기에서의 어떠한 불완전성이 있더라도 이를 보완하도록 한 축방향으로 변경될 수 있다. 이는, 스캐닝되고 있는 직사각형 슬릿의 길이 방향으로 조명 특성이 변경됨으로써, 투영 광학기기에 존재할 수 있는 어떠한 불완전성이 있더라도 이를 보완할 수 있다는 점에서 특히 유리하다. 그러므로, 상이한 조명 영역을 갖는 광학소자가 레티클상의 상이한 형상을 보완하는 데 사용될 수 있고, 뿐만 아니라 상이한 조명 영역이 투영 광학기기와 같은 다른 광학소자에서의 불완전성을 보완하는 데 사용될 수 있음으로써, 감광 레지스트로 도포된 웨이퍼 또는 기판의 노장이 개선된다.

따라서, 본 발명은 상이한 조명 영역이 단일의 광학소자상에 형성되어, 감광 레지스트로 도포된 웨이퍼의 노광을 최적화시키는 데 사용될 수 있음으로써, 장치 전반의 성능을 대단히 향상시킨다는 점에서 여러 실제적인 용도에 적용될 수 있다.

본 발명은 복수 개의 서로 다른 조명 영역으로 분할되어, 각각의 영역마다 서로 다른 조명 특성 또는 프로파일(profile)을 제공하는 마이크로렌즈 어레이일 수 있는 광학소자를 사용함으로써, 레티클의 패턴 또는 그의 형상에 관계없이, 조명 장치의 성능을 최적화시키고 포토리소그래피 장치를 구성하는 광학 기기에서의 어떤 불완전성이 있더라도 용이하게 보완될 수 있게 한다.

지금까지 여러 실시예로 본 발명을 예시하였지만, 당업자라면 본 발명의 정신 및 범위에서 벗어나지 않고서 다양한 변형이 이루어질 수 있다는 점을 인식하여야 한다.

도1은 포토리소그래피 장치의 개략도.

도2는 본 발명의 실시예를 개략적으로 예시한 도면.

도3은 광학소자의 평면도.

도4는 레티클의 평면도.

Claims

복수 개의 상이한 조명 영역을 포함하는 광학소자에 있어서, 상기 복수 개의 상이한 조명 영역 각각이 상이한 조명 특성을 지니고, 레티클이 복수개의 상이한 패턴 영역을 지니며, 상기 복수 개의 상이한 조명 영역이 상기 레티클의 복수 개의 상이한 패턴 영역에 정합됨으로써, 레티클의 조명과 감광 기판의 노광을 최적화시키는 것을 특징으로 하는 것을 특징으로 하는 광학소자.
제1항에 있어서, 상기 복수 개의 상이한 조명 영역은 마이크로렌즈 어레이에 의해 형성되며, 상기 복수 개의 상이한 조명 영역은 포토리소그래피 장치의 광학기기에 정합되는 것을 특징으로 하는 광학소자.
제1항에 있어서, 상기 복수 개의 상이한 조명 영역은 회절 광학소자에 의해 형성되며, 상기 복수 개의 상이한 조명 영역은 포토리소그래피 장치의 광학기기에 정합되는 것을 특징으로 하는 광학소자.
제1항에 있어서, 상기 복수 개의 상이한 조명 영역은 마이크로렌즈 어레이에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 광학소자.
제4항에 있어서, 상기 마이크로렌즈 어레이는 육방 최밀 구조의 포물선 렌즈를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학소자.
제4항에 있어서, 상기 마이크로렌즈 어레이는 원추형의 렌즈를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학소자.
제4항에 있어서, 상기 마이크로렌즈 어레이는 각추형의 렌즈를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학소자.
제4항에 있어서, 상기 마이크로렌즈 어레이는 육방 최밀 구조의 포물선 렌즈, 원추형의 렌즈, 및 각추형의 렌즈를 포함하는 것을 특징으로 하는 광학소자.
제1항에 있어서, 상기 복수 개의 상이한 조명 영역은 회절 광학소자에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 광학소자.
제1항에 있어서, 상기 조명 특성은 간섭성을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학소자.
제1항에 있어서, 상기 조명 특성은 필 형상을 포함하는 것을 특징으로 하는 광학소자.
레티클 및 광학소자를 포함하는 최적화된 이미징 장치에 있어서, 상기 레티클은 상부에 복수 개의 상이한 패턴 영역을 지니며, 상기 복수 개의 상이한 조명 영역 각각은 재생될 상이한 형상 패턴을 지니고, 상기 광학소자는 상부에 복수 개의 상이한 조명 영역을 지니며, 상기 복수 개의 상이한 조명 영역 각각은 상이한 조명 특성을 얻기 위한 광학 구조를 지니고, 상기 상이한 조명 특성은 상기 레티클상의 복수 개의 상이한 패턴 영역에 정합됨으로써, 감광 기판의 노광이 최적화되는 것을 특징으로 하는 최적화된 이미징 장치.
제12항에 있어서, 상기 복수 개의 상이한 조명 영역은 마이크로렌즈 어레이에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 최적화된 이미징 장치.
제12항에 있어서, 상기 복수 개의 상이한 조명 영역은 회절 광학소자에 의해 형성되는 것을 특징으로 하는 최적화된 이미징 장치.
제12항에 있어서, 상기 조명 특성은 간섭성을 포함하는 것을 특징으로 하는 최적화된 이미징 장치.
제12항에 있어서, 상기 조명 특성은 필 형상을 포함하는 것을 특징으로 하는 최적화된 이미징 장치.
제14항에 있어서, 상기 마이크로렌즈 어레이는 육방 최밀 구조의 포물선 렌즈, 원추형 렌즈, 및 각추형 렌즈를 포함하는 것을 특징으로 하는 최적화된 이미징 장치.
조명 광원, 광학소자, 레티클, 및 투영 광학기기를 포함하는, 감광 기판상에 이미지를 투영하는 데 사용되는 포토리소그래피 장치에 있어서, 상기 광학소자는 상부에 복수 개의 상이한 조명 영역을 지니며, 상기 복수 개의 상이한 조명 영역 각각은 상이한 조명 특성을 얻기 위한 광학 구조를 지니고, 상기 레티클은 복수 개의 상이한 패턴 영역을 지니며, 상기 복수 개의 상이한 패턴 영역 각각은 재생될 상이한 주요 형상 패턴을 지니고, 상기 복수 개의 상이한 조명 영역 각각은 상기 복수 개의 상이한 주요 형상 패턴 중 하나의 상이한 주요 형상 패턴에 정합되며, 상기 투영 광학기기에 의해 조명 광원으로부터의 전자기 방사광이 감광 기판상에 투사됨으로써, 상이한 조명 패턴을 레티클에 정합시켜 감광 기판의 노광이 최적화되는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 장치.
제18항에 있어서, 상기 광학소자는 마이크로렌즈 어레이인 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 장치.
제18항에 있어서, 상기 광학소자는 회절 광학소자인 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 장치.
제18항에 있어서, 상기 조명 특성은 간섭성을 포함하는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 장치.
제18항에 있어서, 상기 조명 특성은 필 형상을 포함하는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 장치.
제19항에 있어서, 상기 마이크로렌즈 어레이는 육방 최밀 구조의 포물선 렌즈, 원추형 렌즈, 및 각추형 렌즈를 포함하는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 장치.
조명 수단, 광학소자 수단, 레티클 수단, 및 투영 광학기기 수단을 포함하는 전자 디바이스 제조용 포토리소그래피 장치에 있어서, 상기 조명 수단에 의해 전자기 방사광이 발생되며, 상기 광학소자 수단은 상이한 조명 특성을 갖는 복수 개의 상이한 조명 영역을 얻기 위해 상기 전자기 방사광을 수광하도록 배치되고, 상기 레티클 수단은 복수 개의 상이한 형상 패턴 영역을 감광 기판상에 투영시키도록 상기 광학소자 수단에 인접 배치되며, 상기 투영 광학기기 수단은 상기 레티클 수단의 이미지를 상기 감광 기판상에 투영시키기 위해 상기 레티클 수단을 통과한 전자기 방사광을 수광하도록 배치되고, 상기 복수 개의 상이한 조명 영역이 상기 복수개의 상이한 형상 패턴 영역에 공간적으로 정합됨으로써, 감광 기판의 노광이 최적화되는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 장치.
조명 수단, 광학소자 수단, 및 투영 광학기기 수단을 포함하는 전자 디바이스 제조용 포토리소그래피 장치에 있어서, 상기 조명 수단에 의해 전자기 방사광이 발생되며, 상기 광학소자 수단은 레티클상의 상이한 미리 결정된 공간 위치에서 복수 개의 상이한 필 형상에 상이한 조명 특성을 제공하기 위해 상기 전자기 방사광을 수광하도록 배치되고, 상기 투영 광학기기 수단은 상기 레티클의 이미지를 감광기판상에 투영하기 위해 상기 레티클을 통과한 전자기 방사광을 수광하도록 배치되며, 상기 복수 개의 상이한 필 형상에 의해 상기 투영 광학기기 수단에서의 불완전성이 보완됨으로써, 감광 기판의 노광이 최적화되는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 장치
조명 광원 및 광학소자를 포함하는, 감광 기판을 노광시키기 위한 포토리소그래피용 조명 장치에 있어서, 상기 조명 광원에 의해 균일한 조명 필드를 갖는 전자기 방사광이 발생되며, 상기 광학소자는 상기 조명 광원으로부터의 전자기 방사광을 수광하도록 배치되고, 상기 광학소자는 복수 개의 공간 분리 영역을 지니며, 상기 전자기 방사광이 상기 복수 개의 공간 분리 영역을 통과함에 따라 상기 복수개의 공간 분리 영역에 의해 상기 전자기 방사광의 상이한 미리 결정된 각도 분포가 얻어지고, 상기 미리 결정된 각도 분포는 감광 레지스트로 도포된 웨이퍼상에 레티클의 이미지를 투영하는 데 사용되는 투영 광학기기에 존재하는 불완전성을 보완하도록 선택되며, 상기 전자기 방사광의 상이한 미리 결정된 각도 분포는 상기 레티클상에 공간적으로 분포되는 것을 특징으로 하는 조명 장치.
조명 광원, 레티클, 불완전성을 띠는 투영 광학기기, 및 광학소자 수단을 포함하는 포토리소그래피 장치에 있어서, 상기 투영 광학기기는 상기 레티클 및 감광레지스트로 도포된 웨이퍼 사이에 배치되며, 상기 광학소자 수단은 상기 레티클상에 공간적으로 분포된 상이한 원추형 조명을 제공하여 상기 투영 광학기기의 불완전성을 보완하도록 상기 조명 광원 및 상기 레티클 사이에 배치됨으로써, 레티클상의 패턴 재생이 개선되는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 장치.
조명 광원, 불완전한 위치를 갖는 투영 광학기기, 어레이 광학소자, 및 스테이지를 포함하는 포토리소그래피 장치에 있어서, 상기 조명 광원에 의해 길이 방향을 갖는 직사각형의 조명 필드가 형성되며, 상기 어레이 광학소자는 상기 조명 장치와 상기 투영 광학기기 사이에 배치되고, 상기 어레이 광학소자에 의해 상기 직사각형의 조명 필드의 조명 특성이 길이 방향으로 변경되어 상기 투영 광학기기의 불완전한 위치가 보완됨으로써, 직사각형의 조명 필드가 스캐닝되게 하여 감광 기판에 레티클의 이미지를 노장시키는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 장치.
조명 광원(12), 레티클(16), 불완전성을 띠는 투영 광학기기(18), 및 광학소자 수단(14)을 포함하는 포토리소그래피 장치에 있어서, 상기 투영 광학기기(18)는 상기 레티클(16) 및 감광 레지스트로 도포된 웨이퍼(20) 사이에 배치되며, 상기 광학소자 수단(14)은 필 형상(15,17)을 변형하여 상기 투영 광학기기(18 )의 불완전성을 보완하도록 상기 조명 광원(12) 및 상기 레티클(16) 사이에 배치됨으로써, 상기 레티클상의 패턴 재생이 개선되는 것을 특징으로 하는 포토리소그래피 장치.