JP3077307B2 - 露光用照明装置 - Google Patents

露光用照明装置

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JP3077307B2 JP03271502A JP27150291A JP3077307B2 JP 3077307 B2 JP3077307 B2 JP 3077307B2 JP 03271502 A JP03271502 A JP 03271502A JP 27150291 A JP27150291 A JP 27150291A JP 3077307 B2 JP3077307 B2 JP 3077307B2
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学 冨永
裕之 田中
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    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems
    • G03F7/70091Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane or angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole or quadrupole settings; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は露光用照明装置に係り,
特に投影露光装置用の照明光学系に関する。近年,半導
体装置の高集積化に伴い,位相シフトマスクやフレック
ス法等のパターン微細化技術において,投影露光装置の
空間的干渉度(σ値)が可変となるような照明系が要求
されている。
【0002】
【従来の技術】従来の投影露光装置用の照明光学系は,
装置メーカにより多少の相違があるが,σ値は 0.5〜0.
6 の間の一定値を有するものであった。
【0003】図5は従来例による照明光学系の構成図で
ある。図において,1は楕円鏡,2はコリメータレン
ズ,3はエタロン等の波長選択フィルタ,4は光束変更
レンズ,5はフライアイレンズ群,6はσ絞り,7はコ
ンデンサレンズ,8はレチクル,9は投影光学系,10は
投影光学系の瞳, 11はウエハである。
【0004】フライアイレンズ群5は光源像内の照明の
均一性を向上するために用いられる複眼レンズである。
また, , は楕円鏡1の2つの焦点の位置で,は水
銀灯等の光源位置,はフライアイレンズへの入射位
置,はσ絞り位置(フライアイレンズの出射位置),
はレチクルの位置,は投影光学系の入射瞳の位置で
ある。
【0005】この場合,物体と像の関係は,次の4つの
共役関係を持つ。 (1) 水銀灯発光点と焦点 (2) 焦点とσ絞り位置 (3) σ絞り位置と入射瞳位置 (4) フライアイレンズへの入射位置とレチクル面 次に,σ値と解像力の一般的な関係について説明する。
【0006】σ値はσ絞りの半径rと入射瞳の半径Rの
比で表される,すなわち, σ=r/R. ここで,rはレチクルのパターンにσ絞りより光が照射
された場合,投影光学系9のFourier 変換レンズで変換
された光のスペクトルの0次の光の幅を表し,光源像の
大きさに対応している。
【0007】ここで入射瞳の開口数(NA)が小さいと,0
次光のみ含むため解像度が落ち,開口数が大きいと高次
の光まで含まれるため光の解像度は増す。一般にレンズ
の解像力Re は,光の波長をλ,開口数をNAとすると, Re =Kλ/NA. で表される。ここにKは定数で例えば0.8 である。
【0008】いま,NA=0.54, λ=0.365 μm(i線) と
すると, Re =0.54μmとなる。パターンが細かくなる
ほど, 入射瞳面上のスペクトルの間隔は広がり, 入射瞳
内に高次の光が含まれなくなるため,σ値を小さくする
必要がある。
【0009】この後,Fourier 変換された光は投影光学
系9で逆Fourier 変換されてウエハ11上に照射される。
図6は従来のフライアイレンズとσ絞りの平面図であ
る。
【0010】図において,斜線部がσ絞り6で,フライ
アイレンズ群5は断面が正方形の個々のフライアイレン
ズで構成される。σ絞り6は,σ値が 0.5〜0.6 の間で
一定値となるような円形の開口を有している。この開口
に大きさ一定の個々のフライアイレンズが集束されて構
成されている。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】従来技術では,おおよ
そσ値が一定であるため可変σ技術を用いなければなら
ない微細化技術に対応することができなかった。また,
仮にσ値を変えようとすると,従来はσ絞りの開口径を
変えるだけでフライアイレンズの大きさは一定であった
ため,開口径を小さくした場合開口内のフライアイレン
ズの数は減り,その結果照明の均一性が不十分であっ
た。
【0012】本発明は,σ値を可変にする際に,σ絞り
の開口径を小さくする場合に照明の均一性が阻害されな
いようにし,且つσ値の変更が容易に行えることを目的
とする。
【0013】
【課題を解決するための手段】上記課題の解決は,1)
照明系の空間的干渉度(σ値)を決定するσ絞りと,該
σ絞りの開口部に集束して配列されたフライアイレンズ
群との組を複数組有し,開口径の小さいσ絞りに対する
個々のフライアイレンズの断面は,開口径の大きいσ絞
りに対する個々のフライアイレンズの断面より小さい露
光用照明装置,あるいは2)前記σ絞りとフライアイレ
ンズ群との組が複数組円周上に配列され,且つ各組が照
明装置の光軸と一致するように所定量だけ移動できる前
記1)記載の露光用照明装置,あるいは3)前記σ絞り
とフライアイレンズ群との組が複数組直線上に配列さ
れ,且つ各組が照明装置の光軸と一致するように所定量
だけ移動できる前記1)記載の露光用照明装置により達
成される。
【0014】
【作用】本発明はσ値を可変にする際,開口径の小さい
σ絞りに対する個々のフライアイレンズの断面を,開口
径の大きいσ絞りに対する個々のフライアイレンズの断
面より小さくし, フライアイレンズの実効数を多くする
(例えば10個以上) ことにより,照明の均一性を得るよ
うにしたものである。
【0015】
【実施例】図1(A),(B) は本発明の実施例1の平面図で
ある。図において,斜線部がσ絞り6で,フライアイレ
ンズ群5は断面が正方形の個々のフライアイレンズで構
成される。
【0016】この場合, σ絞り6の円形開口が小さい図
1(A) においては,個々のフライアイレンズを小さくす
る。また,逆にσ絞り6の円形開口が大きい図1(B) に
おいては,個々のフライアイレンズを大きくする。
【0017】σ絞りの半径をr,フライアイレンズの断
面(正方形)の一辺をaとすると,フライアイレンズの
実効的な数Nは N=πr2 /a2 . で表され,照明の均一性を保つためにはN>10が望まし
い。
【0018】次に, 図2を用いて,σの可変範囲を決定
する条件について述べる。 σ=r/R=sin θc /sin θor, いま, 投影倍率を1/M=1/5, ウエハ側から見た投
影光学系の開口数, 即ち sin θowを0.5 とすると, sin θor=(1/M)sin θow σ=0.2 〜0.7 をカバーするためには, sin θc =0.02〜0.07 にすればよい。
【0019】図3は本発明の実施例2の平面図である。
この例は,可変σ値を得るために,実施例1により最適
化された個々のフライアイレンズ群とσ絞りの組が回転
軸の回りに配置された照明光学系である。
【0020】回転円板は,σ=0.2, 0.3, ・・・0.7 の
開口と, 開口径にほぼ比例した断面のフライアイレンズ
群とから構成される。各開口に対応するピンホールは,
フライアイレンズ群とσ絞りの組が駆動可能な機構を有
し, 且つ光軸と一致するように所定量だけ移動させる際
のセンサとして用いられる。
【0021】図4は本発明の実施例3の平面図である。
この例は,可変σ値を得るために,実施例1により最適
化された個々のフライアイレンズ群とσ絞りの組が直線
状に配置された照明光学系である。
【0022】実施例3,4によりσ値の変更が簡単にで
きるようになった。
【0023】
【発明の効果】本発明によれぱ,σ絞りの開口径を小さ
くするとき照明の均一性が阻害されることなくσ値を可
変でき,且つσ値の変更が容易に行えるようになった。
【0024】この結果,投影露光プロセスの微細化に寄
与することができた。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の実施例1の平面図
【図2】 σの可変範囲を決定する条件の説明図
【図3】 本発明の実施例2の平面図
【図4】 本発明の実施例3の平面図
【図5】 従来例による照明光学系の構成図
【図6】 従来のフライアイレンズとσ絞りの平面図
【符号の説明】
1 楕円鏡 2 コリメータレンズ 3 波長選択フィルタ 4 光束変更レンズ 5 フライアイレンズ群 6 σ絞り 7 コンデンサレンズ 8 レチクル 9 投影光学系 10 投影光学系の瞳 11 ウエハ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭59−155843(JP,A) 特開 平3−180019(JP,A) 特開 平3−165023(JP,A) 特開 平2−33913(JP,A) 特開 平4−305601(JP,A) 特開 平6−45217(JP,A) 実開 昭58−144831(JP,U) (58)調査した分野(Int.Cl.7,DB名) H01L 21/027 G03F 7/20 521

Claims (3)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 照明系の空間的干渉度(σ値)を決定す
    るσ絞りと,該σ絞りの開口部に集束して配列されたフ
    ライアイレンズ群との組を複数組有し,開口径の小さい
    σ絞りに対する個々のフライアイレンズの断面は,開口
    径の大きいσ絞りに対する個々のフライアイレンズの断
    面より小さいことを特徴とする露光用照明装置。
  2. 【請求項2】 前記σ絞りとフライアイレンズ群との組
    が複数組円周上に配列され,且つ各組が照明装置の光軸
    と一致するように所定量だけ移動できることを特徴とす
    る請求項1記載の露光用照明装置。
  3. 【請求項3】 前記σ絞りとフライアイレンズ群との組
    が複数組直線上に配列され,且つ各組が照明装置の光軸
    と一致するように所定量だけ移動できることを特徴とす
    る請求項1記載の露光用照明装置。
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