KR0168667B1

KR0168667B1 - 감열성 기록물질

Info

Publication number: KR0168667B1
Application number: KR1019910018920A
Authority: KR
Inventors: 가즈오 와다나베; 도사꾸 오까모또
Original assignee: 히가키 다이지; 신오지 세이시 가부시키가이샤
Priority date: 1990-10-25
Filing date: 1991-10-25
Publication date: 1999-01-15
Also published as: EP0482668A1; DE69100227T2; KR920007835A; DE69100227D1; EP0482668B1; US5187143A

Abstract

본 발명은 기판위에 형성되어있고 무색 또는 담색염기성염료 및 발색제를 함유하는 기록층을 갖고있는 감열성 기록물질을 제공하는데, 이 감열성 기록물질은 발색제가 테레프탈알데히드산의 아연염 또는 테레프탈알데히드산과 기타 방향족 카르복실산의 복합아연염인 것이 그 특징이다.

Description

감열성 기록물질

본 발명은 감열성기록물질(heat sensitive recording material)에 관한 것으로, 보다 상세히 말하면 배경안개를 줄이고 기록상(record image)의 보존이 우수하며, 특히 오일, 가소제 및 용제에 대한 내성이 우수하며 고 기록감도를 갖는 감열성기록물질에 대한 것이다.

무색 또는 엷은색 염기성 염료와 감열헤드 등의 열에너지를 이용하여 색을 내는 발색제를 내포하는 감열성 기록물질은 이미 공지되어 있다. 그러한 감열성 기록물질은 비교적 저렴하며, 소형이어서 유지가 비교적 용이한 기록장치에 사용하는데 알맞아서 팩시밀리 시스템 및 여러 컴퓨터용 기록매체로서 또 감열성 라벨 등의 용도로서 광범위하게 사용되어 오고 있다.

최근에 감열식 팩시밀리시스템은 A₄크기에서는 10초까지의 기록속도에서 작동가능하며 감열식프린터는 120문자/초 이상에서 작동가능하여, 종전보다 더 높은 감열성기록물질의 감도를 필요로 한다.

또 소매업에서 노동력을 줄일 의도로 예기된 POS(point of sales)시스템의 폭넓은 사용으로 감열성기록라벨의 사용이 점차 증가하고 있다.

그러나, 비스페놀 A 등의 페놀성 발색제가 사용되는 통상의 감열성 기록물질은 예컨대 사람피부의 지방, 용제 또는 가소제가 기록층에 접촉하게 될 때 소위 배경안개현상(backgrund fogging)이라 일컫는 불필요한 색을 형성하거나 밀도가 크게 줄어든 기록상을 만드는 단점을 지니고 있다.

또 감열성 기록라벨은 통상 염화비닐리덴계 필름 등의 래핑필름에 부착되어 작용되므로 래핑필름에 내포된 가소제의 영향으로 인해 매우 빨리 기록밀도를 낮추는 단점을 지니고 있다. 이들 단점을 해소하기 위하여 기록층 위에 보호층의 제공, 기록층에 보존성 개선제의 부가 및 새로운 발색제 사용 등의 다양한 방법이 제안되어 왔다. 그럼에도 불구하고, 그러한 방법들은 또 다른 단점을 지니거나 충분히 만족스러운 효과를 항상 달성시키지는 못하여서 새로운 개선안이 열망되어 왔다.

본 발명의 목적은 온도, 습도, 알코올 등의 영향으로 인한 배경안개에 영향을 받지않으며, 습도, 오일, 지방, 용제, 가소제 등에 의해 영향을 받을 때 조차도 기록상의 변색에 대해 내성이 있으며 기록강도가 우수한 감열성기록물질을 제공하는 것이다.

본 발명의 상기 목적 및 기타 목적들은 다음 설명으로 부터 명백하게 될 것이다.

본 발명은 기판에 형성된 기록층을 가지며 무색 또는 옅은 색의 염기성 염료와 발색제를 함유하는 감열성기록물질을 제공하며, 본 감열성기록물질은 발색제가 테레프탈알데히드산의 아연염 또는 테레프탈알데히드산 및 기타 방향족 카르복실산의 복합아연염으로 이루어지는데 특징이 있다.

본 발명자들은 감열성기록물질에 대해 연구를 진행하여온 바, 테레프탈알데히드산의 아연염 또는 테레프탈알데히드산 및 기타 방향족 카르복실산의 복합아연염이 발색제로서 사용될 때 기록물질은 기록감도가 개선됨은 물론 기록상이 보존성도 개선됨을 알게되었다.

그래서 본 발명을 완성하게 되었다.

데레프탈알데히드산은 다음 일반식으로 표시된 화합물이다.

본 발명에서 테레프탈알데히드산의 아연염은 다음 일반식으로 표시된다.

데레프탈알데히드산의 아연염을 제조하는 방법은 특히 제한되지는 않으나, 예를들면 상기 염은 테레프탈알데히드산의 나트륨염과 황산아연 등의 수용성아연염은 반응하거나 테레프탈알데히드산과 산화아연 등의 아연화합물을 동시에 습식법으로 분쇄함으로써 제조될 수 있다.

본 발명에서는 기록상의 보존성이 보다 우수하고, 특히 기록감도가 높으며 저에너지에서 기록될때조차도 기록밀도가 충분한 감열성기록물질이 얻어질 수 있으므로 테레프탈알데히드산 및 기타 방향족 카르복실산의 복합아연염이 사용되는 것이 바람직하다.

본 발명에서, 테레프탈알데히드산 및 기타 방향족 카르복실산의 복합아연염은 데레프탈알데히드산 분자가 아연원자를 통하여 다른 방향족 카르복실산 분자에 결합되는 염이다. 이 복합염은 테레프탈산의 아연염과 기타 방향족 카르복실산의 아연염의 단순한 혼합물과는 다르며, 단순한 혼합물에 비하여 상술한 우수한 효과를 발휘한다.

기타 방향족 카르복실산의 실례에는 벤조산유도체, 나프토산유도체, 프탈산유도체, 프탈람산유도체, o-벤조일벤조산유도체, 살리실산유도체등이 있다.

이러한 산들의 보다 구체적인 실례는 다음과 같다.

이들 실례는 한정되지 않으며 적어도 두 방향족 카르복실산이 조합하여 사용될 수도 있다.

벤조산, o-톨루산, p-톨루산, m-톨루산, o-클로로벤조산, p-클로로벤조산, o-브로모벤조산, p-브로모벤조산, 2,4-디클로로벤조산, 3,4-디클로로벤조산, 3,5-디클로로벤조산, 2,6-디클로로벤조산, o-니트로벤조산, p-니트로벤조산, 2,4-디니트로벤조산, 3,4-디니트로벤조산, 3,5-디니트로벤조산, 2,6-디니트로벤조산, 2-클로로-4-니트로벤조산, 2-클로로-5-니트로벤조산, 4-클로로-2-니트로벤조산, 4-클로로-3-니트로벤조산, m-히드록시벤조산, p-히드록시벤조산, 2,4-히드록시벤조산, 3.4-디히드록시벤조산, 3,5-디히드록시벤조산, 갈산, p-시아노벤조산, m-트리플루오로메틸벤조산, 2,4-디메틸벤조산, 3,4-디메틸벤조산, 3,5-디메틸벤조산, o-에톡시벤조산, p-에톡시벤조산, 3,5-디메톡시벤조산, p-n-프로폭시벤조산, 3,4,5-트리메톡시벤조산, p-페녹시벤조산, o-페닐벤조산, p-페닐벤조산, o-쿠밀벤조산, p-쿠밀벤조산, 2,4-디쿠밀벤조산, 4,6-디쿠밀벤조산, p-아세틸벤조산, 2-시클로헥실벤조산, 4-(2-페녹시에톡시)벤조산, 2-에톡시메틸4-(p-클로로페녹시) 벤조산, 2-벤질벤조산, 4-(p-메틸벤질옥시)벤조산 등의 벤조산 유도체.

1-나프토산, 2-나프토산, 1-히드록시-2-나프토산, 2-히드록시-1-나프토산, 2-히드록시-3-나프토산 등의 나프토신 유도체.

프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 3-니트로프탈산, 4-니트로프탈산, 4-클로로프탈산, 4-브로모탈산, 4,5-디클로로프탈산, 3.6-디클로로프탈산, 테트라클로로프탈산, 테트라브로모프탈산, 3,6-디브로모-4,5-디클로로프탈산 등의 프탈산유도체.

상기 프탈산 등의 모노메틸에스테르, 모노에틸에스테르, 모노프로필에스테르, 모노부틸에스테르, 모노스테아릴에스테르, 모노벤질에스테르, 모노-p-클로로벤질에스테르, 모노-p-메틸페닐에스테르, 모노-2,4-디메틸페닐에스테르, 모노-p-클로로페닐에스테르, 모노-m-메톡시페닐에스테르, 모노-p-메톡시페닐에스테르, 모노-m-에톡시페닐에스테르, 모노-p-에톡시페닐에스테르, 모노-1-나프틸에스테르, 모노-2-나프틸에스테르, 모노시클로헥실에스테르, 모노-2-메틸시클로헥실에스테르, 모노-3메틸시클로헥실에스테르, 모노-2-히드록시에틸에스테르, 모노-2-히드록시부틸에스테르, 모도-2-히드록시-1-메틸프로필에스테르, 모노-4-히드록시부틸에스테르, 모노-2,3-디히드록시프로필에스테르, 모노-2-(2-히드록시에톡시) 에틸에스테르, 모노-p-메틸벤질에스테르 또는 프탈산모노에스테르 유도체.

프탈아미드산, 3-클로로프탈아미드산, 4-클로로프탈아미드산, 4-브로모프탈아미드산, 4,5-디클로로프탈아미드산, 3,6-디클로로프탈아미드산, 테트라클로로프탈아미드산, 테트라브로모프탈아미드산, 3,6-디브로모-4,5-디클로로프탈아미드산 등 또는 프탈아미드산 유도체 그리고 이들 프탈산 유도체의 N-치환 유도체, 예컨대 N-메틸, N-에틸, N-부틸, N-시클로헥실, N-벤질, N-p-클로로벤질, N-p-메틸벤질, N-페닐, N-1-나프틸, N-2-나프틸, N,N-디에틸, N-메틸-N-벤질, N,N-펜타메틸렌 유도체 등 프탈산 유도체.

2-벤조일벤조산, 2-(4'-메틸벤조일) 벤조산, 2-(2'-히드록시-5'메틸벤조일) 벤조산, 2-(4'-히드록시벤조일)벤조산, 2-(2'-히드록시벤조일)벤조산, 2-(3'-메틸-4'-히드록시벤조일)벤조산, 2-(2'-히드록시-5'-tert-부틸벤조일)벤조산, 2-(2'-히드로시-5'-tert-옥틸벤조일)벤조산, 2-(2'-히드록시-5'-시클로헥실벤조일) 벤조산, 2-(2',4'-디히드록시벤조일)벤조산, 2-(2'-히드록시-5'-페닐벤조일)벤조산, 2-(4'-시클로헥실벤조일)벤조산, 2-(4'-페닐벤조일)벤조산, 2-(4'-클로로벤조일)벤조산, 2-(2',4'-디클로로벤조일)벤조산, 2-(2'-히드록시-5'-클로로벤조일)벤조산, 2-(3'메틸-4'-히드록시벤조일)벤조산, 2-(4'-브로모벤조일)벤조산 등 오르토 벤조일벤조산 유도체.

5-tert-옥틸살리실산, 3,5-디-tert-부틸살리실산, 3-클로로-5-큐밀살리실산, 3-메틸-5-tert-옥틸살리실산, 3-메틸-5-α-메틸벤질살리실산, 3-메틸-5-큐밀살리실산, 3,5-디-tert-아밀살리실산, 3-페닐-5-벤질살리실산, 3-페닐-5-tert-옥틸살리실산, 3-페닐-5-α-메틸벤질살리실산, 3,5-디-tert-옥틸살리실산, 3,5-디(α-메틸벤질)살리실산, 3,5-디큐밀살리실산, 4-메틸-5-(α-메틸벤질)살리실산, 4-메틸-5-큐밀살리실산, 3-(α-메틸벤질)-6-메틸살리실산, 3-(α-메틸벤질)-6-페닐살리실산, 3-트리페닐메틸살리실산, 3-디페닐메틸살리실산, 4-n-도데실살리실산, 4-tert-도데실살리실산, 4-n-펜타데실살리실산, 4-n-헵타데실살리실산, 5-(1,3-디페닐부틸)살리실산, 5-n-옥타데실살리실산, 5-도데실술포닐살리실산, 5-도데실술포살리실산, 3-메틸-5-도실술포살리실산 등 살리실산 유도체.

상기 방향족 카르복실산 중에서, 바람직한 것은 벤조산 유도체, 프탈산 유도체와 오르토 벤조일벤조산 유도체이다.

특히 바람직한 것은 이소프탈산 유도체. 하기식(I)의 벤조산 유도체 및 하기식(Ⅱ)의 오르토 벤조일벤조산 유도체이고 더욱 바람직한 것은 더 우수한 효과를 제공하는 이소프탈산, p-톨루산 및 2-(4'-클로로벤조일)벤조산이다.

상기 식에서 R₁, R₂및 R₃는 각각 수소원자, 할로겐원자, C_1~4알킬 또는 C_1~4알콕실이다.

상기 식에서 R₄및 R₅는 각각 수소원자, 할로겐원자 또는 C_1~4알킬이다.

본 발명의 복합 아연염이 테레프탈알데히드산 및 다른 방향족 카르복실산의 비율에 제한되지는 않지만, 테레프탈알데히드산의 당량당 다른 방향족 카르복실산을 0.5 내지 2 당량 사용하는 것이 바람직하고 1당량 사용하는 것이 더 바람직하다. 예컨대 테레프탈알데히드산의 당량당 방향족 카르복실산을 1당량 사용한다는 표현은 방향족 카르복실산의 분자내에 카르복실기가 1개이면 방향족 카르복실산을 1몰 사용하고 이 산의 분자에 카르복실기가 2개이면 0.5몰의 방향족 카르복실산을 사용한다는 것을 의미한다.

테레프탈알데히드산의 복합 아연염 및 다른 방향족 카르복실산은, 예컨대 (1) 물 또는 물과 유기용매의 혼합물중에서 테레프탈알데히드산의 알칼리금속염, 다른 방향족 카르복실산의 알칼리 금속염 및 아연 화합물을 반응시키거나 (2) 테레프탈알데히드산, 다른 방향족 카르복실산 및 아연화합물을 습윤법에 의하여 동시에 분쇄함으로써 제조될 수 있다.

1의 방법은 제조공정상 약간의 난점은 있지만 수율 및 아연염의 순도의 관점에서 유리하고, 그의 방법은 극히 용이하게 복합 아연염을 제조한다는 장점이 있으나 수율 및 아연염의 순도의 관점에서는 불리하다.

1의 방법에서 사용되는 유기용매는 물에 대한 용해도가 낮고 얻어지는 복합 아연염을 높은 정도로 용해시킬 수 있는 것이 바람직하다.

그러한 용매의 예에는 방향족 화합물, 할라이드 및 에스테르 화합물, 더 특정하면 톨루엔, 크실렌, 트리클렌, 에틸 아세테이트 등의 있다.

복합 아연염의 제조에 이용되는 아연 화합물은 산화아연, 수산화아연, 탄산아연, 황산아연, 염화아연 등이 될 수 있다.

1의 방법을 사용할 때는 황산아연 또는 염화아연이 특히 바람직하고 2의 방법을 사용할때는 산화아연이 특히 바람직하다.

사용되는 아연 화합물의 양이 특히 제한되지는 않지만 테레프탈알데히드산 및 다른 방향족 카르복실산 양자 모두의 카르복실기와 거의 대등한 것이 바람직하다.

본 발명에서, 테레프탈알데히드산 및 다른 방향족 카르복실산의 복합 아연염은 부산물로서 소량의 테레프탈알데히드산의 아연염 및/ 또는 다른 방향족 카르복실산의 아연염을 포함할 수 있고 복합염이 주성분으로 있는 한 소망하는 효과를 충분히 제공한다.

본 발명의 감열성 기록물질에 있어서, 감열성 기록층에 포함되는 무색 또는 담색의 기제 염료로 알려진 염료가 많이 있다.

트리아릴메탄-기제 염료에는, 예컨대 3,3-비스(p-디메틸아미노페닐)-6-디메틸아미노프탈리드, 3,3-비스(p-디메틸아미노페닐) 프탈리드, 3-(4-디메틸아미노페닐)-3-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)-6-디메틸아미노프탈리드, 3-(p-디메틸아미노페닐-3-(1,2-디메틸인돌-3-일)프탈리드, 3-(p-디메틸아미노페닐)-3-(2-메틸인돌-3-일)프탈리드, 3,3-비스(1,2-디메틸인돌-3-일)-5-디메틸아미노프탈리드, 3,3-비스(1,2-디메틸인돌-3-일)-6-디메틸아미노프탈리드, 3,3-비스(9-에틸카르바졸-3-일)-6-디메틸아미노프탈리드, 3,3-비스(2-페닐인돌-3-일)-6-디메틸아미노프탈리드, 3-(p-디메틸아미노페닐)-3-(1-메틸피롤-3-일)-6-디메틸아미노프탈리드, 3-(p-디벤질아미노페닐)3-(1,2-디메틸인돌-3-일)-7-아자프탈리드, 3-(4-디에틸아미노-2-에톡시페닐)-3-(1-에틸-2-메틸인돌-3-일)-7-아자프탈리드, 3,3-비스(1-에틸-2-메틸인돌-3-일)프탈리드, N-부틸-3-{비스[4-(N-메틸아닐리노) 페닐] 메틸}카르바졸 등이 있다.

디페닐메탄-기제 염료에는 예컨대 4,4'-비스(디메틸아미노) 벤즈히드릴벤질에테르, N-할로페닐-루코아우르아민, N-2,4,5-트리클로로페닐-루코아우르아민, 4-4'-비스(디메틸아미노) 벤즈히드릴-p-톨루엔술핀산 에스테르 등이 있다.

디비닐프탈리드-기제 염료에는 예컨대, 3,3-비스[1,1-비스(4-피롤인돌페닐)에틸렌-2-일]4,5,6,7-테트라브로모프탈리드, 3,3-비스[1-(4-메톡시페닐)-1-(4-디메틸아미노페닐) 에틸렌-2-일]-4,5,6,7-테트라클로로프탈리드, 3,3-비스[1-(4-메톡시페닐)-1-(4-피롤리디노페닐) 에틸렌-2-일]-4,5,6,7-테트라클로로프탈리드 등이 있다.

티아진-기제 염료에는 예컨대 3,7-비스(디에틸아미노)-10-벤조일페녹사진, 벤조일-루코메틸렌블루, p-니트로벤조일-루코메틸렌블루 등이 있다.

스로로-기제 염료에는 예컨대 3-메틸-스피로-디나프로피란, 3-에틸-스피로-디나프토피란, 3-페닐-스피로-디나프토피란, 3-벤질-스피로-디나프토피란, 3-메틸-나프토(6'-메톡시벤조) 스피로피란, 3-프로필-스피로-디벤조피란, 디-β-나프토스피로리란, 3-메틸-디-β-나프토스피로피란 등이 있다.

락탐-기제 염료에는 예컨대 로드아민-B-아닐리노락탐, 로드아민(p-니트로아닐리노) 락탐, 로드아민(o-클로로아닐리노) 락탐 등이 있다.

플루오란-기제 염료에는 예컨대 3-디에틸아미노-6-메틸플루오란, 3-디메틸아미노-7-메톡시플루오란, 3-디에틸아미노-6-메톡시플루오란, 3-디에틸아미노-7-메톡시플루오란, 3-디에틸아미노-7-클로로플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-클로로플루오란, 3-디에틸아미노-6,7-디메틸플루오란, 3-(N-에틸-p-톨루이디노)-7-메틸플루오란, 3-디에틸아미노-7-(N-아세틸-N-메틸아미노) 플루오란, 3-디에틸아미노-7-N-메탈아미노플루오란, 3-디에틸아미노-7-디벤질아미노플루오란, 3-디에틸아미노-7-(N-메틸-N-벤질아미노) 플루오란, 3-디에틸아미노-7-(N-β-클로로에틸-N-메틸아미노) 플루오란, 3-디에틸아미노-7-디에틸아미노플루오란, 4-벤질아미노-8-디에틸아미노벤조[a]플루오란, 3-[4-(4-디메틸아미노아닐리노) 아닐리노]-7-클로로-6-메틸플루오란, 8-[4-(4-디메틸아미노아닐리노) 아닐리노] 벤조[a]플루오란, 3-(N-에틸-p-플루이디노)-6-메틸-7-페닐아미노플루오란, 3-(N-에틸-p-톨루이디노)-6-메틸-7-(p-톨루이디노) 플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-페닐아미노플루오란, 3-디메틸아미노-6-메틸-7-페닐아미노플루오란, 3-디(n-부틸) 아미노-6-메틸-7-페닐아미노플루오란, 3-디(n-펜틸) 아미노-6-메틸-7-페닐아미노플루오란, 3-디에틸아미노-7-(2-카르보메톡시페닐아미노) 플루오란, 3-(N-에틸-N-이소아밀아미노)-6-메틸-7-페닐아미노플루오란, 3-(N-시클로헥실-N-메틸아미노)-6-메틸-7-페닐아미노플루오란, 3-피롤리디노-6-메틸-7-페닐아미노플루오란, 3-피페리디노-6-메틸-7-페닐아미노플루오란, 3-피페리디노-6-메틸-7-페닐아미노플루오란, 3-디에틸아미노-6-메틸-7-크실리디노플루오란, 3-디에틸아미노-7-(o-클로로페닐아미노) 플루오란, 3-디(n-부틸) 아미노-7-(o-클로로페닐아미노) 플루오란, 3-(N-에틸-N-테트라히드로푸르푸릴아미노)-6-메틸-7-페닐아미노플루오란, 3-(N-메틸-N-프로필아미노)-6-메틸-7-페닐아미노플루오란, 3-리롤리디노-6-메틸-7-p-부틸페닐아미노플루오란, 3-(N-에틸-N-이소부틸아미노)-6-메틸-7-페닐아니모플루오란, 3-(N-메일-N-n-헥실아미노)-6-메틸-7-페닐아미노플루오란, 3-(N-에틸-N-n-헥실아미노)-6-메틸-7-페닐아미노플루오란, 3-(N-에틸-N-시클로펜틸아미노)-6-메틸-7-페닐아미노플루오란, 3-[N-(3-에톡시프로필)-N-메틸아미노]-6-메틸-7-페닐아미노플루오란, 3-[N-에틸-N-(3-에톡시프로필) 아미노]-6-메틸-7-페닐아미노플루오란, 3-디에틸아미노-7-[m-(트리폴루오로메틸) 페닐아미노] 플루오란, 3-디에틸아미노-7-(o-플루오로페닐아미노) 플루오란, 3-디(n-부틸) 아미노-7-(o-플루오로페닐아미노) 플루오란, 3-디에틸아미노-6-클로로-7-페닐아미노플루오란 등이 있다.

플루오렌-기제 염료에는 예컨대 3,6-비스(디메틸아미노)-플루오렌-9-스피로-3'-(6'-디메틸아미노) 프탈리드, 3-디에틸아미노-6-(N-알릴-N-메틸아미노) 플루오렌-9-스피로-3'-(6'디메틸아미노) 프탈리드, 3,6-비스(디메틸아미노)-스피로-[플루오렌-9,6'-6,H-크로메노(4,3-b) 인돌], 3,6-비스(디메틸아미노)-3'-메틸-스피로[플루오렌-9,6'-6'H-크로메노(4,3-b)-인돌], 3,6-비스(디에틸아미노)-3'-메틸-스피로[플루오렌-9,6'-6'H-크로메노(4,3-b) 인돌] 등이 있다.

기제 염료는 상기한 것에만 한정되지 않으며, 필요에 따라 2 이상의 혼합물로서 사용될 수 있다.

본발명의 특정한 발색제가 3-디(n-부틸) 아미노-6-메틸-7-페닐아미노플루오란을 사용하는 감열성 기록물질에 사용될 경우 기록층의 백색도뿐만 아니라 가소제에 대한 내성과 기록상의 보존성이 특히 뛰어난 감열성 기록물질을 얻을 수 있다.

본발명의 감열성 기록물질로는 기록층에 혼입되는 테레프탈알데히드산의 아연염 또는 테레프탈알데히드산 및 기타 방향족 카르복실산의 복합아연염과 염기성 염료의 비율을 염기성 염료의 종류와 복합 아연염을 형성하는 방향족 카르복실산의 종류에 따라 적당히 결정되어야 하고 구체적으로 한정되지는 않는다. 그러나 일반적으로, 염기성 염료 중량부당 아연염 또는 복합아연염을 0.5 내지 50중량부, 더욱 바람직하게는 약 1 내지 10중량부를 사용하는 것이 바람직하다.

본 발명은 테레프탈알데히드산의 아연염 또는 테레프탈알데히드산 및 기타 방향족 카르복실산의 복합 아연염을 발색제로 사용하는것에 특징이 있지만 이하 기재된 것과 같은 공지의 발색제도 본 발명의 의도하는 효과를 손상시키지 않는한 현상제와 함께 사용할수 있다.

그 예로는 4-tert-부틸페놀, α-나프톨, β-나프톨, 4-아세틸페놀, 4-tert-옥틸페놀, 4,4'-sec-부틸리덴디페놀, 4-페닐페놀, 4,4'-디히드록시디페닐메탄, 4,4'-이소프로필리덴디페놀(비스페놀-A), 히드로퀴논, 4,4'-시클로헥실리덴비스페놀, 1,4-비스 [α-메틸-α-(4'-히드록시페닐) 에틸] 벤젠, 1,3-비스[α-메틸-α-(4'-히드록시페닐) 에틸] 벤젠, 1,3-비스[α-메틸-α-(4'-히드록시페닐) 에틸]벤젠, 4,4'-(1,3-디메틸부틸리덴) 비스페놀, 2,2-비스(4-히드록시페닐)-4-메틸펜탄, 1,1-비스(4-히드록시페닐)-1-페닐에탄, 1-[α-메틸-α-(4'-히드록시페닐) 에틸]-4-[α', α'-비스(4-히드록시페닐) 에틸] 벤젠, 4,4'-디히드록시디페닐술파이드, 4,4'-디히드록시디페닐술폰, 4-히드록시-4'-메틸디페닐술폰, 4-히드록시-4'-메톡시디페닐술폰, 4-히드록시-4'-이소프로폭시디페닐술폰, 4-히드록시-3',4'-트리메틸렌디페닝술폰, 4-히드록시-3',4'-테트라메틸렌디페닐술폰, 3,4-히드록시-4',-메틸-디페닐술폰, 비스(3-알릴-4-히드록시페닐) 술폰, 1,3-디[2-(4-히드록시페닐)-2-프로필] 벤젠, 히드로퀴논 모노벤질에테르, 부틸비스(4-히드록시페닐) 아세테이트, 4-히드록시벤조페논, 2,4-디히드록시벤조페논, 2,4,4'-트리히드록시벤조페논, 2,2' 4,4'-테트라히드록시벤조페논, 디메틸 4-히드록시프탈레이트, 메틸 4-히드록시벤조에이트, 에틸 4-히드록시 벤조에이트, 프로필 4-히드록시벤조에이트, sec-부틸 4-히드록시벤조에이트, 펜틸 4-히드록시벤조에이트, 페닐 4-히드록시벤조에이트, 벤질 4-히드록시벤조에이트, 톨릴 4-히드록시벤조에이트, 클로로페닐 4-히드록시벤조에이트, 페닐프로필 4-히드록시벤조에이트, 페네틸 4-히드록시벤조에이트, p-클로로벤질 4-히드록시벤조에이트, p-메톡시벤질 4-히드록시벤조에이트, 2-페녹시에틸 비스(4-히드록시페닐) 아세테이트, p-히드록시-N-(2-페녹시에틸) 벤젠술폰 아미드, 디메틸 4-히드록시프탈레이트, 1,5-비스(4-히드록시페닐티오)-3-옥사-펜탄, 1,7-비스(4-히드록시페닐티오)-3,5-디옥사-헵탄, 1,8-비스(4-히드록시페닐티오)-3, 6-디옥사-옥탄, 2-(4-히드록시페닐티오) 에틸 (4-히드록시페닐티오) 아세테이트, 노볼락페놀수지, 페놀성 중합체 및 유사 유기산성물질 등이 있다.

이들 발색제는 물론 필요에 따라 둘 이상으로 사용될 수 있다.

이들 발색제 중에서 4,4'-시클로헥실리덴비스페놀, 1,1-비스(4-히드록시페닐)-1-페닐에탄, 1,4-비스[α-메틸-α-[4'-히드록시페닐) 에틸] 벤제, 1,3-비스[ α-메틸-α-(4'-히드록시페닐) 에틸] 벤젠 및 1-[α-메틸-α-(4'-히드록시페닐) 에틸]4-[α', α'-비스(4'-히드록시페닐) 에틸]-4-[α', α'-비스(4-히드록시페닐) 에틸] 벤젠 중의 적어도 하나를 사용하면 배경 안개에 덜 민감하고 기록밀도가 더 뛰어난 감열성 기록 물질을 제공할수 있기 때문에 바람직하다. 기타 발색제를 사용할 경우 그 양은 특별히 제한되지는 않는다.

그러나 테레프탈알데히드산의 아연염 또는 테레프탈알데히드산과 기타 방향족 카르복실산의 복합 아연염 100 중량부당 기타 발색제 10내지 500중량부를 사용하는 것이 바람직하다.

본발명의 감열성 기록물질에 있어서, 목적에 따라 기록층에 증감제를 첨가할 수도 있다. 유용한 증감제의 예로는 스테아르산아미드, 스테아르산 메틸렌비스아미드, 올레산아미드, 팔미트산아미드, 코코넛지방산아미드 또는 유사지방산 아미드, 2-(2'-히드록시-5'-메틸페닐) 벤조트리아졸 또는 유사벤조트리아졸 화합물, 2-히드록시-4-벤질옥시벤조페논 또는 유사 벤조페논화합물, 1,2-디(3-메틸페녹시) 에탄, 1,2-디페녹시에탄, 1-(4-메톡시페녹시)-2-(2-메틸페녹시)-에탄, 1-페녹시-2-(4-메틸페녹시) 에탄, 파라벤질비페닐, 나프틸벤질에테르, 벤질 4-메틸티오페닐에테르, 페닐 1-히드록시-2-나프토에이트, 디벤질옥살레이트, 디-p-메틸벤질 옥살레이트, 디-p-클로로벤질 옥살레이트, 디메틸 테레프탈레이트, 디부틸 테레프탈레이트, 디벤질 테레프탈레이트, 디부틸 이소프탈레이트 및 각종 공지의 열용융성 물질이 있다.

상기한 것중에서, 1,2-디(3-메틸페녹시) 에탄, 1,2-디페녹시에탄, 1-(4-메톡시페녹시)-2-(2-메틸페녹시) 에탄 및 1-페녹사-2-(4-메틸페녹시) 에탄이 바람직하게 사용된다. 증감제의 양은 특히 제한되지는 않지만 발색제 1 중량부당 4중량부 이하를 사용하는 것이 바람직하다.

본 발명에서, 열과 습기에 대한 내성이 향상된 기록상을 제공하는 감열성 기록물질을 얻기위해 힌더드(hindered)페놀 화합물을 사용하는것도 또한 가능하다. 힌더드 페놀 화합물로서 페놀성 히드록실기의 적어도 하나의 오르토 위지에 분지알킬기 또는 시클로알킬기를 가진 것이 사용된다.

그 예로는 2,5-디-tert-부틸하이드로퀴논, 2,5-디-tert-옥틸하이드로퀴논, 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-tert-부틸페놀), 4,4'-부틸리덴비스(6-tert-부틸-3-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-에틸-6-tert-부틸페놀), 2,4-디-tert-부틸-3-메틸페놀, 4,4'-티오비스(6-tert-부틸-3-메틸페놀), 1,1,3-트리스(5-tert-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐) 부탄, 1,1,3-트리스(5-시클로헥실-4-히드록시-2-메틸페닐) 부탄, 비스(3,5-디메틸-4-히드록시페닐) 술폰 및 1,3,5-트리스(4-tert-부틸-3-히드록시-2,6-디메틸벤질) 이소시아누르산이 있다. 힌더드 페놀화합물의 양은 특히 제한되지는 않는다. 그러나 테레프탈알데히드산의 아연염 또는 테레프탈알데히드산과 기타 방향족 카르복실산의 복합 아연염 100 중량부당 힌더드 페놀화합물 20내지 300 중량부를 사용하는 것이 바람직하다.

전술한 성분들로 이루어지는 피복 조성물을 제조하기위하여 염기성염료, 특정한 발생제 등을 볼밀, 어트리터(attritor) 또는 수직 또는 수평 샌드밀과 같은 교반 및 분쇄수단을 사용하여 분산매체로서 작용하는 물에 함께 또는 각각 분산시킨다.

본 발명에서, 결합제는 조성물 총 고형분 기준으로 10내지 40중량%의 양으로, 바람직하게는 15 내지 30중량%의 양으로 함께 사용될 수 있다.

유용한 결합제의 예로는 전분, 히드록시에틸셀룰로스, 메틸셀룰로스, 카르복시 메틸셀룰로스, 젤라틴, 카제인, 아라비아고무, 폴리비닐알코올, 디이소부틸렌-무수말레산 공중합체염, 스티렌-무수말레산 공중합체염, 에틸렌-아크릴산 공중합체염, 스티렌-아크릴산 공중합체염, 스티렌-부타디엔 공중합체 에멀션 등이 있다.

각종 기타 보조제를 피복 조성물에 더 첨가할 수 있다.

유용한 제제의 예로는 디옥틸술포숙신산 나트륨, 도데실벤젠술폰산나트륨, 라우릴알코올 황산에스테르의 나트륨염, 알기네이트, 지방산금속염등과 같은 분산제, 벤조페논화합물, 트리아졸화합물등과 같은 자외선 흡수제, 소포제, 형광염료, 착색염료등이 있다.

또한 스테아르산 아연, 스테아르산 칼슘, 폴리에틸렌 왁스, 카르나우바 왁스, 파라핀 왁스, 에스테르 왁스 또는 기타 윤활제; 카올린, 점토, 탈크, 탄산칼슘, 하소점토, 이산화티탄, 규조토, 미분무수실리카, 활성점토 또는 기타 무기 안료를 조성물에 첨가할 수 있다.

본 발명에서 감열성 기록층의 형성방법은 특별히 제한되지는 않고 종래 공지의 방법에 따라 형성될수 있다. 예컨대 피복조성물은 에어나이프코팅, 가변-바 블레이드 코팅, 퓨어블레이드 코팅, 쇼트 드웰 코팅, 커튼 코팅 또는 기타 적당한 수단으로 기체에 가하고 건조시킨다.

가해지는 피복조성물의 양은 특별히 제한되지는 않지만 건조 중량 기준으로 통상 2 내지 12g/m², 바람직하게는 3 내지 10g/m²이다.

기체로서 종이, 합성섬유종이, 합성수지필름등이 사용된다.

본발명으로 감열성 기록물질의 전면 및/ 또는 배면위에 수지층을 형성함으로써 기록상의 보존성을 더욱 향상시키는 것도 가능하다.

향상된 질의 상을 제공하거나 향상된 감도를 제공하기위해 기체위에 하도층을 제공하거나, 또는 접착라벨을 제조하기위해 배면위에 접착제로 기록물질을 피복하는 따위의, 감열성 기록물질을 제조하는데 있어 공지의 각종 기술을 사용하는 것도 가능하다. 더욱이 형성된 기록층은 향상된 질 또는 고밀도를 지닌 상이 형성될 수 있도록 수퍼캘린더로 처리할 수 있다.

본 발명은 하기실시예로 더욱 상세히 기재할것이지만 이들 실시예에 제한되는 것은 아니다. 실시예에서의 부 및 퍼센트는 달리 언급하지 않으면 중량부 및 중량 퍼센트이다.

[실시예 1]

(1) 조성물 A의 제조

상기 성분들을 샌드밀로 평균입경 2㎛로 분쇄하였다.

(2) 조성물 B의 제조

상기 성분들을 샌드밀로 평균입경 2㎛로 분쇄하였다.

(3) 조성물 C의 제조

테레프탈알데히드산의 나트륨염과 황산아연의 반응으로 얻은 테레프탈알데히드산의 아연염을 하기성분과 함께 샌드밀로 평균 입경 2㎛로 분쇄하였다.

(4) 감열성 기록물질의 형성

기록층을 형성하기 위한 피복조성물을 하기 성분들로부터 제조하고 50g/m²의 종이에 건조중량으로 5g/m²의 양으로 가한다음 건조시켰다.

형성된 층을 수퍼캘린더로 평활한 표면으로 만들어 감열성 기록물질을 얻었다.

[실시예 2]

조성물 B대신 조성물 C를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1에서와 동일한 방법으로 감열성 기록 물질을 제조하였다.

[실시예 3]

조성물 A의 제조에서 3-디(n-부틸)-아미노-6-메틸-7-페닐아미노플루오란을 3-(N-시클로헥실-N-메틸아미노)-6-메틸-7-페닐아미노플루오란 대신 사용하는 것을 제외하고는 실시예1에서와 동일한 방법으로 감열성 기록물질을 제조하였다.

[실시예 4]

조성물 A의 제조에 있어, 3-(N-시클로헥실-N-메틸아미노)-6-메틸-7-페닐아미노플루오란 대신 3-디(n-부틸)-아미노-7-(o-클로로페닐아미노) 플루오란을 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1에서와 동일한 방법으로 감열성 기록 물질을 제조하였다.

[실시예 5]

기록층의 형성시에 하기 성분들을 샌드밀로 평균 입경 1㎛로 분쇄하여 얻은 증감제 분산물 100부를 추가로 사용하는 것을 제외하고는 실시예 3에서와 동일한 방법으로 감열기록물질을 제조하였다.

[실시예 6]

실시예 5에서와 동일한 방법으로 얻은 감열성 기록층에 아래 주어진 상도층용 피복조성물을 건조중량으로 5g/m²의 양으로 가하고 피복물을 건조시키고 상도층을 수퍼캘린더로 처리하였다.

[실시예 7]

기록층의 형성시에 하기성분을 샌드밀로 평균입경 2㎛로 분쇄하고 결과의 조성물중 50부를 테레프탈알데히드산의 아연염과 함께 발색제 분산물로 사용하는 것을 제외하고는 실시예 3에서와 동일한 방법으로 감열성 기록물질을 제조하였다.

[실시예 8]

기록층의 형성시에 하기 성분들을 샌드밀로 평균입경이 2㎛가 되도록 분쇄하고 결과의 조성물 50부를 테레프탈알데히드산의 아연염과 함께 발색제 분산물로 사용하는 것을 제외하고는 실시예 3에서와 동일한 방법으로 감열성 기록물질을 제조하였다.

[실시예 9]

기록층의 형성시에 하기성분들을 샌드밀로 평균 입경 2㎛로 분쇄하고 결과 조성물 50부를 테레프탈알데히드산의 아연염과 함께 발색제 분산물로 사용하는 것을 제외하는 실시예 3에서와 동일한 방법으로 감열성 기록물질을 제조하였다.

[실시예 10]

기록층의 형성에 있어, 하기성분들을 샌드밀로 평균입경 2㎛로 분쇄하고 결과의 조성물 50부를 테레프탈알데히드산의 아연염과 함께 발색제 분산물로서 사용하는 것을 제외하고는 실시예 3에서와 동일한 방법으로 감열성 기록물질을 제조하였다.

[실시예 11]

실시예 6에서와 동일한 상도층용 피복조성물을 실시예 7에서와 동일한 방법으로 얻은 감열성 기록물질에 건조중량으로 5g/m²의 양으로 가하는 것을 제외하고는 실시예 6에서와 동일한 방법으로 감열성 기록물질을 제조한 다음 피복물을 건조시켰다.

[실시예 12]

기록층의 형성에 있어, 하기 성분들은 샌드밀로 2㎛의 평균입경으로 분쇄하여 얻은 힌더드 페놀화합물 분산물 20부를 추가로 사용하는 것을 제외하고는 실시예 3에서와 동일한 방법으로 감열성 기록물질을 제조하였다.

[실시예 13]

기록층의 형성에 있어, 하기 성분들을 샌드밀로 2㎛의 평균입경으로 분쇄하여 얻은 힌더드 페놀화합물 분산물 20부를 추가로 사용하는 것을 제외하고는 실시예 3에서와 동일한 방법으로 감열성 기록 물질을 제조하였다.

[실시예 14]

기록층의 형성에 있어, 하기 성분들을 샌드밀로 평균 입경 2㎛로 분쇄하여 얻은 힌더드 페놀 화합물 분산물 20부를 추가로 사용하는 것을 제외하고는 실시예 3에서와 동일한 방법으로 감열성 기록물질을 제조하였다.

[비교예 1]

조성물 B의 제조에서 산화아연 10부와 테레프탈알데히드산 25부 대신 비스페놀 A 35부를 사용하는 것을 제외하고는 감열성 기록물질을 제조하였다.

[비교예 2]

조성물 B의 제조에서, 산화아연 10부와 테레프탈알데히드산 25부 대신 4-히드록시페닐-4'-이소프록시페닐술폰 35부를 사용하는 것을 제외하고는 실시예 1에서와 동일한 방법으로 감열성 기록물질을 제조하였다.

[비교예 3]

실시예 6에서와 동일한 상도층용 피복 조성물을 비교예 2에서와 동일한 방법으로 얻은 감열성 기록층에 건조 중량으로 5g/m²의 양으로 가하고 피복물을 건조시키는 것을 제외하고는 실시예 6에서와 동일한 방법으로 감열성 기록 물질을 제조하였다.

이와같이 얻은 감열성 기록 물질의 17종을 하기 방법으로 물성 평가시험을 하였다. 표 1에 결과를 나타내었다.

[색밀도]

열프린터(텍사스 인스트루먼트사제 모델 PC-100R)로 기록물질에 상을 기록하고 멕베스 비중계(멕베스 코오퍼레이션제 모델RD-100R)로 색밀도를 점검하였다.

[가소제에 대한 내성]

염화비닐리덴 래핑 필름(미쓰이 도아쓰 케미칼사제)을 폴리프로필렌 파이프(직경 40mm) 둘레에 3층으로 감고, 프린팅에 의해 유색 상이 기록되어있는 기록물질을 색함유 표면이 바깥으로 되도록 감긴것위에 놓고 염화비닐리덴 래핑필름을 기록물질위로 파이프 둘레에 3층으로 감고 어셈블리를 40℃에서 24시간동안 방치해둔다. 기록상의 색밀도를 멕베스 비중계로 다시 측정하여 기록물질의 가소제 내성을 평가하였다.

[내유성]

프린팅에 의해 유색 상이 형성되어있는 기록물질에 면실유를 적가하고 실온에서 24시간동안 방치한 다음 육안으로 상의 상태를 평가하기위해 점검하였다.

[내용매성]

프린팅에 의해 유색 상이 형성되어있는 기록물질에 에탄올을 적가하고 건조시킨후 평가하기위해 육안으로 성과 배경의 상태를 점검하였다.

[내열성]

프린팅후의 기록물질을 60℃의 건조기에서 24시간동안 처리한다음 평가를 위해 육안으로 상과 배경의 상태를 점검하였다.

[내습성]

프린팅후 기록물질을 50℃와 75% RH의 조건에 24시간동안 둔다음 평가를 위해 상과 배경의 상태를 육안으로 점검하였다.

[평가기준]

내유성, 내용매성, 내열성 및 내습성을 하기 기준에 따라 평가하였다.

◎: 기록상은 전혀 희미해지지 않는다.(또한 배경에 안개가 생기지 않는다)

○: 기록상은 약간 희미해지지만(또는 배경에 안개가 약간 생긴다) 실제적으로 문제는 없다.

△: 기록상은 희미해지고(또한 배경에 안개가 생긴다) 등급에 따라 문제가 있다.

×: 기록상은 현저히 희미해지고(또는 배경에 현저히 안개가 생긴다) 실제적으로 부적당하다.

표 1에서 알수 있는 것처럼, 본발명의 감열성 기록 매체는 기록상의 보존성이 뛰어나고 배경 안개의 영향을 덜받는다.

[실시예 15]

(1) 조성물 A의 제조

이들 성분들을 샌드밀로 평균입경 2㎛로 분쇄하였다.

(2) 조성물 B의 제조

테레프탈알데히드산 15g, 이소프탈산 8.3g 및 수산화나트륨 4g을 물 200㎖에 첨가하고 이 혼합물을 교반하면서 70℃로 가열하여 용액을 제조하였다. 물 500㎖중의 황산아연 7수화물 28.8g의 용액을 20분에 걸쳐 용액에 적가하였다. 첨가완료후 혼합물을 1시간동안 교반하고 그런다음 50℃로 냉각하고 생성된 침전을 혼합물에 첨가된 에틸 아세테이트 300㎖로 용해시키고 에틸아세테이트 층을 계속해서 분리제거하였다.

분리한 에틸 아세테이트 용액을 에틸 아세테이트를 제거하기 위해 진공에서 증류하여 주로 테레프탈알데히드산과 이소프탈산의 복합 아연염으로 이루어지는 아연염 혼합물을 얻었다. 생성물을 아래 주어진 성분과 함께 샌드밀로 평균 입경 2㎛로 분쇄하였다.

(3) 감열성 기록층의 형성

감열성 기록층 형성을 위한 피복조성물은 이하의 성분으로 제조되고, 50g/m²중량의 종이에 건량 5g/m²의 양을 가하고 건조한다.

층은 수퍼캘린더에 의해 표면을 부드럽게하여 감열성 기록물질을 얻는다.

[실시예 16]

p-톨루산 13.6g이 조성물 B의 복합아연염 제조용으로 이소프탈산 8.3g 대신 사용되는 것을 제외하고는 실시예 15와 동일한 방법으로 감열성 기록물질이 제조된다.

[실시예 17]

2-(4'-클로로벤조일) 벤조산 26.1g이 조성물 B의 복합아연염제조용으로 이소프탈산 8.3g 대신 사용되는 것을 제외하고는 실시예 15와 동일한 방법으로 감열성 기록물질이 제조된다.

[실시예 18]

(1) 조성물 C의 제조

이하의 성분들을 샌드밀로 평균입자크기 2㎛까지 분쇄하여 기본적으로 테레프탈알데히드산 및 이소프탈산의 복합아연염을 함유하는 아연염혼합물의 분산물을 얻는다.

(2) 감열성 기록층의 형성

[실시예 19]

조성물 C의 제조시 이소프탈산 8.3부 대신 p-톨루산 13.6부가 사용되는 것을 제외하고는 실시예 18과 동일한 방법으로 감열성 기록물질이 제조된다.

[실시예 20]

조성물 C의 제조시 이소프탈산 8.3부 대신 2-(4'-클로로벤조일) 벤조산 26.1부가 사용되는 것을 제외하고는 실시예 18과 동일한 방법으로 감열성 기록물질이 제조된다.

[실시예 21]

(1) 조성물 D의 제조

이들 성분은 샌드밀로 평균입자크기 2㎛까지 분쇄된다.

(2) 조성물 E의 제조

이들 성분은 샌드밀로 평균입자크기 2㎛까지 분쇄된다.

(3) 감열성 기록층의 형성

감열성 기록층 형성을 위한 피복조성물은 이하 성분으로 제조되고, 50g/m²중량의 종이에 건량 5g/m²의 양을 가하고 건조한다.

층은 수퍼캘린더에 의해 표면을 부드럽게 하여 감열성 기록물질을 얻는다.

[실시예 22]

기록층의 형성시 조성물 B 100부 대신 조성물 C의 101.4부가 사용되는 것을 제외하고는 실시예 21과 동일한 방법으로 감열성 기록물질이 제조된다.

[실시예 23]

(1) 조성물 F의 제조

이들 성분은 샌드밀로 평균입자크기 2㎛까지 분쇄된다.

(2) 감열성 기록층의 형성

감열성 기록층형성을 위한 피복조성물은 이하의 성분으로 제조되고, 50g/m²중량의 종이에 건량 5g/m²의 양을 가하고 건조한다.

[실시예 24]

조성물 F의 제조시 1-[α-메틸-α-(4'-히드록시페닐) 에틸]-4-[α', α'-비스(4-히드록시페닐)-에틸] 벤젠 대신 1,4-비스[α-메틸-α-(4'-히드록시페닐) 에틸] 벤젠이 사용되는 것을 제외하고는 실시예 23과 동일한 방법으로 감열성 기록물질이 제조된다.

[실시예 25]

조성물 F의 제조시 1-[α-메틸-α-(4'-히드록시페닐) 에틸]-4-[α', α'-비스(4-히드록시페닐)-에틸] 벤젠 대신 1,3-비스[α-메틸-α-(4'-히드록시페닐) 에틸]벤젠이 사용되는 것을 제외하고는 실시예 23과 동일한 방법으로 감열성 기록물질이 제조된다.

[실시예 26]

조성물 F의 제조시 1-[α-메틸-α-(4'-히드록시페닐) 에틸]-4-[α', α'-비스(4-히드록시페닐)-에틸] 벤젠 대신 1,1-비스(4-히드록시페닐)-1-페닐에탄이 사용되는 것을 제외하고는 실시예 23과 동일한 방법으로 감열성 기록물질이 제조된다.

(1) 조성물 G의 제조

이들 성분은 샌드밀로 평균입자크기 2㎛까지 분쇄된다.

(2) 감열성 기록층의 형성

[실시예 28]

조성물 G의 제조시에 1,1,3-트리스(5-시클로헥실-4-히드록시-2-메틸페닐) 부탄대신에 4,4'-부틸리덴비스(6-tert-부틸-3-메틸페놀)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 27에서와 같은 방식으로 감열성 기록물질을 제조했다.

[실시예 29]

조성물 G의 제조시에 1,1,3-트리스(5-시클로헥실-4-히드록시-2-메틸페닐) 부탄대신에 4,4'-티오비스(6-tert-부틸-3-메틸페놀)을 사용한 것을 제외하고는 실시예 27에서와 같은 방식으로 감열성 기록물질을 제조했다.

[비교예 4]

(1) 조성물의 H의 제조

상기 성분들을 샌드밀에 의해 평균입자크기 2㎛로 분쇄했다.

(2) 감열성 기록층의 형성

실시예 15에서 감열성 기록층을 형성하는데 사용된 조성물 B 100부 대신에 조성물 H 100부를 사용한 것을 제외하고는 실시예 15에서와 같은 방식으로 감열성 기록물질을 제조했다.

그렇게해서 얻은 16종의 감열성 기록물질을 다음방법에 의해 성질평가를 위해 시험했다.

[색밀도]

열프린터(오오꾸라 자극기, 0.4mJ/점의 인쇄에너지)에 의해 화상을 기록 물질위에 기록하고 맥베스 농도계(macbeth Corp.사 제품, 모델RD-100R)에 의해 색밀도를 점검했다.

[가소제에 대한 내성]

염화비닐리덴 포장 필름(미쓰이 도오아쓰 화학사 제품)을 폴리프로필렌파이프(직경 40mm) 주위에 3층으로 감고, 인쇄에 의해 그위에 기록된 색을 가진 기록물질을 색보유면을 외측으로 나오게하여 권취물위에 배치하고, 염화비닐리덴 포장 필름을 파이프주위기록물질위에 3층으로 다시 감고 이 조립물을 실온에서 3일간 방치했다. 그런 뒤 기록된 화상의 색밀도를 맥베스 농도계로 다시 측정하여 기록물질의 가소제 내성을 평가했다.

[내유성]

인쇄에 의해 그위에 형성된 색 화상을 지닌 기록물질에 면실유를 방울씩 가하고 그런 뒤 기록물질을 24시간 방치한 뒤 육안으로 화상의 상태를 점거, 평가했다.

[내용계성]

인쇄에 의해 그위에 형성된 색화상 보유 기록물질위에 용제형잉크펠트펜(황색)으로 문자를 기재하고 그런 뒤 화상의 상태 및 배경을 육안으로 점검, 평가했다.

[내열성]

인쇄후의 기록물질을 건조조건에서 60℃에서 24시간동안 처리하고 그런 뒤 화상 및 배경의 상태를 육안으로 평가를 위해 점검했다.

[내습성]

인쇄후의 기록물질을 50℃ 및 75%고의 조건에 24시간 노출시키고 그런 뒤 화상과 배경의 상태를 육안으로 평가를 위해 점검했다.

[평가의 기준]

다음 기준에 따라 내유성, 내용매성, 내열성 및 내습성을 평가했다.

◎: 전혀 기록화상이 퇴색되지 않음(또한 배경에 안개가 생기지 않음)

○: 기록화상이 약간 퇴색하나(또는 배경에 약간 안개가 생기지만) 실제적으로 문제는 없음.

△: 기록화상은 퇴색하고(또는 배경에 안개가 형성되고) 등급에 따라 문제가 있음.

×: 기록화상이 현저하게 퇴색하여(또는 배경에 심하게 안개가 생겨) 실용에 부적합함.

표 2로 부터 분명한것처럼 본 감열성 기록물질은 기록화상 및 배경부분의 보존성이 탁월하고 기록 감도가 충분하다.

Claims

기판위에 형성되어 있고 무색 또는 담색 염기성 염료 및 발색제를 함유하는 기록층을 갖고있는 감열성 기록물질에 있어서, 발색제가 테레프탈알데히드산의 아연염으로 되어 있는 것을 특징으로하는 감열성 기록물질.
제1항에 있어서, 테레프탈알데히드산의 아연염이 테레프탈알데히드산과 기타 방향족 카르복실산의 복합 아연염인 것을 특징으로하는 감열성 기록물질.
제2항에 있어서, 기타 방향족 카르복실산이 벤조산 유도체, 나프토산유도체, 프탈산 유도체, 프탈산 모노에스테르유도체, 프탈아미드산 유도체, o-벤조일벤조산 유도체 및 살리실산 유도체로 구성된 군으로부터 선택된 적어도 한 화합물인 것을 특징으로하는 감열성 기록물질.
제3항에 있어서, 기타 방향족 카르복실산이 벤조산 유도체, 프탈산유도체 및 o-벤조일벤조산 유도체로 구성된 군으로부터 선택된 적어도 한 화합물인 것을 특징으로하는 감열성 기록물질
제4항에 있어서, 벤조산 유도체가 다음일반식(I)로 표시되는 화합물인 것을 특징으로하는 감열성 기록물질.

상기식에서 R₁, R₂및 R₃는 각각 수소원자, 할로겐원자, C_1~4알킬 또는 C_1~4알콕실이다.
제4항에 있어서, 프탈산 유도체는 이소프탈산 유도체인 것을 특징으로 하는 감열성 기록물질.
제4항에 있어서, o-벤조일벤조산 유도체가 다음일반식(Ⅱ)로 표시되는 화합물인 것을 특징으로하는 감열성 기록물질.

상기식에서 R₄및 R₅는 각각 수소원자, 할로겐원자 또는 C_1~4알킬이다.
제4항에 있어서, 기타 방향족 카르복실산이 p-톨루산, 이소프탈산 및 2-(4'클로로벤조일) 벤조산으로 구성된 군으로부터 선택된 적어도 한 화합물인 것을 특징으로하는 감열성 기록물질.
제2항에 있어서, 테레프탈알데히드산과 기타 방향족 카르복실산의 복합아연염은 테레프탈알데히드산 1당량당 기타 방향족 카르복실산 0.5 내지 2당량을 사용함으로써 얻어지는 것을 특징으로하는 감열성 기록물질.
제1항에 있어서, 염기성 염료 2중량부당 테레프탈알데히드산의 아연염 0.5 내지 50중량부가 사용되는 것을 특징으로하는 감열성 기록물질.
제1항에 있어서, 염기성 염료가 3-디(n-부틸) 아미노-6-메틸-7-페닐아미노플루오란인 것을 특징으로하는 감열성 기록물질.