KR0137367B1

KR0137367B1 - 자기헤드 및 그 제조방법

Info

Publication number: KR0137367B1
Application number: KR1019890701140A
Authority: KR
Inventors: 마쉬 쥬르장; 므니에 뽈-루이
Original assignee: 아르레뜨 다낭제; 똥송-세 에스 에프
Priority date: 1987-10-27
Filing date: 1988-10-21
Publication date: 1998-05-15
Also published as: JPH02501962A; EP0338063B1; FR2622335A1; FR2622335B1; DE3872513T2; DE3872513D1; WO1989004037A1; US5404260A; CA1321021C; EP0338063A1; KR890702181A; HK71294A

Abstract

자기 헤드는 서로 부착된 두 자기 회로(1, 1')를 포함한다. 비자성 물질로 이루어진 두 부분(14, 14')은 상기 헤드의 갭의 바로 밑에 위치된다. 자극(3, 3')은 상기 자기 회로(1, 1')와 비자성 물질 부분의 위쪽에서 얇은 층으로 형성된다. 상기 자기 회로를 결합하기 위한 물질은 상기 자극(3, 3') 사이에서 갭을 제공한다.

Description

자기 헤드 및 그 제조 방법

제1도에 도시된 모양의 평면 자기 헤드 제작법은 이미 공지되어 있다.

이러한 헤드는 평탄면(plane face; P)을 갖는 자기 회로(M)를 포함한다. 기록용 헤드의 2개 자극(magnetic poles)과 이들 자극을 분리시키는 갭(gap)은 이 평면(P)을 따라 배치된다. 자기 테이프와 같은 기록 매체는 상기 자극 및 갭(E)의 근처에서 평면(P)과 평형하게 놓인다. 접속선(70, 71)을 통해 전류를 공급받는 자계 유도 코일은 자기 회로(M)의 암(arm)을 에워싼다. 제1도에 도시된 바와 같이, 이러한 형태의 헤드는 상기 갭(E)에서 폭이 좁은 부분을 갖는다. 이러한 폭이 좁은 부분은 깨지기 쉬우며 제작하기가 어렵다.

본 발명은 기록/재생용 자기 헤드에 관한 것으로, 특히, 평면 헤드, 즉 2개의 자극(magnetic poles)이 동일 평면 상에 존재하는 자기 헤드에 관한 것이다. 이러한 형태의 자기 헤드는 특히 자기 테이프 상에서의 기록/재생을 위한 기술에서 사용될 수 있다. 본 발명은 또한 이러한 형태의 자기 헤드 제작 방법에 관한 것이다.

제1도는 종래 기술 및 상기 상술된 평면 자기 헤드를 도시하는 도면.

제2도 및 제3도는 전술한 종래 기술에서 알려진 바와 같이, 평면 자기 헤드용의 갭으로 분리된 자극의 실시예를 도시하는 도면.

제4도는 본 발명에 따른 자기 헤드의 실시예의 사시도.

제5도는 제1도의 자기 헤드의 정면도.

제6도는 본 발명에 따른 자기 헤드의 한 변형 실시예의 사시도.

제7도는 제6도의 자기 헤드의 정면도.

제8도 내지 제11도는 본 발명에 따른 자기 헤드의 제조 방법의 한 예의 단계를 도시하는 도면.

본 발명은 잘 깨지지 않고 제작이 더 쉬운 이러한 형태의 헤드에 관한 것이다.

또한, 공지된 평면 헤드에서, 갭의 크기(0.2 마이크로 미터의 두께와 1 마이크로미터의 높이)는, 예를들면 1986년 10월 28일에 출원된 프랑스 특허원 제8614974호에 설명된 바와 같이, 비평탄(non-plane) 물질의 성장을 달성할 필요가 있다. 따라서, 제2도에 도시된 바와 같이, 자극(P1)이 기판(S) 상에 형성되고, 이 자극(P1)의 측면에는 비자성 물질층(E)이 형성되어 있다. 다른 자성 물질층(P2)이 상기 유니트 상에 증착된다. 그 후에 상기 헤드의 상부면은, 제3도에 도시된 바와 같이 자극(P1, P2)이 갭(E)에 의해 분리되어 있는 평면 자기 헤드를 얻을 수 있도록 가공된다.

제2도에 도시된 바와 같이, 자극(P2)을 형성하는 자성 물질층은 갭(E)의 형태와 맞아야 한다: 즉, 이 자성 재료층이 갭(E)의 에지에서 자기 특성을 교란시킨다. 상기 갭의 정확성이 저하되면, 이 갭이 자계에서 생성하는 불연속이 저하되는데, 이것은 상기 갭으로부터 측정했을 때, 상기 갭의 높이의 수배의 거리까지 연장하는 영역에서 발생된다.

그러나, 평면 자기 헤드에 대해서는 2 내지 3 마이크로미터 두께의 얇은 층을 만드는 것이 필수적이다. 이 기술에 의하면, 자극(P2)은 갭의 높이에 의존한다.

본 발명의 한 변형 실시예는 이러한 난점을 해결한다.

본 발명은 헤드의 기록면에 대응하는 평탄면(plane face)을 포함하는 블럭형태(massive form)의 자기 회로를 구비하는 자기 헤드에 관한 것으로, 상기 자기 회로는,

- 상기 자기 회로의 평탄면과 동일면에 있는 비자성 물질을 포함하는, 상기 평탄면에 거의 수직인 자기 회로내의 중단부(interruption)와;

- 상기 평탄면 상에 증착되고 비자성 물질층이 위치하는 갭에 의해 분리되는, 상기 헤드의 자극을 형성하는 두 층의 자기 회로를 포함하는 점을 특징으로 한다.

본 발명은 또한 자기 헤드에 관한 것으로, 상기 자기 헤드는 자기 회로가 서로 단부에서 결합된 두 개의 U자형 부분을 구비하며, 이들 두 부분 중 적어도 한 부분의 단부 중 한 단부는 상기 평탄면과 동일 평면인 비자성 물질로된 부분을 구비하며, 자성 물질로된 두 개의 층은 비자성 물질로된 부분에 위치하는 갭과 함께 상기 평면 상에 형성되는 것을 특징으로 한다.

마지막으로, 본 발명은 자기 헤드 제조 방법에 관한 것으로, 상기 방법은,

- 적어도 하나의 평탄면을 구비하는 자성 물질로 이루어진 부분과, 이 부분에 결합되어 있는, 소정의 평면 상의 평탄면과 동일 평면인 비자성 물질로 이루어진 소자를 형성하는 제1의 단계와;

- 비자성 물질로된 소자가 자성 물질로 된 부분에 의해 형성되는 자기 회로에 서 중단부를 형성하도록 상기 소자에 이르는, 자성 물질로 된 부분에 개구(aperture)를 제작하기 위한 제2의 단계와;

- 평탄면 상에 위치되며 비자성 물질로된 상기 소자에 의해 점유되는 상기 소정의 표면 상에 위치된 갭에 의해 분리되는 두 에지를 구비하며, 얇은 층의 자성 물질로 만들어지는 자극을 제작하기 위한 제3의 단계; 및

- 상기 개구를 통과하며 자성 물질로된 부분의 자기 회로를 에워싸는 적어도 하나의 자기 유도 코일을 제작하기 위한 제4의 단계를 구비하는 것을 특징으로 한다.

본 발명의 여러 목적 및 특징은 첨부된 도면을 참조하여 이루어진 하기의 설명으로 보다 명백하게 될 것이다.

제4도 및 제5도를 참조하여 먼저 본 발명에 따른 자기 헤드의 실시예를 기술한다.

이 헤드는 블럭 형태(massive form)의 자기 회로를 구비한다. 이 자기 회로는 평탄면(plane face; 10)을 구비한다. 이 평탄면의 거의 중간에 있어서, 상기 자기 회로는 폭(11)에 걸쳐 중단되며(interrupted), 중단부에는 비자성 물질로 만들어진 소자(6)가 있다. 양 측면에 자성 물질(1)을 갖는 비자성 물질(6)을 포함하고 있는 평면(10)상에서, 2개의 자극(3, 3')이 형성되고, 상기 소자(6)의 거의 중간에 위치된 갭에 의해 분리된다. 이들 자극은 얇은 층으로된 자성 물질에 의해 만들어진다. 각각의 자극(pole)은 상기 소자(6)의 한 쪽에 위치된 자성 물질을 덮고 있으며, 비자성 물질로된 부분(6)에서, 갭(5)에 이르기까지 점점 좁아진다. 그러므로 상기 자기 회로(1)는 상기 자극(3, 3')과 갭(5)에 의해 루프를 형성한다. 비자성 물질(6)로 이루어진 소자의 폭(11)은 갭(5)의 폭보다 훨씬 커서 자계는 갭(5)에 의해 루프를 형성한다.

상기 자기 회로는, 제5도에 도시된 바와 같이, 접속부(connections; 70, 71)에 의해 전류를 공급받을 수 있는 자계 유도 코일(7)의 권선을 인에이블하는 개구(12)를 구비하고 있다. 그리하여 상기 코일은 자기 회로에서 자계를 유도할 수 있다. 제5도는 단일 코일(7)을 도시하지만, 여러 코일이 제공될 수 있음은 명백하다.

상기 자극(3, 3')은 상기 갭(5)이 기록 매체의 이동 축(XX')에 대해 수직이 되도록 만들어질 것이지만, 갭(5)이 90°와는 다른 각이 되도록 만들어질 수도 있다.

본 발명에 따르면, 평탄면 기록/재생 헤드가 이렇게 만들어져서, 자기 테이프상에 기록을 가능하게 하거나 또는 자기 테이프를 재생시킬 수 있다.

제6도는 본 발명에 따른 평면 자기 헤드의 변형 실시예를 도시한다.

제6도에서, 상기 자기 헤드는 보다 명확한 표현을 제공하기 위해서 분리된 두 개의 자기 회로(1 및 1')를 갖는다.

자기 회로 각각은 비자성 물질(6, 6')로 이루어진 부분을 갖는다. 각 부분(6, 6')은 자기 회로(1, 1')의 면(13, 13')과 같은 평면에 있는 면(14, 14')을 갖는다. 상기 두 자기 회로(1, 1')는 면(13, 13' 및 14, 14')에 의해 화살표(F)를 따라 서로 부착되어 있다.

상기 자기 회로(1, 1')의 상부와 비자성 물질(6, 6')로 이루어진 부분의 상부는 평탄면(10, 10')을 구비한다. 이들 평탄면 상에는, 얇은 자성 물질층으로 형성된 자극(3, 3')이 있다. 자극(3, 3')의 작각은 비자성 물질(6, 6')로 이루어진 부분의 면(14, 14')과 동일한 면에 있다. 따라서 각 자극은 부분(6, 6')의 면(14, 14')과 같은 평면에 포함된 한 면(30, 30')에서 끝을 형성한다.

또한, 자극(3, 3')의 각각은 그의 면(30, 30')의 에지에서 자속을 집중시킬 수 있는 모양의 좁은 부분(31, 31')을 갖는다.

두 개의 자기회로가 화살표(F)를 따라 부착되면, 면(13 및 13')은 서로 대향하며 자극의 면(30 및 30')도 또한 서로 대향한다. 제7도에 도시된 바와 같이, 두 자기 회로는 면(13, 13' 및 14, 14')사이에 위치된 결합물질층에 의해 서로 견고하게 결합된다. 상기 면(13, 13')은 층(8)에 의해 결합된다. 상기 면(14, 14' 및 30, 30')은 층(5)에 의해 결합된다. 결합 물질은 유리 기초 물질(glass-based material)일 수 있다.

상기 층(5)은 자극의 면(30 및 30') 사이에서 갭을 대신한다. 결합 물질은 유리 기초 물질일 수 있다. 접속부(70, 71)에 의해 회로에 제공되고, 자기 회로의 암을 에워싸는 코일(7)은 기록/재생 헤드를 완성한다.

상기 면(30, 13, 14 및 30', 13' 14')은 기록 매체(도시되지 않음)의 이동축(XX')에 수직일 수 있다는 점을 주지해야 한다. 그들은 또한 서로가 평행하면서, 상기 축(XX')과 90°이외의 각을 이룰 수도 있다.

제8도 내지 11도를 참조해서, 본 발명에 따르는 제6도 및 제7도의 평면 자기 헤드의 한 실시예를 기술할 것이다.

상기 방법의 제1단계(제8도)에서, 각 부분의 구석에 비자성 물질로 이루어진 소자(6)를 포함하는 자성 물질의 두 부분(1)이 형성된다. 이 소자(6)는 부분(1)이 면(10) 및 면(15)과 동일한 평면에 있다. 상기 면(10)을 따른 상기 부분(6)의 두께(e)는 예를들면, 약 100 마이크로미터이다.

제2단계(제9도)동안, 각 부분(1)의 면(10) 상에 얇은 층의 자극이 형성된다. 상기 자극은 상기 면(10) 상에서 자기 헤드의 자기 회로에서 흐르는 전체 자계를 수신하도록 부분(1)의 자성 물질을 덮는다. 상기 면(10)의 비자성 물질 영역 상에, 좁혀지는 부분(31)을 갖는 자극(3)이 만들어진다. 자성 물질의 얇은 층의 두께(h)는 예를들면 1 내지 3 마이크로미터이다.

자극의 제조는 에피택셜 공정과 같은 증착 공정과, 그 다음, 좁혀지는 부분(30)을 얻기 위한 에칭 작업에 의해 행하여 질 것이다.

제3단계동안, 부분(1)의 면(15)에서 시작하는 노치(notch; 12)가 형성된다. 상기 노치는 상기 소자(6)와 접하거나, 또는 제9도 및 10도에 도시된 바와 같이, 소자(6)의 일부분을 제거한다. 상기 노치의 높이(H)는 예를들면 200 내지 300 마이크로미터이고, 그 깊이는 200 내지 300 마이크로미터이다.

제11도에 도시된 제4단계동안, 제10도에 도시된 바와 같은 두 부분이 서로 결합된다. 두 부분의 면(13 및 13')은 서로 결합층(8)에 의해 결합된다. 면(14 및 14')뿐 아니라 면(30 및 30')도 결합층(5)에 의해 서로 결합된다. 상기 결합층(5)은 자기 헤드의 기록 갭을 형성한다. 상기 층(5)의 두께는 약 0.2 마이크로미터이다.

상기 결합은 예를들면 유리 기초 비자성 물질의 결합(soldering)에 의해 수행된다. 사용되는 기술은 유리 스퍼터링 공정(glass sputtering process)일 수 있다.

도면에 도시되지 않은 제5단계 동안, 상기 자기 회로의 적어도 한 부분(1)을 둘러싸는 하나 이상의 자계 유도 코일이 형성된다.

기술된 방법의 제1의 변형 실시예에 따르면, 각 부분(1) 내에 노치(12)를 만드는 단계는 자극(3)을 만드는 제2의 단계 이전에 수행된다.

본 발명의 방법의 제2의 변형 실시예에 따르면 코일을 만드는 제5의 단계는 노치(12)를 만드는 단계 후에 그리고 두 부분(1, 1')을 서로 결합하는 단계 전에 계획된다.

본 발명의 방법을 실현하는 제3의 변형 실시예에 따르면, 자극(3, 3')을 형성하는 단계는 두 부분(1, 1')을 서로 결합한 후에 계획된다. 그 다음 갭(5)에 의해 분리되는 자극(3, 3')이 프랑스 특허출원 제86 14974호에 기술된 바와 같은 공지된 기술에 의해 면(10, 10')상에 만들어진다.

본 발명의 방법과 기술된 모든 변형 실시예는 두 부분(1, 1')의 결합 후에 면(30, 13, 14 및 30', 13', 14')을 연마(polishing)한다.

또한, 본 발명에 따르면, 이들 면은 헤드 앞의 자기 매체의 이동축(XX')에 수직이지만, 본 발명의 방법을 실현하는 또 다른 변형 실시예에 따르면, 상기 면(13, 14, 30)을 연마하는 단계 전에, 부분(1)에 대해 행해지며, 축(XX')에 대해 소정의 각으로 마무리하는 가공 단계(machining stage)가 제공된다. 상기 부분(1)에 결합될 상기 부분(1')은, 상기 단계동안, 상기 축(XX')에 대한 이전의 각에 보각(180°)인 각에서 면(13', 14', 30')의 가공 및 연마를 받는다.

또 다른 변형 실시예에 따르면, 자극을 형성하고 두 부분(1, 1')을 결합한 후에, 자기 헤드는 상기 자극(3, 3')과 그의 면(10, 10')상에 실리카에 기초한 물질과 같은 비자성 물질층으로 피복된다. 그 다음 상기 층은 자극(3, 3')이 도달될 때까지 가공되고 연마된다. 상기 가공 및 연마는 자기 헤드에 볼록 곡율을 부여하도록 수행될 수 있다. 나머지에 대해서는, 면(10, 10') 자체를 가공해서 자기 헤드가 소정의 곡율을 가지도록 할 수 있다는 점에 주의해야 한다.

상기 기술된 제조 방법과 그 변형 실시예는 제6도 및 7도에 따른 자기 헤드를 얻을 수 있게 한다. 제4도 및 5도에 다른 자기 헤드를 얻기 위해, 본 발명은 한 방법을 제공하는데, 상기 방법에 따르면, 면(10)과 비자성 물질(6)로 이루어진 소자를 포함하는 부분(1) 내에 개구(12)가 형성되며, 상기 소자는 상기 부분(1)에 통합되고 면(10)과 동일 평면에 있게 된다. 상기 개구(12)는 비자성 물질(6)로 이루어진 소자가 자기 회로(1)의 중단부를 결정하도록 한다.

그 다음, 자극(3 및 3')은 프랑스 특허출원 제86 14974호에 기술된 바와 같은 기술에 따라 축(XX')에 대해 경사지거나 수직인 캡과 함께 면(10) 상에 형성된다.

마지막으로 코일(들)이 자기 회로 주위에 형성된다.

상기 기술이 본 발명을 제한하려는 것이 아님은 명백하다. 다른 변형 실시예도 본 발명의 범위를 벗어나지 않으면서 구현될 수도 있다. 수치예는 단지 설명을 예증하기 위해서만 주어졌을 뿐이다.

Claims

헤드의 기록 면에 대응하는 평탄면(10)을 포함하는 블럭형태(massive form)의 자기 회로(1)를 포함하는 자기 헤드에 있어서,

상기 평탄면(10)에 거의 수직이고, 자기 회로(1)의 평탄면과 동일 평면에 있는 비자성 물질(6)을 포함하는 자기 회로(1)의 중단부(interruption; 11); 및

상기 헤드의 자극을 형성하고, 상기 평탄면 상에 증착되고 상기 비자성 물질(6)에 위치하는 갭(gap; 5)에 의해 분리되는 자기 회로의 두 층(3, 3')을 구비하는 것을 특징으로 하는 자기 헤드.
제1항에 있어서, 상기 자기 회로는 U자형의 2개의 부분(1, 1')을 구비하고, 상기 부분의 단부(13과 13', 14와 14')는 결합층에 의해 서로 결합되어 있고, 이들 두 개의 부분(1, 1')의 적어도 한 부분의 단부(14, 14')의 한 단부는 상기 평탄면(10)과 동일 평면에 있는 비자성 물질 부분(6)을 구비하고, 자성 물질층(3, 3')의 각각은 비자성 물질 부분(6)에 위치하는 갭(5)을 갖는 상기 평탄면(10)의 위쪽에 자극(3, 3')을 형성하는 것을 특징으로 하는 자기 회로.
제2항에 있어서, 상기 자극(3, 3')의 에지(30, 30')는 상기 결합층에 의해 서로 결합되고, 상기 결합층은 나중에 상기 극 사이에 존재해야 하는 갭을 형성하는 것을 특징으로 하는 자기 헤드.
제1항에 있어서, 상기 자극(3, 3')은 상기 갭(5)의 에지에서 좁혀지는 모양을 갖는 것을 특징으로 하는 자기 헤드.
제1항에 있어서, 서로 마주하며 갭(5)을 정의하는 상기 자극(3, 3')의 에지(30, 30')는 상기 헤드의 길이축(longitudinal axis; XX')에 대해 90°의 각을 형성하는 것을 특징으로 하는 자기 헤드.
제1항에 있어서, 서로 마주하며 갭(5)을 정의하는 자극(3, 3')의 에지(30, 30')는 상기 헤드의 길이축(XX')에 대해 90°와 다른 각을 형성하는 것을 특징으로 하는 자기 헤드.
제2항에 있어서, 각 U-형 부분(1, 1')의 결합된 단부(13, 13', 14, 14')중 적어도 하나의 단부는 상기 헤드의 길이축(XX')에 대해 임의의 각을 형성하는 것을 특징으로 하는 자기 헤드.
자기 헤드 제조 방법에 있어서,

- 적어도 하나의 평탄면(10)을 구비하는 자성 물질로 이루어진 부분(1)과, 이 부분에 통합되고, 소정의 표면 상의 평탄면(10)과 동일 평면에 있는 비자성 물질로 이루어진 소자(6)를 형성하는 제1의 단계와;

- 상기 자성 물질로 이루어진 부분(1)에 비자성 물질로 이루어진 상기 소자(6)에 도달하는 개구를 형성해서, 이 소자가 상기 부분(1)에 의해 형성된 자기 회로 내에서 중단부를 형성하도록 하는 제2의 단계와;

- 상기 평탄면(10) 상에 위치하고 비자성 물질(6)로 이루어진 상기 소자에 의해 차지되는 상기 소정의 표면 상에 위치하는 갭(5)에 의해 분리되는 두 에지(30, 30')를 구비하며, 자성 물질의 얇은 층으로 형성되는 자극(3, 3')을 형성하는 제3의 단계; 및

- 상기 개구를 통과하며 자성 물질로 이루어진 부분(1)의 자기 회로를 에워싸는 적어도 하나의 자기 유도 코일(7)을 형성하는 제4의 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 자기 헤드 제조 방법.
제2항에 따른 자기 헤드 제조 방법에 있어서,

- 각 부분이 제1의 평탄면(10, 10')과, 제2의 평탄면(15, 15') 및 이들 부분의 각각에 통합되고 상기 제1의 평탄면(10, 10') 및 제2의 평탄면(15, 15')과 동일평면에 있는 비자성 물질로 형성된 소자(6, 6')를 구비하며 자성 물질로 형성된 적어도 2개의 부분을 형성하는 제1의 단계와;

- 각 부분(1, 1')에서, 상기 제2의 평탄면(15, 15') 내에 한 면은 비자성 물질(6, 6')로 형성된 소자의 면(14, 14')이 있고 다른 한 면은 상기 부분(1, 1')의 자성 물질로 이루어진 면(13, 13')이 있는 노치(12, 12')를 형성하는 제2의 단계와;

- 비자성 물질의 면(14, 14')을 서로 결합하고 자성 물질의 면(13, 13')을 서로 결합함으로써 자성 물질의 두 부분을 결합하는 제3의 단계와;

- 상기 2개의 부분의 제1의 면(10, 10') 상에 자성 물질의 얇은 층을 형성하고, 이 얇은 층 내에, 비자성 물질(6, 6')로 형성된 상기 소자 상에 위치하는 갭(5)에 의해 분리되는 두 자극(3, 3')을 형성하는 제4의 단계; 및

- 상기 노치(12, 12')를 통과하고 자성 물질로 이루어진 부분(1, 1')의 자기 회로의 한 부분을 에워싸는 적어도 하나의 자기 유도 코일(7)을 형성하는 제5의 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 자기 헤드 제조 방법.
제9항에 있어서, 상기 제1의 면(10, 10')상에 자극(3, 3')을 형성하는 제4의 단계는 제3의 결합 단계 전에 계획되는 것을 특징으로 하는 자기 헤드 제조 방법.
제9항에 있어서, 제3의 결합단계는 결합될 면(13, 13', 14, 14')의 연마 단계 뒤에 실시되는 것을 특징으로 하는 자기 헤드 제조 방법.
제9항에 있어서, 제3의 결합 단계는 유리에 기초한 물질의 결합(soldering)에 의해 수행되는 것을 특징으로 하는 자기 헤드 제조 방법.
제 9항에 있어서, 자성 물질(1, 1')의 일부를 둘러싸며 이 부분의 노치(12, 12')를 통과하는 적어도 하나의 코일을 형성하는 것에 의해, 적어도 하나의 코일을 형성하는 상기 제5단계는, 노치를 형성하는 상기 제2의 단계뒤에 그리고 결합을 행하는 상기 제3의 단계 전에 계획되는 것을 특징으로 하는 자기 헤드 제조 방법.
제 9항에 있어서, 자극(3, 3')을 형성하는 제4의 단계는 상기 갭의 에지에서 극의 좁아지는 부분을 제조하는 것을 특징으로 하는 자기 헤드 제조 방법.
제 9항에 있어서, 자성 물질의 부분(1, 1')을 만드는 상기 제1의 단계는 얻어질 자기 헤드의 길이축(XX')에 대해 90°와 다른 각을 따라 상기 제2의 면(15, 15')을 가공하는 것을 포함하는 것을 특징으로 하는 자기 헤드 제조 방법.
제9항에 있어서, 상기 제4의 단계는,

제1의 면(10, 10') 상에 제1의 자극을 형성하는 단계와;

상기 제1의 자극(3)과 상기 제1의 면(10, 10') 상에 비자성 물질의 층을 증착(deposition)하는 단계와;

상기 비자성 물질층 위에 자성 물질의 층을 증착하는 단계; 및

자성 물질 및 비자성 물질층을 상기 제1의 자극이 도달될 때까지 가공(machining) 및 연마(polishing)하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 자기 헤드 제조방법.
제16항에 있어서, 상기 비자성 물질층은 실리카에 기초한 (silica-based) 물질인 것을 특징으로 하는 자기 헤드 제조 방법.
제9항에 있어서, 자기 헤드의 통형(barrel-shape) 가공 단계를 구비하는 것을 특징으로 하는 자기 헤드 제조 방법.