JPS61196410A

JPS61196410A - 磁気ヘツド製造方法

Info

Publication number: JPS61196410A
Application number: JP3706985A
Authority: JP
Inventors: Yoshinobu Natsuhara; 夏原　善信; Shinji Matsuura; 伸治松浦
Original assignee: Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd; Kansai Nippon Electric Co Ltd
Current assignee: Renesas Semiconductor Manufacturing Co Ltd; Kansai Nippon Electric Co Ltd
Priority date: 1985-02-25
Filing date: 1985-02-25
Publication date: 1986-08-30

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】ｆｆＥＪ１ユ１コｕＬｔ１この発明は、磁気ヘッド製造におけるコア接合後の、ギ
ャップ近傍の加工処理に関するもので、エレクトロニク
ス素子等のガラス埋め込み技術に属するものである。

従ｍ支歪− 従来よりＶＴＲやコンピュータのＦＤＤ　（フロッピ書
ディスク・ドライブ）等に用いられている磁気ヘッドは
、一般にフェライトコアが使用されて来た。しかし最近
のように、媒体がメタル磁性材料等を用いるものが出現
し、これに対応する磁気ヘッドは、高飽和磁束密度が要
求され、センダスト等の合金コアが採用される傾向があ
る。このセンダストは、公知化されている通り、ＡＩ、
Ｓｌ、Ｆｅを主組成とする合金であり、例えば、雑誌「
電子材料ｊ　１９８１年６月号Ｐ２０Ｂや、第７回日本
応用磁気学会学術講演概要集■９８３年１１月、５ＰＡ
−ＩＩ、　Ｐ１２３等で発表されている。すなわち、セ
ンダストコアの特性は、一般に、飽和磁束密度Ｂｓが９
５００Ｇａｕｓｓ。

抗磁力１ｃが２０ｍ０ｅ、実効透磁率ｕｅｆｆが３００
００ａｔ３００Ｈｚ、　　ビッカース硬度Ｈｖが５００
というような優れた特性を備えている。

このセンダストコアが、磁気ヘッド製造上、従来よりの
フェライトコアと異なる点は、コアの接合である。つま
り、センダストコアは、第５図に示すように、コア半体
１と２をガラス溶着することが私大上不可能なので、両
者の接合端部に、Ａｇろう等の接着材３を溜めて接合さ
せている。この場合に、磁気ギャップ４を形成する頂部
５，６では、反磁性体であるＡｇろうが使えないので、
両側壁に凹部を形成して、保護ガードガラス７．８を埋
め込んでいる。

、Ｂ　（゛　　　。

ところが上述の通り、センダストコアは、元来ガラスと
はなじみが良好とはいえず、そのために、磁気ギャップ
４は、単に接触状態であるに過ぎず、第６図のように一
般に数十個分を、溝加工やギャップスペーサ膜形成等の
処理を施したコアブロック１’、　２’同士を、バック
ギャップ部分ＢでのみＡｇろう３で接着した場合、次の
問題が発生する。

つまりＡｇろうで接着したコアブロックの、磁気ギャッ
プ近傍にトラック幅を決定するために、第６図に示すよ
うに、トラック溝３，９．・・・を形成すると、頂部５
”、６”がねじれ、反り、或いは、ずれを生じて磁気ギ
ャップ破損を招いてしまう危険性がある。

尚第６図でダッシュ記号は、第５図の図番と対応する図
番を示す。

さらにトラック溝９，９．・・・に保護ガードガラスフ
。

８．７．８　、・・・を埋め込んだ後、細１ｉ１０．Ｉ
Ｏ，・・・に沿ってスライスする場合にも同様な問題が
ある。この発明は、これらの問題解決を企図して提唱す
るものである。

口°のこの発明は、従来と同様に、所定の溝加工や薄膜等の加
工処理を施したコアブロックを、接着材にて接合固着し
て、コアブロック接合体を形成後上記接合体の磁気ギャ
ップを含む頂面に、少なくとも数μｍ膜厚の非磁性体保
護膜を被覆し、さらにトラック幅設定のためのトラック
溝を形成し、トラック溝内面に非磁性体膜を下地層とし
て付着させておき、ガラスを積層付着させることを特徴
としている。

１皿この発明では、コアブロック接合体を形成後、更にトラ
ック溝加工やスライス処理を施したりする際に、磁気ギ
ャップ近傍は、常に非磁性体保護膜で補強されているの
で、ね′じれ、反り、ずれ等の磁気ギャップ破損要因は
排除される。しかもトラック溝加工においては、数μｍ
膜厚の非磁性体保護膜を被覆することにより、切削溝加
工をより正確に行うことができる。さらに上記膜厚の非
磁性体保護膜を被覆すると、完成したコアの頂頭部を、
テープラッピング等により滑らかな曲面に研磨する場合
に、センダスト地肌の一部分が削られて快い屑として、
突出してコア表面状態を乱す危険も解消することができ
る。

天」１例− 第１図は、この発明の一実施例に関する磁気ヘッドコア
の、コアブロック接合体を示す斜視図である。ます、コ
アブロック接合体２０は、従来と全く同様にセンダスト
合金製のコアブロック２１．２２を、Ａｇろう２３にて
パックギャップＢで接着し、各々の頂部２５．２８を、
非磁性のギャップスペーサ２４′を介して磁気ギャップ
２４（大部分は破線で示されている）を形成したもので
ある。尚、コアブロック２Ｋにおける２７は巻線係止溝
、２８は巻線挿通兼閉磁路形成用溝、２９は接着材（Ａ
ｇろう）溜め溝であり、コアブロック２２における３０
は巻線係止溝、３１は接着材溜め溝である。さらに３２
は、上述のコアブロック接合体２０の磁気ギャップ２４
を含む頂面上に、スパッタリングによって被覆された非
磁性体保護膜としてのＡ１２０３膜で、ギャップ長が約
０．３μｍの磁気ギャップ２４を保護するに十分な強度
を得るために、膜厚が５μｍの厚膜に設定したものであ
る。

この実施例では、上記の通りＡｆｆｉ２０３膜３２を形
成後、第２図のように、所望のトラック幅ｔ＝数十μｍ
を決定するため、トラック溝３３．３３　、・・・を切
削形成する。この際に、Ａｆｆｉ２０３１！３２が磁気
ギャップ２４に対する外殻となり、切削時の頂部２５．
２５　、・・・。

２６　、２Ｂ　、・・・のねじれ、反り、ずれ等を確実
に防止する。

その後、コアブロック接合体２０のトラック溝３２，３
２．・・・内面を含んだ頂面に、第３図のように、ガー
ドガラスに対する下地層３４を形成する。この下地層３
４は、例えばＡｌ２Ｏ３を１〜２μｍ程スパッタリング
付着させ、さらにその上に数千Ａ程度、軟化点ＴＧが約
５５０℃の接着ガラスをスパッタリング付着させると好
適である。

それから、第４図のように、トラック溝３３．３３　。

・・・の箇所へガードガラス３５．３５　、・・・をモ
ールドし、細線３Ｇ　、３１ｍ　、・・・に沿ってスラ
イスすることによって、所望の磁気へブトコアを得る。

この時、トラック溝３３．３３　、・・・内面は、下地
層３４が在り、ガードガラス３５．３５　、・・・との
なじみが改善されているので、スライス作業においても
頂ｇ２５．２５．・・・、　２Ｇ、２Ｂ、・・・の破壊
が防止される。

尚、上記実施例では、トラック溝形成以前、及び形成後
に付着させる非磁性体保護膜及び非磁性体膜として、Ａ
ｌ２Ｏ３を選定したが、この発明ではその他にＳｉＯ□
やＴｌＯ２等を選定してもよく、同様な効果が期待でき
る。

免匪包肱策この発明によると、コアブロック接合体の加工処理にお
ける磁気ギャップの破損が確実に防止できる上に、ガー
ドガラスの埋め込みも良好に行える。したがって、磁気
へブトコアの製造歩留り向丘は勿論、量産性並びに信頼
性を十分伸展させることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、この発明の一実施例に関する、コアブロック
接合体の非磁性体保護膜形成工程での斜視図、第２図は
、そのトラック溝形成工程での斜視図、第３図は、その
トラック溝付近の要部拡大側−図、第４図は、そのガー
ドガラスモールド工程での斜視図である。第５図は、一
般的なセンダスト磁気へブトコアの斜視図、第６図は、
そのトラック溝形成工程でのコアブロック斜視図である
。２０・・・コアブロック接合体、２１、２２・・・コアブロック、２４・・・磁気ギャップ、３２・・・非磁性体保護膜、３３・・・トラック溝、３４・・・下地層、３５・・・ガードガラス。

Claims

【特許請求の範囲】

所定の溝加工や薄膜等の加工処理を施した一対のコアブ
ロックを、接着材にて接合固着して、コアブロック接合
体を形成後、上記接合体の磁気ギャップを含む頂面に、
少なくとも数μｍ膜厚の非磁性体保護膜を被覆し、さら
にトラック幅設定のためのトラック溝を形成し、トラッ
ク溝内面に非磁性体膜を下地層として付着させておき、
ガラスを積層付着させることを特徴とする磁気ヘッド製
造方法。