JPWO2025105425A5 - - Google Patents

Info

Publication number
JPWO2025105425A5
JPWO2025105425A5 JP2025518929A JP2025518929A JPWO2025105425A5 JP WO2025105425 A5 JPWO2025105425 A5 JP WO2025105425A5 JP 2025518929 A JP2025518929 A JP 2025518929A JP 2025518929 A JP2025518929 A JP 2025518929A JP WO2025105425 A5 JPWO2025105425 A5 JP WO2025105425A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
membrane
substrate
deposition
deposition mask
support substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2025518929A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JPWO2025105425A1 (https=
JP7831694B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from PCT/JP2024/040446 external-priority patent/WO2025105425A1/ja
Publication of JPWO2025105425A1 publication Critical patent/JPWO2025105425A1/ja
Publication of JPWO2025105425A5 publication Critical patent/JPWO2025105425A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP7831694B2 publication Critical patent/JP7831694B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2025518929A 2023-11-16 2024-11-14 蒸着マスク、及び電子デバイスの製造方法 Active JP7831694B2 (ja)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2023195185 2023-11-16
JP2023195185 2023-11-16
PCT/JP2024/040446 WO2025105425A1 (ja) 2023-11-16 2024-11-14 蒸着マスク、及び電子デバイスの製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JPWO2025105425A1 JPWO2025105425A1 (https=) 2025-05-22
JPWO2025105425A5 true JPWO2025105425A5 (https=) 2025-10-15
JP7831694B2 JP7831694B2 (ja) 2026-03-17

Family

ID=95743160

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2025518929A Active JP7831694B2 (ja) 2023-11-16 2024-11-14 蒸着マスク、及び電子デバイスの製造方法

Country Status (4)

Country Link
JP (1) JP7831694B2 (https=)
KR (1) KR20260046210A (https=)
CN (1) CN121263547A (https=)
WO (1) WO2025105425A1 (https=)

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3024641B1 (ja) * 1998-10-23 2000-03-21 日本電気株式会社 シャドウマスク及びその製造方法並びにシャドウマスクを用いた有機ｅｌディスプレイの製造方法
JP2000133433A (ja) 1998-10-29 2000-05-12 Sharp Corp 高周波加熱装置
JP4092914B2 (ja) 2001-01-26 2008-05-28 セイコーエプソン株式会社 マスクの製造方法、有機エレクトロルミネッセンス装置の製造方法
JP2006202548A (ja) 2005-01-19 2006-08-03 Seiko Epson Corp マスク、及びマスクの製造方法
JP2009087840A (ja) * 2007-10-02 2009-04-23 Seiko Epson Corp 蒸着マスク、蒸着マスクの製造方法、有機ｅｌ素子、電子機器
CN108735915B (zh) 2017-04-14 2021-02-09 上海视涯技术有限公司 用于oled蒸镀的荫罩及其制作方法、oled面板的制作方法
JP2022175925A (ja) 2021-05-14 2022-11-25 キヤノン株式会社 蒸着マスク、及び、有機電子デバイスの製造方法
US20250146121A1 (en) 2022-01-31 2025-05-08 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Mask and method of manufacturing mask
JP2024014701A (ja) 2022-07-22 2024-02-01 オラム マテリアル コーポレーション マスクと支持部との連結体及びその製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2010529682A5 (https=)
CN105336855B (zh) 蒸镀掩模装置准备体
JP2020172705A (ja) 蒸着マスクの製造方法
JP2022509636A5 (https=)
CN107195579B (zh) 晶圆承载装置
JP2022513448A5 (https=)
CN111276630A (zh) Oled显示面板及其制作方法
CN108598292B (zh) 一种掩膜板及其制作方法
JPWO2025105425A5 (https=)
JP2022184708A5 (https=)
JPWO2025033509A5 (https=)
JPWO2025033511A5 (https=)
CN108447399A (zh) 可挠性显示器及其制造方法
JPH04148549A (ja) 半導体装置の評価方法
CN110690161B (zh) 存储器及其制作方法
JP6879461B2 (ja) 蒸着マスク、フレーム付き蒸着マスク、蒸着マスク準備体、有機半導体素子の製造方法、および有機ｅｌディスプレイの製造方法
KR100266840B1 (ko) 감압 cvd 장치
TW202325883A (zh) 加熱裝置、化學氣相沉積設備及吹掃方法
CN109830458B (zh) 晶圆支撑结构及其形成方法
KR102088584B1 (ko) Mems 멤브레인 구조체 및 그 제조방법
JPH08260139A (ja) 成膜用コリメータ、成膜装置及び電子装置の製造方法
US8846149B2 (en) Delamination resistant semiconductor film and method for forming the same
JP7547147B2 (ja) 成膜用トレイ及び太陽電池製造方法
KR102731983B1 (ko) 샤워헤드, 그를 포함하는 반도체 소자의 제조 장치, 및 반도체 소자의 제조 방법
CN114540787B (zh) 一种掩膜板、其制作方法及显示面板