JPWO2023054145A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JPWO2023054145A5
JPWO2023054145A5 JP2023551400A JP2023551400A JPWO2023054145A5 JP WO2023054145 A5 JPWO2023054145 A5 JP WO2023054145A5 JP 2023551400 A JP2023551400 A JP 2023551400A JP 2023551400 A JP2023551400 A JP 2023551400A JP WO2023054145 A5 JPWO2023054145 A5 JP WO2023054145A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
multilayer reflective
reflective film
refractive index
atomic
film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2023551400A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JPWO2023054145A1 (https=
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority claimed from PCT/JP2022/035292 external-priority patent/WO2023054145A1/ja
Publication of JPWO2023054145A1 publication Critical patent/JPWO2023054145A1/ja
Publication of JPWO2023054145A5 publication Critical patent/JPWO2023054145A5/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

JP2023551400A 2021-09-30 2022-09-22 Pending JPWO2023054145A1 (https=)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021160857 2021-09-30
PCT/JP2022/035292 WO2023054145A1 (ja) 2021-09-30 2022-09-22 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、及び半導体装置の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2023054145A1 JPWO2023054145A1 (https=) 2023-04-06
JPWO2023054145A5 true JPWO2023054145A5 (https=) 2025-07-14

Family

ID=85780693

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2023551400A Pending JPWO2023054145A1 (https=) 2021-09-30 2022-09-22

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20240377719A1 (https=)
JP (1) JPWO2023054145A1 (https=)
KR (1) KR20240070522A (https=)
TW (1) TW202332985A (https=)
WO (1) WO2023054145A1 (https=)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2025023299A1 (ja) * 2023-07-27 2025-01-30 Hoya株式会社 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク、反射型マスク、及び半導体装置の製造方法
JP2025074642A (ja) * 2023-10-30 2025-05-14 信越化学工業株式会社 反射型マスクブランク及びその製造方法
WO2025142852A1 (ja) * 2023-12-28 2025-07-03 Hoya株式会社 多層反射膜付き基板、反射型マスクブランク及び反射型マスク、並びに半導体装置の製造方法
CN121115389A (zh) * 2024-06-12 2025-12-12 信越化学工业株式会社 反射型掩模坯料、反射型掩模及反射型掩模坯料的制造方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2723955B2 (ja) 1989-03-16 1998-03-09 キヤノン株式会社 軟x線・真空紫外線用多層膜反射鏡
JP3097778B2 (ja) 1992-01-23 2000-10-10 日本電信電話株式会社 多層膜分光反射鏡
JPH09230098A (ja) 1996-02-21 1997-09-05 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> 多層膜x線反射鏡
JP2006332153A (ja) * 2005-05-24 2006-12-07 Hoya Corp 反射型マスクブランク及び反射型マスク並びに半導体装置の製造方法
JP6546391B2 (ja) * 2014-12-02 2019-07-17 エヌ・ティ・ティ・アドバンステクノロジ株式会社 多層膜反射鏡およびeuv光装置
KR20210089406A (ko) 2020-01-08 2021-07-16 주식회사 에스앤에스텍 극자외선용 반사형 블랭크 마스크 및 포토마스크
JP7577486B2 (ja) * 2020-09-10 2024-11-05 信越化学工業株式会社 Euvマスクブランク用多層反射膜付き基板、その製造方法及びeuvマスクブランク

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPWO2023054145A5 (https=)
US10871707B2 (en) Reflective mask blank, reflective mask and method of manufacturing semiconductor device
JP7263424B2 (ja) 反射型マスクブランク、反射型マスク及び半導体装置の製造方法
US10481484B2 (en) Reflective mask blank, reflective mask, method for manufacturing reflective mask blank, and method for manufacturing semiconductor device
JP2023076522A (ja) 反射型マスクブランク、反射型マスク、及び半導体装置の製造方法
JP7193344B2 (ja) 反射型マスクブランク、反射型マスクの製造方法、及び半導体装置の製造方法
US11372323B2 (en) Phase-shift mask for extreme ultraviolet lithography
JP7268211B2 (ja) 反射型マスクブランク、反射型マスク及びその製造方法、並びに半導体装置の製造方法
JPWO2022138434A5 (https=)
JP7478208B2 (ja) 反射型マスク、並びに反射型マスクブランク及び半導体装置の製造方法
KR102852945B1 (ko) 반사형 마스크 블랭크, 반사형 마스크, 및 반사형 마스크 블랭크의 제조 방법
KR20130088075A (ko) Euv 리소그래피용 반사형 마스크 블랭크, 및 euv 리소그래피용 반사형 마스크
JP2007133102A (ja) 反射防止膜を有する光学素子及びそれを有する露光装置
US8187774B2 (en) Mask for EUV lithography and method for exposure using the same
JP4958147B2 (ja) 露光用反射型マスクブランク及び露光用反射型マスク、多層反射膜付き基板、並びに半導体装置の製造方法
JP7588176B2 (ja) 反射型マスクブランク、反射型マスク及び半導体装置の製造方法
JP2016072438A (ja) 反射型マスクブランク、反射型マスク及びその製造方法、並びに半導体装置の製造方法
JP4423119B2 (ja) 反射防止膜及びそれを用いた光学素子
JPWO2023037980A5 (https=)
TW202409710A (zh) 反射型光罩基底及反射型光罩
JP4856798B2 (ja) 反射型マスクブランクの製造方法及び反射型マスクの製造方法、並びに半導体装置の製造方法
CN113805427B (zh) 用于极紫外光刻的相移掩模和用其制造半导体装置的方法
JPH11264902A (ja) 反射防止膜及びそれを施した光学系
JP3720609B2 (ja) 反射防止膜及びそれを施した光学系
JP2003084095A (ja) 多層膜反射鏡、その製造方法、x線露光装置、半導体デバイスの製造方法及びx線光学系