JP4423119B2 - 反射防止膜及びそれを用いた光学素子 - Google Patents
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Description
0.45λ0≦d1≦0.65λ0
0.05λ0≦d2≦0.20λ0
0.29λ0≦d3≦0.49λ0
0.01λ0≦d4≦0.15λ0
0.05λ0≦d5≦0.20λ0
0.23λ0≦d6≦0.28λ0
0.23λ0≦d7≦0.28λ0
0.23λ0≦d8≦0.28λ0
146nmから184nmまでの波長範囲で、反射率0.3%以下
なる条件を満たすことを特徴とする。
0.05λ0≦d1≦0.25λ0
0.01λ0≦d2≦0.15λ0
0.15λ0≦d3≦0.32λ0
0.47λ0≦d4≦0.67λ0
0.23λ0≦d5≦0.29λ0
0.23λ0≦d6≦0.28λ0
144nmから207nmまでの波長範囲で反射率0.7%以下
なる条件を満たすことを特徴とする。
0.05λ0≦d1≦0.26λ0
0.01λ0≦d2≦0.15λ0
0.12λ0≦d3≦0.32λ0
0.23λ0≦d4≦0.29λ0
0.23λ0≦d5≦0.29λ0
0.23λ0≦d6≦0.28λ0
146nmから173nmまでの波長範囲で反射率0.2%以下
なる条件を満たすことを特徴とする。
図1に本発明の代表的な157nm用の8層反射防止膜の膜構成模式図を示す。
本実施例の反射防止膜は、高屈折率層として波長157nmでの屈折率1.765のLaF3膜を用い、低屈折率層として波長157nmでの屈折率1.466のMgF2膜を用いた6層構成である。表2に、設計中心波長λ0=157nmの紫外光に対する反射防止膜構成を示す。
本実施例の反射防止膜は、高屈折率層として波長157nmでの屈折率1.756のLaF3膜を用い、低屈折率層として波長157nmでの屈折率1.471のMgF2膜を用いた6層構成である。表3に、設計中心波長λ0=157nmの紫外光に対する反射防止膜構成を示す。
図7は本発明の反射防止膜が施された光学素子を用いた半導体デバイス等のデバイス製造用の露光装置の光学系の要部概略図である。図中、71は光源であり、波長157nmの紫外光を供給するF2レーザ、72は照明光学系、73は投影光学系、Rはレチクル、Wはウエハである。本発明の反射防止膜は、照明光学系72や投影光学系73、その他不図示であるがアライメント光学系等の様々な箇所に設けられた光学素子において使用することができる。
次に図7の露光装置を利用した半導体素子の製造方法の実施例を説明する。
Claims (5)
- LaF3からなる高屈折率層、MgF2からなる低屈折率層よりなる交互層を複数組有する8層構造の反射防止膜であって、
基板側から数えて第1、第3、第5、第7番目の層が高屈折率層、基板側から数えて第2、第4、第6、第8番目の層が低屈折率層であり、波長140nmから300nmの範囲に設計中心波長λ0をもち、前記第1番目から第8番目までの各層の光学的膜厚をそれぞれd1,d2,d3,d4,d5,d6,d7,d8とするとき、
0.45λ0≦d1≦0.65λ0
0.05λ0≦d2≦0.20λ0
0.29λ0≦d3≦0.49λ0
0.01λ0≦d4≦0.15λ0
0.05λ0≦d5≦0.20λ0
0.23λ0≦d6≦0.28λ0
0.23λ0≦d7≦0.28λ0
0.23λ0≦d8≦0.28λ0
146nmから184nmまでの波長範囲で、反射率0.3%以下
なる条件を満たすことを特徴とする反射防止膜。 - LaF3からなる高屈折率層、MgF2からなる低屈折率層よりなる交互層を複数組有する6層構造の反射防止膜であって、
基板側から数えて第1、第3、第5番目の層が高屈折率層、基板側から数えて第2、第4、第6番目の層が低屈折率層であり、波長140nmから300nmの範囲に設計中心波長λ0をもち、前記第1番目から第6番目までの各層の光学的膜厚をそれぞれd1,d2,d3,d4,d5,d6とするとき、
0.05λ0≦d1≦0.25λ0
0.01λ0≦d2≦0.15λ0
0.15λ0≦d3≦0.32λ0
0.47λ0≦d4≦0.67λ0
0.23λ0≦d5≦0.29λ0
0.23λ0≦d6≦0.28λ0
144nmから207nmまでの波長範囲で反射率0.7%以下
なる条件を満たすことを特徴とする反射防止膜。 - LaF3からなる高屈折率層、MgF2からなる低屈折率層よりなる交互層を複数組有する6層構造の反射防止膜であって、
基板側から数えて第1、第3、第5番目の層が高屈折率層、基板側から数えて第2、第4、第6番目の層が低屈折率層であり、波長140nmから300nmの範囲に設計中心波長λ0をもち、前記第1番目から第6番目までの各層の光学的膜厚をそれぞれd1,d2,d3,d4,d5,d6とするとき、
0.05λ0≦d1≦0.26λ0
0.01λ0≦d2≦0.15λ0
0.12λ0≦d3≦0.32λ0
0.23λ0≦d4≦0.29λ0
0.23λ0≦d5≦0.29λ0
0.23λ0≦d6≦0.28λ0
146nmから173nmまでの波長範囲で反射率0.2%以下
なる条件を満たすことを特徴とする反射防止膜。 - 前記基板が石英又は蛍石であることを特徴とする請求項1〜3いずれかの反射防止膜。
- 請求項1〜4いずれかの反射防止膜が施された光学素子。
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