JPWO2022004350A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JPWO2022004350A5 JPWO2022004350A5 JP2022533813A JP2022533813A JPWO2022004350A5 JP WO2022004350 A5 JPWO2022004350 A5 JP WO2022004350A5 JP 2022533813 A JP2022533813 A JP 2022533813A JP 2022533813 A JP2022533813 A JP 2022533813A JP WO2022004350 A5 JPWO2022004350 A5 JP WO2022004350A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- phase shift
- transmittance adjusting
- mask
- pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 claims description 31
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 claims 20
- 230000008033 biological extinction Effects 0.000 claims 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims 6
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 claims 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims 2
Images
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2020112702 | 2020-06-30 | ||
| JP2020112702 | 2020-06-30 | ||
| PCT/JP2021/022631 WO2022004350A1 (ja) | 2020-06-30 | 2021-06-15 | マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2022004350A1 JPWO2022004350A1 (https=) | 2022-01-06 |
| JPWO2022004350A5 true JPWO2022004350A5 (https=) | 2023-03-15 |
| JP7618677B2 JP7618677B2 (ja) | 2025-01-21 |
Family
ID=79315296
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2022533813A Active JP7618677B2 (ja) | 2020-06-30 | 2021-06-15 | マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法及び半導体デバイスの製造方法 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20230194973A1 (https=) |
| JP (1) | JP7618677B2 (https=) |
| KR (1) | KR20230029606A (https=) |
| CN (1) | CN115769144B (https=) |
| TW (1) | TWI902828B (https=) |
| WO (1) | WO2022004350A1 (https=) |
Family Cites Families (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06123961A (ja) | 1992-10-12 | 1994-05-06 | Hoya Corp | 位相シフトマスク及び位相シフトマスクブランク並びに位相シフトマスクの製造方法 |
| JP2003255513A (ja) * | 2002-03-05 | 2003-09-10 | Toppan Printing Co Ltd | ハーフトーン型位相シフトマスクおよびブランク並びにパターン転写方法 |
| JP2004085760A (ja) * | 2002-08-26 | 2004-03-18 | Toppan Printing Co Ltd | ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びそれを用いたハーフトーン型位相シフトマスク、並びにパターン転写法 |
| TWI480675B (zh) * | 2004-03-31 | 2015-04-11 | Shinetsu Chemical Co | 半色調相移空白光罩,半色調相移光罩,以及圖案轉移方法 |
| JP5165833B2 (ja) * | 2005-02-04 | 2013-03-21 | 信越化学工業株式会社 | フォトマスクブランク、フォトマスク、およびフォトマスクブランクの製造方法 |
| JP2007279441A (ja) | 2006-04-07 | 2007-10-25 | Toshiba Corp | ハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法 |
| JP2008310091A (ja) * | 2007-06-15 | 2008-12-25 | Shin Etsu Chem Co Ltd | ハーフトーン型位相シフトマスク |
| JP6430155B2 (ja) * | 2014-06-19 | 2018-11-28 | Hoya株式会社 | マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 |
| JP6502143B2 (ja) * | 2015-03-27 | 2019-04-17 | Hoya株式会社 | マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 |
| US10481485B2 (en) * | 2015-05-15 | 2019-11-19 | Hoya Corporation | Mask blank, transfer mask, method of manufacturing transfer mask and method of manufacturing semiconductor device |
| WO2018181891A1 (ja) * | 2017-03-31 | 2018-10-04 | 凸版印刷株式会社 | 位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及び位相シフトマスクの製造方法 |
| JP6505891B2 (ja) * | 2018-03-02 | 2019-04-24 | Hoya株式会社 | マスクブランク、位相シフトマスクおよびこれらの製造方法 |
| JP6938428B2 (ja) * | 2018-05-30 | 2021-09-22 | Hoya株式会社 | マスクブランク、位相シフトマスクおよび半導体デバイスの製造方法 |
| JP7109996B2 (ja) * | 2018-05-30 | 2022-08-01 | Hoya株式会社 | マスクブランク、位相シフトマスクおよび半導体デバイスの製造方法 |
| JP7179543B2 (ja) * | 2018-09-12 | 2022-11-29 | Hoya株式会社 | マスクブランク、転写用マスクおよび半導体デバイスの製造方法 |
-
2021
- 2021-06-15 KR KR1020227041217A patent/KR20230029606A/ko not_active Ceased
- 2021-06-15 WO PCT/JP2021/022631 patent/WO2022004350A1/ja not_active Ceased
- 2021-06-15 CN CN202180041203.3A patent/CN115769144B/zh active Active
- 2021-06-15 US US17/926,962 patent/US20230194973A1/en active Pending
- 2021-06-15 JP JP2022533813A patent/JP7618677B2/ja active Active
- 2021-06-21 TW TW110122566A patent/TWI902828B/zh active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2016164683A5 (https=) | ||
| TWI658320B (zh) | 圖案轉印方法及顯示裝置之製造方法 | |
| JP2012078441A5 (https=) | ||
| TWI480679B (zh) | 多灰階光罩、多灰階光罩之製造方法、圖案轉印方法及薄膜電晶體之製造方法 | |
| CN110673436B (zh) | 光掩模、光掩模的制造方法以及显示装置的制造方法 | |
| JP2015212826A5 (https=) | ||
| JP2019207361A5 (https=) | ||
| CN110824847A (zh) | 提高套刻精度的刻蚀方法 | |
| JP2019040200A5 (ja) | マスクブランク、位相シフトマスク、及び半導体デバイスの製造方法 | |
| JP2019174806A5 (https=) | ||
| JP2019207359A5 (https=) | ||
| CN107817648A (zh) | 光掩模的制造方法、光掩模以及显示装置的制造方法 | |
| KR20100137194A (ko) | 극자외선 리소그래피를 위한 마스크 및 이를 이용한 노광방법 | |
| JP7507100B2 (ja) | フォトマスク、フォトマスクの製造方法、表示装置用デバイスの製造方法 | |
| CN116500854B (zh) | 显示装置制造用光掩模、以及显示装置的制造方法 | |
| JP2022188992A5 (https=) | ||
| JP2021039335A5 (https=) | ||
| JPWO2022004350A5 (https=) | ||
| JP2018146760A5 (https=) | ||
| JPS63216052A (ja) | 露光方法 | |
| JPWO2021059890A5 (https=) | ||
| JP2020122988A (ja) | フォトマスク及び表示装置の製造方法 | |
| JP2020101741A5 (ja) | マスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法および半導体デバイスの製造方法 | |
| TW201823856A (zh) | 光罩之製造方法、光罩、及顯示裝置之製造方法 | |
| JP4325192B2 (ja) | ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク |