JPWO2021106581A5 - - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims 2
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 claims 1
Claims (7)
- 基板に対する基板処理装置の処理スケジュールを複数の基板処理装置から取得する取得部と、
前記複数の基板処理装置の優先度に基づいて、新たな基板に対して処理スケジュールを開始する予定である開始予定基板処理装置を選択する選択部と、
処理が開始された前記処理スケジュールによって使用される用力、および前記開始予定基板処理装置において新たに開始される前記処理スケジュールである開始予定処理スケジュールによって使用される用力の合計値を算出する算出部と、
前記合計値が所与の上限値よりも大きい場合に、前記合計値が前記所与の上限値以下となるように、前記開始予定処理スケジュールの開始タイミングを設定する設定部と
を備え、
前記処理スケジュールは、前記基板処理装置が前記基板に対して行う全処理のスケジュールである、制御装置。 - 前記複数の基板処理装置の状態に基づいて前記優先度を設定する優先度設定部
を備える請求項１に記載の制御装置。 - 前記優先度設定部は、
警告中、またはメンテナンス中の処理部を有する基板処理装置の前記優先度を低くする
請求項２に記載の制御装置。 - 前記優先度設定部は、
処理前の前記基板の数が多い前記基板処理装置の前記優先度を高くする
請求項２に記載の制御装置。 - 前記優先度設定部は、
処理前の前記基板の待機時間が長い前記基板処理装置の前記優先度を高くする
請求項２に記載の制御装置。 - 請求項１～５のいずれか一つに記載の制御装置と、
前記複数の基板処理装置と
を備える基板処理システム。 - 基板に対する基板処理装置の処理スケジュールを複数の基板処理装置から取得する取得工程と、
前記複数の基板処理装置の優先度に基づいて、新たな基板に対して処理スケジュールを開始する予定である開始予定基板処理装置を選択する選択工程と、
処理が開始された前記処理スケジュールによって使用される用力、および前記開始予定基板処理装置において新たに開始される前記処理スケジュールである開始予定処理スケジュールによって使用される用力の合計値を算出する算出工程と、
前記合計値が所与の上限値よりも大きい場合に、前記合計値が前記所与の上限値以下となるように、前記開始予定処理スケジュールの開始タイミングを設定する設定工程と
を含み、
前記処理スケジュールは、前記基板処理装置が前記基板に対して行う全処理のスケジュールである、制御方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2019212843 | 2019-11-26 | ||
| JP2019212843 | 2019-11-26 | ||
| PCT/JP2020/042170 WO2021106581A1 (ja) | 2019-11-26 | 2020-11-12 | 制御装置、基板処理システム、および制御方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2021106581A1 JPWO2021106581A1 (ja) | 2021-06-03 |
| JPWO2021106581A5 true JPWO2021106581A5 (ja) | 2022-03-09 |
| JP7098072B2 JP7098072B2 (ja) | 2022-07-08 |
Family
ID=76130206
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2021561285A Active JP7098072B2 (ja) | 2019-11-26 | 2020-11-12 | 制御装置、基板処理システム、および制御方法 |
Country Status (5)
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|---|---|
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| WO (1) | WO2021106581A1 (ja) |
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2020
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