JPWO2020066426A1 - 赤外線吸収材料微粒子分散液とその製造方法 - Google Patents
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- 239000010419 fine particle Substances 0.000 title claims abstract description 212
- 239000011358 absorbing material Substances 0.000 title claims abstract description 169
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 title claims abstract description 142
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 17
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims abstract description 84
- 229910001930 tungsten oxide Inorganic materials 0.000 claims abstract description 46
- QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N nonaoxidotritungsten Chemical compound O=[W]1(=O)O[W](=O)(=O)O[W](=O)(=O)O1 QGLKJKCYBOYXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 45
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims abstract description 40
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims abstract description 33
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 31
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 39
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 claims description 28
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910052716 thallium Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 229910052701 rubidium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 5
- 150000004715 keto acids Chemical class 0.000 claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 20
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 abstract description 5
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 abstract description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 19
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 13
- 239000003574 free electron Substances 0.000 description 13
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 11
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 11
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 11
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 10
- 238000012790 confirmation Methods 0.000 description 10
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 9
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 8
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 8
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 8
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 8
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 7
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N tungsten trioxide Chemical compound O=[W](=O)=O ZNOKGRXACCSDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 5
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 5
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 5
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 4
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 4
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 4
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 4
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 4
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 4
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 4
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002585 base Substances 0.000 description 3
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N copper;5,10,15,20-tetraphenylporphyrin-22,24-diide Chemical compound [Cu+2].C1=CC(C(=C2C=CC([N-]2)=C(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC(N=2)=C(C=2C=CC=CC=2)C2=CC=C3[N-]2)C=2C=CC=CC=2)=NC1=C3C1=CC=CC=C1 RKTYLMNFRDHKIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 description 3
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 150000003658 tungsten compounds Chemical class 0.000 description 3
- KPGXUAIFQMJJFB-UHFFFAOYSA-H tungsten hexachloride Chemical compound Cl[W](Cl)(Cl)(Cl)(Cl)Cl KPGXUAIFQMJJFB-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 3
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- COLNVLDHVKWLRT-QMMMGPOBSA-N L-phenylalanine Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CC1=CC=CC=C1 COLNVLDHVKWLRT-QMMMGPOBSA-N 0.000 description 2
- 240000004050 Pentaglottis sempervirens Species 0.000 description 2
- 235000004522 Pentaglottis sempervirens Nutrition 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 description 2
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 2
- 239000010974 bronze Substances 0.000 description 2
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GNTDGMZSJNCJKK-UHFFFAOYSA-N divanadium pentaoxide Chemical compound O=[V](=O)O[V](=O)=O GNTDGMZSJNCJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000005338 frosted glass Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 2
- 239000011812 mixed powder Substances 0.000 description 2
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- JKQOBWVOAYFWKG-UHFFFAOYSA-N molybdenum trioxide Chemical compound O=[Mo](=O)=O JKQOBWVOAYFWKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 description 2
- COLNVLDHVKWLRT-UHFFFAOYSA-N phenylalanine Natural products OC(=O)C(N)CC1=CC=CC=C1 COLNVLDHVKWLRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- CMPGARWFYBADJI-UHFFFAOYSA-L tungstic acid Chemical compound O[W](O)(=O)=O CMPGARWFYBADJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- MTCFGRXMJLQNBG-REOHCLBHSA-N (2S)-2-Amino-3-hydroxypropansäure Chemical compound OC[C@H](N)C(O)=O MTCFGRXMJLQNBG-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWLHAQYOFMQTHQ-UHFFFAOYSA-N 2-N-[8-[[8-(4-aminoanilino)-10-phenylphenazin-10-ium-2-yl]amino]-10-phenylphenazin-10-ium-2-yl]-8-N,10-diphenylphenazin-10-ium-2,8-diamine hydroxy-oxido-dioxochromium Chemical compound O[Cr]([O-])(=O)=O.O[Cr]([O-])(=O)=O.O[Cr]([O-])(=O)=O.Nc1ccc(Nc2ccc3nc4ccc(Nc5ccc6nc7ccc(Nc8ccc9nc%10ccc(Nc%11ccccc%11)cc%10[n+](-c%10ccccc%10)c9c8)cc7[n+](-c7ccccc7)c6c5)cc4[n+](-c4ccccc4)c3c2)cc1 FWLHAQYOFMQTHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 206010021143 Hypoxia Diseases 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MTCFGRXMJLQNBG-UHFFFAOYSA-N Serine Natural products OCC(N)C(O)=O MTCFGRXMJLQNBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910021542 Vanadium(IV) oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001413 amino acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004042 decolorization Methods 0.000 description 1
- 238000002296 dynamic light scattering Methods 0.000 description 1
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 230000001747 exhibiting effect Effects 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000446 fuel Substances 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012770 industrial material Substances 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 238000007641 inkjet printing Methods 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000031700 light absorption Effects 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N niobium pentoxide Inorganic materials O=[Nb](=O)O[Nb](=O)=O ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 239000012860 organic pigment Substances 0.000 description 1
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- VVRQVWSVLMGPRN-UHFFFAOYSA-N oxotungsten Chemical class [W]=O VVRQVWSVLMGPRN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);tantalum(5+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ta+5].[Ta+5] BPUBBGLMJRNUCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 239000001267 polyvinylpyrrolidone Substances 0.000 description 1
- 235000013855 polyvinylpyrrolidone Nutrition 0.000 description 1
- 229920000036 polyvinylpyrrolidone Polymers 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000004062 sedimentation Methods 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003384 small molecules Chemical class 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000003746 solid phase reaction Methods 0.000 description 1
- 238000010532 solid phase synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229920003048 styrene butadiene rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 1
- PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N tantalum pentoxide Inorganic materials O=[Ta](=O)O[Ta](=O)=O PBCFLUZVCVVTBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- GRUMUEUJTSXQOI-UHFFFAOYSA-N vanadium dioxide Chemical compound O=[V]=O GRUMUEUJTSXQOI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
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-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
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- C01G41/00—Compounds of tungsten
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- C01G41/00—Compounds of tungsten
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2004/00—Particle morphology
- C01P2004/60—Particles characterised by their size
- C01P2004/64—Nanometer sized, i.e. from 1-100 nanometer
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/22—Rheological behaviour as dispersion, e.g. viscosity, sedimentation stability
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/40—Electric properties
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/60—Optical properties, e.g. expressed in CIELAB-values
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01P—INDEXING SCHEME RELATING TO STRUCTURAL AND PHYSICAL ASPECTS OF SOLID INORGANIC COMPOUNDS
- C01P2006/00—Physical properties of inorganic compounds
- C01P2006/80—Compositional purity
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/42—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of particles only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2218/00—Methods for coating glass
- C03C2218/10—Deposition methods
- C03C2218/11—Deposition methods from solutions or suspensions
- C03C2218/112—Deposition methods from solutions or suspensions by spraying
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B5/00—Optical elements other than lenses
- G02B5/20—Filters
- G02B5/208—Filters for use with infrared or ultraviolet radiation, e.g. for separating visible light from infrared and/or ultraviolet radiation
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
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Abstract
Description
これらの赤外線吸収体に係る提案を、機能的観点から俯瞰してみる。
すると、例えば、各種建築物や車両の窓材等の分野において、可視光線を十分に取り入れながら近赤外領域の光を遮蔽することにより、明るさを維持しつつ室内の温度上昇を抑制することを目的としたものがある。
すると、例えば窓材等に使用される遮光部材として、可視光領域から近赤外線領域に吸収特性があるカーボンブラック、チタンブラック等の無機顔料を用いた遮光部材、可視光領域のみに強い吸収特性のあるアニリンブラック等の有機顔料等を含む黒色系顔料を用いた遮光部材、さらに、アルミ等の金属を蒸着したハーフミラータイプの遮光部材、といった各種の遮光部材が提案されている。
当該太陽光可変調光断熱材料は太陽光が照射されると、光線中の紫外線が酸化タングステンに吸収されて励起電子とホールとが発生し、少量の紫外線量により5価タングステンの出現量が著しく増加して着色反応が速くなり、これに伴って着色濃度が高くなるものである。他方、光が遮断されることによって、前記5価タングステンが極めて速やかに6価に酸化されて消色反応が高くなるものである。当該着色/消色特性を用い、太陽光に対する着色および消色反応が速く、着色時に近赤外域の波長1250nmに吸収ピークが現れ、太陽光の近赤外線を遮断することが出来る太陽光可変調光断熱材料が得られることが提案されている。
尚、前記赤外線遮蔽材料微粒子は、一般式WyOz(但し、Wはタングステン、Oは酸素、2.2≦z/y≦2.999)で表記されるタングステン酸化物の微粒子、または/および、一般式MxWyOz(但し、Mは、H、He、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Mg、Zr、Cr、Mn、Fe、Ru、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Al、Ga、In、Tl、Si、Ge、Sn、Pb、Sb、B、F、P、S、Se、Br、Te、Ti、Nb、V、Mo、Ta、Re、Be、Hf、Os、Bi、Iのうちから選択される1種類以上の元素、Wはタングステン、Oは酸素、0.001≦x/y≦1、2.2≦z/y≦3.0)で表記される複合タングステン酸化物の微粒子であって、当該赤外線遮蔽材料微粒子の粒子直径は1nm以上800nm以下である。
ここで、近年、各種の工業材料において環境負荷を低減することが求められており、上述した塗工液においても、溶媒が水を含むことを求められている。
本発明は上述の状況の下で為されたものであり、その課題とするところは、溶媒が水を含む場合、または、溶媒が全て水である場合であっても、長期保存性に優れる赤外線吸収材料微粒子分散液とその製造方法を提供することである。
赤外線吸収材料微粒子と溶媒とを含む赤外線吸収材料微粒子分散液であって、
前記赤外線吸収材料微粒子は、一般式MxWOy(ただし、Mは、Cs、Rb、K、Tl、Baから選択される1種類以上の元素、0.1≦x≦0.5、2.2≦y≦3.0)で表される複合タングステン酸化物微粒子を含み、
前記溶媒は水を含み、
前記赤外線吸収材料微粒子分散液のゼータ電位の絶対値が、5mV以上100mV以下であることを特徴とする赤外線吸収材料微粒子分散液である。
第2の発明は、
前記ゼータ電位の値が、−100mV以上−5mV以下であることを特徴とする第1の発明に記載の赤外線吸収材料微粒子分散液である。
第3の発明は、
pH値が4以上であることを特徴とする第1または第2の発明に記載の赤外線吸収微粒子分散液である。
第4の発明は、
前記複合タングステン酸化物微粒子の粒子径が、800nm以下であることを特徴とする第1から第3の発明のいずれかに記載の赤外線吸収材料微粒子分散液である。
第5の発明は、
さらに、1種以上の分散剤を含むことを特徴とする第1から第4の発明のいずれかに記載の赤外線吸収材料微粒子分散液である。
第6の発明は、
前記分散剤が、アミノ基、オキソ酸のいずれか1種以上を含むことを特徴とする第5の発明に記載の赤外線吸収材料微粒子分散液である。
第7の発明は、
前記赤外線吸収材料微粒子分散液中に含有されている赤外線吸収材料微粒子の含有量が、0.01質量%以上80質量%以下であることを特徴とする第1から第6の発明のいずれかに記載の赤外線吸収材料微粒子分散液である。
第8の発明は、
赤外線吸収材料微粒子と溶媒とを含む赤外線吸収材料微粒子分散液の製造方法であって、
水を含む前記溶媒へ、一般式MxWOy(ただし、Mは、Cs、Rb、K、Tl、Baから選択される1種類以上の元素、0.1≦x≦0.5、2.2≦y≦3.0)で表される複合タングステン酸化物微粒子を含む前記赤外線吸収材料微粒子を分散させて、赤外線吸収材料微粒子分散液とし、
前記赤外線吸収材料微粒子分散液のゼータ電位の絶対値を、5mV以上100mV以下とすることを特徴とする赤外線吸収材料微粒子分散液の製造方法である。
第9の発明は、
前記赤外線吸収材料微粒子分散液のpH値を、4以上とすることを特徴とする第8の発明に記載の赤外線吸収微粒子分散液の製造方法である。
以下、本発明に係る赤外線吸収材料微粒子分散液を、[1]赤外線吸収材料微粒子、[2]赤外線吸収材料微粒子分散液に用いられる溶媒、[3]赤外線吸収材料微粒子分散液、[4]赤外線吸収材料微粒子分散液へ添加される分散剤、[5]赤外線吸収材料微粒子の製造方法、[6]赤外線吸収材料微粒子分散液の製造方法、[7]赤外線吸収材料微粒子分散液の使用方法、の順に説明する。
本発明に係る赤外線吸収材料微粒子分散液は、赤外線吸収材料微粒子として、少なくとも一般式MxWyOz(但し、M元素はCs、Rb、K、Tl、Baから選択される1種類以上の元素、0.1≦x≦0.5、2.2≦y≦3.0)で表記される複合タングステン酸化物微粒子を含んでいる。
以下、複合タングステン酸化物微粒子を例として、本発明に係る赤外線吸収材料微粒子について説明する。
尚、本発明において「透明性」とは、「可視光領域の光に対して散乱が少なく透過性が高い。」という意味で用いている。
この酸素量の制御と、自由電子を生成するM元素の添加とを併用した赤外線吸収材料微粒子は、一般式をMxWyOz(但し、Mは、Cs、Rb、K、Tl、Baから選択される1種類以上の元素であることが好ましい、Wはタングステン、Oは酸素である。)と記載したとき、0.001≦x/y≦1、2.2≦z/y≦3の関係を満たす赤外線吸収材料微粒子である。
そして、六方晶の結晶構造を有する複合タングステン酸化物微粒子が均一な結晶構造を有するとき、M元素の添加量は、x/yの値で0.2以上0.5以下が好ましく、さらに好ましくは0.33である。x/yの値が0.33となることで、上述したM元素が六角形の空隙の全てに配置されると考えられる。
従って、可視光領域の光をより透過し、赤外線領域の光をより吸収する用途には、六方晶の複合タングステン酸化物を用いることが好ましい。ただし、ここで述べた光学特性の傾向は、あくまで大まかな傾向であり、添加元素の種類や、添加量、酸素量によって変化するものであり、本発明がこれに限定されるわけではない。
本発明に係る赤外線吸収材料微粒子分散液に用いられる溶媒は、その構成に水を含むものである。本発明において「構成に水を含む」とは、当該溶媒中に水を1質量%以上含むもののことであり、水と相溶する有機溶媒、例えば、アルコール類やグリコール類等と、水との混合溶媒を包括する概念である。さらに、水のみで構成される溶媒も包括する概念である。
尚、本発明において水とは、塩素などの陰イオンをイオン交換樹脂で除去したイオン交換水、超純水等を含む概念である。
本発明に係る赤外線吸収材料微粒子分散液は、上述した赤外線吸収材料微粒子を溶媒に分散させた分散液である。
本発明に係る赤外線吸収材料微粒子分散液は、ゼータ電位の絶対値が5mV以上100mV以下の範囲にある分散液である。即ち、ゼータ電位の値が、5mV以上100mV以下、または、−100mV以上−5mV以下の範囲にある分散液である。
本発明において、赤外線吸収材料微粒子の分散粒子径とは、上述した赤外線吸収材料微粒子の粒子径とは異なり、赤外線吸収材料微粒子の凝集体の粒径も含む概念である。
この粒子による散乱の低減を重視するとき、当該分散液中における赤外線吸収材料微粒子の分散粒子径は200nm以下、好ましくは100nm以下が良い。この理由は、赤外線吸収材料微粒子の分散粒子径が小さければ、幾何学散乱もしくはミー散乱による、波長400nm〜780nmの可視光線領域の光の散乱が低減される結果、赤外線吸収膜が曇りガラスのようになり、鮮明な透明性が得られなくなるのを回避できるからである。即ち、当該分散液中における赤外線吸収材料微粒子の分散粒子径が200nm以下になると、上記幾何学散乱もしくはミー散乱が低減し、レイリー散乱領域になる。レイリー散乱領域では、散乱光は粒子径の6乗に比例しているため、分散粒子径の減少に伴い散乱が低減し透明性が向上するからである。
さらに分散粒子径が100nm以下になると、散乱光は非常に少なくなり好ましい。光の散乱を回避する観点からは、分散粒子径が小さい方が好ましく、分散粒子径が1nm以上あれば工業的な製造は容易である。
尚、赤外線吸収材料微粒子の分散粒子径は、動的光散乱法を原理とした大塚電子株式会社製ELS−8000等を用いて測定することができる。
本発明に係る赤外線吸収材料微粒子分散液のゼータ電位は、当該分散液のpH調整、当該分散液への分散剤の添加により制御出来る。
具体的には、赤外線吸収材料微粒子分散液のpH値を3以上10以下とすることが好ましく、pH値を4以上7以下とすることがより好ましい。当該pH調整には、当該分散液への弱酸等の添加も有効である。
また、セリン、フェニルアラニン等のアミノ酸を、分散剤として添加してもよい。
また、好ましい分散剤として、オキソ酸を備える水溶性の分散剤を挙げることも出来る。ここで、オキソ酸としてはカルボキシル基を好ましく挙げることができる。例えば市販の分散剤として、ソルスパース41090、ソルスパース43000、ソルスパース44000、ソルスパース46000、ソルスパース47000、ソルスパース53095(ルーブリゾール社製)等を好ましく挙げることが出来る。
これに対し、赤外線吸収材料微粒子分散液へ添加する分散剤が低分子分散剤の場合、著しいブリードアウトを生じることはない。
本発明に係る赤外線吸収材料微粒子分散液に含まれる赤外線吸収材料微粒子の製造方法について、例として、固相反応による複合タングステン酸化物微粒子の製造例を用いて説明する。
タングステン化合物としては、タングステン酸(H2WO4)、タングステン酸アンモニウム、六塩化タングステン、アルコールに溶解した六塩化タングステンに水を添加して加水分解した後、溶媒を蒸発させたタングステンの水和物、から選ばれる1種以上であることが好ましい。
本発明に係る赤外線吸収材料微粒子と溶媒とを含む赤外線吸収材料微粒子分散液の製造方法は、上述した溶媒へ、一般式MxWOyで表される複合タングステン酸化物微粒子を含む前記赤外線吸収材料微粒子を分散させて赤外線吸収材料微粒子分散液を製造し、当該分散液のゼータ電位の絶対値を所定の値の範囲内とするものである。
そして、当該粉砕・分散処理後における赤外線吸収材料微粒子分散液のゼータ電位の絶対値を5mV以上100mV以下に維持できればよい。
本発明に係る赤外線吸収材料微粒子分散液へ、バインダーとして水溶性のポリスチレン、水溶性のスチレン‐ブタジエン共重合物、水溶性のアクリル酸エステル共重合物のエマルジョン等を加え混合することで、本発明に係る赤外線吸収材料微粒子を含む水溶性の塗工液を製造することが出来る。
製造された塗工液を、ガラス等の基材に塗布し、乾燥させれば、塗工液の塗布した膜が硬化し、赤外線吸収材料微粒子分散体を得ることが出来る。例えば、基材がガラスならば、赤外線吸収材料微粒子分散体を備えたガラスを得ることが出来るので、これを窓等に用いると赤外線遮蔽窓を得ることが出来る。
また、本発明に係る赤外線吸収材料微粒子分散液や塗工液は、インクジェットやスプレー塗装など公知の塗布方法に適用出来る。
水0.330kgへCs2CO30.216kgを加えて溶解し、得られた溶液をH2WO41.000kgへ添加して十分攪拌した後、乾燥して乾燥物を得た。N2ガスをキャリアーとした5%H2ガスを供給しながら当該乾燥物を加熱し、800℃の温度で1時間焼成した。その後、さらにN2ガス雰囲気下800℃で2時間焼成する固相法によって、複合タングステン酸化物(Cs0.33WO3)を得た。
実施例1にて製造した複合タングステン酸化物40g(20質量%)と、市販の高分子分散剤A(有機オキソ酸を含む化合物)16g(8質量%)と、水144g(72質量%)と、φ0.3ジルコニアビーズ750gとをペイントシェーカーに装填し、実施例1と同様に粉砕・分散処理を行って、実施例2に係る赤外線吸収材料微粒子分散液と乾燥膜とを得た。
得られた実施例2に係る赤外線吸収材料微粒子分散液と乾燥膜とを、実施例1と同様の方法で評価、確認した。ゼータ電位は−40mV、pH値は6.9であった。当該評価、確認結果を表1に示す。
実施例1にて製造した複合タングステン酸化物40g(20質量%)と、低分子分散剤Bとしてフェニルアラニン40g(20質量%)と、水120g(60質量%)と、φ0.3ジルコニアビーズ750gとをペイントシェーカーに装填し、実施例1と同様に粉砕・分散処理を行って、実施例3に係る赤外線吸収材料微粒子分散液と乾燥膜とを得た。
得られた実施例3に係る赤外線吸収材料微粒子分散液と乾燥膜とを、実施例1と同様の方法で評価、確認した。ゼータ電位は−70mV、pH値は5.3であった。当該評価、確認結果を表1に示す。
実施例1にて製造した複合タングステン酸化物40g(20質量%)と、市販の高分子分散剤C(アミノ基を持つブロック共重合体)16g(8質量%)、水144g(72質量%)と、φ0.3ジルコニアビーズ750gとをペイントシェーカーに装填し、実施例1と同様に粉砕・分散処理を行って、実施例4に係る赤外線吸収材料微粒子分散液と乾燥膜とを得た。
得られた実施例4に係る赤外線吸収材料微粒子分散液と乾燥膜とを、実施例1と同様の方法で評価、確認した。ゼータ電位は−23mV、pH値は6.5であった。当該評価、確認結果を表1に示す。
実施例1に係る赤外線吸収材料微粒子分散液へ、酸剤である試薬の塩酸を添加してゼータ電位値、pH値を調整した以外は実施例1と同様に操作して、比較例1に係る赤外線吸収材料微粒子分散液と乾燥膜とを得た。
得られた赤外線吸収材料微粒子分散液と乾燥膜とを、実施例1と同様の方法で評価、確認した。ゼータ電位は2mV、pH値は2.4であった。当該評価、確認結果を表1に示す。
実施例2に係る赤外線吸収材料微粒子分散液へ、酸剤である試薬の塩酸を添加してゼータ電位値、pH値を調整した以外は実施例1と同様に操作して、比較例2に係る赤外線吸収材料微粒子分散液と乾燥膜とを得た。
得られた赤外線吸収材料微粒子分散液をと乾燥膜と、実施例1と同様の方法で評価、確認した。ゼータ電位は−1mV、pH値は2.5であった。当該評価、確認結果を表1に示す。
実施例3に係る赤外線吸収材料微粒子分散液へ、酸剤である試薬の塩酸を添加してゼータ電位値、pH値を調整した以外は実施例1と同様に操作して、比較例3に係る赤外線吸収材料微粒子分散液と乾燥膜とを得た。
得られた赤外線吸収材料微粒子分散液と乾燥膜とを、実施例1と同様の方法で評価、確認した。ゼータ電位は1mV、pH値は4.1であった。当該評価、確認結果を表1に示す。
実施例4に係る赤外線吸収材料微粒子分散液へ、酸剤である試薬の塩酸を添加してゼータ電位値、pH値を調整した以外は実施例1と同様に操作して、比較例4に係る赤外線吸収材料微粒子分散液と乾燥膜とを得た。
得られた赤外線吸収材料微粒子分散液と乾燥膜とを、実施例1と同様の方法で評価、確認した。ゼータ電位は1mV、pH値は4.5であった。当該評価、確認結果を表1に示す。
実施例1にて製造した複合タングステン酸化物40g(20質量%)と、市販の高分子分散剤C(アミノ基を持つブロック共重合体)80g(40質量%)、水80g(40質量%)と、φ0.3ジルコニアビーズ750gとをペイントシェーカーに装填し粉砕・分散処理を行って、比較例5に係る赤外線吸収材料微粒子分散液と乾燥膜とを得た。
得られた赤外線吸収材料微粒子分散液と乾燥膜とを、実施例1と同様の方法で評価、確認した。ゼータ電位は−0.5mV、pH値は7.2であった。当該評価、確認結果を表1に示す。
構成に水を含む溶媒中に、赤外線吸収材料微粒子として、一般式CsWOyで表される複合タングステン酸化物微粒子を分散し、そのゼータ電位の絶対値が5mV以上100mV以下である実施例1〜3に係る赤外線吸収材料微粒子分散液は、いずれも25℃にて6ヶ月保管した後、サンプル瓶底の様子を目視で確認したところ沈殿発生はなく、安定性は良好であった。
一方、ゼータ電位の絶対値が5mV以上100mV以下の範囲外であった比較例1〜4に係る赤外線吸収材料微粒子分散液は、いずれも25℃にて6ヶ月保管した後、サンプル瓶底の様子を目視で確認したところ沈殿の発生があり、安定性に劣るものであった。
比較例5にかかる係る赤外線吸収材料微粒子分散液は、25℃にて6ヶ月保管した後、サンプル瓶底の様子を目視で確認したところ沈殿発生はなく、安定性は良好であったが、比較例5に係る乾燥膜には著しいブリードアウトを生じた。
Claims (9)
- 赤外線吸収材料微粒子と溶媒とを含む赤外線吸収材料微粒子分散液であって、
前記赤外線吸収材料微粒子は、一般式MxWOy(ただし、Mは、Cs、Rb、K、Tl、Baから選択される1種類以上の元素、0.1≦x≦0.5、2.2≦y≦3.0)で表される複合タングステン酸化物微粒子を含み、
前記溶媒は水を含み、
前記赤外線吸収材料微粒子分散液のゼータ電位の絶対値が、5mV以上100mV以下であることを特徴とする赤外線吸収材料微粒子分散液。 - 前記ゼータ電位の値が、−100mV以上−5mV以下であることを特徴とする請求項1に記載の赤外線吸収材料微粒子分散液。
- pH値が4以上であることを特徴とする請求項1または2に記載の赤外線吸収微粒子分散液。
- 前記複合タングステン酸化物微粒子の粒子径が、800nm以下であることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の赤外線吸収材料微粒子分散液。
- さらに、1種以上の分散剤を含むことを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の赤外線吸収材料微粒子分散液。
- 前記分散剤が、アミノ基、オキソ酸のいずれか1種以上を含むことを特徴とする請求項5に記載の赤外線吸収材料微粒子分散液。
- 前記赤外線吸収材料微粒子分散液中に含有されている赤外線吸収材料微粒子の含有量が、0.01質量%以上80質量%以下であることを特徴とする請求項1から6のいずれかに記載の赤外線吸収材料微粒子分散液。
- 赤外線吸収材料微粒子と溶媒とを含む赤外線吸収材料微粒子分散液の製造方法であって、
水を含む前記溶媒へ、一般式MxWOy(ただし、Mは、Cs、Rb、K、Tl、Baから選択される1種類以上の元素、0.1≦x≦0.5、2.2≦y≦3.0)で表される複合タングステン酸化物微粒子を含む前記赤外線吸収材料微粒子を分散させて、赤外線吸収材料微粒子分散液とし、
前記赤外線吸収材料微粒子分散液のゼータ電位の絶対値を、5mV以上100mV以下とすることを特徴とする赤外線吸収材料微粒子分散液の製造方法。 - 前記赤外線吸収材料微粒子分散液のpH値を、4以上とすることを特徴とする請求項8に記載の赤外線吸収微粒子分散液の製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018182812 | 2018-09-27 | ||
JP2018182812 | 2018-09-27 | ||
PCT/JP2019/033534 WO2020066426A1 (ja) | 2018-09-27 | 2019-08-27 | 赤外線吸収材料微粒子分散液とその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2020066426A1 true JPWO2020066426A1 (ja) | 2021-08-30 |
JP7367686B2 JP7367686B2 (ja) | 2023-10-24 |
Family
ID=69952075
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020548214A Active JP7367686B2 (ja) | 2018-09-27 | 2019-08-27 | 赤外線吸収材料微粒子分散液とその製造方法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20210380433A1 (ja) |
EP (1) | EP3868713A4 (ja) |
JP (1) | JP7367686B2 (ja) |
KR (1) | KR102618176B1 (ja) |
CN (1) | CN113039159B (ja) |
TW (1) | TW202019826A (ja) |
WO (1) | WO2020066426A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN117229664B (zh) * | 2023-11-16 | 2024-02-23 | 北京航空航天大学 | 基于混合电位的耐海洋环境隐身材料系统的腐蚀控制方法 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005037932A1 (ja) * | 2003-10-20 | 2005-04-28 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | 赤外線遮蔽材料微粒子分散体、赤外線遮蔽体、及び赤外線遮蔽材料微粒子の製造方法、並びに赤外線遮蔽材料微粒子 |
WO2017104854A1 (ja) * | 2015-12-18 | 2017-06-22 | 住友金属鉱山株式会社 | 近赤外線遮蔽超微粒子分散体、日射遮蔽用中間膜、赤外線遮蔽合わせ構造体、および近赤外線遮蔽超微粒子分散体の製造方法 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0812378A (ja) | 1994-06-30 | 1996-01-16 | Nissan Motor Co Ltd | 熱線遮断ガラス及びその製造方法 |
JPH0859300A (ja) | 1994-08-25 | 1996-03-05 | Nissan Motor Co Ltd | 熱線遮断ガラス |
JP2535790B2 (ja) | 1994-09-08 | 1996-09-18 | 工業技術院長 | タングステンブロンズおよびその被覆複合体の製造方法 |
JPH08283044A (ja) | 1995-04-11 | 1996-10-29 | Asahi Glass Co Ltd | 熱線遮断ガラス |
JPH09127559A (ja) | 1995-10-27 | 1997-05-16 | Teiji Haniyu | 太陽光可変調光断熱材料 |
GB9822338D0 (en) | 1998-10-13 | 1998-12-09 | Glaverbel | Solar control coated glass |
JP4110762B2 (ja) | 2001-10-17 | 2008-07-02 | 住友金属鉱山株式会社 | エレクトロクロミック特性を有する酸化タングステン微粒子の製造方法 |
JP4355945B2 (ja) * | 2004-11-08 | 2009-11-04 | 住友金属鉱山株式会社 | 近赤外線吸収繊維およびこれを用いた繊維製品 |
US20100310787A1 (en) * | 2007-11-05 | 2010-12-09 | Basf Se | Use of zero-order diffractive pigments |
JP5176492B2 (ja) * | 2007-11-06 | 2013-04-03 | 住友金属鉱山株式会社 | 近赤外線吸収粘着体、プラズマディスプレイパネル用近赤外線吸収フィルターおよびプラズマディスプレイパネル |
TWI393673B (zh) * | 2008-03-04 | 2013-04-21 | Toshiba Kk | Water dispersions and their use of coatings, films and products |
JP2012082109A (ja) * | 2010-10-12 | 2012-04-26 | Sumitomo Metal Mining Co Ltd | 高耐熱性熱線遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子の製造方法、高耐熱性熱線遮蔽体形成用タングステン酸化物微粒子および高耐熱性熱線遮蔽体形成用分散液、並びに高耐熱性熱線遮蔽体 |
WO2016121845A1 (ja) * | 2015-01-27 | 2016-08-04 | 住友金属鉱山株式会社 | 近赤外線吸収微粒子分散液とその製造方法 |
JP2017109892A (ja) * | 2015-12-15 | 2017-06-22 | コニカミノルタ株式会社 | 合わせガラス |
US10850854B2 (en) * | 2017-06-28 | 2020-12-01 | Hamilton Sunstrand Corporation | Three wheel and simple cycle aircraft environmental control system |
-
2019
- 2019-08-27 US US17/280,687 patent/US20210380433A1/en active Pending
- 2019-08-27 JP JP2020548214A patent/JP7367686B2/ja active Active
- 2019-08-27 CN CN201980063630.4A patent/CN113039159B/zh active Active
- 2019-08-27 EP EP19864140.9A patent/EP3868713A4/en active Pending
- 2019-08-27 WO PCT/JP2019/033534 patent/WO2020066426A1/ja unknown
- 2019-08-27 KR KR1020217012139A patent/KR102618176B1/ko active IP Right Grant
- 2019-09-06 TW TW108132279A patent/TW202019826A/zh unknown
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2005037932A1 (ja) * | 2003-10-20 | 2005-04-28 | Sumitomo Metal Mining Co., Ltd. | 赤外線遮蔽材料微粒子分散体、赤外線遮蔽体、及び赤外線遮蔽材料微粒子の製造方法、並びに赤外線遮蔽材料微粒子 |
WO2017104854A1 (ja) * | 2015-12-18 | 2017-06-22 | 住友金属鉱山株式会社 | 近赤外線遮蔽超微粒子分散体、日射遮蔽用中間膜、赤外線遮蔽合わせ構造体、および近赤外線遮蔽超微粒子分散体の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3868713A4 (en) | 2022-09-07 |
CN113039159A (zh) | 2021-06-25 |
CN113039159B (zh) | 2023-11-24 |
WO2020066426A1 (ja) | 2020-04-02 |
JP7367686B2 (ja) | 2023-10-24 |
US20210380433A1 (en) | 2021-12-09 |
TW202019826A (zh) | 2020-06-01 |
KR20210060604A (ko) | 2021-05-26 |
KR102618176B1 (ko) | 2023-12-28 |
EP3868713A1 (en) | 2021-08-25 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A524 | Written submission of copy of amendment under article 19 pct |
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A621 | Written request for application examination |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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